JPH0314832B2 - - Google Patents

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JPH0314832B2
JPH0314832B2 JP62044400A JP4440087A JPH0314832B2 JP H0314832 B2 JPH0314832 B2 JP H0314832B2 JP 62044400 A JP62044400 A JP 62044400A JP 4440087 A JP4440087 A JP 4440087A JP H0314832 B2 JPH0314832 B2 JP H0314832B2
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JP
Japan
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group
carboxy
amino
formula
vinyl
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP62044400A
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English (en)
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JPS62277391A (ja
Inventor
Takao Takatani
Hisashi Takasugi
Takashi Masugi
Hideaki Yamanaka
Koji Kawabata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS62277391A publication Critical patent/JPS62277391A/ja
Publication of JPH0314832B2 publication Critical patent/JPH0314832B2/ja
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  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明は、新規な７−アシルアミノ−３−ビ
ニルセフアロスポラン酸誘導体およびその医薬上
許容される塩類に関するものである。 さらに詳しく述べると、この発明は、抗菌活性
を有する新規な７−アシルアミノ−３−ビニルセ
フアロスポラン酸誘導体、その医薬上許容される
塩類、それらの製造法ならびにそれらを有効成分
として含有する抗菌剤に関するものである。 この発明の７−アシルアミノ−３−ビニルセフ
アロスポラン酸誘導体は、新規化合物であり、下
記一般式により表わすことができる。 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
ノ基、R2はカルボキシ基または保護されたカル
ボキシ基、R3は水素またはハロゲン、Ａはアミ
ノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、お
よび式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、保護された
ホスホノ、およびピリジルから選ばれた１個もし
くは２個以上の置換基で置換された低級アルキル
基を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
てもよい低級アルキレン基を意味するが、ただ
し、
【式】が
【式】を示す基 である場合、R4はカルボキシもしくは保護され
たカルボキシで置換された低級アルキル基でない
ものとする］ 下記の方法１，２および３中の目的化合物
（）および対応する原料化合物（）ないし
（）において、これら化合物中の不斉炭素原子
および二重結合に基づき、光学異性体および幾何
異性体の如き１個または２個以上の立体異性体の
対が存在し得るが、これらの異性体は何れもこの
発明に包含されるものとする。 目的化合物（）の適当な塩類としては、医薬
上許容される塩類特に慣用される非毒性塩が含ま
れ、塩基との塩類および酸付加塩、すなわち無機
塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリウム塩
等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウ
ム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、
有機塩基との塩類、例えばトリエチルアミン塩、
ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、
トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、Ｎ，N′−ジベンジルエチレンジアミン塩
等の有機アミン塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、ぎ酸塩、酢酸塩、
トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、
メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ
−トルエンスルホン酸塩等の有機カルボン酸また
はスルホン酸付加塩、アルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸等の塩基性または酸性アミノ酸
との塩類、分子間または分子内４級塩等が含まれ
る。 上記分子間４級塩は、化合物（）のR4の低
級アルキルにおける置換基がピリジンである場合
に形成され、適当な分子間４級塩としては、１−
メチルピリジニウムメチルスルフエイト、１−エ
チルピリジニウムエチルスルフエイト等の１−低
級アルキルピリジニウム低級アルキルスルフエイ
ト、１−メチルピリジニウムヨーダイド等の１−
低級アルキルピリジニウムハライドが含まれる。
上記分子内４級塩は、化合物（）のR4の低級
アルキルにおける置換基がピリジンであり、R2
がカルボキシの場合に形成され、適当な分子内４
級塩としては、１−メチルピリジニウムカルボキ
シレート、１−エチルピリジニウムカルボキシレ
ート、１−プロピルピリジニウムカルボキシレー
ト、１−イソプロピルピリジニウムカルボキシレ
ート、１−ブチルピリジニウムカルボキシレート
等の１−低級アルキルピリジニウムカルボキシレ
ートが含まれる。 この発明によると、目的化合物（）およびそ
の塩類は下記反応式の方法により製造される。 ［式中、R1，R2，R3およびＡは前と同じ意味、
R1 aは保護されたアミノ基、R2 aは保護されたカル
ボキシ基、R2 bは保護されたアミノおよび保護さ
れたカルボキシで置換された低級アルコキシカル
ボニル基、R2 cはアミノおよびカルボキシで置換
された低級アルコキシカルボニル基、R5はアリ
ール基、R6は低級アルキル基、A0はアミノ、保
護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、および式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
アミノ、保護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、
保護されたホスホノ、およびピリジルから選ばれ
た１個もしくは２個以上の置換基で置換された低
級アルキル基を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
