JPS60185787A - ７−アシルアミノ−３−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は、抗菌作用を有する、下記一般式ｉｌ＋で示
される新規な７−アシＩレアミノ−８−置換セＪｕｌ′ 上記式中、ｉｔ’は一般式。 で示されるノ占（ここで１１．′は低、吸アルキル、几
ｌ′はアミノまたは保護されたアミノである）、■ｔ２
は低級アルコギシメチル、低級アルキｌレ−／−オ／ｌ
チｔｕマたは低級アルケニルチオメチル、Ｒ８１；Ｊ　
カルボキシまたは保護された力！レボギシ、Ａは、アミ
ノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソおよび式：
＝Ｎ〜０■

【６の糸よりなる群から選ばれた置換基を有
していてもよい低級アｌレキレン（ここで、几は水素、
低級アルク二ｌし、低級アルキニル、低級アＩレキルま
たは力ｌレボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
護されたアミノおよび複素環式栽から選ばれたｌまたは
２以上の置換基で置換された低級アＭキルである）をそ
れぞれ意味する。 目的化合物（１１ならびに後述の方法■および７におけ
る対応する出発化合物（１１）〜（ＩＶＪにおいて、こ
れらの分子中の不斉炭素原子および二重結合のために光
学および幾何異性体のような１種またはそれ以上の立体
異性体対が存在しつるが、このような異性体はこの発明
の範囲内に包含される。 目的化合物および出発化合物における幾何異性体に関し
ては、たとえばＡが式）ＣＪ〜ＯＲ’の基を意味する目
的化合物は、シン異性体、アンチ異性体およびこれらの
混合物を含み、シン異性体は、式：几１−（３、（式中
、几１七Ｒ６はそＮ−０４’ れぞれ上記定義のとおＩＪ）で表わされる部分構造を有
する幾（＝Ｊ　！Ａ性体を意味し、アンチ異性体は式：
　１ｔ１−ｃ−（式中、ｌυと几６はそれぞれ上記定義
ＬＬ’　−０−Ｎ のとおり）で表わぎれる部分構造を有する幾何異性体を
意味する。 他の目的化合物および出発化合物についても、シン異性
体およびアンチ異性体とは化合物（Ｉｌに対して例示し
たのと同様の幾何異性体を意味する。 好適な医薬として許容される目的化合物ｔＩ＋の塩は、
塩基との塩および酸付加塩を包含しつる慣用の無毒な塩
であり、具体的には、無機塩基との塩、シ１ンム塩、マ
グネジ１ンム塩なト）、アンモニウム塩；有機塩基との
塩、たとえば、有機アミン塩（例、トリエチＭアミン塩
、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリ
エタノ−〜アミン塩、ジシクロヘキシＭアミン塩、Ｎ、
Ｎ／−ジベンジルエチレンジアミン塩など）など：無機
酸付加塩（例、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、りん酸
塩など）；有機力Ｉレボン酸またはスフレホン酸付加塩
（例、ぎ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン
酸ｊＬｉ石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスフレ
ホン酸塩、ｐ−トルエンスＩレホン酸塩など）；塩基性
もしくは酸性アミノ酸との塩（例、ア！レギニン塩、ア
スパラギン酸塩、グルタミン酸塩など）；分子間もしく
は分子内第四級塩などが挙げられる。上記の分子間第四
級塩は、化合物＋Ｉ＋の几６における複素環式基が窒素
原子を含有するもの（例、ピリジルなど）である場合に
形成することができ、好適な分子間第四級塩には１〜低
級アルギルピリジニウム低級アルキルサルフヱート（例
、１−メチルピリジニウムメチｌレサＩレフエート、ｌ
−エチルピリジニウムエチルサＩレフェ〜トナト〕、ｌ
−低級アＩレキＩレピリジニウムハ、−５イド（例、１
−メチルピリジニウムヨーダイトなど）などがある。上
記の分子内塩は、化合物（１）の几６における複素環式
基が窒素原子を含有しく例、ピ１７ジルなど）、シかも
Ｉｌ８がカルボキシである場合に形成することができる
。好適な分子内塩には、■−低級アルキルピリジニウム
カルボキシレート（例、１−メチルビリジニウムカルボ
キシレート、■−エチＩレピリジニウムカルボキシレー
ト、ｌ−プロビルジピリジニウム力ｌレボキシレート、
ｌ−イソ７”。 ビルピリジニウムカルボキシレート、ｌ　−プチルビリ
ジニウム力ｌレボキシレートｑと）などがある。 この発明によれば、目的化合物中と医薬として許容され
るその塩は、下記の反応図式により示される方法によっ
て製造することができる。 （１）方法ｌ二 （３）方法３： ＋１−Ｃ）　（１−（１） またはその塩　またはその塩 （４）方法４； すたけその塩　またはその塩 （５）方法５：１ （１−４）　（＋−６） またはその塩　またはその塩 −閾 上記式中、Ｒ’　、　ＪＬ２．　ＪＬ８．　Ｊ、ｔ５お
よびＡはそれぞれ上記定義のとおりであり、 （式中、ＩＬ８は保護されたアミノ）で示される基、で
示される基、 ｌ（Ｒは保ｔφされたカルボキシ、 ｘｔ１％は保護されたアミノと保護された力Ｉレボキシ
とで１ｊｆｆ換された低級アルコキシカルボニル、ＩＬ
コはアミノとカルボキシとで置換された低級アルコキシ
カルボニル 几は低級アルキル、 Ａ１は保護されたアミノを有する低級アＩレキレン、Ａ
はアミノを有する低級アルキレン、 Ａはオキソを不する低級アルキレン、 Ａ４はヒドロキシ県を有する低級アルキレン、Ａ５は式
　＝Ｎ〜ｏｉｔ’（式中、Ｒ６は上記定義のとおり〕の
基を有していてもよい低級アＩレキレン、Ａ６は式　−
Ｎ〜ｏ１ｔ：　（式中、］いま保護されたカルボキンで
Ｉｉ？ｆ換された低級アルキル）の県を有する低級アル
キレン、 Ａ７は式＋＝Ｎ〜ＯＬ叱（式中、ｎＱは力ｌレボキシで
１１￥換された低級アルキル〕の県を有する低級アルキ
レン、 Ａ８は式；−Ｎ〜ＯＪ褪（式中、Ｊ＋８は保護されたア
ミノと保護されたカルボキシとで置換された低級アｌレ
コギシ力ルボニｌしく低級ノアルキル、また（Ｊ保護さ
れたアミノと保護されたカルボキシとで１１を換された
低級アＩレギｌし）の基を有する低級アルＡレン、 Ａ’ｉま式；−Ｎ〜ｏｔｔ５（式中、顯４まアミノとカ
ルノボキシとで置換された低級アルコキシカルボニル（
低級）アルキル、舊たはアミノと力！レボキシとで置換
された低級アルキＩし）の爪を有する低級アルキレン、 で示される糸で１ｉｔ換された低級アルキＩｖ）の爪を
有する低級アルキレン、 １、弘８。（３１．、ＷＥ で示される基で置換された低級アｌレキルであって、１
（７は上記定義のとおり）の基を有する低級アルキレン
、 ｌ■ ７ で示される力９−オンで置換された低級アルキルであっ
て、Ｒ７は上記定義のとおり）の県を有する低級アルキ
レン、 Ｘｌはハロゲンをそれぞれ１味する，１方法ｌおよび７
で使用する出発化合物（ｌ（）、（１１１１および（１
■）の一部は新規であり、Ｆ記一般式で表わずことがで
きる。 上記式中、■函まアミノまたは保護されたアミノ、Ｒｂ
′は低級アルテニル、Ｘは一Ｓ−または一Ｓ〇−を意味
し、ｌ（８はｏｉＪ記定義のとおりである。 上記一般式の出発化合物の塩も本発明に包含いれ、好適
７１１Ｍは目的化合物（ＩＩＧ、：ｉｒｌ、て例示した
忙の、ｌ！−同様である。 上記一般式の出発化合物およびその他の出発４１合物は
、たとえば、Ｆ記の反応図式の方法により既知化合物か
ら叫造することができ、他の用箔イ［合物もこれと同様
の方法により、或いは常法により０ψ萌することができ
る。 またはその塩　菫たはその塩 ｔＢ１方法Ｂ：出発化合物冊の一部の製造Ｊｌ、ｊ　−
Ａ　”−几０ （ＩＩＩ−１ｍ） １１、；　−Ａ　”　−ＩｔＣ還　元　楯−Ａ２−ＩＬ
ｃ（方法Ｂ−２）　（Ｉｌｌ−（・） （１１１−ｂ） ｔたはその塩 Ｒも−Ａ２−Ｒ’　ＩｔＡ　Ａ　Ｉ　−几ＩＣ（＋１７
−ｆ　）　（ｌ１ｌ−ｄ　） 筺たはその塩 ■拮−Ａ２α工肘　アミノ保護 俵。導入　ＲＡＡ＋−α（ＫＩ （Ｉｌｌ−ｇ）　（方法Ｂ”６）　（ＩＬすｔりＬｔ＋
１７）ＪＪＮ　またはその塩＋Ｑ方法Ｃ：出発化合物ｔ
ｌｖＩの一部の」Ｌν造（ＬＳＩ方法Ｄ：化合物（ｆｉ
＋の一部の製Ｊ１■またはその塩 （Ｅ）方法Ｅ　方法ｌにおける化合物（曲の一部のｙｔ
ｌ（Ｉｌｌ−１リ　“ ｈｉｔ−ｉ　） （ＩＩＩ　−１ｃ　）　（ＩＩＩ　−、ｉ　）またはそ
の塩 （ＩＩＩ　−ｔ　） 舊たけその塩 ｔＦ＋方法Ｆ°方法１３−１で用いる試への一部の製造
０ １１２Ｎ−０−１１ｆｉ （ＸＩＶ−ｆｔ） すたはその塩 上記式中、几８．ｌ（市、■シ、几、、１１．ｂ、几　
、Ａ　、Ａ　。 ＡＩ　、　八６およびＸｌけそれぞれＥ記定義のとおり
であシ、 几　はｆ呆護されたアミノ、 几　は低級アルキルまたは低級Ｔルヶニル、几　は（呆
護されたカルボキシまたはカルボキシ、（ｌ 几　けトリハロメチル、 Ｙ　け、一般式：■Ｓ−几ｂ（式中、几ｂ）上記定義の
とおり）で示される化合物の残基（−８几ｂ）により置
換されうる慣用の基、 Ａ１８は式：＝Ｎ−０几（式中、几は上記定義のと」、
・リ　）のノ１１．金イＩＮ　ど＋　Ｉｌイｆ）４７　
ル；１１／　ン、ＩＬ、、（、ま保護さ）【、たノＪル
＋ｌテ十シで１位角！さハ、た低級アルキル、保護され
たアミノと保護されたカルボキシとで置換された低級ア
ルコキシカルボニル（低級）アルキル、または保護され
たアミノと保護されたカルボキシとで置換された低級ア
ルキル、をそれぞれ意味する。 この明細書の上記および下記の記載圧おいて言及される
、この発明の範囲内圧包含される各種用語の定義とその
適当な例について次に詳細に説明する。 この明細書において「低級」とは、特に指定のない限り
、炭素数１〜６の基を意味するものである。 適当な「低級アルキル」基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、インペンチル、ネオペンチルヘキシルなどの直鎖状
または分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、好ましいのは
Ｃ１〜Ｃ３アルキルである。 適当な「低級アルケニル」基としては、ビニル、１−プ
ロペニル、アリル、１−（もしくは２−もしくは３−）
ブテニル、１−（もしくは２−もしくは３−もしくは４
−）ペンテニル、１−（もしくは２−もしくは３−もし
くは４−もしくは５−）へキセニル、２−メチル−２−
プロペニルナトの直鎖状まだは分岐鎖状のＴルケニル基
が挙げられ、好ましいのはＣ！〜Ｃ！Ｉアルケニルであ
る。 適当な「低級アルキニル」基としては１．プロパルギル
、２−（もしくは３−）ブチニル、２−（もしくは３−
もしくは４−）ペンチニル、２−（もしくは３−もしく
は４−もしくは５−）ヘキシニルなどの直鎖状寸たは分
岐鎖状のアルキニル基が挙げられ、好ましいのばＣ２〜
Ｃ６Ｔルキニルである。 適当な「低級アルコキシメチルｊ基としては、メトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、インプロ
ポキシメチル、ペン手ルオキシメチル、ヘキシルオキシ
メチルなどの直鎖状−まだは分岐鎖状の低級アルコキシ
置換メチル基が挙げられ、好ましいのけＯ，−０，アル
コキシ置換メチルである。 適当な「低級アルキルチオメチル」基としては、メチル
チオメチル、エチルチオメチル、プロピルチオメチル、
インブチルチオメチル、ペンチルチオメチル、ヘキシル
チオメチルなどの直鎖状または分岐鎖状の低級アルキル
チオ置換メチル基が挙げられ、好ましいのは０１〜Ｃ３
アルキルチオ置換メチルである。 適当な「低級アルケニルチオメチル」基としては、ビニ
ルチオメチル、１−プロピニルチづメチル、アリルチオ
メチル、２−メチル−２−プロペニルチオメチル、１−
（もしくは２−もしくは３−）ブテニルチオメチル、１
−（もしくは２−もしくは３−もしくは４−）ベンゾニ
ルチオメチル、】−（もしくは２−もしくは３−もしく
け４−）へキセニルチオメチルなどの直鎮状またｌ、、
ｌ：分岐鎮状の低級アルヶニルヂオｌｌｔ換メチル基が
挙げられ、好ましいのは０２〜０６アルケニルチオメチ
ルである。 適当な「、保護さり、だアミノ基」としては、ペニシリ
ンおよびセファロスポリン系化合物で用いられる丘用の
アミノ保護基、たとえば後述するアシル、モ／−（’ｉ
＞しくはジもしくはトリ）フェニル（低級）アルキル（
例、ベンジル、ベンズヒドリル、）’Ｊｆｋｌｘど）、
低級アルコキシカルボニル（低級）アルキリデンもしく
はそのエナミン型互変異性体（例、１−メトキシカルボ
ニル−１−プロペン−２−イルなと）、・ジ（低級）ア
ルキルアミノメチレン（例、ジメチルアミノメチレンな
ど）などで置換されたアミン基が挙げられる。 適当な「アシル」には脂肪族アシル、芳香族アシル、複
素環アシルならびに芳香族基もしくは複素環式基で置換
された脂肪族アシルがある。 脂肪族アシルとしては、低級アルカノイル（伊Ｌホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル
、バレリル、インバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル
など）、低級Ｔルカンスルホニル（例、メシル、エタン
スルホニル、プロパンスルボニルなト）、低級アルコキ
シカルボニル（例、〆ｌ・キシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、第３級ブトキシカルボニルなど）、低級アルケノイル
（例、アクリロイル、メタクリロイル、クロトノイルな
ど）、（Ｃ１〜０７　）シクロアルカンカルボニル（例
、シクロヘキサンカルボニルナトｚアミジノなどの飽和
または不飽和、非環式または環式の基が挙げられる。 芳香族アシルとしては、Ｔロイル（例、ペンゾイノペ　
トルオイル、キシロイルなど）、Ｔレーンスルボニル（
例、ベンゼンスルホニル、トシルなと）などが挙げられ
る。 複素環アシルとしては、複床環カルボニル（例、フロイ
ル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチリ ノイル、チアゾクルカルボニル、チアジアゾリルカルボ
ニル、テトラゾリルカルボニルなど）などが挙げられる
。 芳香族基で置換で１１．た脂肪族アシルとしては、フェ
ニル（低級）アルカノイル（例、フェニルアセデル、フ
ェニルプロピオニル、フェニルヘキザメイルなど７）、
フェニル（低級）アルコキシカルボニル（１＋Ｌベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルなど
）、フェノキシ（低級）アルカノイル（イ列、フェノ；
トシＴセチル、フェノキシプロビオニルなど）などが挙
げられる。 複素環式基で置換された脂肪族アシルとしては、チェニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセデル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジア
ゾリルＴセチル、チェニルプロピオニル、チアジアゾリ
ルプロピオニルなどが挙げられる。 これらのアシル基（まさらに１寸だｌ−Ｊ：２以上の適
当な置換基、たとえば低級アルキル（例、メチルエチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ルなど）、ハロゲン（例、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
）、低級アルコキシ（例、メトキシ、エトキン、プロポ
キシ、インプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシなど）、低級アルキルチオ（例、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオなど）、ニトロ
など、で置換されていてもよい。このような置換基を有
するアシルの好凍しい例は、モノ（もしくはジもしくけ
トリ）ハロ（低級）アルカノイル（例、クロロアセチル
、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロア
セチルなど）、モノ（もしくはジもしくハトリ）ノ・口
（低級）アルコキシカルボニル（例、クロロメトキシカ
ルボニル、ジクロロメトキシカルボニル、２，２．２−
）すクロロエトキシカルボニル）、ニトロ（もシくはハ
ロもしくは低級アルコキシ）フェニル（低級）アルコキ
ジカルボニル（例、ニトロベンジルオキシカルボニル、
クロロベンジルオキシカルボニル、メト牛ジベンジルオ
キシカルボニルなど）などである。 適当な「保護されたカルボキシ基」には、ペニシリンお
よびセファロスポリン系化合物の３位もしくは４位に慣
用されているエステル化されたカルボキシ基がある。 「エステル化されたカルボキシ基」における適当な「エ
ステル部分」としては、低級アルキルエステル（ＤＩ、
メチルエステル、エチルエステル、プロビルエステノペ
イソブロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエ
ステル、第３級ブチルエステル、ペンチルエステル、ｍ
３級ペンチルエステル、ヘキシルエステルなト）、低級
アル／７−＝ルエステル（例、ビニルエステル、アリル
エステルナト）、低級アルキニルエステル（例、エチニ
ルエステル、プロピニルエステルナト）、低級アルコキ
シ（低級）アルキルエステル（例、メトキシメチルエス
テル、エトキシメチルエステル、インプロポキシメチル
エステル、１−メトキシエチルエステル、１−エトキシ
エチルエステル−／ｘど）、低級アルキルチオ（低級）
アルキルエステル（例、メチルチオメチルエステル、エ
チルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル、
イソプロピルチオメチルエステルなど）、アミノおよび
カルボキシ置換低級アルキルエステル（例、２−アミ／
−２−カルボキシエチルエステル、３−アミノ−３−カ
ルボキシプロピルエステルなど）、保護されたアミンと
保護きれたカルボキシとで置換された低級アルキルエス
テル、たとえば、低級アルコキシカルボニルアミノおよ
びモノ（もしくはジもしくはトリ）フェニル（低級）ア
ルコキシカルボニル置換低級アルキルエステル（例、２
−第３級ブトキシカルボニルアミノ−２−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルエチルエステル、３−第３ｍブトキ
シカルボニルアミノ−３−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルプロピルエステルなど）、モノ（もしくはジもしく
はトリ）ハロ（低級）アルキルエステル（例、２−ヨー
ドエチルエステル、２゜２．２−１−リクロロエチルエ
ステルｉど）、低級アルカノイルオキシ（低級）アルキ
ルエステル（例、アセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、インブチリルオキシメチルエステル、バレリルオ
キシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル
、ヘキサノイルオキシメチルエステル、２−アセトキシ
メチルエステルペ　２−プロピオニルオキシエチルエス
テル、１−アセトキンプロピルエステルなト）、低級ア
ルカノスルホニル（低級）アルキルエステル（例、メシ
ルメチルエステル、２−メシルエチルエステルｉど）１
