TWI473684B - 玻璃基板的端面研磨裝置及其端面研磨方法 - Google Patents

Description

玻璃基板的端面研磨裝置及其端面研磨方法

本發明關於玻璃基板的端面研磨裝置及其端面研磨方法，詳細而言，本發明關於一面對玻璃基板的研磨部供給研磨液一面對玻璃基板的端面進行研磨的技術的改良。

眾所周知，於製造液晶顯示器(liquid crystal display)、電漿顯示器(plasma display)、電致發光顯示器(electro luminescent display)及場發射顯示器(field emission display)等各種圖像顯示設備用玻璃基板時，基本採用由1片平板玻璃(flat glass)製作多片玻璃基板的方法。而且，與此相應，目前由玻璃製造商等所製造的平板玻璃已向大型化發展。

該等平板玻璃於製造工程最後階段，將玻璃基板切割為矩形且規定尺寸後，藉由對其切割端面實施研磨處理等，而獲得最終產品。

作為對此種玻璃基板的端面進行研磨的方法，通常於使旋轉磨石(rotation grinding wheel)接觸玻璃基板的端面的狀態下，使該旋轉磨石相對於玻璃基板移動。此時，為了防止玻璃基板的研磨部出現過熱，或者為了減小摩擦，通常對玻璃基板的研磨部周邊供給研磨液。然而，供給至玻璃基板的研磨部周邊的研磨液，會因研磨液的供給方向或旋轉磨石的旋轉方向等原因，而飛濺到玻璃基板的表面上，導致出現如下情況：上述飛濺的研磨液中所含的研磨粉附著於玻璃基板的表面上，從而使玻璃基板的表面受到污染。因此，實際情況為，對此種玻璃基板的端面研磨裝置實施如下所示的各種對策。

例如，下述專利文獻1中揭示有如下方法：將下方開口的外罩(防塵罩(dust cover))被覆於玻璃基板的表面上，使外罩的開放側端部密著於玻璃基板的表面，並使該外罩真空吸附於玻璃基板的表面上，於該狀態下對玻璃基板的端面進行研磨。又，上述專利文獻1中揭示有如下方法來作為其它構成：於離開玻璃基板表面的狀態下配設外罩(遮蔽盤(shield pan))，以使該外罩覆蓋玻璃基板的表面，並使供給至外罩內部的水自外罩與玻璃基板的間隙流出至外側。又，於下述專利文獻2中，亦揭示有相同構成，並提出有如下方法：使自外罩(外殼(hood))與玻璃基板的間隙流出的水朝向玻璃基板的端面流動，藉此將該流出的水用作研磨液。

然而，上述專利文獻1或專利文獻2所揭示的方法中，必須配設外罩，以防止研磨粉附著於玻璃基板的表面上，因此必須確保外罩的配設空間、及另外需要保持外罩的機構等，從而導致裝置過於大型化或複雜化，並且亦相應導致裝置成本上升。並且，近年來，以液晶顯示器用玻璃基板為代表，因不斷推進各種玻璃基板之大型化發展，而導致覆蓋玻璃基板表面的外罩必須更加大型化，從而上述問題尤為凸顯。因此，上述相關方法無法成為具有實用性的對策。

因此，提出有一種無須使用上述外罩，便可防止因研磨粉使玻璃基板表面受到污染的對策。

例如，下述專利文獻3中揭示有如下方法：於較實施玻璃基板端面研磨的玻璃基板研磨部更偏玻璃基板的搬運方向下游側，以於搬運方向上隔開間隔的方式配設著水噴嘴及空氣噴嘴，上述水噴嘴生成沿著玻璃基板的表面自玻璃基板內側朝向外側流動的水流，上述空氣噴嘴生成於相同方向上流動的空氣流，藉此，當利用水流清洗附著於玻璃基板端部的研磨粉後，可利用空氣流將該清洗水排出至玻璃基板外側。又，專利文獻3中亦揭示有如下方法：另外配設空氣噴嘴，生成沿著玻璃基板的表面自玻璃基板內側朝向研磨部流動的空氣流。

再者，下述專利文獻4關於玻璃基板的研磨裝置，並揭示了如下內容：藉由形成在離開實施玻璃基板研磨的研磨部的位置上的水簾(water curtain)，形成沿著玻璃基板表面流向玻璃基板端部側(研磨部側)的水流，並藉由該水流，使以大致與玻璃基板表面正交的方式噴出的研磨液排出至玻璃基板的端部之外，藉此防止研磨液中所含的研磨粉附著於玻璃基板表面上。

