JPS6141092Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6141092Y2 JPS6141092Y2 JP1979178247U JP17824779U JPS6141092Y2 JP S6141092 Y2 JPS6141092 Y2 JP S6141092Y2 JP 1979178247 U JP1979178247 U JP 1979178247U JP 17824779 U JP17824779 U JP 17824779U JP S6141092 Y2 JPS6141092 Y2 JP S6141092Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- supporting
- sponge
- mask holder
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はフオトマスクを洗浄する際に、フオト
マスクを支持するホルダーに関するものである。
マスクを支持するホルダーに関するものである。
一般的なフオトマスクはガラス基板上に例えば
クロム(Cr)等の金属によるパターンが形成さ
れたものである。このようなフオトマスクは、そ
の製造工程の最後の段階であるいは、パターンの
欠陥検査工程の前の段階で、表面を洗浄する工程
を必要とする。その洗浄工程では、フオトマスク
がなるべく人間の取に触れない状態で行なわれる
のが理想的である。
クロム(Cr)等の金属によるパターンが形成さ
れたものである。このようなフオトマスクは、そ
の製造工程の最後の段階であるいは、パターンの
欠陥検査工程の前の段階で、表面を洗浄する工程
を必要とする。その洗浄工程では、フオトマスク
がなるべく人間の取に触れない状態で行なわれる
のが理想的である。
そこで、フオトマスクを自動的に洗浄する装置
を利用することにより、上述の人間の手に触れな
い状態で処理することができる。その場合問題と
なるのは、フオトマスクの装置への取り付け及び
取りはずしで、その時に人間の手がフオトマスク
に直接触れないようにしなければならない点であ
る。
を利用することにより、上述の人間の手に触れな
い状態で処理することができる。その場合問題と
なるのは、フオトマスクの装置への取り付け及び
取りはずしで、その時に人間の手がフオトマスク
に直接触れないようにしなければならない点であ
る。
本考案は、フオトマスクの自動洗浄装置への取
り付け及び取りはずしを、人間の手がフオトマス
クに触れることなく容易に行えるようにすること
を目的するものである。
り付け及び取りはずしを、人間の手がフオトマス
クに触れることなく容易に行えるようにすること
を目的するものである。
そしてこの目的は本考案によば、2枚ろの支持
板を蝶番により合体して二枚開きにし、該支持板
には所定のフオトマスクに対応する大きさの窓部
を設け、前記支持板の間に該フオトマスクを挾む
際に該フオトマスクを支持する支持凹部を前記窓
部の周縁部に設けてことを特徴とするフオトマス
クホルダーを提供することにより達成される。
板を蝶番により合体して二枚開きにし、該支持板
には所定のフオトマスクに対応する大きさの窓部
を設け、前記支持板の間に該フオトマスクを挾む
際に該フオトマスクを支持する支持凹部を前記窓
部の周縁部に設けてことを特徴とするフオトマス
クホルダーを提供することにより達成される。
以下本考案の一実施例を図面に従つて詳細に説
明する。
明する。
第1図乃至第3図は本考案の一実施例であるマ
スクホルダーの構造を説明するための図で、第1
図は正面図、第2,3図は側面図である。本実施
例のマスクホルダーは、2枚の支持板1を蝶番2
より合体して第3図の如く二枚開きにし、その支
持板1には窓部3が設けられ、図中4の位置にフ
オトマスクが支持され、支持板1により挾まれる
ことで固定される。そして窓部3の周縁部にはフ
オトマスクを支持する支持凹部5が設けられてい
る。そして、実際にフオトマスクが2枚の支持板
1により挾まれた場合、第1図中の切断面6に従
つた断面図は第4図の様になる4′はフオトマス
クである。
スクホルダーの構造を説明するための図で、第1
図は正面図、第2,3図は側面図である。本実施
例のマスクホルダーは、2枚の支持板1を蝶番2
より合体して第3図の如く二枚開きにし、その支
持板1には窓部3が設けられ、図中4の位置にフ
オトマスクが支持され、支持板1により挾まれる
ことで固定される。そして窓部3の周縁部にはフ
オトマスクを支持する支持凹部5が設けられてい
る。そして、実際にフオトマスクが2枚の支持板
1により挾まれた場合、第1図中の切断面6に従
つた断面図は第4図の様になる4′はフオトマス
クである。
上述した如くフオトマスクホルダーに固定され
たフオトマスクは、例えば第5図の様な自動洗浄
装置により洗浄される。この自動洗浄装置には、
図の如くマスクホルダの設置部11が設けられ、
フオトマスクを挾んだマスクホルダ10が容易に
取り付け及び取りはずしができるようになつてい
る。そしてこの設置部11はy軸方向に駆動する
スライダ12に固設されており、しかもスライダ
12はx軸方向に駆動するハウジング13に設け
られており、スライダ12はy軸用モータ14及
びy軸制御カム15により又ハウジング13はx
軸用モータ17及びx軸制御カム18によりそれ
ぞれワイヤー16を介して駆動するようになつて
いる。このように設置されたフオトマスク4′
は、スポンジ19,20により自動的に洗浄され
る。なおスポンジが2本あるのは、例えばスポン
ジ19が洗剤用でスポンジ20が水洗い用で、そ
れぞれのスポンジは洗剤供給管24、純水供給管
25が設けられ、スポンジ回軸用モータ21によ
り回転し、スポンジ移動用モータ22によりフオ
トマスク4′に接触するようになつている。23
はスポンジ19,20の移動範囲を制限するリミ