てもよい低級アルキレン基、A1は式 （式中、R4 aは保護されたカルボキシもしくは
保護されたホスホノで置換された低級アルキル
基、または保護されたカルボキシで置換された低
級アルケニル基を意味する） で示される基を有する低級アルキレン基、A2は
式 （式中、R4 bはカルボキシもしくはホスホノで
置換された低級アルキル基、またはカルボキシで
置換された低級アルケニル基を意味する） で示される基を有する低級アルキレン基、A3は
式 （式中、R4 cは保護されたアミノおよび保護さ
れたカルボキシで置換された低級アルコキシカル
ボニル（低級）アルキル基、または保護されたア
ミノおよび保護されたカルボキシで置換された低
級アルキル基を意味する） で示される基を有する低級アルキレン基、A4は
式 （式中、R4 dはアミノおよびカルボキシで置換
された低級アルコキシカルボニル（低級）アルキ
ル基、またはアミノおよびカルボキシで置換され
た低級アルキル基を意味する） で示される基を有する低級アルキレン基、A5は
式 （式中、R4 eは式
【式】で示される基で 置換された低級アルキル基を意味する） で示される基を有する低級アルキレン基、A6は
式 ｛式中、R4 fは式
【式】（式中、 R6は前と同じ意味）で示される基で置換された
低級アルキル基を意味する｝ で示される基を有する低級アルキレン基、A7は
式 ｛式中、R4 gは式
【式】（式中、R6は 前と同じ意味）で示されるカチオンで置換された
低級アルキル基を意味する｝ で示される基を有する低級アルキレン基、A8は
保護されたアミノを有する低級アルキレン基、
A9はアミノを有する低級アルキレン基、A10はオ
キソを有する低級アルキレン基、A11はヒドロキ
シを有する低級アルキレン基、A12は式 （式中、R4は前と同じ意味） で示される基を有する低級アルキレン基、X1は
ハロゲンを意味する］ 方法１，２，３および15で用いる原料化合物
（），（），（），（）および（）のうちあ
るものは新規化合物であり、例えば製造例に示す
方法によつて製造できる。 上記および下記の説明において、種々の定義に
含まれる適当な例を詳細に説明すると次の通りで
ある。 低級の語は、特にことわらない限り、１ないし
７個の炭素原子を有する基を含むものとして用い
る。 適当な低級アルキルとしては、直鎖または分枝
状の基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等が含まれ、
そのうち炭素数１ないし４のアルキルが好まし
い。 適当な低級アルケニルとしては、直鎖または分
枝状の基、例えばビニル、１−プロペニル、アリ
ル、１−（もしくは２−もしくは３−）ブテニル、
１−（もしくは２−もしくは３−もしくは４−）
ペンテニル、１−（もしくは２−もしくは３−も
しくは４−もしくは５−）ヘキセニル、２−メチ
ル−２−プロペニル等が含まれ、そのうち炭素数
２−５のアルケニルが好ましい。 適当な低級アルキニルとしては、直鎖または分
枝状の基、例えばプロパルギル、２−（もしくは
３−）ブチニル、２−（もしくは３−もしくは４
−）ペンチニル、２−（もしくは３−もしくは４
−もしくは５−）ヘキシニル等が含まれ、そのう
ち炭素数２ないし５のアルキニルが好ましい。 適当なシクロ（低級）アルケニルとしては、炭
素数３ないし７のシクロアルケニル、例えばシク
ロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニ
ル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル等が含
まれ、そのうち炭素数５または６のシクロアルケ
ニルが好ましい。 適当な保護されたアミノとしては、ペニシリン
およびセフアロスポリン化合物で用いられる慣用
アミノ保護基、例えば後述のアシル、例えばベン
ジル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ（もし
くはジもしくはトリ）フエニル（低級）アルキル
のようなアル（低級）アルキル、１−メトキシカ
ルボニル−１−プロペン−２−イル等の低級アル
コキシカルボニル（低級）アルキリデンもしくは
そのエナミン互変異性体、ジメチルアミノメチレ
ン等のジ（低級）アルキルアミノメチレン等で置
換されたアミノ基が含まれる。 適当なアシルとしては、脂肪族アシル、芳香族
アシル、複素環式アシル、および芳香族基または
複素環式基で置換された脂肪族アシルが含まれ
る。 脂肪族アシルとしては、飽和もしくは不飽和、
非環式もしくは環式のものが含まれ、例えばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイ
ル、ヘキサノイル等の低級アルカノイル、メシ
ル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル等の
低級アルカンスルホニル、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニル等
の低級アルコキシカルボニル、アクリロイル、メ
タクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイ
ル、シクロヘキサンカルボニル等のC3−C7シク
ロアルカンカルボニル、アミジノ等が含まれる。 芳香族アシルとしては、例えばベンゾイル、ト
ルオイル、キシロイル等のアロイル、ベンゼンス
ルホニル、トシル等のアレーンスルホニル等が含
まれる。 複素環式アシルとしては、例えばフロイル、テ
ノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、チア
ゾリルカルボニル、チアジアゾリル、カルボニ
ル、テトラゾリルカルボニル等の複素環カルボニ
ル等が含まれる。 芳香族基で置換された脂肪族アシルとしては、
フエニルアセチル、フエニルプロピオニル、フエ
ニルヘキサノイル等のフエニル（低級）アルカノ
イルのようなアル（低級）アルカノイル、ベンジ
ルオキシカルボニル、フエネチルオキシカルボニ
ル等のフエニル（低級）アルコキシカルボニルの
ようなアル（低級）アルコキシカルボニル、フエ
ノキシアセチル、フエノキシプロピオニル等のフ
エノキシ（低級）アルカノイル等が含まれる。 複素環式基で置換された脂肪族アシルとして
は、チエニルアセチル、イミダゾリルアセチル、
フリルアセチル、テトラゾリルアセチル、チアゾ
リルアセチル、チアジアゾリルアセチル、チエニ
ルプロピオニル、チアジアゾリルプロピオニル等
が含まれる。 これらのアシル基は、さらに１個または２個以
上の適当な基で置換されていてもよい。適当な置
換基としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級
アルキル、塩素、臭素、よう素、ふつ素等のハロ
ゲン、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシル
オキシ等の低級アルコキシ、メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アル
キルチオ、ニトロ等が含まれ、このような置換基
を有する適当なアシルとしては、クロロアセチ
ル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフ
ルオロアセチル等のモノ（もしくはジもしくはト
リ）ハロ（低級）アルカノイル、クロロメトキシ
カルボニル、ジクロロメトキシカルボニル、２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル等のモノ
（もしくはジもしくはトリ）ハロ（低級）アルコ