．１ｔたは２以上の適当な置換基を有して（Ａでもよい
モノ（もしくはジもしくはトリ）フェニル（低級）アル
キルエステル（例、ベンジルエステル、４−メトキシベ
ンジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル、ベンズヒドリルエステル、トリデルエス
テル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３．
４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３
，５−ジー第３級ブチルベンジルエステルなど）、１笠
だは２以上の適当な置換基を有していてもよいアリール
エステル（例、フェニルエステル、トリルエステル、第
３級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシ
チルエステル、クメニルエステル、サリチルエステルな
ど）、複素環エステル（例、フタリジルエステルなど）
などが挙げらレル。 適当な「低級アルキレン」基としては、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ヘ
キサメチレンなどの直鎖状または分岐鎖状のものが挙げ
られ、好寸しいのけ０１〜Ｃ２アルキレンであり、最も
好ましいのはメチレンである。 適当な［複環式へには、酸素、硫黄、窒素原子特に好ま
しい複素環式基としては、１〜４個の窒素原子を含有す
る不飽和３〜８員環（より好ましくは５″ｉたけ６員環
）単環ｍ素環式基、たとえば、ピロリル、ピロリニル、
イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルおよびそのＮ−オ
キシド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピラジニル
、ピリダジニル、トリアゾリル（例、４１Ｊ−１，２，
４−トリアゾリル、ＩＨ−１，２，３−トリアゾリル、
２Ｌ（−１，２，３−トリアゾリルなと）、テトラゾリ
ル（例、ＩＨ−テトラゾリル、２■−テトラゾリルなど
）など；１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８１ｉ
！（より好ましくは５または６ｄ環）単環複素環式基、
たとえば、ピロリジニル、イミダゾリ、リニル、ピペリ
ジノ、ピペラジニルなど；１〜４個の窒素原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、たとえば、インドリノペイツ
インドリル、イントリジニル、ペンズイミグゾリル、牛
ノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾ
リルなど；１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原子を
含有する不飽和３〜８ｄ環（より好ましくは５または６
員環）単環ｍ素環式基、たとえば、オキサシリル、イソ
オキサゾＩＪ　）へオキサジアゾリル（例、ｌ、２．４
−オキサジアゾリル、１．３．４−オキサジアゾリル、
１，２．５−オキサジアゾリルなど）など：１〜２個の
酸素原子と１〜３個の窒素原子を含有する飽和３〜８肖
Ｕ（より好寸しくは５または６−環）１１１環複素環式
基、たとえばモルホリニル、シトノニルなど；１〜２個
の酸素原子と１〜３個の窒素原子を含有する不飽和縮合
複素環式基、たとえばベンズオキサシリル、ベンズオキ
サジアゾリルなど；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒
素原子を含有する不飽和３〜８員環（より好すしくけ５
寸たけ６員環）単環複素環式基、たとえば、チアゾリル
、インチアゾリル、チアジアゾリル（例、１，２．３−
チアジアゾリル、］　、］２．４−チアジアゾリル１゜
３．４−チアジアゾリル、１，２．５−チアジアゾリル
など）、ジヒドロチアジニルなど；１〜２個の硫黄原子
と１〜３個の窒素原子を含有する飽和３〜８員環（より
好ましくｌ−１：５または６墨環）単環ｍ素環式基、た
とえばチアゾリジニルなど；１〜２個の硫黄原子を含有
する不飽和３〜８員環（より好ましくけ５まだは６員環
）単環複素環式基、たとえばチェニル、ジヒドロフチイ
ニルナト；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子を
含有する不飽和縮合複素環式基、たとえば、ペンゾチＴ
ゾリノペベンゾチＴジアゾリルなど；酸素原子１個を含
有する不飽和３〜８目環（より好ましく　ｔ、；ｊ　５
または６ｄ環）単環複素環式基、たとえばフリルなど；
１個の酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和
３〜Ｂ員Ｒ（より好ましくは５また＋ｄ　６は環）単環
複素環式基、たとえばジヒドロオキサチイニルなど；１
〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複素環式基、た
とえばベンゾチェニル、ペンゾジチイニルなど；１個の
酸素原子と１〜２個の硫黄原子を含有する不飽和縮合複
素環式基、たとえばペンゾオキサチイニなど、その他が
挙げられる。 Ｌ記のような複素環式基は、場合によって、１〜１０個
の同−寸たけ嚢別の適当な＠換基で置換されていてもよ
く、このような置換基の例としては、低級アルキル（例
、メチル、エチルなど）、低級アルキシ（例、メトキシ
、エトキシ、プロポキシなど）、低級アルキルチオ（例
、メチルチオ、エチルチオなど）低級アルキルアミノ（
例、メチルアミノ々ど）、シクロ（低級）アルキル（例
、シクロペンチル、シクロヘキシルなど）、シクロ（低
級）アルケニル（例、シクロへキセニル、シクロへキサ
ジェニルなト）、ヒドロキシ、ハロゲン（例、塩素、臭
素など）、アミノ、前述したような保護されたアミノ、
シアノ、ニトロ、カルボキシ、前述したような保護され
たカルボキシ、スルホ、スルファモイル、イミノ、オキ
ソ、アミノ（低級）アルキル（例、アミノメチル、アミ
ノエチルなど）等が挙げらｉする。 適当な「低級アルコキシカルボニルＣ低級）Ｔ／Ｌ４ル
」基としては、エトキシカルボニルメチル、プロポキシ
カルボニルメチル、１−まだけ２−エトキシカルボニル
エチルなどが挙ケラレル。 適当な［低級Ｔルコキシカルボニル」部分トシては、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニルなどが挙げら
れる。 Ｊ当なｒハロゲン」にハ、クロロ、ブロモ、ヨードなど
が含まれる。 「式：　ＨＳ　−ＩＬ”（示される化合物の残基（−８
几１１）により置換されうる慣用の基」の適当な例とし
ては、上に例示しだハロゲンが挙げられる。 適当な［トリハロ至尋メヂル」には、トリクロロメチル
などがある。 目的化合物（１）ノ’　１Ｌｊ−Ａ−”　、％　ＩＬ”
　オヨヒｓＩＬ”′の特に好ましい例は次のように表わ
すことができる。 １几−Ａ−’は下記■〜■の一般式により表わされうる
。 ■ＩＬ−０− ゝ”ＯＩＬ’ で示される基であって、ここでｌζはアミノまだはアシ
ルアミノ〔よシ好ましくは低級アルカンアミド（例、ホ
ルムアミド、アセトアミド、プロピオンアミドなど）ま
たはモノもしくはジもしくはトリハロ（低級）アルカン
アミド（例、クロロアセトアミド、ジクロロアセトアミ
ド、トリフルオロアセトアミドなど）〕、 几６Ｉ−１低級アルキル（例、エチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）
；カルボキシ（低級）アルキル（例、カルボキシメチル
、　−目５袖≠井 出４１−もしくは２−カルボキシエチル、１−もしくは
２−もしくは３−カルボキシプロピルなど）；またはエ
ステル化されたカルボキシ（低級）アルキル〔より好ま
しくは低級アルコキシカルボニル（低級）アルキル（例
、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチ
ル、ｔａ３ｍブトキシカルボニルメチル、第３級ブトキ
シカルボニルエチルなど）′ｉたけモノもしくはジもし
くはトリフェニル（低級）Ｔルコキシ力ルボニル（低級
）アルキル（例、ベンジルオキシカルボニルメチル、ペ
ンズヒトリルオキシカルポニ少メチル、ベンズヒドリル
オキシカルボニルエチルナト））或いは、 （リ　Ｉｔ　−Ａ−５式中 で示される基であって、ここでｔけアミノまだはアシル
アミノ〔より好ましくは低級アルカンアミド（例、ホル
ムアミド、アセトアミド、プロピオンアミドなど）〕、 人はメチレン、アミノメチレン、アシルアミノメチレン
〔より好ましくは低級アルコキシカルボニルアミノメチ
レン（例、メトキシカフレボニルアミノメチレン、エト
キシカルボニルアミノメチレン、第３級ブートキシカル
ボニルアミノメチレンなど）〕、ヒドロキシメチレンま
たはカルボニル、或いは ■　１ｔ１−Ａ−１式中 二と＝；＝１＝；＝：１＝−ゴミｔｔへ１−」フニイ■
：！フ“−ニアＬｌ−・１・：：７Ｌｉ−＝Ｃ例；＝＝
コーフぎ：＝ププ）：；ｌ【・−一：：：：コ〔＝＝ギ
１ゝ：＝７［ｌ−；＝二ここでＲ４は低級アルキル（例
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
ペンチルがと） Ａはアミノメチレンまたはアシルアミノメチレン〔より
好１しくけ低級アルコキシカルボニルアミノメチレン（
例、メトキシカルボニルアミノメチレン、エトキシカル
ボニルアミノメチレン、第３級ブトキシカルボニルアミ
ノメチレンなど）〕 ％Ｒ″“の例としては、低級アルコキシメチル（例、メ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イ
ンプロポキシメチルなど）、低級アルキルチオメチル（
例、メチルチオメチル、エチルチオメチル、プロピルチ
オメチル、イソプロピルチオメチルなど）、マたは低級
アルケニルチオメチル（例、ビニルチオメチル、アリル
チオメチル、ブテニルチオメチルなど）がある。 気ＲＩ　ＩＩの例としては、カルボキシまたはエステル
化されたカルボキシ〔より好ましくは低級アルコキシカ
ルボニル（例、メトキシカルボニル、工トキシカルボニ
ル、ｆ＜３Ａ＆ブトキシカルボニルなど）またけモノも
しくはジもしくけトリフェニル（低Ｒ）アルコキシカル
ボニル（例、ベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルなど
）〕がある。 この発明の目的化合物（１）の製造方法１〜１８につい
て次に詳述する。 （１）方法１： 化合物（１）捷たはその塩は、化合物（［）もしくけア
ミン基における反応性誘導体まｆｃはこれらの塩に、化
合物（１）もしくはカルボキシ基における反応性誘導体
または・これらの塩を作用させることにより製造できる
。 出発化合物（ＩＩ）および１）の適当な塩としては化合
物（１）に対して例示したのと同じものが゛挙げられる
。 化合物（ＩＩ）の７ミノ基における反応性誘導体の適当
な例としては、たとえば、化合物（Ｉｔ）とシリル化合
物〔例、ビス（トリメチルシリルアセトアミド、トリメ
チルシリルアセトアミドなど〕との反応により形成され
たシリル訪導体：イソシアネート；イソチオシアネート
；アミノ基とカルボニル化合物〔たとえば、アルデヒド
化合物（例、アセトアルデヒド、イソベントアルデヒド
、ペンズアルテヒート、サリチルアルデヒド、フェニル
アセトアルデヒド、ｐ−ニトロベンズアルデヒド、ｍ−
クロロベンズアルデヒド、ｐＪロロペン、＜アルデヒド
、ヒドロキシナフトアルデヒド、フルフラール、チオフ
ェンカルボアルデヒドなど）またけケトン化合物（例、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルインブチルケト
ン、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルなど）〕との
反応により形成されるシッフ塩基またはそのエナミン型
互変異性体などの慣用のものが挙げられる。 化合物０１［）の適当な反応性誘導体には、たとえば酸
ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エステルなどが
含まれ、好ましい例としては、酸塩化物および酸臭化物
；置換りん酸（例、ジアルキルりん酸、フェニルりん酸
、ジフェニルりん酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化り
ん酸など）、ジアルキル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫酸、
硫酸、炭酸アルキル（例、炭酸メチル、炭酸エチル、炭
酸プロピルなど）、脂肪族カルボン酸（例、ピバルメ酸
、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル酪酸、トリ
クロロ酢酸など）、芳香族カルボン酸（例、安息香酸な
と）などの酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イミノ
基を含む複素環化合物（例、イミターゾール、４−置換
イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾールもし
くはテトラゾール）との活性酸アミド；活性エステル（
例、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−ジニトロフ
ェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタ
クロロフェニールエステル、メシルフェニルエステル、
フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオニスデル
、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオ
エステル、カルボキシメ゛チルチオエステル、ピリジル
エステル、ピペリジニルエステル、８−キノリルチオエ
ステル、また１−ｔＮ、Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミ
ン、１−ヒドロキシ−２（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミド＋、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、
ｌ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ｌ−ヒドロキシ−
６−クロロベンゾトリアゾールなどのＮ−ヒドロキシ化
合物とのエステル）などが挙げられる。 また、Ａがアミノメチレンである化合物（ＩＩＩ）の反
応性誘導体として、下記一般式の化合物も使用できる。 適当な反応性誘導体は、上記の中から、実際に使用する
化合物（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の種類に応じて任意に
選択できる。 この反応は、有機または無機塩基〔たとえばアルカリ金
属（例、リチウム、ナトリウム、カリウムなど）、アル
カリ土類金属（例、カルシウムなど）、アルカリ金属水
素化物（例、水素化ナトリウム々ど）、アルカリ土類金
属水素化物（例、水素化カルシウムなど）、アルカリ金
属水酸化物（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
ど）アルカリ金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなど〕、アルカリ金属炭酸水素塩（例、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウムなど）、アルカリ金属ア
ルフキシト（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム第８級ブトキシドなど）、トリアル
キルアミン（例、トリエチルアミンなど）、ピリジン化
合物（例、ピリジン、ルチジン、ピコリンなど）、キノ
リンなど備）を使用する場合には、反応を縮合剤の存在
下に行なうのが好せしい。縮合剤としては、カルボジイ
ミド化合物〔例、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルホシ
イミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリア工ｆ−
ｐｌｙヵｔ、ｙ９イヨ、・１、−７．。２ヤッ、ウ−Ｎ
’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイ
ミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ、Ｎ’−
ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−（
３−ジメチルアミンプロピル）カルボジイミド等〕、ケ
テンイミン化合物〔例、Ｎ、Ｎ’−カルボニルビス（２
−メチルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−
シクロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−Ｎ−シクロ
ヘキシルイミンなど〕、オレフィン系またはアセチレン
系エーテル化合物（例、エトキシアセチレン、β−クロ
ロビニルエチルエーテルなど）、Ｎ−ヒドロキシベンゾ
）　ＩＪアゾール誘導体のスルホン酸エステル［ｆＬ　
１−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−ク
ロロ−Ｉ　Ｈ−ペンシトリアゾ、−ルなど〕、トリアル
キルホスファイトもしくケトリフェニルホスフィンと四
基化炭素、ジスルフィドもしくはジアゼンジカルボキシ
レート（例、ジアゼンジカルボン酸ジエチルなど）との
混合物、ジん化合物（例、ポリりん酸エチル、ポリりん
酸イソプロピル、塩化ホスホリル、三塩化りんなど）、
塩化チオニル、塩化オキサリル、Ｎ−エチルベンズイソ
オキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキ
サゾリウム−８−スルホネート、いわゆるピルスマイア
ー試薬と呼ばれる試薬（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルホルムアミドなどのアミド化合物と塩化チオニル、
塩化ホスホリル、ホスゲンなどのハロゲン化合物との反
応によって形成される）が挙げられるう この反応は、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキザメチルホスホルア
ミドなどの反応に悪影響を及ぼさなり慣用の溶媒または
溶媒混合物中で一般に実施される。 これらの溶媒のうち、親水性溶媒は水と混合して使用し
てもよい。 反応温度り特に制限されないが、一般に反応は冷却下な
いし加温下に実施される。 （２）方法２二 化合物（Ｉ−ｂ）ｔたはその塩は、化合物（Ｉ−ａ）ま
たはその塩をＡ８中のアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造できる。 この脱離反応に適した方法としては、加水分解、還元な
どの慣用法が挙げられる。 （ｉ）加水分解 加水分解Ｖｉ酸の存在下で行なうのが好ましい。 適当な酸としては、無機酸（例、塩酸、臭化水素酸、硫