【專利文獻1】日本專利特開平10－6195號公報【專利文獻2】日本專利特開平10－58293號公報【專利文獻3】日本專利特開2006－26766公報【專利文獻4】日本專利特開平11－267940號公報

[發明所欲解決的問題]

然而，當利用旋轉磨石等研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時，飛濺的研磨液中所含的研磨粉大多會沿著玻璃基板表面高速飛濺，此時，研磨粉會猛烈地與玻璃基板表面接觸，使玻璃基板表面產生大量細微傷痕。並且，附著於玻璃基板表面上的研磨粉本身雖可藉由事後清洗玻璃基板而得以去除，但於因研磨粉而使玻璃基板表面上產生傷痕的情形時，則無法實質去除該傷痕。尤其，於以液晶顯示器用玻璃基板為代表的要求表面具有高光滑度的玻璃基板中，如上所述的傷痕易於成為致命性缺陷，不僅導致產品價格降低，而且亦會導致作為次品而被處理之情形。

因此，於對玻璃基板的端面進行研磨的情形時，重要的是如何才能抑制因研磨粉而使玻璃基板表面產生傷痕的狀況，然而實際情況是針對上述觀點尚未採取任何對策。亦即，上述專利文獻3、4中，目的均為防止研磨粉對玻璃基板表面的污染，而針對該研磨粉使玻璃基板表面產生傷痕的狀況並未加以任何考慮。詳細而言，上述專利文獻3揭示的方法中，於較玻璃基板研磨部更偏玻璃基板的搬運方向下游側，藉由沿著玻璃基板的表面而形成的水流與空氣流，使附著於玻璃基板表面的研磨粉排出至玻璃基板的端部之外，因此，自玻璃基板研磨部飛濺的研磨液中所含的研磨粉，會於沿著玻璃基板表面的方向上急遽流動的同時，附著於玻璃基板的表面上，此時，附著的研磨粉在由水流與空氣流排出的階段，有可能已使玻璃基板表面產生傷痕。又，如上述專利文獻3所揭示般，即便朝向玻璃基板的研磨部另外形成空氣流，亦難以可靠地阻斷研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板流動，從而依然有可能因研磨粉而使玻璃基板表面產生傷痕。

另外，上述專利文獻4揭示的方法中，由於使以與玻璃基板表面大致正交的方式而噴出的研磨液，與由水簾所形成且沿著玻璃基板表面流動的水流接觸，因此，有可能使研磨液於沿著玻璃基板表面的方向上加速流動。並且，當出現如上所述狀況時，研磨液中所含的研磨粉會與玻璃基板表面摩擦而猛烈地接觸，從而使玻璃基板表面上產生傷痕。

本發明的技術性課題在於，可靠地抑制研磨時因飛濺的研磨液中所含的研磨粉而使玻璃基板表面產生傷痕的狀況。

用以解決上述課題而發明的本發明第1裝置是包括研磨單元與研磨液供給單元的玻璃基板的端面研磨裝置，上述研磨單元一面相對於玻璃基板移動一面對玻璃基板的端面進行研磨，上述研磨液供給單元對玻璃基板的研磨部周邊供給研磨液，其特徵在於包括噴水單元，該噴水單元於利用上述研磨單元來對玻璃基板的端面進行研磨時噴水，以阻斷飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板表面流動。

根據上述裝置，藉由噴水單元噴出的水，來阻斷研磨時飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板表面流動。亦即，研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度在與噴水單元噴出的水接觸後將會降低。因此，即便研磨液中所含的研磨粉到達玻璃基板的表面後，該研磨粉亦不會與玻璃基板的表面猛烈地接觸，從而能可靠地抑制玻璃基板的表面產生傷痕的狀況。又，含研磨粉的飛濺的研磨液可藉由與噴水單元噴出的水接觸而得到稀釋，其結果為可使液體充分介於研磨粉與玻璃基板的表面之間，從而亦可使研磨粉與玻璃基板的表面接觸的概率本身得以降低。

