JPH10109074A - 洗浄部材の洗浄方法及び装置 - Google Patents
洗浄部材の洗浄方法及び装置Info
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い洗浄効果が得られる洗浄部材の洗浄方法
及び装置を提供する。 【解決手段】 スクラブ洗浄後の汚染された洗浄部材１
００を、洗浄液１７内にて当接部材２０に押し付けて駆
動することで両者間を擦り合わせると同時に、洗浄部材
１００の表面と当接部材２０の表面を超音波洗浄器３０
によって超音波洗浄する。
及び装置を提供する。 【解決手段】 スクラブ洗浄後の汚染された洗浄部材１
００を、洗浄液１７内にて当接部材２０に押し付けて駆
動することで両者間を擦り合わせると同時に、洗浄部材
１００の表面と当接部材２０の表面を超音波洗浄器３０
によって超音波洗浄する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体基板やガラス
基板、液晶パネルなどの高度の清浄度が要求される基板
の表面に当接してスクラブ洗浄するのに用いられる洗浄
部材に関し、特に該洗浄部材自体を洗浄するのに好適な
洗浄部材の洗浄方法及び装置に関するものである。
基板、液晶パネルなどの高度の清浄度が要求される基板
の表面に当接してスクラブ洗浄するのに用いられる洗浄
部材に関し、特に該洗浄部材自体を洗浄するのに好適な
洗浄部材の洗浄方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体基板等の表面を洗浄する方
法として、半導体基板等の表面に純水を供給しながらブ
ラシやスポンジ等からなる洗浄部材を擦り付けることに
よってその洗浄を行うスクラブ洗浄方法がある。
法として、半導体基板等の表面に純水を供給しながらブ
ラシやスポンジ等からなる洗浄部材を擦り付けることに
よってその洗浄を行うスクラブ洗浄方法がある。
【０００３】ところでこの種のスクラブ洗浄において
は、洗浄部材を直接半導体基板等に接触させて洗浄を行
うため、洗浄部材自体が汚染されてしまい、その洗浄効
果が低減化してしまう。そして更に汚染が進むと、半導
体基板等から汚染物質を除去する一方で、洗浄部材に堆
積した汚染物質が半導体基板等を逆に汚染してしまい、
洗浄効果が現われなくなってしまう。
は、洗浄部材を直接半導体基板等に接触させて洗浄を行
うため、洗浄部材自体が汚染されてしまい、その洗浄効
果が低減化してしまう。そして更に汚染が進むと、半導
体基板等から汚染物質を除去する一方で、洗浄部材に堆
積した汚染物質が半導体基板等を逆に汚染してしまい、
洗浄効果が現われなくなってしまう。
【０００４】このような場合、前記洗浄部材を交換する
方法もあるが、そうすると基板洗浄装置の稼働停止が必
要で、装置の処理能力の低下や、洗浄部材交換に伴うラ
ンニングコストの増加などが問題になる。
方法もあるが、そうすると基板洗浄装置の稼働停止が必
要で、装置の処理能力の低下や、洗浄部材交換に伴うラ
ンニングコストの増加などが問題になる。
【０００５】そこで従来、洗浄部材が汚染されてもこれ
を交換せずにこの洗浄部材自体を清浄化することが考え
られ、この種の装置として、例えば、洗浄水を入れた水
槽内に洗浄部材を投入して超音波洗浄する方法や、洗浄
部材にウェータージェットを吹きつける方法などが提案
されている。
を交換せずにこの洗浄部材自体を清浄化することが考え
られ、この種の装置として、例えば、洗浄水を入れた水
槽内に洗浄部材を投入して超音波洗浄する方法や、洗浄
部材にウェータージェットを吹きつける方法などが提案
されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれら従
来例の場合、その洗浄効果が十分とは言えなかった。洗
浄効果が十分でないと、半導体基板等の洗浄効果が低下
してしまうばかりか、洗浄部材自体の長寿命化が図れ
ず、装置全体の処理能力の向上を阻害してしまう。
来例の場合、その洗浄効果が十分とは言えなかった。洗
浄効果が十分でないと、半導体基板等の洗浄効果が低下
してしまうばかりか、洗浄部材自体の長寿命化が図れ
ず、装置全体の処理能力の向上を阻害してしまう。
【０００７】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
ありその目的は、高い洗浄効果が得られる洗浄部材の洗
浄方法及び装置を提供することにある。
ありその目的は、高い洗浄効果が得られる洗浄部材の洗
浄方法及び装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、スクラブ洗浄後の洗浄部材を、洗浄液内に