キシカルボニル、ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、クロロベンジルオキシカルボニル、メトキシ
ベンジルオキシカルボニル等のニトロ（もしくは
ハロもしくは低級アルコキシ）フエニル（低級）
アルコキシカルボニル等が含まれる。 適当な保護されたカルボキシとしては、ペニシ
リンまたはセフアロスポリン化合物の３位または
４位で慣用されるエステル化されたカルボキシが
含まれる。 エステル化されたカルボキシにおける適当なエ
ステル部分としては、メチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステ
ル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第３
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第３級ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、アリルエステル
等の低級アルケニルエステル、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエス
テル、メトキシメチルエステル、エトキシメチル
エステル、イソプロポキシメチルエステル、１−
メトキシエチルエステル、１−エトキシエチルエ
ステル等の低級アルコキシ（低級）アルキルエス
テル、メテルチオメチルエステル、エチルチオメ
チルエステル、エチルチオエチルエステル、イソ
プロピルチオメチルエステル等の低級アルキルチ
オ（低級）アルキルエステル、２−アミノ−２−
カルボキシエチルエステル、３−アミノ−３−カ
ルボキシプロピルエステル等のアミノおよびカル
ボキシ置換低級アルキルエステル、２−第３級ブ
トキシカルボニルアミノ−２−ベンズヒドリルオ
キシカルボニルエチルエステル、３−第３級ブト
キシカルボニルアミノ−３−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルプロピルエステル等の低級アルコキ
シカルボニルアミノおよびモノ（もしくはジもし
くはトリ）フエニル（低級）アルコキシカルボニ
ル置換低級アルキルエステルのような保護された
アミノおよび保護されたカルボキシ置換低級アル
キルエステル、２−ヨードエチルエステル、２，
２，２−トリクロロエチルエステル等のモノ（も
しくはジもしくはトリ）ハロ（低級）アルキルエ
ステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニ
ルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、イソブチリルオキシメチルエステル、
バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、２−アセトキシエチルエステル、２−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、１−アセトキ
シプロピルエステル等の低級アルカノイルオキシ
（低級）アルキルエステル、メシルメチルエステ
ル、２−メシルエチルエステル等の低級アルカン
スルホニル（低級）アルキルエステル、ベンジル
エステル、４−メトキシベンジルエステル、４−
ニトロベンジルエステル、フエネチルエステル、
トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビ
ス（メトキシフエニル）メチルエステル、３，４
−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第３級ブチルベンジルエステル等の
１個または２個以上の適当な置換基を有していて
もよいモノ（もしくはジ−もしくはトリ）フエニ
ル（低級）アルキルエステルのような１個または
２個以上の置換基を有していてもよいアル（低
級）アルキルエステル、フエニルエステル、トリ
ルエステル、第３級ブチルフエニルエステル、キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエ
ステル、サリチルエステル等の１個または２個以
上の適当な置換基を有していてもよいアリールエ
ステル、フタリジルエステル等の複素環式エステ
ル等が含まれる。 適当な保護されたホスホノとしては、Ｏ，Ｏ−
ジメチルホスホノ、Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノ、
Ｏ，Ｏ−ジプロピルホスホノ等のＯ，Ｏ−ジ（低
級）アルキルホスホノ等が含まれる。 適当な低級アルキレンとしては、直鎖または分
枝状の基、例えばメチレン、エチレン、トリメチ
レン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン等が含まれ、そのうち炭素数１ないし２のア
ルキレンが好ましく、メチレンが最も好ましい。 適当な低級アルコキシカルボニル（低級）アル
キルとしては、エトキシカルボニルメチル、プロ
ポキシカルボニルメチル、１もしくは２−エトキ
シカルボニルエチル等が含まれる。 適当な低級アルコキシカルボニルとしては、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル等が含
まれる。 適当なハロゲンとしては、クロロ、ブロモ、ヨ
ード等が含まれる。 適当なアリールとしては、フエニル、トリル、
キシリル、ナフチル等が含まれる。 目的化合物（）のR1，R2およびＡにおける
特に好ましいものは、次の通りである。 式
【式】で示される基としては、式 で示される基が含まれ、上式中R1は前と同じ意
味であり、R4としては、シクロペンテニル、シ
クロヘキセニル等のシクロ（低級）アルケニル、
プロパルギル等の低級アルキニル、アリル等の低
級アルケニル、３−カルボキシアリル等のカルボ
キシ（低級）アルケニル、エステル化されたカル
ボキシ（低級）アルケニル（さらに好ましくは３
−第３級ブトキシカルボニルアリル等の低級アル
コキシカルボニル（低級）アルケニル）、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル等の低級アルキル、カルボキシメ
チル、１−カルボキシエチル、２−カルボキシエ
チル、３−カルボキシプロピル、１−カルボキシ
−１−メチルエチル等のカルボキシ（低級）アル
キル、エステル化されたカルボキシ（低級）アル
キル（さらに好ましくはメトキシカルボニルメチ
ル）、エトキシカルボニルメチル、第３級ブトキ
シカルボニルメチル、１−第３級ブトキシカルボ
ニルエチル、３−第３級ブトキシカルボニルプロ
ピル、１−第３級ブトキシカルボニル−１−メチ
ルエチル等の低級アルコキシカルボニル（低級）
アルキル、アセトキシメトキシカルボニルメチ
ル、ピバロイルオキシメトキシカルボニルメチ
ル、ヘキサノイルオキシメトキシカルボニルメチ
ル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルコキ
シカルボニル（低級）アルキル、２−アミノ−２
−カルボキシエトキシカルボニルメチル等のアミ
ノおよびカルボキシ置換低級アルコキシカルボニ
ル（低級）アルキル、２−第３級ブトキシカルボ
ニルアミノ−２−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ルエトキシカルボニルメチル等の低級アルコキシ
カルボニルアミノおよびモノもしくはジもしくは
トリフエニル（低級）アルコキシカルボニル置換
低級アルコキシカルボニル（低級）アルキル、３
−アミノ−３−カルボキシプロピル等のアミノお
よびカルボキシ置換低級アルキル、アシルアミノ
およびエステル化されたカルボキシ置換低級アル