又，用以解決上述課題而發明的本發明第2裝置是包括研磨單元與研磨液供給單元的玻璃基板的端面研磨裝置，上述研磨單元一面相對於玻璃基板移動一面對玻璃基板的端面進行研磨，上述研磨液供給單元對玻璃基板的研磨部周邊供給研磨液，其特徵在於包括噴水單元，該噴水單元於利用上述研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時，對含研磨粉狀態下飛濺的研磨液進行噴水，使與該噴出的水接觸後的研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度降低。

根據上述裝置，研磨時飛濺的研磨液中所含的研磨粉在與噴水單元噴出的水接觸後，沿著上述玻璃基板表面的移動速度會降低。因此，即便研磨粉到達玻璃基板的表面上，該研磨粉亦不會與玻璃基板的表面猛烈地接觸，從而能可靠地抑制玻璃基板表面上產生傷痕的狀況。又，含研磨粉的飛濺的研磨液會因與噴水單元噴出的水接觸而得到稀釋，其結果為可使液體充分介於研磨粉與玻璃基板的表面之間，從而亦可使研磨粉與玻璃基板表面接觸的概率本身得以降低。

於上述裝置中，較好的是，上述噴水單元以如下方式構成，即，以傾斜狀態自玻璃基板內側朝向玻璃基板的端部進行噴水。

如此一來，可使藉由噴水單元噴出的水而降低了移動速度的研磨粉(含研磨粉的研磨液)順利排出至玻璃基板的端部之外，從而使玻璃基板的表面保持清潔狀態。

於上述裝置中，較好的是，上述噴水單元所噴出的水形成水簾。

如此一來，由於飛濺的研磨液中所含的研磨粉與噴水單元噴出的水(水簾)可靠地接觸，因此，可更加可靠地抑制因研磨粉而使玻璃基板的表面產生傷痕。

於上述裝置中，較好的是，上述研磨單元由以與玻璃基板表面正交的軸為中心旋轉的旋轉磨石所構成，且上述旋轉磨石的旋轉方向於玻璃基板的研磨部中，與玻璃基板相對於上述旋轉磨石的移動方向相反。

如此一來，即便須研磨的玻璃基板的板厚十分薄，亦可於其端面上順利且可靠地進行倒角等研磨。具體而言，例如可藉由使旋轉磨石的研磨面為剖面圓弧狀的凹部，利用單一的旋轉磨石來對玻璃基板的端面實施倒圓角(round chamfering)。

於該情形時，較好的是，上述研磨液供給單元以如下方式構成，即，可自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液，且上述噴水單元以重點的對玻璃基板的未研磨區域進行噴水的方式構成。

研磨液因具有防止玻璃基板出現過熱、或者減小摩擦的功能，故較理想的是將該研磨液準確地供給至玻璃基板的研磨部，如上所述，當配置著旋轉磨石的情形時(尤其是使旋轉磨石的研磨面為剖面圓弧狀凹部的情形時)，可藉由自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液，而將研磨液準確地供給至玻璃基板的研磨部中。此時，所供給的研磨液由於旋轉磨石的旋轉方向(於玻璃基板的研磨部，與玻璃基板相對於旋轉磨石的移動方向相反的方向)的原因，會猛烈地飛濺到玻璃基板的未研磨區域側。因此，可藉由自噴水單元重點對該未研磨區域進行噴水，而可靠地抑制因研磨液中所含的研磨粉使玻璃基板表面上產生傷痕。

用以解決上述課題而發明的本發明第1方法，是一面將研磨液供給至玻璃基板的研磨部周邊，一面使研磨單元相對於玻璃基板移動，以對玻璃基板端面進行研磨的玻璃基板的端面研磨方法，其特徵在於，於藉由上述研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時噴水，以阻斷飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板的表面流動。

根據上述方法，可達到與上述相關第1裝置所揭示的事項相同的作用效果。

又，用以解決上述課題而發明的本發明的第2方法，是一面將研磨液供給至玻璃基板的研磨部周邊，一面使該研磨單元相對於玻璃基板移動，以對玻璃基板的端面進行研磨的玻璃基板的端面研磨方法，其特徵在於，於藉由上述研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時，對含研磨粉狀態下飛濺的研磨液進行噴水，使與該噴出的水接觸後的研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度降低。

根據如此方法，可達到與上述相關第2裝置所揭示的事項相同的作用效果。

根據如上所述的本發明，藉由噴水單元噴出的水，使研磨時飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度降低，因此，即便於研磨粉與玻璃基板表面接觸的情形時，亦能可靠地抑制玻璃基板表面產生傷痕的狀況。