て当接部材に押し付けて駆動することで両者間を擦り合
わせると同時に、前記洗浄部材の表面と当接部材の表面
を超音波洗浄することとした。また本発明は、スクラブ
洗浄後の洗浄部材を、洗浄液内にて当接部材に押し付け
て駆動すると同時に前記当接部材を揺動又は回転するこ
とによって、前記洗浄部材への当接部材の当接面を変更
しながら洗浄部材を洗浄することとした。また本発明
は、スクラブ洗浄後の洗浄部材を当接部材に押し付けて
駆動すると共に前記当接部材を揺動又は回転し、同時に
該当接する部分に洗浄液を吹き付けることによって、前
記洗浄部材への当接部材の当接面を変更しながら洗浄部
材を洗浄することとした。
め本発明は、スクラブ洗浄後の洗浄部材を、洗浄液内に
て当接部材に押し付けて駆動することで両者間を擦り合
わせると同時に、前記洗浄部材の表面と当接部材の表面
を超音波洗浄することとした。また本発明は、スクラブ
洗浄後の洗浄部材を、洗浄液内にて当接部材に押し付け
て駆動すると同時に前記当接部材を揺動又は回転するこ
とによって、前記洗浄部材への当接部材の当接面を変更
しながら洗浄部材を洗浄することとした。また本発明
は、スクラブ洗浄後の洗浄部材を当接部材に押し付けて
駆動すると共に前記当接部材を揺動又は回転し、同時に
該当接する部分に洗浄液を吹き付けることによって、前
記洗浄部材への当接部材の当接面を変更しながら洗浄部
材を洗浄することとした。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。 〔第一実施形態〕図１は本発明の第一実施形態にかかる
洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図である。同図に
示すようにこの洗浄装置は、洗浄液（純水など）１７を
満たした洗浄容器１０内に平板状の当接部材２０を設置
して固定すると共に、該洗浄容器１０の所定位置に超音
波発生器３０を取り付けて構成されている。
基づいて詳細に説明する。 〔第一実施形態〕図１は本発明の第一実施形態にかかる
洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図である。同図に
示すようにこの洗浄装置は、洗浄液（純水など）１７を
満たした洗浄容器１０内に平板状の当接部材２０を設置
して固定すると共に、該洗浄容器１０の所定位置に超音
波発生器３０を取り付けて構成されている。
【００１０】ここで前記洗浄容器１０の上端外周部に
は、オーバーフロー用の排水溝１１が取り付けられてお
り、該排水溝１１の所定位置には排水管１３が取り付け
られている。またこの洗浄容器１０の底部には給液管１
５が接続されている。
は、オーバーフロー用の排水溝１１が取り付けられてお
り、該排水溝１１の所定位置には排水管１３が取り付け
られている。またこの洗浄容器１０の底部には給液管１
５が接続されている。
【００１１】また前記当接部材２０は平板状の石英板に
よって構成されており、その上面は微細な格子状の凹凸
等を設けること等によって粗い状態とされている。
よって構成されており、その上面は微細な格子状の凹凸
等を設けること等によって粗い状態とされている。
【００１２】そして図示しない半導体ウエハの表面をス
クラブ洗浄してその表面が汚染された状態の円筒状の洗
浄部材１００を、洗浄容器１０の洗浄液１７内に浸漬し
て当接部材２０の上面に押し付け、同時にこの洗浄部材
１００をその中心軸を中心にして図示する矢印方向に回
動する。なお洗浄部材１００の表面１００ａはロールス
ポンジ（例えば発泡ポリウレタン製）で構成されてい
る。
クラブ洗浄してその表面が汚染された状態の円筒状の洗
浄部材１００を、洗浄容器１０の洗浄液１７内に浸漬し
て当接部材２０の上面に押し付け、同時にこの洗浄部材
１００をその中心軸を中心にして図示する矢印方向に回
動する。なお洗浄部材１００の表面１００ａはロールス
ポンジ（例えば発泡ポリウレタン製）で構成されてい
る。
【００１３】このとき洗浄容器１０の給液管１５から洗
浄液１７が給水され、洗浄容器１０の上端から洗浄液１
７を溢れさせ、溢れた洗浄水１７を排水溝１１から排水
管１３に排水すると同時に、超音波発生器３０を駆動し
て、洗浄容器１０内の洗浄液１７に超音波振動を与え
る。
浄液１７が給水され、洗浄容器１０の上端から洗浄液１
７を溢れさせ、溢れた洗浄水１７を排水溝１１から排水
管１３に排水すると同時に、超音波発生器３０を駆動し
て、洗浄容器１０内の洗浄液１７に超音波振動を与え
る。
【００１４】以上のように洗浄部材１００は当接部材２