キル（さらに好ましくは３−第３級ブトキシカル
ボニルアミノ−３−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルプロピル等の低級アルコキシカルボニルアミ
ノおよびモノもしくはジもしくはトリフエニル
（低級）アルコキシカルボニル置換低級アルキ
ル）、シアノメチル、シアノエチル等のシアノ
（低級）アルキル、ホスホノ（低級）アルキル
（さらに好ましくはホスホノメチル、ホスホノエ
チル等）、エステル化されたホスホノ（低級）ア
ルキル（さらに好ましくはＯ，Ｏ−ジメチルホス
ホノメチル、Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメチル等
のＯ，Ｏ−ジアルキルホスホノ（低級）アルキ
ル）、または２−もしくは３−ピリジルメチル等
のピリジル（低級）アルキルが含まれるがただ
し、R3が水素である場合、R4はカルボキシ（低
級）アルキル基およびエステル化されたカルボキ
シ（低級）アルキル基でない。 また、式
【式】で示される基とし て、
【式】がアミノチアゾリル（さら に好ましくは２−アミノチアゾール−４−イル）、
アシルアミノチアゾリル（さらに好ましくは２−
ホルムアミドチアゾール−４−イル等の２−低級
アルカンアミドチアゾール−４−イル、２−メタ
ンスルホンアミドチアゾール−４−イル等の２−
低級アルカンスルホンアミドチアゾール−４−イ
ル、２−トリフルオロアセトアミドチアゾール−
４−イル等の２−トリハロ（低級）アルカンアミ
ドチアゾール−４−イル、または２−アミジノチ
アゾール−４−イル）であり、Ａがメチレン、ア
ミノメチレン、アシルアミノメチレン（さらに好
ましくは第３級ブトキシカルボニルアミノメチレ
ン等の低級アルコキシカルボニルアミノメチレ
ン）、ヒドロキシメチレン、またはカルボニルで
ある基が含まれる。 R2としては、カルボキシ、またはエステル化
されたカルボキシ（さらに好ましくはベンズヒド
リルオキシカルボニル等のモノもしくはジもしく
はトリフエニル（低級）アルコキシカルボニル、
アセトキシメトキシカルボニル、プロピオニルオ
キシメトキシカルボニル、イソブチリルオキシメ
トキシカルボニル、ピバロイルオキシメトキシカ
ルボニル、ヘキサノイルオキシメトキシカルボニ
ル、１−アセトキシプロポキシカルボニル等の低
級アルカノイルオキシ（低級）アルコキシカルボ
ニル、２−アミノ−２−カルボキシエトキシカル
ボニル等のアミノおよびカルボキシ置換低級アル
コキシカルボニル、２−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノ−２−ベンズヒドリルオキシカルボニル
エトキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニ
ルアミノおよびモノもしくはジもしくはトリフエ
ニル（低級）アルコキシカルボニル置換（低級）
アルコキシカルボニル、フタリル−３−イル等の
フタリジルが含まれる。 目的化合物（）の適当な分子間または分子内
４級塩としては、７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−｛（１−メチル−３−ピリジ
ニオ）メトキシイミノ｝アセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボキシレート、７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−｛（１−メチル−２−ピリジニオ）メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボキシレート、１−メチル−３−［１
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−１−｛Ｎ
−（４−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３−
ビニル−３−セフエム−７−イル）カルバモイ
ル｝メチレンアミノオキシメチル］ピリジニウム
メチルスルフエイト、１−メチル−２−［１−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−１−｛Ｎ−（４
−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３−ビニル
−３−セフエム−７−イル）カルバモイル｝メチ
レンアミノオキシメチル］ピリジニウムメチルス
ルフエイトが含まれる。 目的化合物（）の製造における方法１ないし
15を詳しく説明すると次の通りである。 (1) 方法１ 化合物（）またはその塩類は、化合物（）
もしくはそのアミノ基における反応性誘導体また
はそれらの塩類に、化合物（）もしくはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体またはそれらの
塩類を反応させることにより製造される。 原料化合物（）および（）の適当な塩類と
しては、化合物（）について述べたのと同種の
ものが含まれる。 化合物（）のアミノ基における適当な反応性
誘導体としては、慣用されるものが含まれ、例え
ばビス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリ
メチルシリルアセトアミド等のシリル化合物との
反応で得られるシリル誘導体、イソシアネート、
イソチオシアネート、アミノ基とアセトアルデヒ
ド、イソペントアルデヒド、ベンズアルデヒド、
サリチルアルデヒド、フエニルアセトアルデヒ
ド、ｐ−ニトロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベ
ンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、
ヒドロキシナフトアルデヒド、フルフラール、チ
オフエンカルボアルデヒド等のアルデヒド化合
物、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エ
チル等のケトン化合物等のカルボニル化合物との
反応で得られるシツフ塩基またはその互変異性体
が含まれる。 化合物（）のカルボキシ基における適当な反
応性誘導体としては、酸ハライド、酸無水物、活
性アミド、活性エステル等が含まれ、そのうち好
ましいものとしては、酸クロライド、酸ブロマイ
ド、置換燐酸（例えばジアルキル燐酸、フエニル
燐酸、ジフエニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲ
ン化燐酸）混合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無
水物、亜硫酸混合無水物、チオ硫酸混合無水物、
硫酸混合無水物、アルキル炭酸（例えばメチル炭
酸、エチル炭酸、プロピル炭酸等）混合無水物、
脂肪族カルボン酸（例えばピバル酸、ペンタン
酸、イソペンタン酸、２−エチルブタン酸、トリ
クロロ酢酸等）混合無水物、芳香族カルボン酸
（例えば安息香酸等）混合無水物等の混合酸無水
物、対称型酸無水物、イミダゾール、４−置換イ
ミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ル、テトラゾール等のイミノ基含有複素環化合物
との活性アミド、ｐ−ニトロフエニルエステル、
２，４−ジニトロフエニルエステル、トリクロロ
フエニルエステル、ペンタクロロフエニルエステ
ル、メシルフエニルエステル、フエニルアゾフエ
ニルエステル、フエニルチオエステル、ｐ−ニト
ロフエニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエス
テル、カルボキシメチルチオエステル、ピリジル
