JP6399739B2 - 露光装置、露光方法、およびデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置について説明する。図1は、本実施形態に係る露光装置1の構成を示す概略図である。特に、図1(a)は、露光装置1の全体側面図である。露光装置1は、一例として、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・スキャン方式にてレチクルRに形成されているパターンをウエハW上(基板上)に露光(転写)する投影型露光装置とする。露光装置1は、照明系2と、レチクルRを保持するレチクルステージ4と、投影光学系5と、ウエハWを保持するウエハステージ6と、制御部7とを備える。なお、図1では、投影光学系5の光軸(本実施形態では鉛直方向)に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で露光時のレチクルRおよびウエハWの走査方向にY軸を取り、Y軸に直交する非走査方向にX軸を取っている。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置について説明する。第1実施形態では、ショットに倍率誤差が発生している場合について説明した。これに対して、本実施形態に係る露光装置の特徴は、第1実施形態と同様に、投影倍率が異なる投影光学系を採用した他の露光装置とのミックス・アンド・マッチを行うものであって、特にショットの回転誤差が発生している場合に応用する点にある。なお、本実施形態に係る露光装置の構成は、第1実施形態に係る露光装置1の構成と同一であり、以下の説明では同一の符号を用いる。
次に、本発明の第3実施形態に係る露光装置について説明する。上記各実施形態では、ウエハW側(ショット側)に各種誤差が発生している場合について説明した。これに対して、本実施形態に係る露光装置の特徴は、第1実施形態と同様に、投影倍率が異なる投影光学系を採用した他の露光装置とのミックス・アンド・マッチを行うものであって、特にレチクルR側に誤差が発生している場合に応用する点にある。なお、本実施形態に係る露光装置の構成も、第1実施形態に係る露光装置1の構成と同一であり、以下の説明では同一の符号を用いる。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイスなど)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
4 レチクルステージ
5 投影光学系
6 ウエハステージ
7 制御部
R レチクル
W ウエハ
Claims (10)
- 原版に形成されているパターンを、第1の投影倍率を有する第1の投影光学系を介して、第1のパターン形成領域として基板上に露光する露光装置であって、
前記原版を保持する原版保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記原版保持部と前記基板保持部との走査を制御し、前記基板上に予め前記第1の投影倍率とは異なる第2の投影倍率を有する第2の投影光学系を介して露光された第2のパターン形成領域に、前記第1のパターン形成領域を重ね合わせて露光させる制御部と、を備え、
前記原版には、前記第1のパターン形成領域として前記基板上に露光される前記パターンが複数形成され、
前記制御部は、前記原版保持部と前記基板保持部とを走査させ、前記複数の前記パターンを前記複数の第2のパターン形成領域に一括して重ね合わせる走査露光を行う間に、前記基板上に予め形成された前記第2のパターン形成領域の状態、または前記複数の前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を、前記第2のパターン形成領域と他の前記第2パターン形成領域との間を走査する間に変更させる、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第2のパターン形成領域の状態には、前記第2のパターン形成領域の形状または配列を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第2のパターン形成領域の状態に基づいて、前記第1のパターン形成領域と前記第2のパターン形成領域との間で、倍率誤差または回転誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記パターンの状態には、前記パターンの形状または前記複数のパターンの配列を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記原版に形成された前記パターンの製造誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作の変更には、走査速度、走査方向および走査位置、または前記複数の第2のパターン形成領域に前記第1のパターン形成領域を投影する投影光学系の光軸方向に対する垂直平面内における角度の少なくともいずれかの変更を含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記基板に形成された前記複数の第2のパターン形成領域の前記形状または前記配列を計測する計測器を備えることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記原版は、前記複数のパターンの形成位置に合わせたマークを有し、
前記マークの位置を計測する位置計測器を備え、
前記制御部は、前記位置計測器が計測した前記マークの位置から前記パターンの形状または前記複数のパターンの配列を求める、
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 原版に形成されているパターンを、第1の投影倍率で第1のパターン形成領域として基板上に露光する露光方法であって、
前記原版を保持する原版保持部と、前記基板を保持する基板保持部とを走査させつつ、前記基板上に予め前記第1の投影倍率とは異なる第2の投影倍率で露光された第2のパターン形成領域に、前記第1のパターン形成領域を重ね合わせて露光する工程を含み、前記原版が前記第1のパターン形成領域として前記基板上に露光される前記パターンを複数有する場合、
前記工程では、前記原版保持部と前記基板保持部とを走査させ、前記複数の前記パターンを前記複数の第2のパターン形成領域に一括して重ね合わせる走査露光を行う間に、前記基板上に予め形成された前記第2のパターン形成領域の状態、または前記複数の前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を、前記第2のパターン形成領域と他の前記第2のパターン形成領域との間を走査する間に変更する、ことを特徴とする露光方法。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、その露光した基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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