０の粗い表面に押し付けられた状態で回動されて擦り付
けられるので、洗浄部材１００の表面近傍に付着した汚
染物質は当接部材２０表面の微細な凹凸によって掻き取
られ、これによって効果的に前記汚染物質が排除され、
洗浄液１７中に取り出される。また前記当接部材２０の
粗い平面に、ロールスポンジからなる洗浄部材１００の
表面が擦り付けられるので、洗浄部材１００の表面に新
たな表面を形成できる。
０の粗い表面に押し付けられた状態で回動されて擦り付
けられるので、洗浄部材１００の表面近傍に付着した汚
染物質は当接部材２０表面の微細な凹凸によって掻き取
られ、これによって効果的に前記汚染物質が排除され、
洗浄液１７中に取り出される。また前記当接部材２０の
粗い平面に、ロールスポンジからなる洗浄部材１００の
表面が擦り付けられるので、洗浄部材１００の表面に新
たな表面を形成できる。
【００１５】洗浄液１７中に取り出された汚染物質は、
排水溝１１にオーバーフローして排出され、洗浄容器１
０内には常に清浄な洗浄液１７が給液管１５から供給さ
れるので、洗浄液１７中に取り出された汚染物質によっ
て再び洗浄部材１００等が汚染されることはない。
排水溝１１にオーバーフローして排出され、洗浄容器１
０内には常に清浄な洗浄液１７が給液管１５から供給さ
れるので、洗浄液１７中に取り出された汚染物質によっ
て再び洗浄部材１００等が汚染されることはない。
【００１６】更に本実施形態においては超音波を洗浄液
１７内に照射しているので、洗浄部材１００に付着した
汚染粒子やスポンジの空洞に振動を与え、前記当接部材
２０への擦り合わせによる洗浄効果との相乗効果によっ
て洗浄部材１００の洗浄効果が高まる。
１７内に照射しているので、洗浄部材１００に付着した
汚染粒子やスポンジの空洞に振動を与え、前記当接部材
２０への擦り合わせによる洗浄効果との相乗効果によっ
て洗浄部材１００の洗浄効果が高まる。
【００１７】なお同時にこの超音波洗浄効果によって当
接部材２０表面に付着した汚染物質の洗浄も行われる。
接部材２０表面に付着した汚染物質の洗浄も行われる。
【００１８】なお本発明においては少なくとも洗浄部材
１００と当接部材２０の当接部分が洗浄液１７内に浸漬
していれば良いが、本実施形態のように洗浄部材１００
のほとんど全体を洗浄液１７内に浸漬することとすれ
ば、洗浄部材１００の当接部材２０との当接部分以外の
面も超音波洗浄によって洗浄され、また該洗浄部材１０
０の乾燥も効果的に防止され、好適である。
１００と当接部材２０の当接部分が洗浄液１７内に浸漬
していれば良いが、本実施形態のように洗浄部材１００
のほとんど全体を洗浄液１７内に浸漬することとすれ
ば、洗浄部材１００の当接部材２０との当接部分以外の
面も超音波洗浄によって洗浄され、また該洗浄部材１０
０の乾燥も効果的に防止され、好適である。
【００１９】なお洗浄容器１０内に当接部材２０を２個
設置し、汚れた方の当接部材２０を超音波洗浄している
間に、もう一方の既に超音波洗浄にて洗浄された当接部
材２０を用いて洗浄部材１００を洗浄し、これを交互に
繰り返すように構成しても良い。
設置し、汚れた方の当接部材２０を超音波洗浄している
間に、もう一方の既に超音波洗浄にて洗浄された当接部
材２０を用いて洗浄部材１００を洗浄し、これを交互に
繰り返すように構成しても良い。
【００２０】〔第二実施形態〕図２は本発明の第二実施
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。この実施形態において、前記第一実施形態と同一
部分には同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。この実施形態において、前記第一実施形態と同一
部分には同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００２１】この実施形態において第一実施形態と相違
する点は、当接部材２０−２として平板状の石英板を用
いる代わりに円柱状の石英棒を用いている点のみであ
る。この当接部材２０−２は、図２の矢印で示す方向、
つまり洗浄部材１００の回転駆動方向とは逆方向に回転
駆動されるように図示しない駆動装置に軸支されてい
る。なお当接部材２０−２の表面も図１に示す当接部材
２０と同様に粗く形成されている。
する点は、当接部材２０−２として平板状の石英板を用
いる代わりに円柱状の石英棒を用いている点のみであ
る。この当接部材２０−２は、図２の矢印で示す方向、
つまり洗浄部材１００の回転駆動方向とは逆方向に回転
駆動されるように図示しない駆動装置に軸支されてい