エステル、ピペリジルエステル、８−キノリルチ
オエステル、Ｎ−ヒドロキシ化合物（例えばＮ，
Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキ
シ−２（1H）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシサクシ
ンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシ−
６−クロロベンゾトリアゾール等）とのエステル
等の活性エステル等が含まれる。適当な反応性誘
導体は、実際に用いる化合物（），（）の種類
に応じて適宜選択される。 この反応は、好ましくはリチウム、ナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム等の
アルカリ土類金属、水素化ナトリウム等の水素化
アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アル
カリ土類金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ
金属、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウム第３級ブトキサイド等のアル
カリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウム等のア
ルカン酸アルカリ金属、トリエチルアミン等のト
リアルキルアミン、ピリジン、ルチジン、ピコリ
ン等のピリジン化合物、キノリン等のような有機
または無機塩基の存在下に行なわれる。 この反応において、化合物（）を遊離酸また
はその塩の状態で使用する際は、例えばＮ，
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−シ
クロヘキシル−N′−（４−ジエチルアミノシクロ
ヘキシル）カルボジイミド、Ｎ，N′−ジエチル
カルボジイミド、Ｎ，N′−ジイソプロピルカル
ボジイミド、Ｎ−エチル−N′−（３−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド等のカルボジイミ
ド化合物、Ｎ，N′−カルボニルビス（２−メチ
ルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−
シクロヘキシルイミン、ジフエニルケテン−Ｎ−
シクロヘキシルイミン等のケテンイミン化合物、
エトキシアセチレン、β−クロロビニルエチルエ
ーテル等のオレフインもしくはアセチレンエーテ
ル化合物、１−（４−クロロベンゼンスルホニル
オキシ）−６−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール
等のＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール化合物ス
ルホン酸エステル、トリアルキルホスフアイトも
しくはトリフエニルホスフインと４塩化炭素、ジ
スルフイドもしくはジアゼンジカルボキシレート
（例えばジアゼンジカルボン酸ジエチルエステル）
との組合せ、ポリ燐酸エチル、ポリ燐酸イソプロ
ピル、塩化ホスホリル、３塩化燐等の燐化合物、
塩化チオニル、塩化オキサリル、Ｎ−エチルベン
ズイソキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−フエニ
ルイソオキサゾリウム−３−スルホン酸、ジメチ
ルホルムアミド等のＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキル
ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド等のアミ
ド化合物と塩化チオニル、塩化ホスホリル、ホス
ゲン等のハロゲン化合物との反応で得られるいわ
ゆるビルスマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行
なうのが好ましい。 この反応は、通常水、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、塩化
メチレン、エチレンクロライド、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド等の
この反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒またはこ
れらの混合物中で行なわれる。これらの溶媒中、
親水性溶媒は水と混合して用いることができる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 この反応において、前述のビルスマイヤー試薬
の存在下に行なう場合、原料化合物のR1におけ
るアミノ基が反応中にＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキ
ルアミノメチレン）アミノ基に変つた化合物が得
られることがあるが、この場合もこの発明に含ま
れるものとする。 (2) 方法２ 化合物（−ａ）またはその塩類は、化合物
（）またはその塩類に化合物（）を反応させ
ることにより製造される。 化合物（）の適当な塩類としては、化合物
（）について例示したのと同じ塩基との塩類が
含まれる。 この反応は、通常酢酸エチル、塩化メチレン、
クロロホルム、４塩化炭素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、水等のこの反応に悪影響を及ぼ
さない慣用溶媒、またはこれらの混合物中で行な
われる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 (3) 方法３ 化合物（）またはその塩類は、化合物（）
またはその塩類にホルムアルデヒドを反応させる
ことにより製造される。 化合物（）の適当な塩類としては、化合物
（）について例示したのと同種のものが含まれ
る。 この反応は、通常テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒
またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし若干加温する程度で反応が行なわれる。 (4) 方法４ 化合物（−ｃ）またはその塩類は、化合物
（−ｂ）またはその塩類をR1 aにおけるアミノ保
護基の脱離反応に付すことにより製造される。 この脱離反応には、加水分解、還元、またはイ
ミノハロゲン化とイミノエーテル化および必要に
応じて加水分解とを結合してなる結合方法等の慣
用される方法で行なわれる。 (i) 加水分解 加水分解は、好ましくは酸の存在下に行なわれ
る。 適当な酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等
の無機酸、ぎ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロ
ピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イ
オン交換樹脂等が用いられる。この反応におい
て、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸
等の有機酸を用いる場合、アニソール等のカチオ
ン捕捉剤の存在下に反応を行なうことが望まし
い。 この加水分解に適当な酸は、除去される保護基
の種類に応じて選択され、例えば置換または非置
換アルコキシカルボニル、置換または非置換低級
アルカノイル等のR1 aにおけるアミノ保護基に対