以下，參照圖式對本發明的實施形態加以說明。

首先，依據圖1所示的概略平面圖，就本發明一實施形態的玻璃基板的端面研磨裝置的整體構成加以說明。再者，於本實施形態中，玻璃基板為液晶顯示器用玻璃基板。

如圖1所示，上述端面研磨裝置1構成為如下：於水平方向(該圖中朝右方向)上，藉由上游側搬運單元2A以水平狀態搬運玻璃基板3，並且於搬運方向的下游側藉由與玻璃基板3鄰接的轉動單元2X使玻璃基板3水平轉動90°，於搬運方向的更下游側，於上述水平方向上藉由與玻璃基板3鄰接的下游側搬運單元2B來搬運水平轉動後的玻璃基板3。再者，上游側搬運單元2A與下游側搬運單元2B具備實質相同的構成，因此以下描述中，對上游側搬運單元2A加以具體說明，並省略對下游側搬運單元2B的具體說明。

上游側搬運單元2A以如下方式構成，即，可於藉由例如真空吸附等對玻璃基板3進行定位的狀態下來搬運玻璃基板3。進而，於已定位於上述上游側搬運單元2A上的狀態下所搬運的玻璃基板3的左右兩側方(與搬運方向正交的方向的兩側方)，配設著作為研磨單元的一對旋轉磨石4。並且，自研磨液供給單元6將研磨液(例如，純水)7供給至受到各旋轉磨石4研磨的玻璃基板3的研磨部5的周邊。

詳細而言，上述旋轉磨石4以與玻璃基板3表面正交的軸為中心進行旋轉的方式而構成，其旋轉方向於玻璃基板3的研磨部5中，與玻璃基板3的搬運方向為相反方向(自搬運方向的下游側朝向上游側的方向)。再者，雖未圖示，但於本實施形態中旋轉磨石4的外周面(研磨面)為剖面近似圓弧狀的凹部，可對玻璃基板3的端面進行一次倒圓角。

又，上述研磨液供給單元6以如下方式構成，即，自玻璃基板3的搬運方向的較旋轉磨石4之更偏下遊側(玻璃基板3的研磨結束區域側)，向旋轉磨石4與玻璃基板3的研磨部5即將接觸的研磨面，與玻璃基板表面大致平行地噴出研磨液7。如此一來，可順利地將研磨液7供給至玻璃基板3的研磨部5中，從而穩定地進行玻璃基板的端面研磨。

另一方面，以上述方式供給至玻璃基板3的研磨部5周邊的研磨液7，以含研磨粉的狀態，自玻璃基板3的研磨部5周邊朝向其內側中央部，大致沿著玻璃基板3的表面猛烈地飛濺。因此，如圖1及圖2所示，可藉由於玻璃基板3的兩端部分別配設噴水單元8，自該噴水單元8向玻璃基板3的端部噴水，而於噴水單元8前端與玻璃基板3端部之間形成水簾9。詳細而言，該水簾9沿著與研磨液7中所含的研磨粉沿著玻璃基板3表面的流動方向交叉的方向(圖例中是與玻璃基板3側邊大致平行的方向)上形成，以便阻斷飛濺的研磨液7中所含的研磨粉沿著玻璃基板3表面流動。如此一來，自研磨部5周邊飛濺的研磨液7中所含的研磨粉沿著玻璃基板3表面的流動藉由水簾9所阻斷。亦即，研磨粉沿著玻璃基板3表面的移動速度，於研磨粉(含研磨粉的研磨液7)與水簾9接觸後降低。因此，即便研磨液7中所含的研磨粉到達玻璃基板3的表面上，該研磨粉亦不會與玻璃基板3表面猛烈地接觸，因此能可靠地抑制玻璃基板3表面產生傷痕的狀況。又，含研磨粉的飛濺的研磨液7會因與水簾9(自噴水單元8噴出的水)接觸而得到稀釋，其結果為，使液體充分介於研磨粉與玻璃基板3的表面之間，因此亦可使研磨粉與玻璃基板3表面接觸的概率本身得以降低。再者，將由噴水單元8噴出的水的水量設為例如4~6升/分鐘。