酸など）、有機酸（例、ぎ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸
、プロピオン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸など）、酸性イオン交換樹脂などが挙げられる
。この反応でトリフルオロ酢酸を使用する場合、反応を
カチオン捕捉剤（例、アニソールなど）の存在下に行う
のが好ましい。 この加水分解に適した酸は、脱離させる保護基の種類に
応じて選択することができる。たとえば、この加水分解
法は、好ましくけ置換もしく（は非置換低級アルコキシ
カルボニル寸たはＩＲ換もしくは非置換低級アルカノイ
ルのようなアミン保護基の脱離に適用できる。 加水分解は通常水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジオキサンまたはこれらの混合物のような反応に
悪影響を及ぼさない慣用溶媒中で行なわれ、また上記の
酸が液体でちる場合には溶媒としても使用できる。 この加水分解の反応温度は特に制限されないが、反応は
通常は冷却下ないし若干の加温下において行なわれる。 （ｉｉ）還元 還元は化学的還元と接触還元を含む常法により行なわれ
る。 化学還元に用いられる適当な還元剤は、金属（例、スズ
、亜鉛、鉄など）または金属化合物（例、塩化クロム、
酢酸クロムなど）と有機または無機酸（例、ぎ酸、酢酸
、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、Ｔ）−）ルエンス
ルホン酸、塩酸、−Ａ化水素酸など）との組合せによる
ものが挙げられる。 接触還元に使用される適当な触媒ば、白金触媒（例、白
金板、スポンジ白金、白金黒、コロイド白金、酸化白金
、白金線など）、／フラジラム触媒（例、スポンジパラ
ジウム、）くラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
炭素、コロイドノ（ラジウム、パラジウム硫酸バリウム
、／（ラジウム炭酸〕（リウムなど）、ニッケル触媒（
例、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケルなど
）、コバルト触媒（例、還元コバルト、ラネーコバルト
など）、鉄触媒（例、還元鉄、ラネー鉄など）、銅触媒
（例、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅など）その他の慣
用のものである。 還元法は、脱離すべき保護基の種類に応じて選択でき、
たとえば、化学還元はハロ（低級）アルコキシカルボニ
ルなどの人１のアミノ保護基の脱離に、また接触還元は
置換もしくは非置換アル（低級）アルコキシカルボニル
などのＡ１アミノ保護基の脱離に好ましくけ適用できる
。 還元は、通常、水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはこれらの混
合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
行なわれる。さらに、化学還元で用いる上記の酸が液体
である場合には、それも溶媒として使用できる。また、
接触還元に使用する適当な溶媒は上記の溶媒のほかに、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どの他の慣用の溶媒、またはこれらの混合物でもよい。 この還元の反応温度は特に制限されないが、反応は通常
は冷却ないし加温下に行なわれる。 この発明は、この反応中に、Ｒ１中の保護されたアミノ
基および７寸だけＷの保護されたカルボキシ基がそれぞ
れ遊離アミノ基および／または遊離カルボキシ基に変換
される場合もその範囲内に包含する。 （３）方法８： 化合物（Ｉ−ｄ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｃ）ま
たはその塩をＲ”ａ中のアミン保護基の脱Ｋ【反応に付
すことにより製造できる。 この反応は加水分解、還元などの常法により行なわれる
。 加水分解と還元の方法、反応条件（例、反応温度、溶媒
など）は、方法２で述べた化合物（Ｉ−ａ）のアミノ保
護基の脱離反応に対する説明と実質的に同様であるので
、その説明を援用する。 この発明は、・この反応中に八における保護されたアミ
７基および／丼たけ几およびＡの保護されたカルボキシ
基がそれぞれ遊離アミノ基および／または遊離カルボキ
シ基に変換される場合もその範囲内に包含する。 （４）方法４： 化合物（Ｉ−ｆ　）またはその塩は、化合物（ニー　ｅ
　）−＊たけその塩を−のカルボキシ保護基の脱離反応
に付することにより製造できる。 この反応は加水分解、還元などの常法により実施できる
。 加水分解と還元の方法、および反応条件（例、反応温度
、溶媒など）は、方法２で述べた化合物（Ｉ−ａ）のア
ミノ保護基の脱離反応に対する説明と実質的に同様であ
るので、その説明を援用する。 この発明はその範囲内に、几および人における保護され
たアミノ基および／またはＡにおける保護されたカルボ
キシ基がこの反応中にそれぞれ遊離アミ７基および／ま
たは遊離カルボキシ基に変換される場合も包含する。 （５）方法５： 化合物（Ｉ−ｅ）まだはその塩は、化合物（ニーｒ）ま
たはその塩にカルボキシ保護基を導入することＫよシ製
造できる。 この反応に使用されるカルボキシ保護基の導入剤として
は、アルコールまたはその反応性均等物（例、ハロゲン
化物、スルホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化合
物など）その他の慣用のエステル化剤がある。 この反応は塩基の存在下でも実施でき、その適当な例は
方法１の説明で例示したものと同様である。反応は金属
ヨウ化物（例、ヨウ化ナトリウムなど）の存在下で実施
するのが好ましい。 この反応は、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノールなど
、またはこれらの混合物のような反応に悪影響を及ぼさ
ない慣用の溶媒中で通常は行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常は冷却ない
しやや加温下に行なわれる。 カルボキシ保護基の導入剤としてアルコールを使用する
場合、反応は方法１で例示したような縮合剤の存在下で
行なうことができる。 （６）方法６： 化合物（Ｉ−１＋）ｉだはその塩は、化合物（Ｉ−ｇ）
またはその塩を還元することによって製造できる。 還元は還元剤を用いる還元、接触還元などの常法によシ
実施できる。 適当な還元剤としては、カルボニル基からヒドロキシメ
チル基への転化に繁用されるもの、たとえば、水素化は
う素金属（例、水素化はう素ナト）、水素化リチウムア
ルミニウムなど、ジボランその他が挙げられる。 接触還元に使用される触媒としては方法２の接触還元に
対して例示したものと同様のものが挙げられる。 この反応は一般に、水、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンなど、またはこれらの混合
物のような、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常冷却ないし
加温下に実施される。 （７）１歴コニ 化合物（（−ｉ＞−ｉたけその塩は、化合物（ＩＹ）ま
たはその塩に化合物（Ｖ）を作用させることにより製造
できる。 出発化合物（ｌｖ）の適当な塩としては化合物（１，）
に対して述べたような塩基との塩が含まれる。 この反応は、通常、酢酸エチル、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフライジオキサン、
水など、またはこれらの混合物のような、反応に悪影響
を及ぼさない慣用の溶媒中で行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常冷却ないし
加温下に行なわれる。 （８）方法８： 化合物（１−１）またはその塩は、化合物（ニーｋ）ま
たはその塩をＡ６中のカルボキシ保護基の脱離反応に付
することによシ製造できる。 この反応は、加水分解、還元などの常法により行なわれ
る。 加水分解と還元の方法および反応条件（例、反応温度、
溶媒など）は方法２で述べた化合物（ニーａ）のアミン
保護基の脱離反応に対する説明と実質的に同様であるの
で、その説明を援用する。 この発明はその範囲内に、几１中の保護されたアミノ基
および／−またけＷ中の保護されたカルボキシ基が、こ
の反応中に遊離アミノ基および７寸たは遊離カルボキシ
基にそれぞれ変換される場合も包含する。 （９）方法９： 化合物（Ｉ−ｎ　）またはその塩は、化合物（ニー−ｍ
）またはその塩を、ｓ中のアミノ保護基とカルボキシ保
護基の脱離反応に付すことにより製造できる。 この反応は加水分解、還元などの常法によシ実施される
。 加水分解と還元の方法および反応条件（例、反応温度、
溶媒など）は、方法２で述べた化合物（Ｉ−ａ）のアミ
ノ保護基の脱離反応に対する説明と実質的に同様である
ので、その説明を援用する。 この反応においては、アミン保護基とカルボキシ保護基
は同時にまたは別に脱離させることができる。 四方法ｌＯ： 化合物（Ｉ−ｐ　＞−ｔたけその塩は、化合物（■−〇
）またはその塩をＸ中のアミノ保護基とカルボキシ保護
基の脱離反応に付すことにより製造できる。 この反応は加水分解、還元などの常法により行なわれる
。 加水分解と還元の方法および反応条件（例、反応温度、
溶媒など）は、方法２で述べた化合物（Ｉ　−１ａ　）
のアミノ保護基の脱離反応に対する説明と実質的に同様
であるので、その説明を援用する。 この反応では、アミン保護基とカルボキシ保護基は同時
または別個に脱離させることができる。 αυ方法１１： 化合物（Ｉ−ｋ）ｔたはその塩は、化合物（ニー１）ま
たはその塩にカルボキシ保護基を導入することにより製
造できる。 この反応は、方法５で述べた化合物（ｉ−ｆ）へのカル
ボキシ保護基の導入に対する方法と実質的に同様の方法
により行なわれ、したがって反応条件Ｃ例、反応温度、
溶媒など）もその説明を援用する。 ＠方法１２： 化合物（Ｉ−ｒ）またはその塩は、化合物（ニーｑ）ま
たはその塩に化合物ＩＶ１［１を作用させることにより
製造できる。 この反応は、通常、テトラヒドロフラン、ジオノする。 反応温度は特に制限されないが、この反応は一般に室温
ないし加熱下に行なわれる。・０方法１３： 化合物（Ｉ−ｓ）寸たはその塩は、化合物（■−ｒ）ま
たはその塩に塩基を作用させることにより製造できる。 この方法で使用する適当な塩基としては、方法ｌで例示
しだものが挙げられろ。 この反応は、水、メタノール、エタノールなど、または
これらの混合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用
の溶媒中で一般に行なわｉ］、る。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常冷却ないし
加／Ｍ−ドに行なわれる。 上に説明した方法１〜１３により得らｉｚだ目的化合物
（１）の単離と精製は、常法、たとえば抽出、沈殿、分
別結晶、再結晶、りＩ」マドグラフなどにより実施でき
る。 出発化合物（ＩＩ−ｄ）、（＋ｔ−ｇ）、（用−【））
ないしく１１１−８）、（ＩＩＩ−ｇ）、（ｉｌｌ−１
）、（ｌｉおｉび（Ｘｆｆ　−Ｃ）　ｏｍｍ法Ａ−Ｆｉ
Ｃつい−［、次に詳述する。 方法人−１； 化合物（ｌ−ｂ）またはその塩は、化合物（１−ａ）ま
たはその塩に、化合物６１１１またはメルカプト基にお
けろ反応性誘導体を作用させろことにより製造できる。 化合物（ｕ−ａ）および（１−ｂ）の適当な塩としては
、化合物（Ｉ）に対して例示されたような塩基との塩が
そのまま挙げられる。 化合物６１［）の適当な［メルカプト基におけろ反応性
誘導体」としては、化合物（１）に対して例示されたよ
うな塩基との塩が挙げられる。 この反応は好ましくは塩基の存在下に行なわれ、その適
当な例は、方法１の説明中に述べたものと同じである。 反応は通常は、Ｎ、Ｎ−ジメチμホμムアミド、ジメチ
ルスルホキシト、メタノール、エタノール、クロロホル
ムなど、またはこれらの混合物のような反応に悪影響を
及ぼさない慣用の溶媒中で行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、この反応は通常室温な
いし加温下に行なわれる。 方法人−２： 化合物（１−Ｃ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｂ）ま
たはその塩を還元することにより製造できる。 化合物（Ｉｆ−Ｃ）の適当な塩としては、化合物（１）
に対して例示した塩基との塩がそのまま挙げられる。 この反応で使用する還元剤としては、スルフィニル基か
らチオ基への転化に繁用されるもの、たスズなど）、ハ
ロゲン化けい素（例、四塩化けい素など）、過剰量のハ
ロゲン化低級アルカノイμ（例、臭化アセチル、塩化ア
七チμなど）のような酸ハロゲン化物、アルカリ金属ハ
ロゲン化物（例、ヨウ化ナトリウムなど）・とｅＴ：Ｉ
・（低級１）アμ〉 力￥、無水物（例、無水トリフルオロ酢酸など）のよう
な酸無水物との組合せなどが挙げられる。 反応は通常、低級アルケン（例、２−メチル−２−ブテ
ンなど）、低級アルキレンオキシド（例。 エチレンオキシド、プロピレンオキシドなど）その他の
酸捕捉剤の存在下に行なわれる。 反応はまた、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒド
ロフラン、ベンゼンなど、またはこれらの混合物のよう
な反応１に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で一般に行
なわれる。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常、冷却ない
し加温下に行なわれる。 方法Ａ−３＝ 化合物（１−ｄ）またはその塩は、化合物（■−ｃ）ま
たはその塩を几８のアミノ保護基の脱離反応に付すこと
により製造できる。 化合物（１−ｄ）の適当な塩としては、化合物中に対し
て例示したものがそのまま挙げられる。 この脱離反応に適した方法としては、イミノハロゲン化
とイミノエーテル化からなり、場合によってその後に加
水分解を行なうという結合法などの慣用の方法が挙げら
れる。 この方法の第一および第二工程は無水溶媒中で行なうの
が好ましい。第一工程（すなわち、イミノハロゲン化）
に適した溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの非
プロトン性溶媒であり、第二工程（すなわち、イミノエ
ーテル化）に適した溶媒は通常第一工程と同じものであ
る。この両工程とも通常冷却下に行なわれる。この両工
程と最終工程（すなわち、加水分解工程）は、最も好ま
しくは１バッチ方式で実施される。 適当なイミノハロゲン化斉］としては、リノしハロゲン
化合物（例、三塩化りん、五塩化りん、三臭化りん、五
臭化りん、オキシ塩化りんなど）、塩化チオニル、ホス
ゲンなどが挙げられろ。 適当なイミノエーテル化剤としては、γμカノール【例
、メタノ−μ、エタノール、プロパノーμ、インプロパ
ツール、ゲタノーμなど）もしくはアルコキシを有する
上記アルカノ−／Ｌ／（例、２−メトキシエタノール、
２−エトキシエタノールナト）のようなアルコール、な
らびにアルカリ金属、アルカリ土類金属のような金属の
アルコキメｖ　Ｆ　（ｅ・ＩＪ、）−１リウ、／、　／
ｌ　＋ｖシト、カリウノ、工１キシド、マグネシウムニ
ドキシド、リチウムメトキシドなど）その他が挙げられ
る。 こうして得られた反応生成物は、必要ならば、常法によ
り加水分解する。加水分解は室温または冷却下に行なう
のが好ましく、単に反応混合物を水、または水で湿らせ
たもしくは水と混和したアルコ−）Ｖ（例、メタノール
、エタノ−μなど）のような親水性溶媒に投するだけで
進行する。この溶媒には、必要により、方法１および２
で例示したような酸または塩基を添加してもよい。 方法Ｂ、社ｉ’：： 化合物（１−ｂ）は、化合物（ｍ−ｔｈ＞に化合物■ま
たはその塩を作用させることにより製造できる。 化合物■の適当な塩としては、化合物中に対して例示し
たものがその才ま挙げられる。 この反応は方法１で例示したような塩基の存在下に行な
うのが好味しい。 この反応は通常、水、ジオキサン、テトラヒドロフフン
など、ＴＦ、　／こｌｅｔこれらの２１１合１勿の」゛
うな反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行なわれ
る。 反応温度は特に制限されないが、反応は通常冷却ないし
加温下に行なわれる。 方法Ｂ−２＝ 化合物（ＩＩ［、−Ｃ）またはその塩は、化合物（Ｉｔ
−ｂ）を還元することにより製造できる。 化合物（Ｉ−Ｃ）の適当な塩としては、化合物（１）に
対して例示したまうな゛酸付加塩がそのまま挙げられる
。 この還元は化学還元、接触還元などの常法により実施で
きる。 化学還元と接触還元の方法および反応条件（例。 反応温度、溶媒など）は方法２で説明したものと実質的
に同様であるので、その説明を援用する。 方法Ｂ−３： 化合物（ＩＩ−ｄ　）は、化合物（１−（１）またはそ
の塩にアミノ保護基を導入することにより製造できる。 この反応で使用するアミノ保護基導入剤としては、慣用
のアＶ／Ｌ／化剤、たとえば、前述のアシル基に対応す
る酸またはその反応性誘導体（例、酸ハロゲン化物、酸
無水物など）、２−低級アルコキシカルボニルオキシイ
ミノ−２−フェニルアセｔ−＝ｌ／Ｉ／（例、２−第三
級ブトキシヵルポニμオキシイミノ−２−フェニルアセ
トニトリルなど）、低級アρコキシカμボニルで置換さ
れたアルキルケトン（例、アセト酢酸メチμなどのアセ
ト酢酸低級アμキμエステルなど）その他が挙げられる
。 この反応は通常、水、メタノール１エタノール、プロパ
ノ−μ、テトラヒドロフフン、ジオキサンなど、または
これらの混合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用
の溶媒中で行なわれる。 この反応は塩基の存在下に行なうのが好ましく、その適
当な例は、方法１の説明に示されているものである。 反応温度は特に制限されないが、誦会娑反応は通常冷却
ないし加温下に行なわれる。 方法Ｂ−４： 化合物（Ｉ−ｅ）またはその塩は、化合物（■−ｄ）を
カルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより製造でき
る。 化合物（１−ｅ）の適当な塩としては、化合物中に対し
て例示された塩基との塩が挙げられろ。 この反応は加水分解、還元などの常法により行なわれる
。 加水分解と還元の方法および反応条件（例１反応温度、
溶媒など）は方法２で述べたアミン保護基の脱離反応に
対する説明と実質的に同様であるので、その説明を援用
する。また、加水分解は塩基の存在下でも実施でき、そ
の適当な例は方法１の説明中に列挙されているものと同
じものである。 方法Ｂ−５＝ 化合物（１−ｇ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｆ）ま
たはその塩を力μオキシ保護基の脱離反応に付すことに
より製造できる。 適当な塩としては化合物（１）で例示したような塩がそ
のまま挙げられる。 この反応は方法Ｂ−４と実質的に同じであるので、反応
