JP2013149928A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、リソグラフィー装置であって、基板を回転させる回転機構と、前記基板に形成されたアライメントマークの第１方向における位置を第１精度で計測する第１計測と、前記基板に形成されたアライメントマークの第２方向における位置を前記第１精度より高い第２精度で計測する第２計測とを行う計測部と、前記基板上における２つの方向のうち要求される重ね合わせ精度がより高い方向が前記第２方向に合うように前記回転機構を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
Claims (8)
- リソグラフィー装置であって、
基板を回転させる回転機構と、
前記基板に形成されたアライメントマークの第１方向における位置を第１精度で計測する第１計測と、前記基板に形成されたアライメントマークの第２方向における位置を前記第１精度より高い第２精度で計測する第２計測とを行う計測部と、
前記基板上における２つの方向のうち要求される重ね合わせ精度がより高い方向が前記第２方向に合うように前記回転機構を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするリソグラフィー装置。 - 前記基板を保持する基板ステージを備え、
前記回転機構は、前記基板ステージの上に前記基板を置く前に前記基板を回転させる、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィー装置。 - 前記基板を保持する基板ステージを備え、
前記回転機構は、前記基板ステージを回転させる、ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィー装置。 - 前記リソグラフィー装置は、荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であり、
前記制御部は、前記回転機構による前記基板の回転に整合するように、前記描画に用いるデータを変更する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。 - 前記リソグラフィー装置は、マスクに形成されたパターンを前記基板に投影して当該基板を露光する露光装置であり、
前記制御部は、前記回転機構による前記基板の回転に整合するように、前記マスクを回転させる、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。 - 前記計測部は、前記第１計測における光学的な倍率より前第２計測における光学的な倍率が高い、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
- 前記計測部は、前記第１計測におけるセンサーの分解能より前第２計測におけるセンサーの分解能が高い、ことを特徴とする請求項１ないし請求項６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
- 物品を製造する方法であって、
請求項１ないし請求項７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
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