JP2015012258A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、原版の第１のパターン領域の像と原版の第２のパターン領域の像とを一部が互いに重なり合うように基板上のパターン形成領域に露光する露光装置であって、基板上のパターン形成領域に第１のパターン領域の像と第２のパターン領域の像を露光する際に、第１のパターン領域の像と第２のパターン領域の像とがパターン形成領域で互いに重なり合うつなぎ領域に、第１のパターン領域および第２のパターン領域とは異なるパターン領域の像を露光するときの位置合わせに用いられるマークの像を形成することを特徴とする。

Claims (8)

1. 原版の第１のパターン領域の像と原版の第２のパターン領域の像とを一部が互いに重なり合うように基板上のパターン形成領域に露光する露光装置であって、
   前記基板上のパターン形成領域に前記第１のパターン領域の像と前記第２のパターン領域の像を露光する際に、前記第１のパターン領域の像と前記第２のパターン領域の像とが前記パターン形成領域で互いに重なり合うつなぎ領域に、前記第１のパターン領域および前記第２のパターン領域とは異なるパターン領域の像を露光するときの位置合わせに用いられるマークの像を形成することを特徴とする露光装置。
2. 前記パターン形成領域に前記第１のパターン領域の像と前記第２のパターン領域の像を露光する際に前記マークの像が形成されるようなマークパターンを含む前記第１のパターン領域と前記第２のパターン領域とを有する前記原版を用いることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記第１のパターン領域と前記第２のパターン領域とを有する前記原版において、前記第１のパターン領域に有する前記マークパターンと前記第２のパターン領域に有する前記マークパターンとは、同一であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記マークの像は、前記つなぎ領域に、前記基板を露光する際に前記原版を走査する走査方向で２つ以上形成され、
   前記パターン形成領域に形成された前記第１のパターン領域の像および前記第２のパターン領域の像の上に前記第１のパターン領域および前記第２のパターン領域とは異なるパターンを形成する際の、前記位置合わせのときに、前記マークの像を用いて前記つなぎ領域の重ね合わせ精度を優先して、前記パターン形成領域に対する前記異なるパターンの位置の補正量を求め、該補正量に基づいて位置を補正する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
5. 前記補正量は、前記原版を走査する走査方向と直交する方向のシフト成分のずれ量、前記原版を走査する走査方向のシフト成分のずれ量、前記原版を走査する走査方向と直交する方向の倍率成分、前記原版を走査する走査方向の倍率成分のずれ量、または回転成分のずれ量の少なくとも１つであることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記基板を露光する際の前記基板の走査に同期して移動し、前記第１のパターン領域と前記第２のパターン領域とを照明する照明光を遮蔽可能とする遮光部材を有し、
   前記第１のパターン領域の像に含まれる前記つなぎ領域を露光するときは、前記照明光を徐々に遮蔽するように前記遮光部材を移動させて露光量を減少させ、前記第２のパターン領域の像に含まれる前記つなぎ領域を露光するときは、前記照明光を徐々に照射するように前記遮光部材を移動させて露光量を増加させる、
   ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 原版の第１のパターン領域の像と原版の第２のパターン領域の像とを一部が互いに重なり合うように基板上のパターン形成領域に露光する露光方法であって、
   前記基板上のパターン形成領域に前記第１のパターン領域の像と前記第２のパターン領域の像を露光する際に、前記第１のパターン領域の像と前記第２のパターン領域の像とが前記パターン形成領域で互いに重なり合うつなぎ領域に、前記第１のパターン領域および前記第２のパターン領域とは異なるパターン領域の像を露光するときの位置合わせに用いられるマークの像を形成する工程を含むことを特徴とする露光方法。
8. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置、または請求項７に記載の露光方法を用いて基板を露光する工程と、
   その露光した基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。