法、反応条件（例２反応温度、溶媒など）はその説明を
援用する。 方法Ｂ−６＝ 化合物（Ｉｆ−Ｏ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｇ）
またはその樵にアミノ保護基を導入することによりｇｉ
造できる。 この反応は方法Ｂ−３と実質的に同じであるので、反応
法と反応条件（例１反応温度、溶媒など）はその説明を
援用する。 方法　Ｃ： 化合物０またはその塩は、化合物（ＩＶ−１もしくはア
ミノ基における反応性誘導体またはこれらの塩に、化合
物■もしくはカルボキシ基における反応性誘導体または
これらの塩を作用させることにより製造できろ。 化合物１’−８）の適当な塩としては、化合物中に対し
て例示したものがそのまま挙げられ、化合物■の適当な
樵としては、上述したような塩基との塩が挙げられる。 この反応は方法１と実質的に同じ方法であるので、反応
法、反応条件（例１反応温度、溶媒、塩基など）はその
説明を援用する。 この方法には、力ｐボニル均等物、たとえばＡ６がオキ
ソを有する低級アルキレンである化合物■のアセターｐ
もこの反応に使用でき、このようなアセターμは、反応
後に常法（例、加水分解など）によりオキソ基に容易に
転換できる。 方法Ｄ−１： 化合物（１−ｆ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｅ）も
しくは力μオキソ基におけろ反応性誘導体またはこれら
の塩に、保護されたアミンと保護された力μオキソとで
置換された低級γμカノール■を作用させることにより
製造できる。 化合物（１−ｅ）と（Ｉｔ−ｆ）の適当な塩としては、
化合物（１）′Ｉこ対して例示されたものがそのまま挙
げられる。 化合物（１−ｅ）の力μオキソ基における反応性誘導体
の適当な例としては、方法１で述べた化金物（至）と同
じものが挙げられる。 質的に同じ方法により行なわれるので、反応条件（例２
反応温度、溶媒など）についてもその説明を援用する。 方法Ｄ−２： 化合物（１−ｇ）またはその塩は、化合物（１−ｆ）ま
たはその塩をＲ１′の７ミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造できる。 化合物（１−ｇ）の適当な塩としては、化合物中に対し
て例示したものがそのまま挙げられる。 この反応は方法Ａ−３において化合物（１−ａ＞のアミ
ノ保護基の脱離反応に関して説明したのと実質的に同じ
方法によって実施され、したがって、反応条件（例２反
応温度、溶媒など）についてもその説明を援用する。 方法Ｅ−１： 化合物（Ｉ−１）は化合物（１−ｈ）にヒドロキシルア
ミンオたはその塩を作用させることにより製造できる。 ヒドロキシルアミンの適当な塩としては、化合物（１）
に対して例示したのと同じ酸付加塩が挙げられる。 ヒドロキシルアミンの塩を試剤として使用する場合には
、反応は方法１で列挙したような塩基の存在下に行なう
のが普通である。 反応はメタノール、エタノールなど、またはこれらの混
合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
一般に行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、通常は反応を冷却ｉｆ
いし加温下に行なう。 方法Ｅ−２： 化合物（１［−ｊ）は、化合物（Ｉ−１）に化合物■も
しくは力μオキソ基における反応性誘導体またはこれら
の塩を作用させることにより製造できろ。 化合物ｌり適当な塩としては化合物中に対して例示した
のと同じような塩基との塩が挙げられる。 化合物（至）のカルボキシ基における適当な反応性誘導
体としては、方法１において化合物ｍに対して例示した
のと同様のものが挙げられる。 この反応は方法１と実質的に同じ方法により実施される
ので、反応条件（例２反応温度、溶媒など）については
その説明を援用する。 方法Ｅ−３： 化合物（Ｉｌｌ、−、ｋ）またはその塩は、化合物（■
−ｊ）またはその塩にアンモニアを作用させろことによ
り製造できる。 化合物（Ｉ−ｋ）の適当な塩としては、化合物（１）に
対して例示したのと同様の酸付加塩が挙げられる。 この反応は、ジオキサンなどの反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒の存在下または不存在下のいずれでも実施できる
が、通常は溶媒を存在させずに反応を行なう。 度広温度は特に制限されないが、一般には冷却ないし加
温下に反応を行なう。 化合物（ｌｉｔ−ｋ）が幾何異性体の一方である場合、
これを常法により油力の異性体に転化することができろ
。 方法Ｅ−４＝ 化合物（ｆｉｔ−］）またはその塩は、化合物（■−ｋ
）またはその塩をＲｏのカルボキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造できる。 化合物（Ｉ−１）の適当な塩としては、化合物（１）に
対して例示されたものがそのまま挙げられろ。 この反応は加水分解、還元などの常法により行なわれる
。 加水分解と還元の方法および反応条件（例１反応温度、
溶媒など）は、方法２で述べた化合物（１−ａ　）のア
ミノ保護基の脱離反応に関する説明と実質的に同様であ
るので、その説明を援用する。 方法Ｆ−１＝ 化合物■、−ｂ）は、化合物ｏＯＩ−８）またはヒドロ
キシ基におＣブろ反応性誘導体にＮ−ヒドロキシフタル
イミドを作用させることにより製造できる。 ヒドロキシ基における適当な反応性誘導体としては、塩
化物、臭化物などのハロゲン化物が挙げ−られる。 この反応は、方法１において例示したような塩基の存在
下に行なうのが好ましい。 化合物（ＸＩＶ−８）を遊離の状態で使用する場合、反
ハフ゛１は一般に方法１で例示したような縮合剤の存在
下に実施できる。 この反応は通常テトワヒドロフラン、べＮ−ジメチルホ
ルムアミドなど、またはこれらの混合物のような反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行なわれる。 反応温度は特に制限されないが、通常冷却ないし加温下
に反応を行なう。 方法Ｆ−ゼ： 化合物（Ｘｌｌｌ−Ｇ）またはその塩は、化合物（ＸＪ
ｉ’−ｂ）をフタロイｙｉの脱離反応に付すことにより
製造できる。 化合物（Ｘｌ’１’−Ｃ）の適当な塩としては、化合物
（１）に対して例示したのと同様の酸付加塩が挙げられ
ろ。 この反応は加水分解などの常法により実施され加水分解
の方法および反応条件（例２反応温度、溶媒など）は、
方法２で述べたｆヒ合物（］−ａ）のアミノ保護基の脱
離反応に関する；説明と実質的に同様であるので、その
説明を援用する。 このようにして製造された出発化合物（１−ｄ）（Ｉｆ
−ｇ）、（ＩＩＩ　ｂ）ｔ（いしく１−８）、（Ｉｌｌ
−１）、■および（Ｘｌｌ’−Ｃ）の卓効は、この発明
の目的化合物に関して述べたような常法により行ｊ（う
ことができる。 上述した方法１〜１３およびＡ、−Ｆの反応中または反
応混合物の後処理中に、出発または目的化合物が光学お
よび／または幾何異性体である場合に、これが他方の光
学および／または幾何異性体に転化されることがあるが
、このような場合もこの発明の範囲内に包含される。 目的化合物がその４位または７位に遊離カルボキシ基ま
たは遊離アミン基を有している場合には、常法により医
薬として許容される壕に転化してもよい。 この発明の目的化合物中とその医薬として許容される塩
は新規化合物であって、抗菌作用を有し、グラム陽性菌
とグラム陰性菌の両方を含む多様な病原菌の発育を阻害
し、特に経口投与用の抗菌剤として有用である。 次に、目的化合物（１）の有用性を示すために、この発
明のし枢っかの代表的化合・ｒり（Ｉ）の試験管内抗菌
活性の試験データを下記に示す。 試験：試験管内抗菌活性 試駆化合物 Ａニア−［２−（２−アミノチアゾ−／１／−４−イル
）　−Ｊ）　Ｌ−グリコールアミド］−３−メチルチオ
メチＡ／−３−士フエムー４−力μボン酸、・］。 Ｂニア−［２−１７−メタンヌμホンアミドフェニルン
ーＤ−グリシンアミド］−８−メチルチオメチル− トリフｐオロ酢酸塩。 ０ニア−［２−（３−メタンスルホンアミドフェニ／ｌ
／　）　−Ｄ−グリシンアミド］ー３ーアリμチオメチ
）ｖ−３−セフェム−４−カルボン酸トリフｐオロ酢ｅ
塩。 Ｄ：　７−［２−（３−メタン７ｐホゝンアミドフエニ
ル）−Ｄ−グリシンアミトコ−３−メトキシメチル−８
−セフェム−４−カルボン酸。 試験法 下記の２倍寒天平板希釈法により試験管内抗菌活性をめ
た。 各試験菌種をトリプチケースソイブロス中で１晩培養し
た試験菌株（生存細菌数：約１０”／ｍｅ）の１白金耳
を、各種濃度の抗菌剤を含有するハート・インフユージ
ッン寒天（ＨＩ寒天）に接種し、８７°Ｃで２０時間培
養後、最低発育駆出濃度（ＭＩＣ）をμｇ／ｍｔのｔＩ
ｉ位で泪１］定した。 試験結果　ＭＩＯ　（ｐ（＜Δｎｌ） この発明の目的化合物（１）およびその医薬として許容
される塩を予防及び治療の目的で投与するにあたって、
この化合物を有効成分として含有し、これに経口、非経
口および外用投与に適した有機または無機、固体または
液体の賦形剤のような医薬として許容される担体を混合
した慣用の製剤形態で使用される。この製剤は錠剤、顆
粒、散剤、カプセル剤のような固体形態、または溶液、
　濁液、シロップ、乳剤、レモネードな２１体形態でよ
い。必要（Ｃ応じて、上記の製剤に、補助物質、安定剤
、湿潤剤、ならびにその他の慣用の添加剤、たとえば乳
糖、ステアリン酸マグネシウム、白面上、ショ糖、コー
ンスターチ、タルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、
ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチレ
ングリコールなどを混入してもよい。 化合物（Ｉ）の投与量は、患者の年令、状態、病気らに
はそれ以上の爪が患者に投与できる。病原菌感染症の治
療には、この発明の目的化合物中の１回当りの平均投与
量として約５０９、１０（１ｇ、２５０ダ、５００Ｍ９
、１０００ダ、２０００ダの母が使用できる。 次にこの発明を実施例により説明する。 出発化合物の製造 製造例１ ７−（２−フユニＭアセトアミド）−３−クロロメチｒ
ｖ−３−セフェム−４−カシボン酸−１−オキシドベン
ズヒドリＡ／（２５り）のＮ、Ｎ−ジメチシホＭムアミ
ド（１５０Ｗｒｅ）溶液に、トリエチ々アミン（６，４
２ｍ）と２−プロペン−１−チオ−＆（８，０ｍ）を加
え、この混合物を２５℃で３時間攪拌した。反応混合物
を飽和塩化すｈ　１１ウム水溶液（１，５ｔ）に投じた
後、析出した固体を炉取し、水とジイソプロピ！レエー
テ１しで洗浄し、乾燥シて、７−（２−）二二ｌレア士
ドアミド）−３−アリルチオメチｒｖ　−７３−セフェ
ム−４−力にボン酸−１−オキシドベンズヒドリ／ｌ／
（２４，２ｆ）を得た。 １、Ｒ，（ヌジョーｌし）：１７７５，１７１５，１６
４４，１１７０゜１０８０ｃ！ｎ−ｎ −１Ｎ　ａｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：８−００（２Ｈ
，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）。 ８．６　（６Ｈ，ｍ）　、　５．０　（ＬＨ，ｄ　、　
Ｊ＝５Ｈｚ　）　。 ５．９（１（ＩＩＩ、　ｄｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、　８Ｈ
ｚ　）　、４．８−５．６（：ＩＩＥＩ、ｍ）、７．０
０（ＩＨ，Ｓ）、７．４（１５Ｈ。 Ｓ）、＆４０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）製造例２ 製造例１と実質的に同様の方法で７−（２−フェニＶア
セトアミド）−３−クロロメチＶ−８−セフェムー４−
力シボン酸−１−オキシドベンズヒドリル（１５８’）
をメタンチオ−Ｖの３０チメタノ−７Ｌ／溶液（１５ｙ
ｄりと反応させることにより、７−（２−〕二二Ｍアセ
トアミ）−）−８−メ５−ｐｖチオメチャー３−セフェ
ム−４−カにボン酸−１−オキシドベンズヒドリ”（１
８，７９）を得た。 １、Ｒ−（ヌジョーＡ／）：Ｂ１００，１７７５．１７
１０，１６５０゜１１７２　、１０２７　ｃｍ−’ ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ”６）　’ＩＪＩＩＯ（８Ｈ
，Ｓ）　、８Ｊ　４０（６Ｈ，ｍ）　、５．０２（ＩＨ
，ｄ　、Ｊ−５Ｈｚ）　、５５Ｂ（ＩＩＥＩ、ａｄ、Ｊ
−５Ｈｚ、８Ｈｚ）、７．０２（ＩＨ。 Ｓ）　、７．５０（１５Ｈ，ｌ！　Ｌ８．４０（１”ｔ
ｄｓ　Ｊ−８Ｈｚ） 製造例８ 製造例１と実質的に同様の方法で７−（２−７二二にア
セトアミド）−８−クロロメチｒｖ−３−セフェム−４
−カルボン酸−１−オキシドベンズヒ）’　ＩＪ　Ａ／
（１５Ｓ’　）をエタン千オール（４，０５Ｍりと反応
させることにより、７−　（２−７−二ｙアセトアミド
）−３−エチＶチオメチｌＬ／−３−セフェム−４−カ
ルボン酸−１−オキシドベンズヒドリ”（１４，ｌｒ）
を得た。 Ｉ−Ｒ，（ヌジョール）二８２ｇ０，１７７６．１７０
８，１６４７゜１１７２．１０１５α−１ ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：０．９５（８Ｈ，
ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。 ２：２８（２Ｈ，ｑ　、Ｊ＝７Ｈｚ）　、８−５−４０
（６Ｈ。 ｍ）　、５ｆ１２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、５Ｊ８
（ＩＨ。 ｄｄ、Ｊ　＝５ｆｉｚ、８Ｈｚ）　、？、０．２（ＩＨ
，Ｓ）　、７−５（１５Ｈ，ｓ）　、８．４８（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）製造例４ ７−（２−フェニνアセトアミド）−３−アリＭチオメ
チＡ／−８−セフェム−４−力にボン酸−１−オキシド
ベンズヒドリ／Ｉ／（２６Ｆ）の塩化メチレン（５００
ｄ）溶液に、５℃で攪拌しなから三塩化リン（２０Ｗｔ
ｔ）を滴下し、攪拌を１時間続けた。この混合物を塩化
メチレン（２００ｄ）と水（４００ｍ）との混合物に投
入し、有機層を分取し、これを塩化ナトリウム水溶液（
２００ｓｆ）で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
により乾燥した。溶媒を除去した後、残渣をジイソプロ
ピＭエーテＭで粉末化して、７−（２−７二二シアセト
アミド）−３−アリジチオメチシー３−±７エムー４−
力Ｖボン酸ペンズヒドリν（２２り）を得た。 ｍ）　、５．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）　、５．６
７（ＩＨ。 ｄｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　、　３Ｅ［ｚ　）　、　４．８
−５−５　（ＢＨ，ｍ）　。 ６．９０（Ｉｎ、Ｓ）、７．４０（１５Ｈ，ｍ）、ｉｌ
Ｏ（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ＝ｇＥ［ｚ　） ！８１！造例５ ７−（２−フェニルアセトアミド）−３−メチにチ″オ
メチルー８−セフェムー４−カルボン酸−１−オキシド
ベンズヒドリＶエステル（１５−Ｉｆ）の塩化メチレン
（１５０ｓｄ）溶液に、２−メチＡ／−２−ブテン（５
，７ｓｄ’）を添加し、次に氷冷下に臭化アセチル（Ｓ
、２ｄ）を滴下し、攪拌を３０分間続けた。水を加えた
後、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でＰＨ約５にｍ
Ｍし、塩化ナトリウム水溶液で３回洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧蒸発させて、７−　（２７ｘ
　二Ｍアセトアミド）−８−メチにチオメチＩｖ−３−
セフェムー４−力Ｖポン酸ベンズヒドリル（ＩＢ、５ダ
）を得た。 ｌ、Ｌ、（ヌジョー”）：３Ｂ８０．１７８５，１７１
５．１６５２ａｍ　’ＮＭＬＲＪｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ
、　）　：１．８Ｂ　（ＢＨ，Ｓ　）　、３．６０（４
Ｈ。 プレード　Ｓ　）　、　８．６６　（２Ｈ，ブロードＳ
）、５−２８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、５．’７５
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ　、８Ｈｚ）　、　６．９
７（Ｉｎ、　Ｓ）　、７．４８（１５Ｈ。 ”）、９．１７（ＬＨ，ｄ、コ＝８Ｈｚ）製造例６ 製造例５と実質的に同様の方法により、７−（２−フェ
ニＭアセトアミド）−３−二チＭチオメチルー３−セフ
ニム−４−力にボン酸−１−オキシドベンズヒドリＡ／
（８０？）を２−メチシー２−ブテン（ＩＬｌｍ）の存
在下に臭化アセチＩｖ（１（Ｌ２ｇ７）と反応させて、
７−（２−７Ｘ二Ａｚ７セトアミド）−８−エチＶチオ
メチｗ−３−セフェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒドリｔ
ｖ（２８９）を得た。 １、Ｒ，（メタノール）：Ｂ５００．１７７２．１７０
１．１６５０５１１−１ＮＭＲＪｐｐｍ（ＤＭｆｌＯ−
ｄ、）：ＬＯＯ（ｇＥ［、ｔ　、コｔ＝ｔ　７　Ｈｚ　
）　。 ２−８８（２ｆ’、ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、＋３．５６（
６Ｊ　六−ド　Ｓ）、５．１７（ＩＥＬ、ｄ、コ＝５Ｈ
ｚ　）　、　５−７６　（Ｉｎ、ａａ　、Ｊ＝＝５Ｈ７
，８Ｈ２）　、７．００（ＩＥ［ｌＳ）＋９．１８（ｌ
Ｌｄ、Ｊ　＝ＢＨｚ） 製造例７ 五塩化りン（１６，１ｆ）とピリジン（６，８ｍ）の塩
化メチレン（１００ｄ）懸濁液に、５℃で７−（２−７
二二にアセトアミド）−８−アリＶチオメチ１ｖ−７３
−セフェム−４−力Ｖポン酸ベンズヒドリル（２２ｆ）
と塩化メチレン（１００ｍ）を加え、混合物を同温度で
１時間攪拌した。−２０℃に冷却後、メタノール（２０
ｍ７）をこれに加え、−１０℃で８０分間攪拌した。こ
の混合物に水（１０ｄ）を加え、１０分間攪拌した。分
取した塩化メチＶン層に、水溶液のＰＨ値が５．０にな
るまで炭酸水素す）　＋３ウム水溶液を加え、この混合
物を振とうした。有機層を分取し、これを塩化すかリウ
ム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸
発乾固した。得られた残渣をジイソプロピＶエーテＶで
粉末化して、７−アミノ−８−７リルチオメチｒｖ−３
−セフェム−４−力Ｖポン酸ベンズヒドリＶ（６，５り
）を得た。 １、Ｒｏ（ヌジａ　−ｆｖ）　：１７７０　、１７１０
　ｏｎ　’ＮＭＲδＰｐｍ　（ＤＭＳＯ−ｄ、　）　：
２．９　Ｂ　（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝７Ｈｚ　）　。 ８．３−８．７　（４ＥＬ、ｍ）　、　５．００　（Ｉ
Ｈ，ｄ　、Ｊ＝５　ＥＩＺ）、５．６０（Ｉｎ、ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ）、４．５−５．６（３Ｈ，ｍ）　、６．９１