る。なお当接部材２０−２の表面も図１に示す当接部材
２０と同様に粗く形成されている。
【００２２】そしてその表面が汚染された状態の洗浄部
材１００を、洗浄容器１０の洗浄液１７内に浸漬して当
接部材２０−２の上面に押し付け、同時にこの洗浄部材
１００をその中心軸を中心にして図示する矢印方向に回
動すると同時に、当接部材２０−２も図示する矢印方向
にゆっくりと回動する。
材１００を、洗浄容器１０の洗浄液１７内に浸漬して当
接部材２０−２の上面に押し付け、同時にこの洗浄部材
１００をその中心軸を中心にして図示する矢印方向に回
動すると同時に、当接部材２０−２も図示する矢印方向
にゆっくりと回動する。
【００２３】このとき洗浄容器１０の給液管１５から洗
浄液１７を給水して洗浄容器１０の上端から溢れさせ、
同時に超音波発生器３０を駆動して洗浄容器１０内の洗
浄液１７に超音波振動を与えることは第一実施形態と同
様である。
浄液１７を給水して洗浄容器１０の上端から溢れさせ、
同時に超音波発生器３０を駆動して洗浄容器１０内の洗
浄液１７に超音波振動を与えることは第一実施形態と同
様である。
【００２４】以上のように洗浄部材１００は当接部材２
０−２の粗い表面に押し付けられた状態で回動されて擦
り付けられるので、第一実施形態と同様に洗浄部材１０
０の表面近傍に付着した汚染物質が排除され、また洗浄
部材１００の表面に新たな表面を形成できる。
０−２の粗い表面に押し付けられた状態で回動されて擦
り付けられるので、第一実施形態と同様に洗浄部材１０
０の表面近傍に付着した汚染物質が排除され、また洗浄
部材１００の表面に新たな表面を形成できる。
【００２５】特にこの実施形態の場合、当接部材２０−
２が回動することで、常に洗浄部材１００との擦り合わ
せ面を新しい面とすることができるので、擦り合わせに
よって当接部材２０−２表面に掻き取った汚染物質が再
び洗浄部材１００に付着する逆汚染の恐れが少なくな
る。
２が回動することで、常に洗浄部材１００との擦り合わ
せ面を新しい面とすることができるので、擦り合わせに
よって当接部材２０−２表面に掻き取った汚染物質が再
び洗浄部材１００に付着する逆汚染の恐れが少なくな
る。
【００２６】なお当接部材２０−２に付着した汚染物質
は洗浄液１７中を回動している間に超音波によって満遍
なく洗浄され、洗浄後の面が再び洗浄部材１００の表面
に当接するので、その洗浄効果が更に増大する。
は洗浄液１７中を回動している間に超音波によって満遍
なく洗浄され、洗浄後の面が再び洗浄部材１００の表面
に当接するので、その洗浄効果が更に増大する。
【００２７】なお当接部材を図１に示すように平板状に
構成し、且つ該当接部材を駆動装置によって面方向に揺
動させるようにしても、洗浄部材１００には常に当接部
材の新しい面が接触し、第二実施形態と同様の効果が生
じる。
構成し、且つ該当接部材を駆動装置によって面方向に揺
動させるようにしても、洗浄部材１００には常に当接部
材の新しい面が接触し、第二実施形態と同様の効果が生
じる。
【００２８】〔第三実施形態〕図３は本発明の第三実施
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置は、空の洗浄容器１０−３内
にその表面が荒く形成された円柱状の石英棒からなる当
接部材２０−３を設置すると共に、該洗浄容器１０−３
内に該当接部材２０−３と下記する洗浄部材１００が当
接する部分に洗浄液を噴射する洗浄液ノズル５０を設置
して構成されている。洗浄容器１０−３の底部には排水
管５５が取り付けられている。
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置は、空の洗浄容器１０−３内
にその表面が荒く形成された円柱状の石英棒からなる当
接部材２０−３を設置すると共に、該洗浄容器１０−３
内に該当接部材２０−３と下記する洗浄部材１００が当
接する部分に洗浄液を噴射する洗浄液ノズル５０を設置
して構成されている。洗浄容器１０−３の底部には排水
管５５が取り付けられている。
【００２９】なお当接部材２０−３は前記第二実施形態
の当接部材２０−２と同一の構成であり、洗浄部材１０
０の回転駆動方向とは逆方向に回転駆動されるように図
示しない駆動装置に軸支されている。
の当接部材２０−２と同一の構成であり、洗浄部材１０
０の回転駆動方向とは逆方向に回転駆動されるように図
示しない駆動装置に軸支されている。
【００３０】そして表面が汚染された状態のロールスポ
ンジからなる洗浄部材１００が、洗浄容器１０内の当接
部材２０−３の上面に押し付けられ、この洗浄部材１０