ツトスイツチである。実際の装置はスポンジ1
9,20とは別にもう一組のスポンジが設けられ
ており、2組のスポンジによりフオトマスク4′
の両面を同時に洗浄するようになつている。
たフオトマスクは、例えば第5図の様な自動洗浄
装置により洗浄される。この自動洗浄装置には、
図の如くマスクホルダの設置部11が設けられ、
フオトマスクを挾んだマスクホルダ10が容易に
取り付け及び取りはずしができるようになつてい
る。そしてこの設置部11はy軸方向に駆動する
スライダ12に固設されており、しかもスライダ
12はx軸方向に駆動するハウジング13に設け
られており、スライダ12はy軸用モータ14及
びy軸制御カム15により又ハウジング13はx
軸用モータ17及びx軸制御カム18によりそれ
ぞれワイヤー16を介して駆動するようになつて
いる。このように設置されたフオトマスク4′
は、スポンジ19,20により自動的に洗浄され
る。なおスポンジが2本あるのは、例えばスポン
ジ19が洗剤用でスポンジ20が水洗い用で、そ
れぞれのスポンジは洗剤供給管24、純水供給管
25が設けられ、スポンジ回軸用モータ21によ
り回転し、スポンジ移動用モータ22によりフオ
トマスク4′に接触するようになつている。23
はスポンジ19,20の移動範囲を制限するリミ
ツトスイツチである。実際の装置はスポンジ1
9,20とは別にもう一組のスポンジが設けられ
ており、2組のスポンジによりフオトマスク4′
の両面を同時に洗浄するようになつている。
このように本考案のマスクホルダーを利用すれ
ば、第5図の如き自動洗浄装置への取り付け及び
取りはずしが容易でしかもフオトマスクに人間の
手が触れることなく行なえる。また、さらに取り
はずした後、例えば乾燥装置(図は省略)等に移
す場合も、その移動及び装置への取り付け及び取
りはずしも同様に行なうことができる。なお本実
施例ではマスクホルダーは、水分を吸収しにくく
かつ歪みが少ないアクリル樹脂により形成されて
くる。
ば、第5図の如き自動洗浄装置への取り付け及び
取りはずしが容易でしかもフオトマスクに人間の
手が触れることなく行なえる。また、さらに取り
はずした後、例えば乾燥装置(図は省略)等に移
す場合も、その移動及び装置への取り付け及び取
りはずしも同様に行なうことができる。なお本実
施例ではマスクホルダーは、水分を吸収しにくく
かつ歪みが少ないアクリル樹脂により形成されて
くる。
以上説明した様に本考案によれば、フオトマス
クの移動や装置へのセツテイングが、人間の手に
触れることなく容易に行なえるので、フオトマス
クへの汚染を防ぐことができる。
クの移動や装置へのセツテイングが、人間の手に
触れることなく容易に行なえるので、フオトマス
クへの汚染を防ぐことができる。
第1図は本考案の一実施例のマスクホルダの正
面図。第2,3図は同側面図。第4図は同断面
図。第5図はマスクホルダーの自動洗浄装置への
セツテイングを説明するための簡略図。 図中、1:支持板、2:蝶番、3:窓部、
4′:フオトマスク、5:支持凹部。
面図。第2,3図は同側面図。第4図は同断面
図。第5図はマスクホルダーの自動洗浄装置への
セツテイングを説明するための簡略図。 図中、1:支持板、2:蝶番、3:窓部、
4′:フオトマスク、5:支持凹部。
Claims (1)
- 2枚の支持板を蝶番により合体して二枚開きに
し、該支持板には所定のフオトマスクに対応する
大きさの窓部を設け、前記支持板の間に該フオト
マスクを挾む際に該フオトマスクを支持する支持
凹部を前記窓部の周縁部に設けたことを特徴とす
るフオトマスクホルダー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1979178247U JPS6141092Y2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1979178247U JPS6141092Y2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5696442U JPS5696442U (ja) | 1981-07-30 |
JPS6141092Y2 true JPS6141092Y2 (ja) | 1986-11-22 |
Family
ID=29688792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1979178247U Expired JPS6141092Y2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6141092Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2017806B1 (nl) * | 2016-11-16 | 2018-05-25 | Suess Microtec Photomask Equipment Gmbh & Co Kg | Holder for receiving and for protecting one side of a photomask or of a photomask with pellicle from a cleaning medium, method for cleaning a photomask or a photomask with pellicle and apparatus for opening and closing a holder |
-
1979
- 1979-12-22 JP JP1979178247U patent/JPS6141092Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5696442U (ja) | 1981-07-30 |
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