（ｌ）Ｉ、Ｓ）　、７．５（１０１１，ｍ）製造例８ 製造例７と実質的に同様の方法により、７−（２−７二
二にアセトアミド）−８−メチＶチオメチＩｖ−３−セ
フェム−４−カにボン酸ベンズヒドリル（１８，５２〕
を五塩化リン（７，７４Ｆ　）、ヒ。 リジン（８ｄ）およびメタノール（１００ｔｆ）と反応
させて、７−アミノ−８−メチルチオメチか−８−セフ
ェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒドリル（５，０９＞を得
た。 １、Ｌ（メタノール）：１７６５．１？２５　ｅｙｎ　
”ＮＭＲＪｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　：　１−８１　
（８Ｈ，Ｓ　）　、　８．５２　（２Ｈ。 ブロードＳ）、８．６０（２Ｈ，ブリードＳ）、４．８
Ｂ。 ５．１Ｂ　（２Ｈ，ＡＢｑ　、１＝５Ｈ１）　、　６−
９７　＜ｌＨ。 ”）ｓ７．４０（ＩＯＪｓ） 製造例９ 製造例７と実質的に同様の方法により、７−（２−フエ
二にアセトアミド）−３−二千ＶチオメチＶ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリＡ／（２３゜Ｏｆ）
を五塩化リン（１２，９０５’）、ピリジン（５，０ｔ
ｆ）およびメタノ−Ａ／（１６５ｍ！／）と反応させて
、７−アミノ−３−エ千Ｖチオメチ１ｖ−８−セフェム
−４−カにボン酸ベンズヒト！Ｊ”（１０，０り）を得
た。 １、Ｒ−（メタノールつ：　１７７０，１７２０　ｃｍ
−”ＮＭＩＬ　、￥ｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　：　０
．９６　（８Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　）。 ２−８０（２Ｈ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）　、８．５０（２ｍ
、　７Ｍ−ドＳ　）　、　３．６０　（２Ｈ，プν−ド
ｓ　）、　、　４８０　ｔ５−１７（２Ｊ、ｌｑ、Ｊ−
５Ｈｚ）、７．００（ＩＨ。 Ｓ）、’ｌ４Ｂ（ＩＯＨ，ｓ） 製造例１０ ジケ？　ン（１，８’　）の塩化メチレン（１０ｍ／）
溶液に臭素（Ｌ２４　ｆ　）の塩化メチシン（１０ｍ）
溶液を一８０℃で攪拌”Ｆにｉ下し、攪拌を一２０℃で
８０分間続けて、４−ブロモアセトアセチＶブロマイド
の溶液を調製した。この溶液を、−８０〜−２０℃で攪
拌下に７−アミノ−８−メチＶチオメチＡ／−３−セフ
ェム−４−力Ｍボン酸ベンズヒドリＩｖ（４，４４Ｆ）
とトリメチＶシリＶア七ドアミド（５，４６り）との塩
化メチレン（１００ＷＩＶン溶液に５分間かけて滴下し
、攪拌を一１０℃で８０分間続けた。水を加えた後、得
られた混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でＰＨ７−５
に調整した後、有機層を分取し、これを水と塩化ナトリ
ウム水溶液とで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、蒸発乾固して、７−’（４−ブロモアセトアセト７ミ
ドンー３−メチＭチオメチＡ／−８−セフヱム−４一方
々ポン酸ベンズヒドリ１ｖ（６−Ｏｆ）を得り。 ■、Ｂ、（ヌジＳ−ル）：１７７０，１７１０，１６２
５　ａｌｌ　１ＮＭＩＬ　ａ　ｐｐｍ（ＤＭ８０−ｄ６
）　二Ｌ７７　（８１ヨＬ、ｓ　）＊８．６　（６Ｈ＊
ｍ）、４．ＢＢ（２Ｈ，Ｓ）、５−１５（ＩＨ，（１，
コー４Ｈ２）、５．７８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４ＥＩｚ、
ｇＥＩｚ）。 ６−８６　（ＩＥ［、Ｓ）、７．８　（ｌＯＨ，ｍ）、
９．１　（ＩＨ。 ｄ　、　Ｊ＝８１１１ｚ　） 製造例１１ ２−（２−ホシムアミドチアゾールー４−イｋ）−２−
メトキシイミノ酢酸（シン異性体）（１９ｆ）のメタノ
ール（２００ｍり溶液に、５０ヂギ酸（２００ｍｌ）と
亜鉛（２９り）を加え、この混合物を５〜１０℃で６時
間攪拌した。濾過後、反応混合物を蒸発させ、残渣を水
（１５０献）に溶解した。得られた水溶液を４Ｎ水酸化
す）　ＩＪウム水溶液でＰＨ６，５に調整した後、エタ
ノ−ν　（１５０ｗり、２−第３級−ブトキシカルポニ
ルオキシイミノ−２−フエ二Ｖアセトニトリ７Ｌ／（１
＆２り）およびトリエチルアミン（８，Ｏｆ）を加えた
。 室温で２４時間攪拌後、反応混合物を濾過し、有機溶媒
を除去した。残留する水溶液を酢酸エチルで洗浄し、１
０チ塩酸でＰＨ４に調整した後、酢酸メチＭで抽出した
。抽呂液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に蒸発乾固し、得られた
残渣をジエチν工−テＭで洗浄して、Ｎ−第Ｂ級−ブト
キシカＶボニルー２−（２−水にムアミドチアゾ−Ａ／
　−４−イｎ／）グリシン（３，８１）を得た。 １、Ｒ４ヌジョー／’ｕ）：８２５０，８１８０，１７
２０，１７００゜１６７０．１６４０，１５４０，１５
１０６ｎＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭ８０−ｄ６）　：１．４
０（９Ｈ，ｓ）、５．１８（ＩＨ。 ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１７（１，ＥＩ、　Ｓ）　、８
．４８（ＩＥ［。 Ｓ） 製造例１２ ブロモ酢酸（１０，４５ｆ）をメタノ−ＩＬ／（８０ｄ
）に溶解した。この溶液に、酢酸メチνに溶解した等量
のジフェニνジアゾメタンを４５℃で加え、反応混合物
を同温度で１時間攪拌した。得られた溶液を５壬炭酸水
素すｈ　ＩＪウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液を次に減圧
蒸発して、油状生成物を得た。この油状物をＮ、Ｎ−ジ
メチνホνムアミド（６０ｉ）に溶解した。この溶液に
、Ｎ−とドロキシ７りＶイミド（１１，７ｆ）きトリメ
チルアミン（１５，１ｍ）を加え、反応混合物を室温で
１時間攪拌した。、得られた混合物を飽和塩化ナトリウ
ム水溶液（５００ｄ）［投入し、析出した沈澱を枦取し
、水沫した後、塩化メチレン　（７００ｗｔ）に溶解し
た。この溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後
、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧蒸発させて、２−フ
タＭイミドオキシ６酸ベンズヒドリル（２０，４２）、
融点１７８〜１７５℃を得た。 ■、旦、（ヌジミール）二１７５４　、１７３０　ｃｒ
ｎ−１ＮＭＲδＰＰｍ（ＣＤＣ’　ｌ５−ｐ’　）　”
　４９　Ｂ　（２ＥＩ、　ｓ　）　、　７．０　（ＩＩ
Ｉ。 Ｓ）、７．８（ＩＯＨ，Ｓ）、７−７８（４ＥＩ、Ｓ）
。 製造例１．８ ２−７りＭイミドオキシ酢酸ベンズヒドリＵ（１０ｆ）
の塩化メチレン（１００ｍ）溶液に、ヒドラジン水化物
（６，０８ｆ）のメタノ−ｒｖ　（７ｗｌン溶液を加え
た。反応混合物を室温で１時間攪拌した後、析呂した沈
澱を炉別し、塩化メチレンで洗浄した。Ｆ液と洗液を合
わせ、濃塩酸でＰＨ７−Ｑに調整し、飽和塩化ナトＩＪ
ウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウムで乾燥した
。この溶液を減圧蒸発して、２−アミノオキシ酢酸ベン
ズヒドリル（６，０り〕を得た。 Ｉ−Ｒ，（液膜）　：　８３２０　、１７５０　ｏｎ　
’ＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣ１，ａ　）　：Ｌ８Ｂ　（＝
、　Ｓ）　、　５．８６（２ＥＩ。 ブリードｓ）、７．００（ＩＨ，ｓ）、７．３（ｌｏｎ
。 Ｓ） 製造例１４ （２−ホルムアミドチアゾ−ｖ　−４−イν）グリオキ
シ々酸く６．０り）の水（６０ｄ）およびピリジンＣ６
ｄ）懸！？Ｕ液に、２−７ミノオキシ酢酸ベンズヒドリ
ル＜９．Ｏｆ）のテトラヒドロフラン（４０ｄ）溶液を
加えた。この反応混合物を室温で３時間攪拌した。得ら
れた溶液に酢酸エチル（’２００ｄ）を加え、有機層を
分取し、これを５％塩酸（１００ｙｄり、飽和炭酸水素
す）　ＩＪウム水溶液および飽和塩化ナト１１ウム水溶
液で洸浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去
して、２−（２−ホルムアミドチアゾ−々−４−イｎ／
）−２−ベンズヒドリにオキシカルボニルメトキシイミ
ノ酢酸（シン異性体）（１３，（１’）、融点１４８〜
１５１ｕを得た。 ＩｊＬ、（ヌジョール）：８１５０，１７３８．１６９
２ｏｎ−”ＮＭＲδｐ　ｐ　ｉｔ＋　（ＤＭ　８０−ｄ
　６　）　’　５．０　（２■、ブリード５Ｌ６−９７
　（ｌＥＩ、　ｓ　）　、　７．４０　（２０Ｈ，ｒＩ
ｌ）　、７．５６　（ＩＨ，Ｓ）　、８．６０（、ＩＥ
Ｉ、Ｓ）　、　１，２．．７７（ＩＥ［、ブロードＳ） 製造例１５ ２−ペンズヒドリνオキシカルポニにメトキシイミ／−
２−（２−ホルムアミドチアゾ−５ｖ−４−イル）酢酸
（シン異性体）（７，５ｆ）のテトラヒドロフラン＜４
０ｄ）溶液に、−１６℃で１０分間かけて無水トリフＶ
オロ酢酸（７，９ｆ）を加えた。反応混合物に一１θ℃
でトリエチルアミン（５，８ｍｌ’）を加えた後、この
混合物を０〜５℃で９０分間攪拌した。この混合物に酢
酸二チ／Ｉ／（１００ｄ）と水（１００４）を加え、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液でＰＨ７，５に調整した。 水層を濃塩酸でＰＨ２，０に調整し、酢酸エチＩｖ（２
００ｉ）で抽出した。有機層を飽和塩化ナトＩＪウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧蒸発により除去して油状物を得た。これにｍ−ヘキサ
ンを加え、析出物を炉取して、結晶性の２−ベンズヒド
リ！レオキシカ〃ボニνメトキシイミノ−２−［−（２
，２，２−トリフＩレオロア士ドアミド）チアゾ−Ａ／
−４−イＭ〕酢酸（シン異性体）（６，０２）、融点１
７８〜１８０℃を得た。 １、Ｒ，（ヌジョ−Ａ／）：１７５２．１７２６　ｃｍ
　”ＮＭＩＬ　ａｐｐｍ（ＬＩＭＳＯ−ｄ６）　：４．
９８　（２ｆｉ、　ｓ　）　、　６．９２（ＩＨ。 Ｓ）　、７．８２（１０Ｈ，ｍ）、７．６９（ｌＨ９ｓ
）目的化合物の製造 実施例Ｉ Ｎ−第３級ブトキシカ々ボニＩｖ−２−（Ｂ−メタンス
ルホンアミドフエニν）’−Ｄ−グリシン（３３２）と
トリエチルアミン（１，８４ｄ）のテトラヒドロフラン
（５０Ｗ１ｆ）溶液に、−１０〜−７℃で攪拌しながら
、クロロぎ酸エチＡ／（０，９１ｉ）のテトラヒドロフ
５′ン（１０−ｆ）溶液を滴下し、同温度で攪拌を４０
分間続けて、上記の活性酸の溶液を得た。この溶液を、
７−アミノ−３−メ千ＭチオメチＡ／−３−セフェム−
４−力々ポン酸ベンスヒｌ”Ｊ　７１’　（３，Ｏｆ’
　）（７）塩化メチ’−’（１００＋ｉ）溶液に、−３
０℃で攪拌しながら５分間かけて滴下し、同温度で攪拌
を１時間続けた。水を加えた後、反応混合物を３０分間
攪拌し、次に塩化メチレン（１００ｄ）で抽出した。抽
出液を５壬炭酸水素ナトＩＪウム水溶液（５０ｄ）で２
回と塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧蒸発させて、７−〔Ｎ−第３扱プト
キシカルポニＩＬ／−２−ＣＢ−メタン７、ｒｖ示ンア
ミドフェニｒｖ）−Ｄ−グリシンアミドクー３−メ千ｐ
チオメチル−３−セフェム−４−カにボン酸ベンズヒド
リル（６，５ｆ）を得た。 Ｉ　、’Ｒ，（ヌジｗ−Ｖ）　−１７８０，１７１０，
１６Ｂ０，１１５２　ｃｌｎＮＭＲａｐｐｍ（ＤＭ８０
−ｄ６）　：ＩＪ６　（９Ｈ，Ｓ　）　、　１．７６（
ＢＬ（。 Ｓ）、２．９８（８Ｈ，ｓ）、８−８−８−８（４Ｈ，
ｍ）。 ５．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．７８（ＩＪｄ
ｄ。 コ＝５Ｈｚ、Ｂ旦Ｚ）、６．９８（ＩＨ，８）、７．１
　−７．４（１４Ｈ，ｍ）、９．９８（ＩＥＩ、ｄ、コ
＝３ＥＩｚ）実施例２ 実施例１と実質的に同様の方法に−より、７−アミノ−
３−エ千Ｖチオメチルー８−七７エム−４−カルボン酸
ベンズヒドリ”（３Ｌ０８ｆ）をＮ−第３級プトキシカ
Ｍボニ１ｖ−２−（Ｂ−メタンスＭホンアミドフェニｒ
ｖ）−Ｄ−グリシン（８，８２）とｆ、応させて、７−
［Ｎ−第３に＆ブトキシカルボニ／Ｌ／−２−（３−メ
タンスθホンアミドフェニル）−Ｄ−グリシンアミドツ
ー３−二千θチオメチ１ｖ−３−セフェム−４−力Ｍボ
ン酸ベンズヒドリ／Ｌ’（５−４１を得た。 １、Ｒ，（ヌジョー々）二Ｂ２５０．１７８０．１７０
０．１５Ｂ０　。 １４９０　、１４５５　ｃＭ−” ＮＭＩＩＬδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　：０−９８（
ＯＲ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）。 １．８８　（９ｈ、　Ｓ　）　、　２−２８　（２Ｊ　
ｑ　、Ｊ−７Ｈｚ　）。 ２．９７　（：ｌｌＨ，Ｓ　）　、　８．４−８．８　
（４ｎ、ｍ）　、　５．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、５．２４（ＬＨ，ｍ）、５．７８（ＩＨ，ｄｄ　、’
Ｊ　＝５Ｈｚ　、　７ｆＩｚ　）　、　６−９８　（Ｉ
Ｈ。 Ｓ）、７．０−７．７（ｉａＨｔｍ）、９．８９（ＩＨ
，ｄ。 Ｊ＝８Ｈｚ）、１０．４８（ＬＥＥ、Ｓ）実施例８ （１）７−アミノ−Ｂ−メトキシメチル−３−セフェム
−４−力Ｍボン酸第８級ブチルのトシν一ト（１８，１
９）の塩化メチレン（２００ｓｄ）懸濁液に水（１００
−７）を加えた後、炭酸水素ナトリウム水溶液でＰＨＨ
Ｏ２調整した。塩化メチレン層を分取した後、残った水
溶液を塩化メチレン（５０ｄ）で抽出した。合わせた塩
化メチレン溶液を塩化す←リウム水溶液で洸浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、活性炭処理し、減圧蒸
発させて、７−アミノ−８−メトキシメチｔｖ−８−セ
フェム−４−力Ｖポン酸第８級ブチｘ（５，７９）を得
た。 １、Ｌ（ヌジＥ−”）’８Ｂ７０，１７６０．１７４０
．１７１０ｃｍ−ＮＭＩＩＬ　δｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ
６）　：　１．５　（９Ｈ，ｓ　）　、　２．８　（２
Ｈ。 ブｔ＋−）’　Ｓ）、８−２４（ＢＨ，Ｓ）、８．５１
０２ＥＩ。 Ｓ）、４１５（２ｆｉ、Ｓ）、４．８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ）、５．０４（ＩＨ，ｄ、コ−５Ｈｚ）（２）　
一方、Ｎ−第３級ブトキシカルボニｒｖ−２−（３−メ
タンスＶホンアミドフェニｖ）−Ｄ−グリシン（８，８
９９）とトリエチルアミン（２，６１Ｓ’）の乾燥テト
ラヒドロ７ラン（９５ｙｄり溶液に、クロロキ酸エチル
（２−８Ｆ）の乾燥テトラとドロフラン（２５ｄ）溶液
を−１０〜−７℃で攪拌しながら１０分間かけて滴下し
、攪拌を同温度で４０分間続けて、上記の活性酸の溶液
を調製した。 （３）実施例３−（１）により得られた化合物（５，６
５２）の乾燥塩化メチレン（１９０献）溶液に、上で調
製した活性酸の溶液を一３０℃で攪拌しながら１０分間
かけて滴下し、攪拌を同温度で１時間続けた。水（１０
０ｄ）を加えた後、反応混合物を３０分間攪拌した。こ
れから塩化メチレンリを分取し、残留する水溶液を塩化
メチレンで抽出した。合わせた塩化メチレン溶液を５チ
炭酸水素ナトリウム水溶液（ｉ　ｏ　ｏｙ）で２回と塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、活性炭処理した後、減圧蒸発させて、７−〔Ｎ
−第８級ブトキシカルボ＝に−２，−（８−メタンス々
ホンアミドフェニＡ／）　−Ｄ−クリシンアミドツー８
−メトキシメチＡ／−３−セフェム−４−力シポン酸第
８級−プチｌ′ｖ（１７，８ｆ）を得た。 １、Ｒ，（ヌジョールつ：Ｂ２５０，１７８０，１７１
０，１６８０σＮＭＲ宕ＰＰＩＩＩ（ＤＭＳＯ−ｄ６　
）　：　１−ａ６（９Ｈ，ｓ）　、１．４６　（９Ｈ，
ｓ）、　２．９７（８Ｈ，ｓ）、　８．１８（８Ｈ。 Ｓ）、３．４＜２Ｂ、ブロードＵ、４．０７（２Ｅ。 ブロードＳ）、５．０３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５ＥＬｚ）。 ５−２４（ＩＨ，ｄ、コ＝３Ｈｚ）、ｓ、’ｙａ（ｉｆ
ｉ。 ｄｄ、Ｊ＝５旦Ｚ、８ｆｉｚ）、６−９８−７．４８（
４Ｈ。 ｌ１ｌ）、　７．５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８ＥＩｚ）、９．
１６（ＩＥＩ。 ｄ、Ｊ＝８ｆｌｚ）、９．’；’ａ（ｌｎ、−ｗ−）−
ｓ）下記の実施例４〜７に記載の化合物は、実施例ａと
ｓｌｊ的に同様にして２−（３−メタンスＭホンアミド
フェニ／Ｉ／）−Ｄ−グリシンに、相自する７−７ミノ
セフアロスボラン酸誘導体を反応させることにより得ら
れた。 実施例４ ７−（２，−（８−メタンスルホンアミドフェニル）−
Ｄ−グリシンアミドクー８−メチジチオメチｎ／−３−
セ７ヱムー４−力Ｖボン酸。 ＬＲ−（ヌジョー７１’）：１７５８，１６８７（肩）
、１６６６、Ｈ４４゜９７４国−１ 実施例５ ？−［２−（８−メタンスＭホンアミド７エ二ｒｖ）−
Ｄ−グリシンアミド〕−３−エチ々チオメチｒｖ−３−
セフェム−４−力Ｍボン酸。 ■、旦、（ヌジョーν）：１３５００，８１５０，１７
８０．１６８５゜１．４６０　ｃｍ−’ 実施例６ ７−［２−（Ｂ−メタンスルホンアミドフェニル）−Ｄ
−グリシンアミドクー３−メトキシメチル−３−±７エ
ムー４−力Ｍボン酸。 １、Ｌ（ヌジョーＩし）：８５００，８１５０，１７６
０，１６８５ｔＭ突施例７ ７−（２−（３−メタンスルホンアミドフェニル）−Ｄ
−グリシンアミドクー３−アリＶチオメチル−３−セフ
ェム−４−力々ポン酸トリフ々オロ酢酸塩。 Ｉ−Ｒ，（ヌジａ　Ｆｕ）：１７６０，１６８０，１６
００．１１４０６ｎ実施例８ ７−［Ｎ−８８級ブトキシカルボニル−２−（８−メタ
ンスルホンアミドフ工ニｒｖ）−Ｄ−グリシンアミド〕
−３−メチＶチオメチル−８−セフェＪ、−４−力にボ
ン酸ベンズヒドリＡ−＝（６，５７）とアニソ−／ｌ／
（５：０ｔｄ）とトリフルオロ酢酸（２０ｄ）との混合
物を２５℃で１５分間攪拌した。反応後、反応混合物を
ジイソプロピ々エーテｌＬ／（８００−）に滴下し、析
出した固体を併収し、ジイソプロピジエーテル 酸エチＡ−（５０ｍ）との混合物に溶解させた。水層を
分取した後、これを酢酸エチ〜で洗浄し、さらに水溶液
から酢酸エチｋを減圧下で完全に除去した。得られた水
溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液でＰＨ３，８に調整し
、ダイヤイオンＨＰ−２Ｑ（商標、三菱化成社！１ｌｌ
ｌり（９０Ｗｌ）を用いてカワムクロマトグラフに付し
た。水（１８０ｗ１ｌ）テｅ浄後、溶離を３０係イソプ
ロピシアｐコ−Ｍで行ない、目的化合物を含有する画分
を集め、凍結乾燥して、７−［２−（８−メタンスνホ
ンアミドフェニ＋）−Ｄ−グリシンアミドクー８−メチ
ＶチオメチＩＬ／−３−セフェム−４−力シポン酸（１
ｆ３？）を得た。 Ｉ−Ｒ，（ヌジョー＆）：１７５８，１６８７　（肩）