０を図示する矢印方向に回動すると共に当接部材２０−
３を逆方向にゆっくり回動することで両者を擦り合わ
せ、同時に洗浄部材１００と当接部材２０−３の当接面
に向けて洗浄液ノズル５０から洗浄液を吹きかける。こ
の洗浄液はその後排水管５５から排水される。
ンジからなる洗浄部材１００が、洗浄容器１０内の当接
部材２０−３の上面に押し付けられ、この洗浄部材１０
０を図示する矢印方向に回動すると共に当接部材２０−
３を逆方向にゆっくり回動することで両者を擦り合わ
せ、同時に洗浄部材１００と当接部材２０−３の当接面
に向けて洗浄液ノズル５０から洗浄液を吹きかける。こ
の洗浄液はその後排水管５５から排水される。
【００３１】この実施形態によれば、洗浄部材１００と
当接部材２０−３の当接面に常に新しい洗浄液が供給さ
れ、汚れた液は落下して排除されるので、汚染された洗
浄液による逆汚染の恐れはない。
当接部材２０−３の当接面に常に新しい洗浄液が供給さ
れ、汚れた液は落下して排除されるので、汚染された洗
浄液による逆汚染の恐れはない。
【００３２】なおこの実施形態の場合、超音波発生装置
が取り付けられていないので洗浄効果は図２に示す第二
実施形態に比べて多少劣るが、逆に装置はコンパクトに
なり、また安価にもなる。
が取り付けられていないので洗浄効果は図２に示す第二
実施形態に比べて多少劣るが、逆に装置はコンパクトに
なり、また安価にもなる。
【００３３】〔第四実施形態〕図４は本発明の第四実施
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置も、第三実施形態と同様に、
空の洗浄容器１０−４内に円柱状の石英棒からなる当接
部材２０−４と、洗浄液ノズル５０とを設置して構成さ
れている。
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置も、第三実施形態と同様に、
空の洗浄容器１０−４内に円柱状の石英棒からなる当接
部材２０−４と、洗浄液ノズル５０とを設置して構成さ
れている。
【００３４】この実施形態において第三実施形態と相違
する点は、ロールスポンジからなる洗浄部材１００を当
接部材２０−４にその表面が凹むほど強く押し付けた状
態でその洗浄を行うことと、当接部材２０−４の回転を
フリーとすることで洗浄部材１００の回転に従って回転
するように構成した点である。
する点は、ロールスポンジからなる洗浄部材１００を当
接部材２０−４にその表面が凹むほど強く押し付けた状
態でその洗浄を行うことと、当接部材２０−４の回転を
フリーとすることで洗浄部材１００の回転に従って回転
するように構成した点である。
【００３５】このように洗浄部材１００を圧縮変形させ
ると、スポンジ内に含まれている洗浄液と共に付着して
いた汚染物質が排出されるので、その洗浄効果が大きく
なる。
ると、スポンジ内に含まれている洗浄液と共に付着して
いた汚染物質が排出されるので、その洗浄効果が大きく
なる。
【００３６】このとき押し付け量を大きくすればするほ
ど洗浄効果は大きいが、スポンジが当接部材２０−４に
強く押し付けられることになるのでスポンジ表面が損傷
する恐れがある。
ど洗浄効果は大きいが、スポンジが当接部材２０−４に
強く押し付けられることになるのでスポンジ表面が損傷
する恐れがある。
【００３７】そこでこの実施形態においては当接部材２
０−４を円柱状とし、洗浄部材１００の回転に伴って連
れ回るように構成することで、洗浄部材１００を構成す
るスポンジの表面が擦り合わされず、損傷を受けないよ
うに構成したのである。
０−４を円柱状とし、洗浄部材１００の回転に伴って連
れ回るように構成することで、洗浄部材１００を構成す
るスポンジの表面が擦り合わされず、損傷を受けないよ
うに構成したのである。
【００３８】〔第５実施形態〕図５は本発明の第五実施
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置は、本発明をいわゆるペンシ
ル型の洗浄部材１１０に適用した例を示している。
形態にかかる洗浄部材の洗浄装置を示す概略側断面図で
ある。同図に示す洗浄装置は、本発明をいわゆるペンシ
ル型の洗浄部材１１０に適用した例を示している。
【００３９】このペンシル型の洗浄部材１１０はスポン
ジ製であり、揺動自在のアーム６０の先端下面に取り付
けた回転駆動軸６１の下端面に取り付けられている。
ジ製であり、揺動自在のアーム６０の先端下面に取り付
けた回転駆動軸６１の下端面に取り付けられている。
【００４０】そしてこの洗浄部材１１０は図示しない半
導体ウエハなどの基板の表面の回転中心部分に圧接さ
