JPH0723956Y2 - ケース洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔概要〕 半導体製造装置に用いるレチクル及びマスクを保護する
ケースの洗浄を行なう洗浄装置に関し、洗浄度の向上を
目的とし、 洗浄部と乾燥部を分けるシャッタが設けられ、且つ該洗
浄部と乾燥部とを外気から遮断するカバーを有し、前記
洗浄部には洗浄用の水を放出するための放出板と、該放
出板を回転させるドライブモータと、ケースを支承し搬
送する搬送アームとが設けられ、前記乾燥部には、洗浄
後のケースを乾燥させるための風を送るHEPAフィルター
と、静電気を除去するためのイオナイザーとが設けられ
るように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本考案は半導体製造装置に用いるレチクル及びマスクを
保護するケースの洗浄を行なう洗浄装置に関する。

近年半導体装置の高集積化、高密度化により、それに形
成されるパターンが微細化してきており、ホトリソグラ
フィ用のレチクル及びマスク表面に付着した塵の影響が
大きくなってきた。また半導体装置の多様化によりレチ
クルの使用回数（露光装置への交換セット回数）が多く
なっている。このため塵を除去するためにレチクルの洗
浄を頻繁に行なう必要がある。ところが洗浄を頻繁に行
なうことは所要時間も多くなり、製造上のネックとな
る。これを防ぐためレチクルをケースに包みそのまま装
置へセットする方法もある。しかしケースの清浄度によ
っては逆にレチクルを汚すことにもなる。従ってこのケ
ースの洗浄も行なう必要が生じてきた。

〔従来の技術〕

従来のケース洗浄方法は単に被洗浄物を搬送させ、それ
を一定方向からシャワーしているだけであった。

〔考案が解決しようとする課題〕

上記従来の洗浄方法では、常に水流の当っている部分は
よいが、その他の部分では洗浄効果がない。従って部分
的に洗浄度に差が生じ、洗浄度の悪い部分には塵が残存
し、保管中にその塵がレチクルに付着することがあっ
た。

本考案は完全な塵の除去が可能なケース洗浄装置を提供
することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本考案のケース洗浄装置
は、洗浄部１と、静電気を除去するためのイオナイザー
10を有する乾燥部２と、該洗浄部１と乾燥部２を分ける
シャッタ３と、該洗浄部１と乾燥部２とを外気から遮断
するカバー４とを具備し、前記洗浄部１には洗浄用の水
を放出するための放出板５と、該放出板５を回転させる
ドライブモータ６と、ケース７を支承し搬送する搬送ア
ーム８とが設けられ、前記乾燥部２には、洗浄後のケー
ス７を乾燥させるための風中の塵埃を除去するフィルタ
ー９が設けられて成ることを特徴とするケース洗浄装置
である。

〔作用〕

放出板５の多数のジェット水流を被洗浄物であるケース
７に当て、且つ該放出板５回転させることによりケース
全体を均一に洗浄でき、洗浄後はイオナイザー10で静電
気を除去しながらHEPAフィルター９を通した風で乾燥す
ることにより確実な洗浄及び乾燥ができる。

〔実施例〕

第１図及び第２図は本考案の実施例を示す図であり、第
１図（ａ）は全体斜視図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）
のｂ−ｂ線における断面図、第２図は要部の斜視図であ
る。

本実施例は第１図及び第２図に示すように、外気を遮断
する箱形のカバー４が設けられ、該カバー４の中は開閉
自在なシャッタ３で洗浄部１と乾燥部２に仕切られてい
る。そして洗浄部１には、被洗浄物であるケース７を支
承し搬送することができる搬送アーム８と、該ケースを
洗浄するための水を放出する多数の噴出孔11を有する１
対の放出板５と、該放出板を被洗浄物の回りに回転させ
るためのドライブモータ６とが設けられており、放出板
５には給水パイプ12から回転管接手13を通して洗浄用水
が供給され、放出板５は該放出板と共に回転する円板14
にドライブモータ６のローラ15が接触して回転駆動され
るようになっている。また該洗浄部１の一方の壁にはケ
ース７をセット又は取出すためのセット口16が設けられ
ている。また乾燥部２には清浄な空気を送出するための
HEPAフィルター９と、静電気除去用のイオナイザー10と
が設けられている。

このように構成された本実施例の動作を次に説明する。
先ず搬送アーム８をセット口16まで持って来ておき、こ
こでケース７をセットし、放水板５のところへ搬送す
る。次いでセット口16を閉じ、放水板５を回転させなが
ら放水を開始しケース７を洗浄する。洗浄が始まり一定
時間（例えば５分）経過したらシャッタ３が開き乾燥が
開始される。ここではHEPAフィルター９により清浄化さ
れた風が出ており、ケース７を乾燥させる。この間イオ
ナイザー10によりケース７の静電気は除去され、塵の再
付着が防止される。乾燥が終了したらケース７はセット
口16へ戻される。

なお上記実施例では、乾燥しながら静電気除去を行なっ
たが、順序を変え、静電気除去を行なってから（塵が落
ち易くなる）洗浄し、再度乾燥・除電を行なっても良
い。

またセット口16は別のレチクル洗浄装置などと組み合わ
せるとケースに触れることなくレチクルを収納できるの
で、さらに効果が向上する。

〔考案の効果〕

以上説明した様に、本考案によれば、放水板がケースの
回りを回転しながら、ジェット水流を放出するためケー
スの隅々まで洗浄でき、塵の除去が確実に行なえるた
め、ケースの洗浄化が簡単となり、レチクルの保管が能
率的になり、半導体装置製造の歩留り向上に寄与すると
ころが大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例を示す図、 第２図は本考案の実施例の要部を示す図である。 図において、 １は洗浄部、２は乾燥部、３はシャッタ、４はカバー、
５は放出板、６はドライブモータ、７はケース、８は搬
送アーム、９はHEPAフィルター、10はイオナイザー、11
は噴出孔、12は給水パイプ、13は回転管接手、14は円
板、15はローラ、16はセット口 を示す。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】洗浄部（１）と、静電気を除去するための
   イオナイザー（10）を有する乾燥部（２）と、該洗浄部
   （１）と乾燥部（２）を分けるシャッタ（３）と、該洗
   浄部（１）と乾燥部（２）とを外気から遮断するカバー
   （４）とを具備し、 前記洗浄部（１）には洗浄用の水を放出するための放出
   板（５）と、該放出板（５）を回転させるドライブモー
   タ（６）と、ケース（７）を支承し搬送する搬送アーム
   （８）とが設けられ、前記乾燥部（２）には、洗浄後の
   ケース（７）を乾燥させるための風中の塵埃を除去する
   フィルター（９）が設けられて成ることを特徴とするケ
   ース洗浄装置。