、１６６６゜１１４４．９７４ｃＩｎ−１ ＮＭＲａｐｐｍ（Ｄ２０＋ＤＣ１）：Ｌ９８（３Ｈ，Ｓ
）、３．１５（ＢＨ，ｓ）、８．４５（２に、ブロード
Ｓ）、８−５６（２Ｈ，ブロードＳ）、５．１２（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５１１Ｚ）、５．３０（ＩＨ，ｓ）、５．７
０（Ｉｎ、ｄ。 Ｊ＝５Ｈｚ）、７．４５（４Ｈ９！ｉ）実施例９ 実施例８と来質的に同じようにして、７−〔Ｎ−第８Ｉ
ｆ＆ブトキシカＶポニｆｖ−２−（８−メｌｉン７／Ｌ
／ホンアミドフェニル）−Ｄ−グリシンアミドシー３−
エチルチオメチル−８−セフェム−４−カＭボン酸ベン
ズヒドリ１ｖ（３，７り）をアニソール（７，４ピンの
存在丁にトリフにオロ酢ｅＣ７，４ｄ）と反応きせるこ
とにより、７−［２−（８−メタンスルホンアミドフェ
ニ＆）−Ｄ−１１シンアミド〕−３−二手シチオメチ＆
−３−セフェム−４−カルボン酸（１６ｆ）を得た。融
点１８８℃（分解）。 Ｉ−Ｒ−（ヌジｑ−Ｉ′ｖ）：Ｂ５００，８１５０，１
７８０，１６８５゜１４６０ｃｍ−” ＮＭＲａｐｐｍ（Ｄ、Ｏ＋　ＤＣＩ　）　二Ｌ１Ｂ　Ｃ
ＢＨ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ）。 ２．４８（２Ｈ，Ｑ、コ＝７Ｈｚ）、８．１１（ＢＥＥ
、！＋）。 ８．８−８．８（４Ｅ［、ｍ）、５．３０（ＬＨ，Ｓ）
。 ５．６５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ７）、７−４３（４Ｈ，
ｓ）実施例１０ ７−［Ｎ、第３級ブトキシ力Ｍボニルー２−（３−メタ
ンスＭホンアミドフェニＩＸ／）　−Ｄ　−りＩＪシン
アミド］−３−メトキシメチル−３−セフェム−４−力
Ｖボン酸第８扱−ブチル（１５Ｆ）のアニソ−／Ｉ／（
ＩＬ２５ｔｆ）溶液に、１５℃以下で攪拌下に１０分間
かけてトリフルオロ酢酸（３３゜７５ｄ）を滴下し、攪
拌を１５〜２０℃で８０分間続けた。反応混合物をジイ
ソプロピジエーテル（７５０イ）に投入し、室温で２０
分間攪拌した。 析出した固体を渥取し、ジイソプロピＩレエーテＡ／で
洗浄した後、これを酢酸エチ／Ｉ／（１００ｍ）と水（
１００ｙｄりとの混合物に投じ、しばらく攪拌した。こ
れから水溶液を分取し、残っている有機層を水で抽呂し
た。合わせた水溶液を減圧ｍ＃１し、濃縮液を炭酸水素
す１．　＋７ウム水溶液でｐＨｌ約８，８＆：調整した
後、非イオン性吸着樹脂のダイヤイオンＨＰ−２０（２
２５ｄ）を用いてカラムクロマトグラフ処理した。カラ
ムご水（，４５０Ｗｌ）で洗浄した後、３０チイソプロ
ビシアＶコ一にで溶離した。目的化合物を含有する画分
を集め、減圧蒸発させ、残渣を凍結乾燥して、７−［２
−１−メタンヌＭホンアミドフェニｋ）　−Ｄ−クリシ
ンアミド°〕−３−メトキシメチｒｖ−３−セフェム−
４−カＭボン酸（４，４５５’）を得た。 Ｉ、Ｒ９（ヌジａ−／Ｌ／）：８５００，８１５０，１
７６０，１６８５ｃｒｎＮＭＪＬ　δｐｐｍ（Ｄρ＋Ｄ
Ｃ１）：Ｂ、１Ｂ（ＢＨ，ｓ）、：１１．２６（８Ｈ，
ｓ）、８．４２（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝１８ＨｚＬ４．２５（
２Ｈ，ｓ）、５．０６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。 ５、ｚｒ（１１１，ｓ）、５．ｒｓ＜ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ）。 ７．４２　＜４Ｈ，Ｓ　） 実施例１１ ７−アミノ−３−アリジチオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（８，ＢＹ）、１！：Ｎ−
＆、１級ブトキシカＶボニルー２−　（８−メタンスル
ホンアミド７ヱニル）−Ｄ−グリシン（３，４４夕）を
、実施例１と突貫的に同様に処理して、油状生成物（６
，５９）を得た。この油状物とトリフにオロ酢酸（１５
ｍ／）とアニソ−々（１５−）との混合物を２０℃で３
０分間攪拌した後、ジイソプロピＶエーテＭに滴下した
。析出した固体を併収し、ジイソブロビシエーｆｆＬ／
″ｒａ浄後、水（５０−ｄ）と酢酸エチ’９（５０献）
との混合物に溶解させた。水−を分取し、ジェチＭエー
テＶで洗浄した後、これから有機溶媒を完全に除去した
。得られた水溶液を凍結乾燥して、７−［２−（８−メ
タンスルホンアミド７ヱニル）−Ｄ−グリシンアミドシ
ー３−アリルチオメチｙ−Ｂ−セフェム−４−カＭボン
酸トリプルオロ酢ｅ塩（２り）を得た。 ■、几、（ヌジョ−”）＋１７６０，１６８０，１６０
０，１１４０ｃｒｎＮＭＲａｐ　ｐ　ｍ（Ｄ　２０　＋
　ＤＣ１）　’　８，２０　（２Ｂ７ｍ）　、８−２８
（８Ｈ，Ｓ）、Ｂ−６（７Ｈ，ｍ）、５．２（ＩＥ［、
ｄ。 Ｊ＝５Ｈｚ）、５．４５（ＩＨ，ｓ）、５．８０（ＩＨ
。 ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、７．５５（８Ｈ，ｍ）来施例１２ ７−（４−ブロモアセトアセトアミド°）−８−メチＭ
チオメチルー３−セフェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒド
リ／Ｌ／’（６，Ｏｆ’）１７）テトラヒドロフラン（
８０ｄ）溶液に、２５℃で攪拌しながらテトラヒドロフ
ラン（ａｏｙ）と水（２４ｍ）にチオ尿素（０，８５７
）と炭酸水素ナトリウム（０，９４２）をとかしたＩ容
液を滴下し、攪拌を２８〜３０℃で１時間続けた。ダ応
混合物を酢酸エチＩｖ（１００献〕と水（１００ｄ）と
の混合物に投じ、有機層を分取し、これを塩化ナトリウ
ム水溶液で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、蒸発させて、７−［２−（２−７ミノチアゾ−Ｍ
−４−イル）アセトアミドクー３−メ千Ｍチオメチ２レ
−３−セフェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒドリルＣ４，
Ｏｆ）を得た。 Ｉ−Ｒ−（ヌジａ−１’）：１７７Ｂ、１７１５．１６
５８ｃｍ−１ＨＭＸδｐｐｍ（ＤＭ８０−ｄ６）　：　
１−８５　（ＢＨ，ｓ　）　、　８．８−ＢＪ（ｆ５Ｈ
，ｍ）、５−２５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）。 ５．８０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ　＝５ｆＩｚ、８Ｈｚ）、６
．８２（ＩＨ，ＳＬ　７．００（’ＩＨ，Ｓ）、７．４
３（ＩＯＨ。 Ｓ）、８．９５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）実施例１３ ７セトン（４０ｖｎｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液（１５ｄ）との混合物に７−アミノ−３−メドキシメ
チ／Ｌ／＝３−セフェム−４−カルボン酸第３級ブチＭ
のトシレート（２，０２）を溶解し、これに、テトラヒ
ドロフラン（１０ｍｌり中の２−（２−ホルムアミドチ
アゾ−１ｖ−４−イＶ）　−２−メトキシイミノ酢酸（
シン異性体）（１，０６ｆ）、オキシ塩化りん（０，８
５Ｆ）およびＮ、Ｎ−ジメチｖホルムアミド（０，４１
２）から調製された活性酸の溶液を、０〜５℃で１ｏ分
間かけて滴下した。添か中、反応混合物のＰＨは飽和炭
酸ナトリウム水溶液でＰＨ７，０〜７．５に維持した。 １時間攪拌した後、反応混合物を水（５０ＷＩりで希釈
し、次に酢酸エチＭで２回抽出した。合わせた抽出液を
５％炭炭酸水子ｈ　ＩＩウム水溶液と水で洗浄し、乾燥
した後、減圧下に蒸発乾固し、得られた残渣をジエチＶ
エーテνで粉末化して、７−［２−（２−ホルムアミド
チアゾ−／Ｌ／−４−イν）−２−メトキシイミノアセ
トアミド〕−８−メトキシメチ／ｌ／−３−セフェム−
４−カルボン酸第３級ブチＩｖ（シン異性体）（１，１
４５’）を得た。 １、Ｒ，（ヌジョール）；３２５０，３１００．１’７
９０，１７１０゜１６６００７１’ ｋｉＭｆｌ　ａｐｐｍ（ＤＭＢＯ−ｔｉ６）　：　１．
４９　（９Ｈ，Ｓ）　、３．２１　（８Ｈ，Ｓ）、３．
２８（２Ｈ，ブロード”）＋　’−８９＜８８．Ｓ）、
４．１（２１１１，Ｓ）、５．１６（ＬＨ。 ａ、Ｊ＝＝５Ｈｚ）、５−８０（ＩＪｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
。 ８１（Ｚ）、７−３６（ＩＨ，ｓ）、　８．４８（ｌｆ
ｉ、Ｓ）。 ９．６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２）、　１２．６６（ＩＨ
，７”ロードＳ） 実施例１４ 実施例１３と実質的に同様の方法により、７−アミノ−
３−メチジチオメチｙ−Ｂ−セフェム−４−力Ｍボン酸
第３級ブチｖ（０，９０９）を２−（２−ホルムアミド
チアゾ−Ａ／−４−イｙ１／）　−：２−メトキシイミ
ノ酢酸（シン異性体）（ｏ、８５グ）と反応させて、７
＜２−１−示シムアミドチアゾールー４−イｌし）−２
−メトキシイミノアセトアミド〕−８−メチＭチオメチ
シー３−セフユム−４−カルボン酸第３級ブチＭ（シン
異性体Ｈ０，９１り）を得た。 Ｉｌｌ、（ヌジョール）：８２５０．８０５０，１７８
０．１６９０ｔｙｎＮＭＲａｐｐｍ　（ＤＭＢＯ−ｄ、
　）　：　１−４７　（９Ｅ［、Ｓ　）　、　１−９７
　（３Ｈ。 Ｓ）、３−２９（ｊ２Ｈ，ブロードＳ）、３．５５（２
ｆＩ。 ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、８．８７（８Ｈ，ｓ）、５２
１（ｉｎ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．７４３（ＩＨ，’ａ
ａ、Ｊ＝５Ｈｚ、ｇｆｉｚ）、７−８８（Ｉｎ、Ｓ）、
８．４９（１”　、　ｓ　）　、９．６６　（ｉｌｌ、
　ｄｐ　Ｊ−８”　）　−１２，５６（ＩＨ，カードＳ
） 次の実施例１５〜１７に記載の化合物は、実施例１３と
同様にして７−アミノセファロスポラン酸誘導体を、相
西する酸と反応させることにより得られた。 実施例１５ ７−〔２−（２−７ミノチ７ゾールー４−イＶ）アセト
アミドツー８−メチジチオメチＡ／−３−セフェム−４
−カルボン酸。 ■几　（ヌジＨ−ｒｖ）二１７６Ｂ、１６５４　ｃｍ−
”実施例１６ ７−［２−（２−７ミノチアゾーｒＬ／−４−イル）−
２−メトキシイミノアセトアミド］−３−メトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カシボｌ俄塩酸塩（シン異性体
）。 １（ヌジョー／Ｉ／）：３８００，１７８０，１７２０
．１６６０゜１６４０σ−１ 実施例１７ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イν）−２−
メトキシイミノアセトアミド〕−３−メチルチオメチＡ
／−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。 Ｉｎ（ヌジョ−”）：Ｂ：１１５０，１７７０．１６−
７０　ｔｙｎ−”実施例１８ 塩化メチレン（１０Ｗ１１り牛の７−［２−（２−７ミ
ノチアゾールー４−イｌｖ）アセトアミド〕−３−メチ
ジチオメチｖ−３−±フェムー４−力Ｖボン酸ベンズヒ
ドリ／Ｉ／ＣＢ−Ｂｒ３、トリフＶオロ酢酸（ｌ　Ｏｄ
）およびアニソ−７Ｌ／（ｌＯ〆）の混合物を１０℃で
１時間攪拌した。反応混合物にベシゼン（５０ｔａｔ’
）を加えた後、混合物中のトリフにオロ酢酸を減圧下に
共飾蒸留により除去した。 残留する水層を酢酸エチル（１００−＝ｆｆ）と水　（
１００ｉ）との混合物中に投じた後、炭酸水素ナトリウ
ムでＰＨ７，，５に調整した。水溶液を分取した後、こ
れから有機溶媒を減圧蒸発により完全に除去し、１０チ
塩酸でＰＨ３，（ｌに調整した。析呂した固体をＦ取し
、乾燥して、７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−
イＷ）アセトアミドクー３−メチにチオメチｔｖ−３−
セフェムー４−力〜ボン酸（０，９５Ｆ）を得た。 ■Ｒ（ヌジ５−１ｖ）：　１７６Ｂ、１６５４　ｔｘｎ
−’ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＢＯ−ｄ６）　：　２．０１
　（８ＪＩ、　ｓ　）　、８．４８　（２ｆｌ、ｓ）、
＆６５（４Ｈ，ブリードｓ）、５．１７（ＩＨ，ｄ、Ｊ
　ｌ：＝５Ｈ２）、５．６７（ＩＩＩＩＩ、ａｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ、８Ｈｚ）、６．８８（ＩＨ，Ｓ）、９−Ｄ。 （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例１９ ７−［２−（２−ホＭムアミドチアゾーＡ／−４−イア
Ｌ／）−２−メトキシイミノアセトアミド］−Ｂ−メト
キシメチｙ−３−セフェム−４−カルボン酸第３級ブチ
Ｊ′Ｌ／（シン異性体）（１，ｏｒ）の塩化メチノン（
２ｏ＊）冷＠濁液にトリフルオロ酢酸（４，４２つとア
ニソ−７Ｌ／（０，２ｔ／）を加え、混合物を４０℃に
徐々に加温した後、１０℃で３時間攪拌した。反応混合
物を蒸発させた後、残液に酢酸エチν（２０ｙｄ）を加
え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出した。得ら
れた水溶液を希塩酸でＰＨ２，０に調整し、酢酸エチに
で抽出した。 抽出液を飽和炭酸水素す）　リウム水ｌＳ液、水および
塩化ナトＩＪウム水溶液で順に洗浄し、乾燥後、減圧下
で蒸発乾固した。残渣をジエチルエーテル中で３０分間
攪拌し、残留する固体を枦取して、７−［２−（２−ホ
Ｍムアミドチアゾー／Ｌ／−４−イｔｖ　）　−２−メ
トキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチＶ−３
−±７エムー４−力Ｖボン酸（シン異性体）（０，５６
２）を得た。 ＩＲ（ヌジｙ−”）：８２５０，１７８０，１６６０　
ｅｘ−”ＮＭＲ言ｐｐｍ（ＤＭＢＯ−ｄ６）　：８．２
２（ＢＨ，Ｓ　）　、　８．５５　（２Ｈ，）℃−ドＳ
）、Ｂ、９０（８Ｈ，Ｓ）、４．１９（２Ｈ，Ｓ）、５
．１７（１■、ｄ、Ｊ−５１１１ｚ）。 ５−８１（ＩＨ，ａｄ、Ｊ、、、５Ｈ２ＪＨｚ）、７．
４８（ＬＨ，ｓ）、８．５ＢＬＨ，ｓＬ　９．６７（ｉ
ｎ。 ｄ、Ｊ＝８ｆｌＺ）、１２−５８（ＩＨ，ブロードＳ）
実施例２０ 実施例１９と同様の方法により、７−（２−（２−ホル
ムアミドチアゾ−７’９−４−イ／Ｌ／）−２−メトキ
シイミノアセトアミド〕−３−メチジチオメチＡ／−３
−セフェム−４−力シボン酸第８級ブチル（シン異性体
）（０，９Ｆ）を７ニソール（０９ｄ）の存在下にトリ
フルオロ酢酸（５，８Ｆ）と反応させて、７−１：２−
（２−ホＶムアミドチアゾーシー４−イｒｖ　）　−２
−メトキシイミノアセトアミド〕−３−メチルチオメチ
ルー３−セフェム−４−力シボン酸（シン異性体）（０
，６４２）を得た。 ＩＩＬ（ヌジ＝ｌ−Ｉｖ）：Ｂ２５０，１７８０．１６
６０　ｃｒｎＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＢＯ−ｄ、）　二Ｌ
９９（ＢＨ，ｓ）、　８−８８−４．１（４ｆｌ、ｍ）
、３．９８（ＢｆＩ、Ｓ）、　５−２５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５ｆｌｚ）、５．７９（ＬＨ，ｄａ、　Ｊ＝５Ｈｚ、
８Ｈｚ）、７．４５（ＩＨ，ｓ）、８．４８　（ｌｆｌ
、ｓ）、９．６９（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。 １２．６８（ｌ旦、六−ドＳ） 次の実施例２１と２２に記載の化合物は、実施例１９と
同様の方法により、アニソ−Ｖの存在下で相当するセラ
フ０ヌボラン酸誘導体の第３級ブチＶエステルをトリフ
ルオロ酢酸と反応させることにより得られた。 実施例２１ ７−Ｃ２−（２−アミノチアゾ−ｒＬ／−４−イＶ）−
２−メトキシイミノアセトアミド〕−３−メトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸塩酸塩（シン異性体
〕。 Ｔｎｔ−ｙ−・−一　、、）、’）Ｑｎｎ　１７只ｆ１
．１７９１１−ＩＦｉ６０゜１６４０び−１ 実施例２２ ？−［２−（２−アミノチアゾ−＆−４−イル）−２−
メトキシイミノアセトアミド°］−３−メ千ジチオメチ
ｖ−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。 ＩＲ（ヌジョー”）：８Ｂ５０．１７７０，１６７０α
−１実施例２８ メタノ−／１／（３献）とテトラヒドロ７ラン〈２Ｗｔ
！りの混合物中の７−［２−（，２−ホルムアミド。 チアゾール−４−イｔｖ）−２−メトキシイミノアセト
アミド〕−３−メトキシメチＡ／−３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）（０，５２り）の懸濁液に濃
塩酸（０，１８タンを添加し、この混合物を３０℃で４
時間攪拌した。反応混合物を冷却後、ジイソブロビνエ
ーテνで希釈し、析出した結晶を戸数し、ジイソプロヒ
′ＭエーテＶで洗浄し、乾燥して、７−１ｍ２−１−ア
ミノチアゾール−４−イｖ）−２−メトキシイーミノア
セトアミド〕−３−メトキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸塩酸塩（シン異性体）（０，４５ｆ）を得
た。 ＪＲ（ヌジョール）：Ｂ２Ｏ２，１７８０，１７２（１
，１６６０゜１６４０ｍ−” ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　＋　３．２６　（
ＢＨ，Ｓ　）　、８．５８　（２ＬブロードＳ）、ｔｏ
（８旦、Ｓ）、４．２４（２Ｔ”、Ｓ）、５．２４（Ｉ
Ｈ，ｄ、コ＝５］Ｉｚ　）　、５−８２（Ｉｎ、ｄｄ、
Ｊ　＝５Ｅ［ｚ、８Ｈｚ）、７．０１（ＩＨ。 ｓ）、９．８７（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝３ＪＩｚ）実施例２
４ 実施例２３と同様の方法により、７−［２−（２−ホル
ムアミドチアゾ−Ｖ−４−イル）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−８−メチルチオメチＭ−３−セフェム
−４−力Ｍボン酸りシン異性体）（０，６５’）をメタ
ノール（３１）とテトラヒドロ７ラン（ｌ　ｍｅ　）の
混合物中で濃塩酸（０，４２）と反応させて、７−〔２
−（２−アミノチアゾ−１ｖ−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド〕−Ｂ−メチにチオメチル−８−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（０’、２Ｂ
？）をＩＲ［ヌジョー’Ｌ’）１Ｂ５０，１７７０，１
６７０α−１ＨＭＲδｐｐｍ（ＤＭｆｌＯ−ｄ、　）　
：２．０１　（３Ｈ，Ｓ　）、！１．２−４ｌ（４Ｈ，
ｍ）、８．８８（２１Ｈ，！り、５，２５（ＩＨ，ｄ、
コ−５Ｈｚ）、５．７８（ＩＪｄｄ、Ｊ−５Ｈｚ、３Ｈ
ｚ）、６．８２（ＩＨ，１７）、７．２４　（２’ｆｌ
、六−ｙ　ｓ　）　、　９．６４　（ＩＥＬ、ａ　、Ｊ