進而，於本實施形態中，水簾9藉由自玻璃基板3內側上方向玻璃基板3端部傾斜向下進行噴水而形成。因此，可將含研磨粉的研磨液7較佳地排出至玻璃基板3的端部之外，上述研磨粉藉由水簾9而降低了沿著玻璃基板3表面的移動速度，因此可將玻璃基板3的表面保持為清潔狀態。更具體而言，可藉由朝向玻璃基板3的端部形成水簾9，而確實防止形成於液晶顯示器用玻璃基板的中央部的有效面上產生傷痕，且將該有效面保持為清潔狀態。

又，於該實施形態中，以使旋轉磨石4的上游側區域(玻璃基板3的未研磨區域)長於其下游側區域(玻璃基板3的研磨結束區域)的方式，使水簾9與玻璃基板3的端部大致平行地形成。其原因在於，因與玻璃基板3的表面正交的軸為中心進行旋轉的上述旋轉磨石4，而使研磨液7大多飛濺於玻璃基板的上游側區域，故重點對該區域(未研磨區域)供給水。

再者，本發明可進行如下所示的各種變形。

例如，上述實施形態中，僅對於玻璃基板3的上表面側配設噴水單元8者加以說明，然而亦可視情況，於玻璃基板3的下表面側配設噴水單元。

又，上述實施形態中，就以與玻璃基板3的端部大致平行的方式形成水簾9的情形加以了說明，然而，例如圖3所示，亦可使水簾9a以與玻璃基板3的側邊所平行的線相交的方式而形成。如此一來，水簾9a藉由於其寬度方向上以一定程度的寬度對玻璃基板3的端部噴水而形成，因此，可抑制玻璃基板3於搬運路徑上的不均一，從而能以穩定的狀態搬運玻璃基板3。

又，於上述實施形態中，對如下情況加以了說明：一面搬運玻璃基板3，一面藉由固定配設於玻璃基板搬運路徑側方的研磨單元(旋轉磨石4)對玻璃基板3的端面進行研磨，然而亦可例如於固定玻璃基板的狀態下，沿著須對玻璃基板進行研磨的端部移動研磨單元，或者使玻璃基板與研磨單元兩者作相對移動。當以此方式移動研磨單元的情形時，較好的是，以使研磨液供給單元與供水單元兩者可與研磨單元一併移動的方式而構成。進而，亦可沿著須研磨的玻璃基板的端部，使多個旋轉磨石相鄰接而構成研磨單元。於該情形時，較好的是，於各旋轉磨石的對應位置上，分別配設研磨液供給單元與供水單元。

進而，於上述實施形態中，以研磨液晶顯示器用玻璃基板的端面的情形為例加以說明，而本發明的玻璃基板的端面研磨裝置及其方法，除了用作液晶顯示器用玻璃基板以外，亦可適用於要求表面具有高光滑度的玻璃基板的端面研磨，例如適用於電漿顯示器、電致發光顯示器及場發射顯示器等各種圖像顯示設備用的玻璃基板，或適用於作為各種電子顯示功能元件或用以形成薄膜的基材而使用的玻璃基板。

1．．．端面研磨裝置

2A．．．上游側搬運單元

2B．．．下游側搬運單元

2X．．．轉動單元

3．．．玻璃基板

4．．．旋轉磨石

5．．．研磨部

6．．．研磨液供給單元

7．．．研磨液

8．．．噴水單元

9．．．水簾

圖1是表示本發明實施形態的玻璃基板的端面研磨裝置的整體構成的概略平面圖。

圖2是表示上述端面研磨裝置主要部分的概略立體圖。

圖3是表示上述端面研磨裝置變形例的概略立體圖。

2A．．．上游側搬運單元

3．．．玻璃基板

4．．．旋轉磨石

5．．．研磨部

6．．．研磨液供給單元

7．．．研磨液

8．．．噴水單元

9．．．水簾

Claims (4)

