JP2015070057A5 - - Google Patents

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上記課題を解決するために、本発明は、原版に形成されているパターンを、第1のパターン形成領域として基板上に露光する露光装置であって、原版を保持する原版保持部と、基板を保持する基板保持部と、原版保持部と基板保持部との走査を制御し、基板上に予め形成された複数の第2のパターン形成領域に、第1のパターン形成領域を重ね合わせて露光させる制御部と、を備え、原版は、第1のパターン形成領域として基板上に露光される複数のパターンが形成され、制御部は、原版保持部と基板保持部と走査させ、第1のパターン形成領域を複数の第2のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、基板上に予め形成された第2のパターン形成領域の状態、または原版に形成されているパターンの状態に基づいて、原版保持部または基板保持部の動作を複数回行われる露光間で変更させることを特徴とする。

Claims (10)

  1. 原版に形成されているパターンを、第1のパターン形成領域として基板上に露光する露光装置であって、
    前記原版を保持する原版保持部と、
    前記基板を保持する基板保持部と、
    前記原版保持部と前記基板保持部との走査を制御し、前記基板上に予め形成された複数の第2のパターン形成領域に、前記第1のパターン形成領域を重ね合わせて露光させる制御部と、を備え、
    前記原版は、前記第1のパターン形成領域として前記基板上に露光される複数の前記パターンが形成され、
    前記制御部は、前記原版保持部と前記基板保持部と走査させ、前記第1のパターン形成領域を前記複数の第2のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、前記基板上に予め形成された前記第2のパターン形成領域の状態、または前記原版に形成されている前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を前記複数回行われる露光間で変更させる、
    ことを特徴とする露光装置。
  2. 前記第2のパターン形成領域の状態には、前記第2のパターン形成領域の形状または配列を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記制御部は、前記第2のパターン形成領域の状態に基づいて、前記第1のパターン形成領域と前記第2のパターン形成領域との間で、倍率誤差または回転誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  4. 前記原版における前記パターンの状態には、前記パターンの形状または配列を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  5. 前記制御部は、前記原版における前記パターンの状態に基づいて、前記パターンの製造誤差が許容範囲を超えて発生しているときに、前記原版保持部または前記基板保持部の前記動作を変更させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  6. 前記原版保持部の前記動作の変更には、走査速度、走査方向および走査位置、または前記複数の第2のパターン形成領域に前記第1のパターン形成領域を投影する投影光学系の光軸方向に対する垂直平面内における角度の少なくともいずれかの変更を含むことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
  7. 前記基板に形成された前記複数の第2のパターン形成領域の前記形状または前記配列を計測する計測器を備えることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
  8. 前記原版は、前記複数のパターンの形成位置に合わせたマークを有し、
    前記マークの位置を計測する位置計測器を備え、
    前記制御部は、前記位置計測器が計測した前記マークの位置から前記パターンの形状または配列を求める、
    ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
  9. 原版に形成されているパターンを、第1のパターン形成領域として基板上に露光する露光方法であって、
    前記原版を保持する原版保持部と、前記基板を保持する基板保持部とを走査させつつ、前記基板上に予め形成された複数の第2のパターン形成領域に、前記第1のパターン形成領域を重ね合わせて露光する工程を含み、前記原版が前記第1のパターン形成領域として前記基板上に露光される複数の前記パターンを複数有する場合、
    前記工程では、前記原版保持部と前記基板保持部と走査させ、前記第1のパターン形成領域を前記複数の第2のパターン形成領域に一括して重ね合わせる露光を複数回行う間に、前記基板上に予め形成された前記第2のパターン形成領域の状態、または前記原版に形成されている前記パターンの状態に基づいて、前記原版保持部または前記基板保持部の動作を前記複数回行われる露光間で変更する、
    ことを特徴とする露光方法。
  10. 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    その露光した基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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