して加水分解を適用するのが好ましい。 加水分解は、通常水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、第３級ブチルアルコール、テ
トラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジオキサン等のこの反応に悪影響を及ぼさな
い慣用溶媒またはこれらの混合物中で行なわれ、
上記酸が液体の場合は溶媒を兼ねることができ
る。 加水分解の反応温度は特に限定されないが、通
常冷却下ないし若干加温して反応が行なわれる。 (ii) 還元 還元は化学還元または接触還元等の慣用方法に
より行なわれる。 化学還元で用いる適当な還元剤としては、錫、
亜鉛、鉄等の金属もしくは塩化クロム、酢酸クロ
ム等の金属化合物とぎ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素酸等の有機もしくは無機酸との組合
せが用いられる。 接触還元で用いる適当な触媒としては、白金
板、スポンジ白金、白金黒、コロイド白金、酸化
白金、白金線等の白金触媒、スポンジパラジウ
ム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
炭素、コロイドパラジウム、パラジウム硫酸バリ
ウム、パラジウム炭酸バリウム等のパラジウム触
媒、還元ニツケル、酸化ニツケル、ラネーニツケ
ル等のニツケル触媒、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー鉄等の鉄
触媒、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触媒
等の慣用触媒が含まれる。 還元方法は保護基の種類に応じて適宜選択さ
れ、例えばハロ（低級）アルコキシカルボニル等
のR1 aにおけるアミノ保護基に対しては化学還元
を適用するのが好ましく、置換または非置換アル
（低級）アルコキシカルボニル等に対しては接触
還元を適用するのが好ましい。 還元は、水、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のこの
反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、またはこれ
らの混合物中で行なわれる。また、上記化学還元
に用いる酸が液体の場合は溶媒を兼ねることがで
きる。さらに、接触還元に用いる溶媒としては、
上記のもの以外にジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等またはこれらの混合物
のような慣用溶媒が用いられる。 還元の反応温度は特に限定されないが、通常冷
却ないし加温下に反応が行なわれる。 (iii) イミノハロゲン化（第１工程）、イミノエー
テル化（第２工程）および必要に応じて行なう
加水分解（最終工程）の結合方法 この方法の第１および第２工程は、無水溶媒中
で行なうことが望ましい。第１工程（イミノハロ
ゲン化）における適当な溶媒としては、メチレン
クロライド、クロロホルム、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン
溶媒が含まれ、第２工程（イミノエーテル化）は
通常第１工程と同じ溶媒中で行なわれる。これら
２つの工程は通常冷却下または室温で行なわれ
る。これら２つの工程と最終工程（加水分解）
は、１バツチで行なうことが望ましい。 適当なイミノハロゲン化剤としては、３塩化
燐、５塩化燐、３臭化燐、５臭化燐、オキシ塩化
燐等の燐ハロゲン化合物、塩化チオニル、ホスゲ
ン等が含まれる。 適当なイミノエーテル化剤としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等のアルカノールまたは２−メト
キシエタノール、２−エトキシエタノール等のア
ルコキシを有する対応するアルカノール、および
ナトリウムメトキサイド、カリウムエトキサイ
ド、マグネシウムエトキサイド、リチウムメトキ
サイド等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金
属のような金属のアルコキサイドが含まれる。 得られた化合物は、必要に応じて常法により加
水分解する。加水分解は、好ましくは室温または
冷却下に行なわれ、反応混合物を単に水または吸
湿させたメタノール、エタノール等の親水溶媒中
に注入し、必要に応じて酸または塩基を添加する
だけで進行する。 適当な酸としては、(i)項の加水分解で述べたも
のが含まれ、適当な塩基としては、方法１で述べ
たものが含まれる。 上に説明した方法は、脱離する保護基の種類に
応じて適宜選択される。 この反応において、R2およびＡ中の保護され
たアミノおよび／または保護されたカルボキシが
反応中に遊離アミノおよび／または遊離カルボキ
シに変る場合があるが、この場合もこの発明に含
まれるものとする。 (5) 方法５ 化合物（−ｅ）またはその塩類は、化合物
（−ｄ）またはその塩類をR2 aにおけるカルボキ
シ基の脱離反応に付すことにより製造される。 この反応は、加水分解、還元等の慣用方法によ
り行なわれる。 加水分解および還元の方法および反応条件（反
応温度、溶媒等）は、方法４で記載した化合物
（−ｂ）におけるアミノ保護基の脱離反応と実
質的に同様なので、上記の記載を援用する。 この反応において、R1およびＡ中の保護され
たアミノおよび／またはＡ中の保護されたカルボ
キシが反応中に遊離アミノおよび／または遊離カ
ルボキシに変る場合があるが、この場合もこの発
明に含まれるものとする。 (6) 方法６ 化合物（−ｄ）またはその塩類は、化合物
（−ｅ）またはその塩類をカルボキシ保護基の
導入反応に付すことにより製造される。 この方法で用いるカルボキシ保護基の導入剤と
しては、アルコールまたはそのハライド、スルホ
ネイト、スルフエイト、ジアゾ化合物等の反応性
均等物のようなエステル化剤が含まれる。 この反応は塩基のの存在下に行なうことがで
き、塩基の適当な例としては、方法１で述べたも
のが含まれ、またこの反応は、よう化ナトリウム
等のよう化金属の存在下に行なうのが好ましい。 この反応は通常Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノー
ル、エタノール等のこの反応に悪影響を及ぼさな
い慣用溶媒またはそれらの混合溶媒中で行なわれ
る。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし若干加温する程度で反応が行なわれる。 カルボキシ保護基の導入剤としてアルコールを
用いる場合、方法１で述べた縮合剤の存在下に反
応を行なうことが望ましい。 この反応において、化合物（−ｅ）における
Ａ中のカルボキシが反応中に保護されたカルボキ
シに変る場合があるが、この場合もこの発明に含
まれるものとする。 (7) 方法７ 化合物（−ｇ）またはその塩類は、化合物
（−ｆ）またはその塩類をA1中のカルボキシ保
護基またはホスホノ保護基の脱離反応に付すこと
により行なわれる。 この反応は、加水分解、還元等の慣用方法によ
り行なわれる。 加水分解および還元の方法および反応条件（反
応温度、溶媒等）は、方法４で記載した化合物
（−ｂ）におけるアミノ保護基の脱離反応と実
質的に同様なので、上記の記載を援用する。 さらに、ホスホノ保護基の脱離反応は、化合物
（−ｆ）にトリメチルシリルクロライド、トリ
メチルシリルブロマイド、トリメチルシリルヨー
ダイド等のトリアルキルシリルハライドを反応さ
せることによつても行なわれる。 この反応において、R1およびR2中の保護され
たアミノおよび／またはR2中の保護されたカル
ボキシが遊離アミノおよび／または遊離カルボキ
シに変る場合があるが、この場合もこの発明に含