1. 一種玻璃基板的端面研磨裝置，包括研磨單元與研磨液供給單元，上述研磨單元一面相對於玻璃基板移動一面對玻璃基板的端面進行研磨，上述研磨液供給單元對玻璃基板的研磨部周邊供給研磨液，其特徵在於：包括噴水單元，該噴水單元於利用上述研磨單元來研磨玻璃基板端面時，對包含上述研磨部的玻璃基板的端部進行噴水而形成水簾，以阻斷飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板表面流動，上述水簾在研磨進行中的玻璃基板的端部旁邊的玻璃基板的表面，和上述研磨進行中的端部平行的線相交，且上述研磨液供給單元，以與玻璃基板表面大致平行地噴出研磨液，上述噴水單元以傾斜狀態自玻璃基板內側朝向玻璃基板端部進行噴水，上述研磨單元由以與玻璃基板表面正交的軸為中心旋轉的旋轉磨石所構成，且上述旋轉磨石的旋轉方向於玻璃基板的研磨部，與玻璃基板相對於上述旋轉磨石的移動方向相反，上述研磨液供給單元以自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液的方式構成，且上述噴水單元以重點的對玻璃基板的未研磨區域進行噴水的方式構成。
2. 一種玻璃基板的端面研磨裝置，包括研磨單元與研 磨液供給單元，上述研磨單元一面相對於玻璃基板移動一面對玻璃基板的端面進行研磨，上述研磨液供給單元對玻璃基板的研磨部周邊供給研磨液，其特徵在於：包括噴水單元，該噴水單元於利用上述研磨單元研磨玻璃基板的端面時，於包含上述研磨部的玻璃基板的端部，對含研磨粉且從上述研磨部周邊朝向玻璃基板的內側的研磨液進行噴水而形成水簾，使與該噴出水接觸後的研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度降低，上述水簾在研磨進行中的玻璃基板的端部旁邊的玻璃基板的表面，和上述研磨進行中的端部平行的線相交，且上述研磨液供給單元，以與玻璃基板表面大致平行地噴出研磨液，上述噴水單元以傾斜狀態自玻璃基板內側朝向玻璃基板端部進行噴水，上述研磨單元由以與玻璃基板表面正交的軸為中心旋轉的旋轉磨石所構成，且上述旋轉磨石的旋轉方向於玻璃基板的研磨部，與玻璃基板相對於上述旋轉磨石的移動方向相反，上述研磨液供給單元以自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液的方式構成，且上述噴水單元以重點的對玻璃基板的未研磨區域進行噴水的方式構成。
3. 一種玻璃基板的端面研磨方法，一面將研磨液供給至玻璃基板的研磨部周邊，一面使研磨單元相對於玻璃基 板移動，以對玻璃基板端面進行研磨，其特徵在於：於藉由上述研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時，對包含上述研磨部的玻璃基板的端部噴水而形成水簾，以阻斷飛濺的研磨液中所含的研磨粉沿著玻璃基板的表面流動，且上述水簾在研磨進行中的玻璃基板的端部旁邊的玻璃基板的表面，和上述研磨進行中的端部平行的線相交，且上述研磨液以與玻璃基板表面大致平行地噴出，上述噴水單元以傾斜狀態自玻璃基板內側朝向玻璃基板端部進行噴水，上述研磨單元由以與玻璃基板表面正交的軸為中心旋轉的旋轉磨石所構成，且上述旋轉磨石的旋轉方向於玻璃基板的研磨部，與玻璃基板相對於上述旋轉磨石的移動方向相反，上述研磨液供給單元以自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液的方式構成，且上述噴水單元以重點的對玻璃基板的未研磨區域進行噴水的方式構成。
4. 一種玻璃基板的端面研磨方法，一面將研磨液供給至玻璃基板的研磨部周邊，一面使研磨單元相對於玻璃基板移動，以對玻璃基板端面進行研磨，其特徵在於：於藉由上述研磨單元對玻璃基板的端面進行研磨時，於包含上述研磨部的玻璃基板的端部，對含研磨粉狀且從上述研磨部周邊朝向玻璃基板的內側的研磨液進行噴水而 形成水簾，使與該噴出水接觸後的研磨粉沿著玻璃基板表面的移動速度降低，且上述水簾在研磨進行中的玻璃基板的端部旁邊的玻璃基板的表面，和上述研磨進行中的端部平行的線相交，且上述研磨液以與玻璃基板表面大致平行地噴出，上述噴水單元以傾斜狀態自玻璃基板內側朝向玻璃基板端部進行噴水，上述研磨單元由以與玻璃基板表面正交的軸為中心旋轉的旋轉磨石所構成，且上述旋轉磨石的旋轉方向於玻璃基板的研磨部，與玻璃基板相對於上述旋轉磨石的移動方向相反，上述研磨液供給單元以自玻璃基板的研磨結束區域側朝向玻璃基板的研磨部周邊噴出研磨液的方式構成，且上述噴水單元以重點的對玻璃基板的未研磨區域進行噴水的方式構成。