＝ｓＥｆｚ）実施例２５ 塩化メチレン（１００ｄ）中の７−アミノ−３−メチル
チオメチｗ−３−セフェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒド
リＡ／（１０り）とトリメチＶシリ々アセトアミド（１
＆４り）の溶液に、（２−ホルムアミドチアゾ−Ｉ′ｖ
−４−イ／Ｉ／）グリオキシＶ酸（６，５６ｆ）、Ｎ、
Ｎ−ジメチＭホｙム７ミドおよびオキシ塩化リン（３，
４６ｗ１）から常法により調製された活性酸を一１５℃
で加え、この混合物を−２０〜−１５℃で１５分間攪拌
した。反応混合物を水に投じた後、酢酸エチ々で抽出し
た。 抽出液を炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液と塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を除去して得ｆ−残液（Ｉｇ、４ｆ）を、ベン
ゼンと酢酸エチＶの５：１混合物（容積比）を溶離剤と
してシリカゲ４／（１００ｄ）でクロマドグ″Ｐ７に付
した。目的化合物を含有する画分を集め、蒸発乾固して
、７−［（２−ホＡｒ−１゜アミドチアゾ−Ａ／−４−
イν）グリオキシジアミドクー３−メチ 一力シボン酸ベンズヒドリＩｖ（　７．　１りを得た。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７８０，１７００，
１６５６ＣＩｎ　”ＮＭＲ　δｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６
）　：１−８８（３Ｈ，　ｓ）　、　３−５８　（２Ｈ
，ブリードＳ）、３．６７（２Ｈ，ブリードＳ）。 ５、８８（ｌｆｉ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、５−８７（ｌＥ
［、ａａ。 Ｊ＝５ｆＩｚ，３Ｈｚ）、６．９０（ＩＨ，Ｓ）、’Ｉ
４０（１０Ｈ，ｓ）、８．４７（ＬＨ，Ｓ）、８−５８
　（１ｍ，Ｓ）、９．８８（ｌｆｌ，ｄ，Ｊ−８Ｈｚ）
。 １２、６８（ＩＨ．フヤードＳン 実施例２５と同様の方法により、７−アミノ−３−置換
セ７アロヌボラン酸誘導体を、相坐する酸と反応させて
、下記の化合物を得た。 実施例２６ ７−［（２−アミノチアゾール−４−イｒｖ）グリオキ
シャアミ）”］−］８ーメチＭチオメチｒｖ−　ｆ３−
セフェム−４−カにボン酸。 ＩＩヌジョーｙ）　二８３００．，１７６２，１５２２
　ｏ閃−１実施例２７ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イＭ）−ＤＬ
−グリシンアミドクー８−メチにチオメチＩｖー３ーセ
フェムー４ーカルボン酸。 ＩＲ（ヌジョー／’）：３３　００　、１７５５，１６
８６　、１６００α−１実施例２８ 塩化メチレン（　１　０　０ｍ）とテトラヒドロフラン
（　８　０−ｆ）中の７−アミノ−３−メチジチオメチ
ｒｖ−３−セフェム−４−力Ｍポン酸ベンズヒドリｎ／
（４、９２２）とＮ−第３級ブトキシ力にボニル−２−
（２−ホＭムアミドチアゾールー４−イＡ／）−ＤＬ−
グリシンＣ４−０ｆ）との混合物に、Ｎ，Ｎｌ−ジシク
ロヘキシＭカルボジイミド−（２．８９ｆ）を加え、こ
の混合物を室温で１時間攪拌した。 不溶物を沖去した後、Ｆ液を蒸発乾固し、得られた残渣
を酢酸エチ／Ｌ／に溶解した。この溶液を炭酸水素ナト
ＩＪヮムの水溶液と塩化ナトＩＪウムの水溶液で洗浄し
Ｆ−後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を除去
すると、７−〔Ｎ−第３ｉ＆プトキシカｖポニ／Ｉ／−
２−＜２−ポルムアミドチアソール−４−イｒｖ）−Ｄ
Ｌ−グリシンアミドシー８−メチジチオメチＡ／−３−
セフェム−４−力Ｖボン酸ベンズヒｈ°Ｕ　ｒｖ　（９
，４９）が得られた。 ＩＲ（ヌジ＝＋−”）：８８００，１７７０，１７１０
，１６８０゜１６１５α−１ ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：１−８６（９Ｈ，
ＩＩ）、１−８０　（＝５Ｈ・））　（ＩＨ，１ ＝５Ｈｚ） ５−３８（ＩＨ，ｄ、Ｊ４Ｈｚ）、５．６−５．９（Ｉ
ｎ。 ｍ）、６．９０（ＬＨ，Ｓ）！　７−ＩＢ（ＩＥＩＩＳ
）１７．８３（ＩＯＨ，ブν−ドｓ　）　、８．４７　
（ＩＨｌ　ｓ）　＋９．０８　（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ　＝
８Ｈｚ　）実施例２９ メタノール（５０ｍ）中の７−［：（２−ホルムアミド
チアゾ−／Ｉ／−４−イ／Ｌ／）グリオキシ々アミド〕
−８−メチＶチオメチＡ／−３−セフェム−４−カシポ
ン酸（３ＬＯｆ、ｌと濃塩酸（８ｄ）との混− 合物を室温で奨時間攪拌しＴｈ、反応混合物を羨酸水素
す）　ＩＪウムの水溶液でＰＨ５〜Ｇに調整した後、減
圧Ｓ縮した。濃縮液中の析出した結晶を併収して、？−
［（２−７ミノチアゾー１ｖ−４−イｙｖ）グリオキシ
ルアミドシー３−メチＶチオメチ／ｌ／−８−セフェム
−４−カにボン酸（１，１り）を得た。 ＩＲ（ヌジョール）：８３００，１７６２．１５２２０
−１ＨＭＲδＰＰｍＣＤＭＢＯ−ｄ６）＝２．０Ｏ（Ｂ
Ｈ，Ｆ−）、８．６５　（４Ｈ，ブロードｓ）、５．２
’２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ニジ）。 ５．６８（ＩＥＩ、ｄｄ、Ｊ＝５１１１ｚ、ｇ、ＥＩｚ
）、７．８７（２Ｈ，ブν−ドＳ）、７．８８ＣＩＨ，
Ｓ）、９．７８（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ　） 実施例３０ メタノール（１００ｍ）とテトツヒドロ７′５ン（２５
ゴ）中の７−〔Ｎ−第８Ｒ−ブトキシ力にボ：＝Ａ／−
２−（２−ホｒｖ　、Ａ　７　ミドチアゾ−１ｖ−４−
イｒｖ）−ＤＩ、−グリシンアミドツー３−メチズヒド
リｊＬ／（９．４２）とＳ１塩酸（４１　６ｉ）乏の混
合物を３０〜３５℃で５時間攪拌した．反応混合物を炭
酸水素ナトリウムでＰＨ４５に調整した後、蒸発乾固し
、得られた残渣を酢酸エチルに溶解した。この溶液を塩
化す＋　＋７ウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マダイ、シ
ウムで乾燥し、蒸発させて、７−〔Ｎ−第３級ブトキシ
力ＭボニＶ−２−（２−アミノチアゾ−ｆｖ−４−イル
）−ＤＬ−グリシンアミドツー３−メチ ム−４−力にボン酸ベンズヒドリ＆（７．４Ｆ）を得た
。 ＩＲ　（ヌジョール）：８３（＋０．１７７２，１７１
６，１６８５。 １６２Ｂ，１２４４，１１７０，１１６０（Ｆｌｌ　’
ＮＭＲ　Ｊｐｐｍ（ＤＭＳＯ　−ｄ，　）　：　１．４
０　（９Ｅ［、　Ｓ　）　、１−８　０　（８ＬｓＬ　
８．６（４Ｈ，ｍＬ　５．０　−５．４　（２Ｅ［。 ｍ）、５−６−５−９（２Ｈ，ｍ）、６−９８（ＬＨ，
ｓ）。 ７−ａｏ（１ｕ．ｓ）、７−４８（ＩＯＨ，ブリードＳ
）。 ８、９　３　（　１ｆＩ，　ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ　）下
記化合物は、ホルムアミド基を有する７−アシルアミノ
−Ｂ−ｔｉｔｓセファロスポラン酸誘導体を実施例３０
と同様にして塩酸と反応さゼることにより得られた。 実施例８１ ７−Ｌ：２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４−イν）−
ＤＬ−グリシンアミド〕−８−メチにチオメチ１ｖ−３
−セフェム−４−力Ｖボン酸。 ＪＲ　（ヌジａ−１ｖ）：ａａｏｏ，１７５５，１６８
．６，１６００ｃｍ　”実施例３２ ７−［２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４−イル）−Ｄ
Ｌ−グリコ−ジアミド］ー３ーメチ々チオメチｒｖ−３
−セフェム−４−力Ｍボン酸。 ＩＲ（ヌジａ　”）’８８００　、１７５２，１６７５
　、１６００　ｒｘ＝　’実施例３３ 塩化メチＶ　：／　（　７　Ｑ　ｍｌ　）　、アニソ−
ｒｖ　（　７　ｗｌ　）およヒトリプルオロ酢酸（１４
−／）からなる溶液に７−［（２−ホルムアミドチアゾ
−ＪＬ／　−　４−イｌｖ）グリオキシＭアミド〕ー３
ーメチＭチオメチ々−８−セフェム−４−力Ｖボン酸ベ
ンズヒドリｒｖ　（　７，　Ｏ　ｆ　）を溶解し、この
溶液を室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、
残渣を水に溶解し、濃塩酸でＰＨ２，（ｌに調整し、酢
酸エチＶで抽圧した。抽呂液を塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させた。残渣
をジイソプロピＶエーテＶで粉末化して、７−［（２−
ホ々ムアミドチアゾーシー４−イＶ）グリオキシＭアミ
ド〕−３−メチＶチオメチｗ−８−セフェム−４−カに
ボン酸ｉ、１り）を得た。 ＩＲ（ヌジ＝ｉ−Ａ’）：８１２０，１７６２，１７３
１，１６７７６ｎ　”ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６
）　：２．００　（ｇ：Ｅｔ、　Ｓ　）　、　ｉｌ、６
Ｂ　（４に、ブロードＳ）　＋　５−２４　（１”　、
　ｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ）　。 ５．７３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５ＥＬｚ、８Ｈｚ）、８．
４Ｂ（ＬＨ，Ｓ）、８−５７（ＩＥ［、Ｓ）、９．９０
（ＩＩＩ。 ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　１２．８０（ＩＨ，’ｏ−）’Ｓ
）下記化合物は、７−アシルアミノ−Ｂ−置換セ２．２
−トリフＭオロ酢酸と反応させることにより得られた。 実施例３４ ７−［（２−アミノチアゾ−ｊＬ’−４−イＩｖ＞クリ
オキシＶアミド〕−３−メチＶチオメチａ、’−Ｂ−セ
フェムー４−力Ｖボン酸。 工Ｒ（ｙｒ、ジａ　Ａ’）二８８００，１７６２，１５
２２珈　”実施例８５ ７−［２−（２−アミノチアゾ＝ｆｖ−４−イＶ）−Ｄ
Ｌ−グリコールアミド〕−Ｂ−メチジ予オメチＰＬ／−
Ｂ−セフェム−４−力Ｖポン酸。 工Ｒ（ヌ’）ａ−ＪＬ’）：ａａｏｏ、１７５２，１６
７５，１６００ｃｍ　”実施例３６ ７−〔Ｎ−第３級フトキシカｎｙホ＝　ｙ　−２−（２
−７ミノチアゾ一１％／−４−イＡ／）−ＤＬ−グリシ
ンアミドクー３−メチジチオメチル−３−セフェム−４
−力Ｍボン酸ベンズヒドリル（７，Ｏｆ）、アニソ−ｔ
ｖ（７ｗｔ）および２，２．２−トリフｖオｐ酢酸（２
１Ｗｔｔ）からなる混合物を５℃で８０分間攪拌した。 反応混合物にジイソプロピルエーテず ／ｋ（８００ｄ）を滴下し、析出物を便取し、ジイソプ
ロピルエーテルで洗浄した後、酢酸エチ々（５０ｍｌ）
と水（１００ｗｒｌ）との混合物に溶解した。 水層を分取し、水層中の酢酸エチルを完全に除去した後
、残っている水溶液を５チ炭酸水素ナトＩＪつ工水溶液
でＰＨ４４に調整した。得られた水溶液を非イオン性吸
着樹脂のダイヤイオンＩＩＩＦ−２０（１００Ｗｌ）で
クロマドグ′ｙ７に付した。水（２５０ｄ）で洗浄後、
３０係イソブｐピＶアＶニーｖ水溶液で溶離を打なった
。目的化合物を含有する両分を集め、蒸発させた後、凍
結乾燥して、７−〔２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４
−イｔｖ）　−ＤＬ−グリシンアミド〕へ３−メチ々チ
オメチＶ−３−セフェム−４−カにボン酸（２，９り）
を得た。 ＩＲ（ヌジョーＶ＞　：　ａａｏｏ　、１７５５，１６
８６．１６（１０α−１ＨＭＩＬδｐ　ｐ　ｍ（Ｄ　２
０　＋　ＤＣ１）　’　２−０７　（３■、Ｓ）　−８
，５−４，０（４Ｈ，ｒｎ）　、５−２７’（ＩＥＬ、
　ｄ　、Ｊ　＝５Ｈｚ　）。 ５−５０　（ＩＨ；　Ｓ’　）・合理：：））（ｌＨ）
’７．２７（ＬＨ，Ｓ） 宵施例３７ ７−Ｃ（２−アミノチアゾ−／ｌ／−４−イＡ／）グリ
オキシｐアミド〕−３−メ千ｐチオメチｙｖ−３−セフ
ェム−４−カにボン酸（１，１４）のメタノ−１ｖ（８
０ｄ）溶液に、５〜１０℃で水素化はう紫ナトリウム（
１５０！’）を加え、この混合物を同温度で８０分間攪
拌した。反応混合物を１ｏ噛塩酸でＰＨ５，０に調整し
た後、溶媒を留去した。 残渣に水（５０ｔｌ’）を加え、次いで１０％塩酸でＰ
Ｈ５，Ｑに調整した。得られた水溶液を非イオン性吸着
樹脂ダイヤイオンｕＰ−２ｏ（５０献）でクロマドグ′
″５７に付した。水（１００ｍ）で洗浄した後、３０嗟
イソ１０ビＭアルコーＶ水溶液で溶離を行なった。目的
化合物を含有する両分を集め、蒸発乾固後、凍結乾燥し
て、７−Ｃ２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４−イ／Ｉ
／）　−ＤＬ−グリコールアミドシー３−メ千かチオメ
チル−３−セフェム−４−力Ｖポン酸（０，７５９）を
得た。 工Ｒ（ｙ、ジｗ−１’ｖ）　二８８００，１７５２，１
６７５，１６００ｃＩｊ１　’ｍδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−
ｄ、　）　：２．、ＯＯ（３ｎ、　Ｓ　）　、　８．４
８　（２Ｈ，−ｙｂ−ド　ｓ　）、　３−６７　（２Ｈ
，７−＄：＋−ト−切　ｔ４．９＋３（ＩＨ，Ｓ）、５
．０７（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ入５．５７（ｌＨ，ｍ）
、６．５（１（ｌＪＩ、Ｓ）、７．０３実施例３８ オキシ塩化リン（Ｌ２Ｂｄ）とＮ、Ｎ−ジメチ〃ホＶム
アミド（１，１ｍ）から調製したビＶスマイヤー試薬を
乾燥テトラヒドロフラン（４０ｍ／）Ｃ懸濁させた。こ
の懸濁液に２−（２−ホＶムアミドチアゾーｒｖ−４−
イ／Ｌ／）−２−第ＢＲブトキシ力シボニ々メトキシイ
ミ／酢酸（シンＪＫｔ４［）（４，０り）を水冷下に攪
拌しながら加え、混合物を同温度で５０分間攪拌して、
活性酸の溶液を調製した。一方、７−アミノ−８−メチ
ンチオメチル−３−セフェム−４−カＭボン酸ペンズヒ
ドリν（４６６り）とトリメチｐシリＭアセトアミド（
８，６２）を塩化メチノン（５０ｄ）に溶解した。 この溶液に、上記の活性酸溶液を一２０℃で１度に加え
、混合物を同温度で１時間攪拌した。得られた溶液に水
（１００ｄ）と酢酸エチ”（２００献）を加え、有機層
を分取し、５チ炭酸水素ナトリウム水溶液と塩化ナトＩ
Ｊウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧蒸発サセテ、７−［２−（２−示ルムアミドチアゾー
ｐｖ−４−イｖ）−２−第８級ブトキシ力にポニＶメト
キシイミノアセトアミド〕−８−メチルチオメチＪ％／
−３−セフェム−４−力Ｖポン酸ベンズｔドリル（シン
異性体）（８，０９）、融点ＩＢ２〜１′Ｂ８℃を得た
２、 ＩＲ（ヌジョーか）二８２６０，１７８８．１７２５．
１６８７　ｃｍ−１ＨＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６Ｊ
）　二１．４７　（９Ｈ，Ｓ　）　、　１．８３（ＢＨ
，Ｓ）、３．６０（２Ｈ，ブリードＳ　）　、　８ｆｔ
６（２■、ブロードＳ）、４．９８（２Ｈ。 ブロードＳ）、５−８２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。 ５−９２（ｌＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、３Ｈｚ、）、６−
９５（ＩＨ，Ｓ）、７．４（ＩＯＨ，ｍ）、　７．４８
（Ｉｆｆ。 Ｓ）、８．５４（ＩＨ，Ｓ）、９．６８（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈ２）、１２．６５（ｉｎ、ｙ’ｏ−）−ｓ）実施
例８９ 実施例３８と同様の方法により、７−アミノ−８−メチ
ンチオメチル−３−セフェム−４−力シポン酸ベンズヒ
ドリ々（４０ｆ）を、２−（２−ホルムアミドチアゾ−
Ａ／−４−イル）−２−ベンズヒトすシオキシカ々ボニ
シメトキシイミノ酢酸（シン異性体）　（６，１ｓ　ｔ
　）、オキシ塩化リン（Ｌ４２ＷＸりおよびＮ、Ｎ−ジ
メチνホルムアミド（１，２１ｄ）から調製された活性
酸の溶液と反応させて、？−［２−（２−ホＶムアミド
チアゾールー４−イ、ｊし）−２−ベンズヒドリにオキ
シカ々ボニνメトキシイミノアセトアミド〕−３−メチ
フレチオメチに−３−セフェム−４−力シボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（７，８２）ｌａ点１３５〜１
４２℃を得た。 ＩＪＬ（ヌジョール）：：１１２５０，１７８０，１７
２２，１６８５ｃｍ−’ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ
６）　：　１−８８　（３Ｈ，Ｓ　）　、８．６８　（
４、Ｈ，ｍ）、５−０（２ＥＩ、ブロードＳ）、５．８
５（ｉｎ、　ｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　）　、５−９８　（
ＬＨ，ｄｃｌ、　Ｊ−５Ｈｚ、８Ｈｚ）、６．９５（Ｉ
ｎ、Ｓ）、　６−９８（ＩＨ，ｓ）、７．８７（２０Ｈ
，ｍ）、　７．５０（ｉＨ。 １）、＆、５７（１Ｂ、Ｓ）、９．８２（ｔＨ，ｄ、Ｊ
＝３ＬＩｚ）、１２．７８（ＩＥＩ、ブシート°Ｓンク
じ施例４０ 実施例３８と同様の方法により、７−アミノ−３−メチ
ＭチオメチＡ／−３−±７１　ム４−力Ｖボン酸ペンズ
ヒドリν（８，ｏり）を、２−ペンズヒドリシオキシカ
々ボニνメトキシイミノ−２−（２−（２，２，２−１
リフルオロア士ドアミド）チアゾ−Ｉｖ−４−イル〕酢
酸（シン異性体）（３，６８り）、オキシ塩化リン（０
，８９雪Ｃ）およびＮ。 Ｎ−ジメチＭホ７Ｌ／ム７ミド（０，７５＝＝／）から
＠製された活性酸の溶液と反応させて、７−〔２−ベン
ス°ヒドリ々オキシカ々ボニνメトキシイミノ−２−（
２−（２，２，２−トリフ／Ｌ／オロアセトアミドンチ
アゾーＡ／−４−イν）アセトアミド〕−３−メ千Ｍチ
オメチシーＢ−セフェム−４−力々ボン酸ベンズヒドリ
／Ｌ／（シン異性体）（５，６ｆ）を得た。融点１６５
〜１６９℃ ＩＲ（ヌジョーｆ’）：８８００，１７８６，１７：１
３Ｂ、１６７５゜１６１０６ｎ−’ ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　：　２．００　＜
８Ｆ［、Ｓ　）　、８．５６　（４Ｈ−、Ｔｎ）、　４
．８４（２Ｈ，ｓ）、　５．２６（ＩＨ。 ｄ、Ｊ＝５ｆｌｚ）、　５．８（ｉ（１１＝Ｉ、ｄｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ。 ８Ｈ７）、６．８４（ＩＨ，Ｓ）、６−８８（ＩＨ，Ｓ
）。 ７Ｊ（２０Ｈ，ｍ）、９−６１！（ＬＨ，ｄｓコ＝８：
ＥＩｚ）実施例４１ ７−［２−（２−水ルムアミドチアゾールー４−イＡ／
）−２−第３級ブトキシ力にポニにメトキシイミノアセ
トアミド］−８−メチＶチオメチ配−３−セフユム−４
−カルボン酸ベンズヒト１Ｊν（シン異性体）（８，０
ｙ）のメタノ−７Ｌ／（１６０献）懸濁液に濃塩酸（５
−６ｄ）を加え、混合物を３５℃で１時間攪拌した。得
られた溶液を飽和炭酸水素ナトＩＪウム水溶液でＰＨ５
，０に調整した。 メタノールを減圧留去した後、残渣を水（１００１）と