まれるものとする。 (8) 方法８ 化合物（−ｉ）またはその塩類は、化合物
（−ｈ）またはその塩類をR2 bにおけるアミノお
よびカルボキシ保護基の脱離反応に付すことによ
り製造される。 この反応は、加水分解、還元等の慣用方法によ
り行なわれる。 加水分解および還元の方法および反応条件（反
応温度、溶媒等）は、方法４で記載した化合物
（−ｂ）におけるアミノ保護基の脱離反応と実
質的に同様なので、上記の記載を援用する。 この反応では、アミノ保護基とカルボキシ保護
基を別々にまたは同時に脱離することができる。 この反応において、R1およびＡ中の保護され
たアミノおよび／またはＡ中の保護されたカルボ
キシが反応中に遊離アミノおよび／または遊離カ
ルボキシに変る場合があるが、この場合もこの発
明に含まれるものとする。 (9) 方法９ 化合物（−ｋ）またはその塩類は、化合物
（−ｊ）またはその塩類をA3におけるアミノお
よびカルボキシ保護基の脱離反応に付すことによ
り製造される。 この反応は、加水分解、還元等の慣用方法によ
り行なわれる。 加水分解および還元の方法および反応条件（反
応温度、溶媒等）は、方法４で記載した化合物
（−ｂ）におけるアミノ保護基の脱離反応と実
質的に同様なので、上記の記載を援用する。 この反応では、アミノ保護基とカルボキシ保護
基を別々にまたは同時に脱離することができる。 この反応において、R1およびR2中の保護され
たアミノおよび／またはR2中の保護されたカル
ボキシが反応中に遊離アミノおよび／または遊離
カルボキシに変る場合があるが、この場合もこの
発明に含まれるものとする。 (10) 方法10 化合物（−ｆ）またはその塩類は、化合物
（−ｇ）またはその塩類をカルボキシまたはホ
スホノ保護基の導入反応に付すことにより製造さ
れる。 この反応は、方法６における化合物（−ｅ）
のカルボキシ保護基導入反応について記載したの
と実質的に同様に行なわれるので、反応条件（反
応温度、溶媒等）は、上記の記載を援用する。 この反応において、R2中のカルボキシが反応
中に保護されたカルボキシに変る場合があるが、
この場合もこの発明に含まれるものとする。 (11) 方法11 化合物（−ｍ）またはその塩類は、化合物
（−ｌ）またはその塩類に化合物（）を反応
させることにより行なわれる。 この反応は、通常テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、水等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用
溶媒、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常室温ない
し加熱下に反応が行なわれる。 (12) 方法12 化合物（−ｏ）またはその塩類は、化合物
（−ｎ）またはその塩類に塩基を反応させるこ
とにより製造される。 この方法で用いる適当な塩類としては、方法１
で述べたものが含まれる。 この反応は、通常水、メタノール、エタノール
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒また
はこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 (13) 方法13 化合物（−ｑ）またはその塩類は、化合物
（−ｐ）またはその塩類をA8中のアミノ保護基
の脱離反応に付すことにより製造される。 この反応は、加水分解、還元等の常法により行
なわれる。 加水分解および還元の方法および反応条件（反
応温度、溶媒等）は、方法４で記載した化合物
（−ｂ）におけるアミノ保護基の脱離反応と実
質的に同様なので、上記の記載を援用する。 この反応において、R1およびR2中の保護され
たアミノおよび／またはR2中の保護されたカル
ボキシが反応中に遊離アミノおよび／または遊離
カルボキシに変る場合があるが、この場合もこの
発明に含まれるものとする。 (14) 方法14 化合物（−ｓ）またはその塩類は、化合物
（−ｒ）またはその塩類を還元することにより
製造される。 適当な還元剤としては、水素化ほう素ナトリウ
ム、水素化ほう素カリウム、水素化シアノほう素
ナトリウム等の水素化ほう素アルカリ金属のよう
な水素化ほう素金属、水素化アルミニウムリチウ
ム等、ジボラン等のカルボニル基をヒドロキシ基
に還元する常法で慣用されるものが用いられる。 接触還元で用いる触媒としては、方法４の還元
について例示したものが含まれる。 この反応は、通常水、メタノール、エタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のこの反
応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、またはこれら
の混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 (15) 方法15 化合物（−ｔ）またはその塩類を、化合物
（−ｒ）またはその塩類に化合物（）または
その塩類を反応させることにより製造される。 化合物（）の塩類としては、化合物（）に
ついて例示したのと同じ酸付加塩が含まれる。 この反応において、化合物（）を塩の形で用
いる際には、方法１で例示した塩基の存在下に行
なうことができる。 この反応は、通常水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶
媒、またはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 上記方法１ないし15で得られる目的化合物
（）は、例えば抽出、沈殿、分別結晶、再結晶、
クロマトグラフイー等の慣用方法により単離精製
される。 上記方法１ないし15およびその反応混合物の後
処理において、目的化合物が光学もしくは幾何異
性体を含む場合には、これが他の光学もしくは幾
何異性体に変る場合があるが、この場合もこの発
明に含まれるものとする。 目的化合物（）が遊離カルボキシ基または遊
離アミノ基を４位または７位に有する場合、これ
らの基は常法により塩類に変えることができる。 この発明の目的化合物（）またはその塩類
は、新規化合物であり、グラム陽性および陰性菌
を含む広範囲の病原性微生物の発育を阻止する高
い抗菌活性を示し、下記データに示されるよう
に、抗生物質として、特に経口投与用のものとし
て有用である。 目的化合物（）の有用性を示すために、この
発明の化合物（）の中の代表的なものについて
抗菌活性を測定した結果を示すと、次の通りであ
る。 試験：試験管内抗菌活性 ［試験化合物］ No.１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（化合物Ａ） No.２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）グリコールアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸（化合物Ｂ） No.３ ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−
５−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（化合物Ｃ） No.４ ７−［２−（２−アミノチアゾール−５−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（化合物Ｄ） No.５ ７−［２−（２−メタンスルホンアミドチア
ゾール−５−イル）アセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（化合
物Ｅ） No.６ ７−［２−（２−グアニジノチアゾール−４