れ、次にこの洗浄部材１１０を基板の半径方向に移動す
るようにアーム６０を揺動し、これによって基板の表面
全体を洗浄する。
導体ウエハなどの基板の表面の回転中心部分に圧接さ
れ、次にこの洗浄部材１１０を基板の半径方向に移動す
るようにアーム６０を揺動し、これによって基板の表面
全体を洗浄する。
【００４１】そしてこの洗浄部材１１０の洗浄装置は、
図５に示すように、洗浄容器６３内に円板状の石英板か
らなる当接部材６５を収納設置し、この洗浄容器６３内
に当接部材６５の表面が浸るように洗浄液６７を入れて
構成される。なお当接部材６５は図示しない回転駆動手
段によって図に示す矢印方向に回転駆動される。
図５に示すように、洗浄容器６３内に円板状の石英板か
らなる当接部材６５を収納設置し、この洗浄容器６３内
に当接部材６５の表面が浸るように洗浄液６７を入れて
構成される。なお当接部材６５は図示しない回転駆動手
段によって図に示す矢印方向に回転駆動される。
【００４２】そして当接部材６５の表面に洗浄部材１１
０を圧接すると共にこの洗浄部材１１０を回転駆動軸６
１によって図示の矢印方向に回動し、同時に当接部材６
５を図示の矢印方向に回動し、両者を擦り合わせる。
０を圧接すると共にこの洗浄部材１１０を回転駆動軸６
１によって図示の矢印方向に回動し、同時に当接部材６
５を図示の矢印方向に回動し、両者を擦り合わせる。
【００４３】このように構成しても前記各実施形態と同
様の効果が生じる。この実施形態の場合、当接部材６５
を回転しているので、洗浄部材１１０との接触面が常に
新しくなり、好適である。
様の効果が生じる。この実施形態の場合、当接部材６５
を回転しているので、洗浄部材１１０との接触面が常に
新しくなり、好適である。
【００４４】なおこの実施形態において、図１に示す超
音波発生器３０やオーバーフロー用の排水溝１１等を取
り付けると更に好適であることは言うまでもない。また
当接部材６５を洗浄液６７で浸す代わりに図３に示す洗
浄液ノズル５０を取り付けても良い。
音波発生器３０やオーバーフロー用の排水溝１１等を取
り付けると更に好適であることは言うまでもない。また
当接部材６５を洗浄液６７で浸す代わりに図３に示す洗
浄液ノズル５０を取り付けても良い。
【００４５】以上の洗浄装置により、洗浄部材が汚染さ
れても清浄にすることができ、これを交換しなくてすむ
から、基板洗浄装置の稼働を一々停止しなくてすむ。即
ち洗浄部材によりウエハを洗浄する基板洗浄装置の近傍
に洗浄装置を設置しておけば、洗浄部材が汚染されたと
きのみ、一時的に洗浄部材を自動的に洗浄装置へ移動さ
せ、洗浄を行い、それが終了したら基板洗浄装置へ洗浄
部材を戻すことによりウエハの洗浄を長時間中断せずに
略連続的に順次複数のウエハを洗浄できる。
れても清浄にすることができ、これを交換しなくてすむ
から、基板洗浄装置の稼働を一々停止しなくてすむ。即
ち洗浄部材によりウエハを洗浄する基板洗浄装置の近傍
に洗浄装置を設置しておけば、洗浄部材が汚染されたと
きのみ、一時的に洗浄部材を自動的に洗浄装置へ移動さ
せ、洗浄を行い、それが終了したら基板洗浄装置へ洗浄
部材を戻すことによりウエハの洗浄を長時間中断せずに
略連続的に順次複数のウエハを洗浄できる。
【００４６】以上本発明の実施形態を説明したが、本発
明はこれらに限定されるものではなく、たとえば以下の
ような変形が可能である。 各洗浄装置の構成、洗浄の方法は任意に組み合わせる
ことができることは言うまでもない。
明はこれらに限定されるものではなく、たとえば以下の
ような変形が可能である。 各洗浄装置の構成、洗浄の方法は任意に組み合わせる
ことができることは言うまでもない。
【００４７】洗浄部材はスポンジ状のものに限定され
ず、例えば表面にブラシ、研磨布を取り付けたもの等を
用いても良い。
ず、例えば表面にブラシ、研磨布を取り付けたもの等を
用いても良い。
【００４８】当接部材は石英材製のものに限定されな
いのは当然であり他の材質のものでも良く、更に例えば
表面にブラシ、ダイヤモンドペレットの粒子を付着した
もの、又は研磨布等を用いても良い。
いのは当然であり他の材質のものでも良く、更に例えば
表面にブラシ、ダイヤモンドペレットの粒子を付着した
もの、又は研磨布等を用いても良い。
【００４９】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、洗浄部材の洗浄が効果的に行えて高清浄度化が図
れ、ひいては洗浄部材による基板の洗浄効果を高めるこ
とができ、また洗浄部材自体の長寿命化が図れ、装置全
体の稼働能力を向上することができるという優れた効果