酢酸エチル（２００４）に溶解した。酢酸エチルリを飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去して、７−［２−＜２−７ミノチ
アゾーＡ／−４−イｒｖ）−２−第ｓ級プトキシカＭボ
ニμメトキシイミノアセトアミ）”　〕−〕８−メチジ
チオメチｖ−Ｂ−セフユム４−力Ｍボン酸ベンズヒドリ
７１／（シン異性体）（７，０り）、融点１４０〜１４
５℃を得た。 ＩＲ（ヌジ−１−Ａ／）：８２５０，１７８０，１７２
８．１６８０ｃ＋＋＋−１ＨＭＲ”ｉ　ｐｐｍ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６　）　：　１−４’Ｂ　（９Ｈ，Ｓ　）　、１
−８Ｔ３（８Ｅ［、Ｓ）、　８．６Ｂ（４Ｈ，ｍ）、　
４６（１！Ｅ［，７”ロードｓ）、５Ｊ９（ＩＨ，ｄ、
Ｊｘ５Ｈｚ）。 ５．８７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５ＥＬｚ、８Ｈｚ）、６．
８８（ＩＨ，ｓン、６．９５（ＩＨ，Ｓｔ）、７．４（
ＩＯＨ。 ｍ）、９．５２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）実施例４２ 実施例４１と同様の方法により、７−［：、２−（２−
示Ｍムアミドチアゾールー４−イｒｖ）−２−ベンヌ°
ヒドリＭオキシカルボニＭメトキシイミノアセトアミド
〕−３−メチＶチオメチＡ／−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリ／Ｌ／（シン異性体）（７−５１を
濃塩酸（８，９ＷＩｅ）　トｆｆｆｆ１サセて、７−［
２−（２−７ミノチアゾー１ｖ−４−イＡ／）−２−ベ
ンズヒドリＶオキシカルポニにメトキシイミノアセトア
ミド〕−８−メチルチオメチＡ／　−８−セフェム−４
−カにボン酸ベンズヒドリｆｖ（シン異性体）（７，ｏ
ｒ）、融点１４８〜１５５℃を得た。 ＮＭＲ：ｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：１．８Ｂ（３Ｈ，
Ｓ）、３．６０　（４Ｈ，ｍ）、４．９０（２Ｈ，ｎ−
ドＳ）、５．８０（１ｎ、ａ、Ｊ＝５旦Ｚ）、５．８７
（Ｉｆｆ、ｄｄ、Ｊ１＝５Ｈ２，８旦り、６．８６（Ｉ
Ｈ，り、６．９８（ＩＨ，Ｓ）、６．９７（ＩＨ，ｓ）
、７．４（２０Ｈ。 ｍ）、９゜６７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ＢＥＬｚ）実施例４３ ７−［２−力Ｖオキシメトキシイミノ−２−（２−（２
，２，２−ｈリフルオロアセトアミド）枡アゾーシー４
−イｋ）アセトアミドシー３−メチルチオメチシー３−
セフゴム−４−力Ｖボン酸（シンＪｔ性体）　（４，１
？　）と酢酸ナトリウム（９，５６り）との水溶液（４
１＝ｄ）を室温で１９．５時間攪拌した。得られた溶液
を濃塩酸でＰＨ２，０に調整した。析出物を戸数し、五
酸化リンで乾燥して、７−［２−カルボキシメトキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾ−Ｉｖ−４−イＩｖ）ア
セトアミドシー３−メチルチオメチシー３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）（１−８５’）、ｆｆｄ
点１７Ｅｌ〜１７６℃（分解９を得た。 Ｉｎ　（ヌジａ　Ｉｖ）：８３７０，１７７２．１６７
０（７”ｌ”−ド雇−１ＮＭＩＬ　δｐｐｍ（ＤＭＳＯ
−ｄ６〕：２．ＯＯ（：３Ｈ，Ｓ）、：１−５７　（４
Ｅ［、ｍ）、４．６０（２Ｈ，ブリード５）、５−１７
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．７８（ｉｎ、ｄｄ、Ｊ
＝５ＥＩＺ、８１１Ｚ）、６．７７（ＩＩＩＩ、Ｓ）、
９．４５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例４４ ７−［２−ベンズヒドリ！レオキシカＶボニＭメトキシ
イミノ−２−（２−（２，２，２−１リフルオロアセト
アミド）チアゾ−シー４−イ〃］アセトアミド〕−３−
メチルチオメチ々−３−セフェム−４−力ｌレポン酸ベ
ンズヒドリ／Ｌ／（シン異性体）（５，６り９とアニソ
−ｋ（５，６ｄりとの塩化メチレン（１１，２ｄ）溶液
に、１０℃でトリフルオロ酢酸（１１２−１を加えた。 この混合物を室温で１．５時間攪拌した後、ジイソプロ
ピＭ工−テＭ（４００献ンと石油エーテ／Ｌ／（１００
献）との混合物に投じた。析出物を戸数し、石油エーテ
Ｖで洗浄して、７−［２−カルボキシメトキシイミノ−
２−ｉ２−（２，２，２−１リフｌレオロアセトアミド
）チアゾール−４−イＶ）アセトアミド〕−３−メチル
チオメチ１ｖ−３−セフェム−４−カＭボン酸（シン異
性体）（４２Ｆ）、融点１８３〜１８６℃（分解）を得
た。 ＩＲ（ヌジョー”）：８８００，１７７８．１７２８．
１６６０ロ一１ＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭ８０−ｄｓ　）　
：２−００　（８Ｈ，Ｓ　）　、　８．６２　（４Ｅ［
、ｍ）、　４．７０（２Ｈ，Ｓ）、　５−２４（ＩＩＥ
Ｉ。 ｄ、Ｊ＝５ｆｌｚ）、　５．８０（ＩＨ，ｄａ、Ｊｇ＝
５ＥＩｚ。 ＢＨｚ）、　７．６０（ＩＥ［、Ｓ）、　９．６８（Ｉ
Ｈ，ｄ。 Ｊ＝８ＲＺ　） 第１頁の続き

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■、一般式 〔式中、ｉｔ’は一般式・ で示される！（ここで几４は低級アルキル、１ｔ５はア
   ミノまたは保護されたアミ／である）、几２は低級アＩ
   レコキシメチＩし、低級アルキルチオメチＩしまたは低
   級アルクニルチオメチＩし、几８はカルボキシまたは保
   護されたカルボキシ、 Ａは、アミノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ
   および式：＝Ｎ−ｏｔｔ６の基よりなる群からｊｆｆば
   れた習換基を有していてもよい低級アルキレン（ここで
   、Ｉｔ６は水素、低級アルケニル、低級アｌレキニル、
   低級アルキル、またはカルボキシ、保護されたカルボキ
   シ、アミノ、保護されたアミノおよび複素環式基から選
   ばれた１または２以上の１１ａ換基で置換された低級ア
   Ｉレキルである）をそれぞれ意味する〕で示される化合
   物または医薬として許容されるその塩。 ２、式：Ｒ’−Ａ−が一般式： Ｒ’　−Ｃ− ＋１ ぺ ＯＲ’ ここで几６はアミノまたはアシフレアミノであるフ、几
   ６は低級７Ｍキル、カルボキシ（低級）アルキルまたは
   エステル化された力！レボキシ（低級）アルキＩしであ
   る〕で示される基であり、几８が力！レボキシまたはエ
   ステル化された力！レボキシである特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 ３、　シン異性体である特許請求の範囲第２項記載の化
   合物。 ４、　几が７ミノである特許請求の範囲第３項記載の化
   合物。 ５、ＬＬ２が低級アルコキシメチＩしまたは低級アＩレ
   キＭチオメチＩし、几８がカルボキシ、ＩＬ’が低級ア
   ルキキルまたはカルボキシ（低級）アルキルである特許
   請求の範囲第４項記載の化合物。 ６、　７−（２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４−イル
   ）−２−メトキシイミノ７セトアミド〕−８−メチルチ
   オメチル−３−セフェム−４−力ｌレボン酸、または ７−（２−（２−７ミノチアゾーｌレー４−、イＩし）
   −２−メトキシイミノアセトアミド）−ａ−メトギシメ
   チル−３−±フェム−４−カルホン酸もしくはその塩酸
   塩、または ７−［２−（２−アミノチアゾ−Ｉシー４−イＩし）−
   ２−力Ｉレボキシメトキシイミノアセトアミド〕−３−
   メチフレチオメチｎ／−３−セフエム−４−カルボン酸
   である特許請求の範囲第５項記載の化合物。 ミノまたはアセトアミドである）で示される基、Ａがメ
   チレン、アミノメチレン、アシＭアミノメチレン、ヒド
   ロキシメチレン、または力ｌレボニル、ｌｔ８がカルボ
   キシまたはエステル化された力！レボキシである特許請
   求の範囲第１項記載の化合物。 Ｂ、ｉｔ６がてミノである特許請求の範囲第７項記載の
   化合物。 ９、ＬＬ”が低級アルキ〜チオメチＶ、几８がカルボキ
   シである特許請求の範囲第８項記載の化合物。 １０．７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イルノ
   ア七ドアミド〕−８−メチＶチオメチＶ−８−七フ二ム
   ー４−カルボン酸または７−［２−（２−アミノチアゾ
   −Ｉシー４−イＩし）グリシンアミドヨー８−メチルチ
   オメチル−３−セフェム−４−カルボン酸または ７−［２−（２−アミノチアゾ−Ｉシー４−イＩし〕グ
   リコールアミドツー８−メチｌレチオメチｌレー８−セ
   フェム−４−力ｌレボン酸’Ｅ　タＬｔ７−［２−（２
   −アミノチアゾ−Ｉシー４−イＩし）グリオキシルアミ
   ド］−３−メチｌレチオメチル−８−セフェム−４−カ
   ルボン酸でアル特許請求の範囲第９項記載の化合物。 几４は特許請求の範囲第１項に定義されたとおりノで示
   される基、Ａがアミノメチレンまたはアシｌレアミノメ
   チノン、几８がカルボキシ筐たはエステＩし化されたカ
   ルボキシである特許請求の範囲第１項記載の化合物１、 ■（４は上記定義と同じ意味）で示される基である特ｉ
   ｔ’　請求の範囲第１１項記載の化合物。 １３、凡８がカルボキシである特許請求の範囲第１２項
   記載の化合物。 １４．７−（２−（８−メタンヌＩレホンアミドフェニ
   ル）グリシンアミドツー３−メチルチオメチｌレー３−
   セフェム−４−カルボン酸ｔ　ｔ、＝　ｉ；ｔ７−１：
   ２−（８−・メタンスルホンアミドフエニｌしンクリン
   ンアミド〕−８−エチｎｔ’−ｆ−オフ’　チ”−３−
   セフェム−４−力Ｉレポン酸または７−（２−（８−メ
   タンスルホンアミドフエニｌし）グリシンアミド〕−８
   −メトキシメチｌレ−３−セフェム−４−力Ｉレボン酸
   マタハ７−［２−（８−メタンス！レホンアミドフエニ
   ｌし）グリシンアミドツー８−アリ！レチオメチＭ−８
   −セフェム−４−力Ｍボン酸もしくはそのトリフルオロ
   酢酸塩である特許請求の範囲第１８項記載の化合物。 １５、一般式： ＲＢ 〔式中、ＩＬ’は一般式： で示される基（ここでＩＬ’は低級アルキｌし、几６は
   アミノまたは保護されたアミノである）、几２は低級ア
   Ｉレコキシメチル、低級アルキルチオメチ７に／または
   低級アルケニルチオメチル、几８は陀／Ｌ／　ホキシま
   たは保ｌ免されたカルボキシ、Ａは、アミノ、保護され
   たアミノ、ヒドロキシ、オキソおよび式：＝Ｎ〜０几６
   の基よりなるＪＩＹから選ばれた置換基を有していて、
   もよい低級アシキレン（ここで、　ＩＬ６は水素、低級
   アルケニル、低級アルキニル、低級アルキｌし、または
   カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保護され
   たアミノおよび複累環式基から選ばれたｌまたは２以上
   の置換基で置換された低級アルキルである）をそれぞれ
   意味する〕 で示される化合物または医薬として許容されるその塩を
   製造するに際し、 （１）　一般式： ） で示される化合物もしくはそのアミ７基における反応性
   誘導体またはこれらの塩に、一般式Ｒ’　−Ａ−ＣＯＯ
   ）１　（式中、几１とＡはそれぞれ上記定義のとおり） で示される化合物もしくはその力Ｉレボキシ費における
   反応性誘導体またはこれらの塩を作用させて、一般式： （式中、Ｒ’　、　ＩＬ２．　Ｒ８およびＡはそれぞれ
   上記定義のとおり）で示される化合物またはその塩を得
   るか、或いは （２）　一般式： （式中、Ａ１は保護されたアミノを有する低級アｌレキ
   レンであり、几１　、　ＩＬ２およびＩＬ”はそれぞれ
   上記定義のとおりである） で示される化合物すたはその塩をアミノ保護基の脱離反
   応に付して、一般式； （式中　Ａ２はアミノを有する低級アルキレンであり、
   Ｉｔ’　、　ＩＬ２および几８はそれぞれ上記定義のと
   おりである） で示される化合物またはその塩を得るか、或いは （３）　一般式： （式中、塊は一般式： で示される基であって、ここで几は保護されたアミノで
   あり、Ｒ２，ＩＬ８およびＡはそれぞれ上記定義のとお
   りである） で示される化合物またはその塩をアミン保護基の脱ｍ１
   Ｆ反応に付して、一般式； （８ （式中、ＩＬムは一般式： で示される基であり、ＬＬ”　、　ＬＬ、”およびＡは
   それぞれ上記定義のとおりである） で示される化合物またはその塩を得るか、或いは （４１一般式： （８ （式中、現は保護された力！レボキシであり、几１゜几
   ２およびＡはそれぞれ上記定義のとおりである）で示さ
   れる化合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱１１ｉ
   １１反応に付して、一般式：（式中、ＩＬ’　、　Ｉｔ
   ”および人はそれぞれ上記定義のとおり） で示される化合物またはその塩を得るか、或いは （５）　一般式： （式中、ＩＬ’、几２およびＡはそれぞれ上記定義のと
   おり） で示される化合物またはその塩にカルボキシ保護基を導
   入して、一般式： ｃ式中、几　、　Ｒ、Ｉｔ８およびＡはそれぞれ上記定
   義のとおり） で示される化合物またはその塩を得るか、或いは （６）一般式： （式中、Ａ８ハオキソを有する低級アＩレキレンであり
   、ｔｔ’　、　Ｉｔ２およびＩｔ８はそれぞれ上記定義
   のとおり） で示される化合物またはその塩を還元して、一般式“ 几８ （式中　Ａ４はヒドロキシを有する低級アＩレキレンで
   あり１．ｔｔ’　、　Ｉｔ２および１びはそれぞれ上記
   定義のとおり） で示される化合物すたはその塩を得るか、或いは （７）一般式 （式中、Ａ５は式：＝Ｎ、０ＩＬ６０基を有していても
   よい低級アルキレンであって、ここでＪｔ’は上記定義
   のとおりであり　ＸＩは）ｈロゲンであり、ＬＬ２と１
   −はそれぞれ上記定義のとおりである） で示される化合物またはその塩に、一般式：％式％ （式中、几６は上記定義のとおり） で示される化合物を作用させて、一般式：（式中、Ｒ２
   ，ＬＬ”　、几６およびＡ１まそれぞれ上記定義のとお
   り） で示される化合物またはその塩を得るか、或いは （８）一般式： （式中、Ａ６は式：＝Ｎ−ｏｔｔ：の基を有する低級ア
   ルキレンであって、ここでｌｑは保護されたカルボキシ
   で置換された低級アルキｌしであり、Ｒ’、几２およσ
   几８はそれぞれ上記定義のとおりである） で示される化合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱
   離反応Ｇこ付して、一般式： （式中、Ａ７は式ニーＮ〜ＯＩ叱の基を有する低級アル
   キレンであって、ここでｌ（Ｄはカルボキシで置換され
   た低級アルギルであり、Ｒ’　、　Ｒ２および几８はそ
   れぞれ上記定義のとおりである）で示される化合物また
   はその塩を得るが、或いは、 Ｉｔら （式中、現は保護されたアミノと保護されたカルボキシ
   とで置換された低級アＩレコキシヵＭボニルであり、几
   １．Ｉｔ２およびＡはそれぞれ上記定義のとおりン で示される化合物またはその塩を、アミノ保護基と力ｌ
   レボキシ保護基の脱離反応に付して、一般式＝ ｔｓ （式中、現はアミ／と力々ボキシとで置換された低級ア
   ルコキシヵＭボニＭであｒ）　、ＩＬＩ　、　Ｒ１！お
   よびＡはそれぞれ上記定義のとおリラで示される化合物
   またはその塩を得るが、或いは ｔｌＧ　一般式。 几８ （式中、Ａ８は式：＝Ｎ〜ｏ　ｉｔ、の基を有する低級
   アＩレキレンであって、ここで現は保護されたアミノと
   保護された力ｌレボキシとで置換された低級アルコキシ
   カルボニル（低級ンアルキＡ／Ｓまたは保護されたアミ
   ノと保護されたカルボキシとで置換された低級アｌレキ
   ルであり、几１　、１４２およびＩｔ８はそれぞれ上記
   定義のとおりである）で示される化合物廿たはその塩を
   、アミノ保護基とカルボキシ保護基の脱１１１＋１１反
   応に付して、一般式： （式中、Ａ９は式：＝Ｎ−ｏＪｔ５の基を有する低級ア
   ルキレンであって、ここで１＋５　ｌまアミノとカルボ
   キシとで置換さ！した低級アルコキシカルボニル（低級
   ンアルキルまたはアミノとカルボキシとで置換された低
   級アノレキｌしであり、ＩＬ’　、几２およびＪＬｌｌ
   はそれぞれ上記定義のとおりである）で示される化合物
   廿たはその塩を得るか、或いは （式中、几１．几２．Ｉ（８およびＡ７はそれぞれ上記
   定義のとおり） で示される化合物またはその塩にカルボキシ保１１蘂六
   を導入して、一般式： （式中、ｉｔ’　、　Ｉｔ２．　ＪＬ８およＵＡ６はそ
   れぞれ上記定義のとおリラ で示される化合物またはその塩を得るが、或いは １（’ （式中、Ａ１０は式ニーＮ−０几工の基を有する低級ア
   ｌレキレンであって、ここで４は弐〇で示される哉で置
   換六れた低級アルキルであり、几１　、　Ｉｔ２および
   几８はそれぞれ上記定義のとおりである） で示される化合物すたけその塩に、一般式：（几７）２
   Ｓ０４ （式中、１ｔ７は低級アＩレギｌし）で示される化合物
   を作Ｈ４させて、一般式： （式中、Ａｌｌは式＋＝Ｎ−０１ＬＰの基を有する低級
   （式中、几７は上記定義のとおり）で示される基で置換
   された低級アノレキｌしであり、ＩＬ’　、　Ｉｔ２お
   よびＲ８ｉ；ｊそれぞれ上記定義のとおりである）で示
   される化合物またはその塩を得るが、或いは （式中、几１．几２およびＡｌｌはそれぞれ上記定義の
   とおり） で示される化合物またはそｉｙＪ＊に塩基を作用させて
   、一般式： （式中、Ｒ７は上記定義のとおり戻水されるカチオンで
   置換された低級ア？レキルであり、　ｉｔ’と几２はそ
   れぞれ上記定義のとおりである〕で示される化合物また
   はその塩を得る、ことからなる方法。 １６　一般式。 ｔＢ 〔式中、Ｉｔ’は一般式： で示される基にごでＲ４は低級アルキｌし、Ｒ’はアミ
   ノまたは保護されたアミノである）、Ｒ２は低級アルコ
   キシメチル、低級アルキルチオメチルまたは低級アルケ
   ニルチオメチル、Ｒ３はカルボキンまたは保護された力
   μオキソ、 Ａはアミノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソお
   よび式：＝Ｎ−ＯＲ６の基よシなる群から選ばれた置換
   基を有していてもよい低級アルキレン（ここで、Ｒ６は
   水素、低級アルケニル、低級アルキニル、低級アルキμ
   、または力ρオキソ、保護されたカルボキシ、アミノ、
   保護されだアミノおよび複素環式基から選ばれた１号た
   は２以上の置換基で置換された低級アルキルである）を
   それぞれ意味する〕 で示される化合物または医薬として許容されるその塩を
   有効成分とする感染症予防治療剤。