JP2019079030A - 露光装置および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1を用いて、本実施形態に係る照明光学系IL及び投影光学系POを含む露光装置の構成を説明する。
図2を用いて本発明の第2実施形態に係る露光装置について説明する。第1実施形態に係る露光装置では、投影光学系POの光路を遮光するピンホールPH1を用いてデフォーカス量の検出及びフォーカス制御を行う。第2実施形態に係る露光装置では、投影光学系POの光路中に設けられたビームスプリッタBS1aによって反射された光の光路中に、複数の開口を有するピンホールPH2を配置している。以下、第1実施形態との差異について説明する。なお、第1実施形態と同一の構成については説明を割愛する。
図3を用いて本発明の第3実施形態に係る露光装置について説明する。第2実施形態として、投影光学系POの光路中に設けられたビームスプリッタBS1aによって反射された光の光路中に、複数の開口を有するピンホールPH2を配置する構成を説明した。本実施形態では、投影光学系POよりも光源LS側に設けられたビームスプリッタBS3によって反射された光の光路中に、複数の開口を有するピンホールPH3を配置している。以下、第1実施形態及び第2実施形態との差異について説明する。なお、第1実施形態及び第2実施形態と同一の構成については説明を割愛する。
図4を用いて本発明の第4実施形態に係る露光装置について説明する。本実施形態では、照明光学系ILと投影光学系POを含む露光ユニットEUとは別に、スポット光の集光位置と基板PL面との位置ずれを示すデフォーカス量の検出を行うための光学ユニットOUを設けている。なお露光ユニットEUの構成はこれまでの実施形態において説明した構成と同一であるため、露光ユニットEUに関する説明は割愛する。
図5は、基板上の走査露光の概要を示す図である。DMDはXY平面内に配置された複数のマイクロミラーから構成され、図5における各点は、DMDを構成するマイクロミラーによって形成されたスポット光を示している。
図8は、第2実施形態に係る露光装置の変形例1を示す図である。第2実施形態における露光装置との相違点は、ピンホールPH2の配置場所にある。変形例1では、結像レンズL1aによる集光面BPから所定量だけ離してピンホールPH2を配置している。
図10は、第2実施形態に係る露光装置の変形例2を示す図である。変形例2では、結像レンズL1aを透過した光束をビームスプリッタBS2により、透過光束と反射光束に分けている。そして、ビームスプリッタBS2を透過した透過光束が、ピンホールPH2a、結像レンズL2aを透過して受光素子LR2aに集光するような光学配置としている。また、ビームスプリッタBS2にて反射された反射光束が、ピンホールPH2b、結像レンズL2bを透過して受光素子LR2bに集光するような光学配置としている。制御部CTRは、受光素子LR2a及び受光素子LR2bからの情報に基づいてアクチュエータAFD2に対して駆動信号を送信する。
なお、基板PLを投影光学系POの光軸方向に駆動させることにより、デフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行っても良い。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
PL 基板
PH 遮光部材
LR 受光素子
CTR 制御部
Claims (15)
- 基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記開口を通過した光束を受光する受光素子と、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行うことを特徴とする露光装置。 - 前記遮光部材は、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記受光素子において受光される光量が増加するように、前記遮光部材を移動させることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記投影光学系の光路に配置された光学部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記受光素子において受光される光量が増加するように、前記光学部材を移動させることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記基板において反射された光をさらに反射する反射部材を有し、
前記遮光部材は、前記反射部材によって反射された光路中に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記遮光部材は、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面からずらして配置されていることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記遮光部材は金属から構成されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 複数の光変調素子を含む光変調部と、
該光変調部に光を照射する照明光学系をさらに有し、
前記光変調部によって反射された光が前記投影光学系に入射されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記フォーカス制御が行われた状態で、前記照明光学系によって形成されたスポット光を前記投影光学系を介して前記基板上に投影する露光動作を行い、
前記基板上の特定の領域に対して前記露光動作を繰り返すことを特徴とする請求項10に記載の露光装置。 - 基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系を含む露光装置であって、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む第1遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記第1遮光部材の開口を通過した光束を受光する第1受光素子と、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む第2遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記第2遮光部材の開口を通過した光束を受光する第2受光素子を有し、
前記第1遮光部材は、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面から前記第1受光素子側にずらして配置され、
前記第2遮光部材は、前記合焦状態において前記基板と光学的に共役な面から前記第2受光素子とは反対側にずらして配置されていることを特徴とする露光装置。 - 前記第1受光素子及び前記第2受光素子において受光された光量に応じて、前記デフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行うことを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記露光光の集光位置を変化させる光学部材を含む露光ユニットと、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、前記基板において反射された後に前記遮光部材の開口を通過した光束を受光する受光素子を含む光学ユニットを有する露光装置であって、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記光学部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする露光装置。 - 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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