を有する。
ば、洗浄部材の洗浄が効果的に行えて高清浄度化が図
れ、ひいては洗浄部材による基板の洗浄効果を高めるこ
とができ、また洗浄部材自体の長寿命化が図れ、装置全
体の稼働能力を向上することができるという優れた効果
を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施形態にかかる洗浄部材の洗浄
装置を示す概略側断面図である。
装置を示す概略側断面図である。
【図２】本発明の第二実施形態にかかる洗浄部材の洗浄
装置を示す概略側断面図である。
装置を示す概略側断面図である。
【図３】本発明の第三実施形態にかかる洗浄部材の洗浄
装置を示す概略側断面図である。
装置を示す概略側断面図である。
【図４】本発明の第四実施形態にかかる洗浄部材の洗浄
装置を示す概略側断面図である。
装置を示す概略側断面図である。
【図５】本発明の第五実施形態にかかる洗浄部材の洗浄
装置を示す概略側断面図である。
装置を示す概略側断面図である。
１０，１０−３，１０−４，６３ 洗浄容器 １７，６７ 洗浄液 ２０，２０−２，２０−３，２０−４，６５ 当接部材 ３０ 超音波発生器 ５０ 洗浄液ノズル １００，１１０ 洗浄部材
Claims (6)
- 【請求項１】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄方法において、 前記スクラブ洗浄した後の洗浄部材を、洗浄液内にて当
接部材に押し付けて駆動することで両者間を擦り合わせ
ると同時に、前記洗浄部材の表面と当接部材の表面を超
音波洗浄することを特徴とする洗浄部材の洗浄方法。 - 【請求項２】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄装置において、 前記洗浄部材の洗浄装置は、前記洗浄部材を押し付けて
擦り合わせる当接部材と、洗浄液を収納して少なくとも
前記洗浄部材と当接部材の当接部分を浸漬せしめる洗浄
容器と、該洗浄容器内の洗浄液に超音波振動を与える超
音波発生器とを具備してなることを特徴とする洗浄部材
の洗浄装置。 - 【請求項３】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄方法において、 前記スクラブ洗浄した後の洗浄部材を、洗浄液内にて当
接部材に押し付けて駆動すると同時に前記当接部材を揺
動又は回転することによって、前記洗浄部材への当接部
材の当接面を変更しながら洗浄部材を洗浄することを特
徴とする洗浄部材の洗浄方法。 - 【請求項４】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄装置において、 前記洗浄部材の洗浄装置は、前記洗浄部材を押し付ける
当接部材と、該当接部材を揺動又は回転せしめる手段
と、洗浄液を収納して少なくとも前記洗浄部材と当接部
材の当接部分を浸漬せしめる洗浄容器とを具備してなる
ことを特徴とする洗浄部材の洗浄装置。 - 【請求項５】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄方法において、 前記スクラブ洗浄した後の洗浄部材を当接部材に押し付
けて駆動すると共に前記当接部材を揺動又は回転し、同
時に該当接する部分に洗浄液を吹き付けることによっ
て、前記洗浄部材への当接部材の当接面を変更しながら
洗浄部材を洗浄することを特徴とする洗浄部材の洗浄方
法。 - 【請求項６】 基板の表面に当接してスクラブ洗浄する
洗浄部材の洗浄装置において、 前記洗浄部材の洗浄装置は、前記洗浄部材を押し付ける
当接部材と、該当接部材を揺動又は回転せしめる手段
と、当接部材と洗浄部材が当接する部分に洗浄液を吹き
付ける洗浄液ノズルとを具備してなることを特徴とする
洗浄部材の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8281746A JPH10109074A (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 洗浄部材の洗浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8281746A JPH10109074A (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 洗浄部材の洗浄方法及び装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004256223A Division JP2005012238A (ja) | 2004-09-02 | 2004-09-02 | 基板洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10109074A true JPH10109074A (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=17643413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8281746A Pending JPH10109074A (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 洗浄部材の洗浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10109074A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6589358B1 (en) | 1999-06-30 | 2003-07-08 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for cleaning an article |
| TWI412072B (zh) * | 2004-09-28 | 2013-10-11 | Ebara Corp | 基板清洗裝置及判斷更換清洗構件之時機之方法 |
| US9466512B2 (en) | 2013-12-25 | 2016-10-11 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus |
| WO2019176455A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、及び基板洗浄方法 |
| US12101073B2 (en) | 2020-05-20 | 2024-09-24 | Ebara Corporation | Method for determining a cleanliness of a cleaning member |
-
1996
- 1996-10-02 JP JP8281746A patent/JPH10109074A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6589358B1 (en) | 1999-06-30 | 2003-07-08 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for cleaning an article |
| TWI412072B (zh) * | 2004-09-28 | 2013-10-11 | Ebara Corp | 基板清洗裝置及判斷更換清洗構件之時機之方法 |
| US8608858B2 (en) | 2004-09-28 | 2013-12-17 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus and method for determining timing of replacement of cleaning member |
| US9466512B2 (en) | 2013-12-25 | 2016-10-11 | Ebara Corporation | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus |
| KR20210032361A (ko) | 2013-12-25 | 2021-03-24 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판 세정 장치 및 기판 처리 장치 |
| WO2019176455A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、及び基板洗浄方法 |
| JP2019161107A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、及び基板洗浄方法 |
| US12101073B2 (en) | 2020-05-20 | 2024-09-24 | Ebara Corporation | Method for determining a cleanliness of a cleaning member |
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