−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸臭化水素酸塩（化
合物Ｆ） No.７ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）（化合物Ｇ） No.８ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）（化合物Ｈ） No.９ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カル
ボン酸（シン異性体）（化合物Ｉ） No.10 ７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾ
ール−４−イル）−２−カルボキシメトキシ
イミノアセトアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（シン異性体）（化
合物Ｊ） No.11 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（トランス−３−カルボキシアリル
オキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（化合物Ｋ） ［試験方法］ 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内抗
菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス（菌数108／
ml）中で一夜培養した試験菌株の１白金耳を、各
濃度の試験化合物を含むハート・インフユージヨ
ン・アガー（HI寒天）に接種し、37℃で20時間
培養した後、最低発育阻止濃度（MIC）をμ
ｇ／ml単位で測定した。 ［試験結果１］
【表】 ［試験結果２］
【表】 ［試験結果３］
【表】 この発明の目的化合物（）またはその医薬上
許容される塩類を治療の目的で投与するにあたつ
ては、上記化合物を主成分として含み、これに医
薬上許容される担体、例えば経口、非経口、また
は外用に適した有機もしくは無機、固体もしくは
液体の賦形薬を加えた慣用製剤の形で投与でき
る。このような製剤としては、錠剤、顆粒剤、散
剤、カプセル等の固体、および液剤、けんだく
剤、シロツプ、乳剤、レモネート等の液体が含ま
れる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチレ
ングリコール等の繁用される添加物を含有させる
ことができる。 化合物（）の投与量は、患者の年令、状態、
疾病の種類、および投与化合物（）の種類によ
り異なるが、一般に１日当り１mgないし約4000mg
またはそれ以上の量を患者に投与できる。１回の
平均投与量としては、この発明の目的化合物
（）約50mg、100mg、250mg、500mg、1000mg、
2000mgを、病原性微生物による疾病の治療に用い
ることができる。 この発明の化合物（）の中の代表的なものに
ついて、急性毒性試験結果を示す。 ［試験化合物］ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイルオ
キシメチルエステル（シン異性体） ［試験方法］ ５匹の雄ラツトおよび５匹の雌ラツト（JCL−
SD系、６週令）を１群とした。試験化合物を0.5
％メチルセルロース溶液に懸濁し、ラツトに経口
投与した後、14日間観察した。 ［試験結果］
【表】 次に、この発明を実施例により詳細に説明す
る。 原料化合物の製造法 製造例 １ ２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノ酢酸エチルエステル（シン
異性体）（19ｇ）をメタノール（200ml）にとかし
た溶液に、50％ぎ酸（200ml）および亜鉛（29ｇ）
を加え、混合物を５ないし10℃で６時間撹拌す
る。濾過後、反応混合物を濃縮し、残留物を水
（150ml）にとかす。得られる水溶液を4N水酸化
ナトリウム水溶液でPH6.5に調整し、エタノール
（150ml）、２−第３級ブトキシカルボニルオキシ
イミノ−２−フエニルアセトニトリル（18.2ｇ）
およびトリエチルアミン（8.0ｇ）を加える。室
温で24時間撹拌後、反応混合物を濾過し、有機溶
媒を除去する。残留する水溶液を酢酸エチルで洗
浄し、10％塩酸でPH４に調整し、酢酸エチルで抽
出する。抽出物を塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃
縮乾固して残留物を得、これをジエチルエーテル
で洗浄すると、Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−
２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
グリシン（3.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，3180，1720，1700，
1670，1640，1540，1510cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.40（9H，ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.17（1H，ｓ），
8.43（1H，ｓ） 製造例 ２ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
シンエチルエステル（24.2ｇ）、2N水酸化ナトリ
ウム水溶液（7.2ｇ）およびメタノール（240ml）
の混合物を室温で１時間撹拌する。濃塩酸でPH７
に調整後、水（250ml）、次いで２−第３級ブトキ
シカルボニルオキシイミノ−２−フエニルアセト
ニトリル（29.5ｇ）およびトリエチルアミン
（18.2ｇ）を加える。室温で１時間撹拌後、反応
混合物を濃縮する。得られる水溶液を酢酸エチル
で２回洗浄し、次いで酢酸エチルを加え、10％塩
酸でPH７に調整する。不溶物を濾去し、水層を分
取し、10％塩酸でPH４に調整し活性炭で処理す
る。濾液に塩化ナトリウムを加え、氷冷下に撹拌
する。沈殿を濾取し乾燥すると、Ｎ−第３級ブト
キシカルボニル−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）グリシン（10.2ｇ）を得る。 NMR δ ppm（D2O＋NaHCO3）：1.40（9H，
ｓ），4.90（1H，ｓ），6.53（1H，ｓ） 製造例 ３ Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）グリシン（5.5ｇ）
およびビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（10.6ｇ）を酢酸エチル（55ml）にとかした溶液
に、無水トリフルオロ酢酸（12.6ｇ）を−20℃で
加え、混合物を−15ないし−５℃で１時間撹拌す
る。酢酸エチル（100ml）および水を加えた後、
混合物を少時撹拌する。分離した酢酸エチル溶液
に水（80ml）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液でPH７に調整する。水層を分取し、酢酸エチ
ルを加え、10％塩酸でPH２に調整する。酢酸エチ
ル層を分取し、塩化ナトリウム水溶液を洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と、Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−［２−
（２，２，２−トリフルオロアセトアミド）チア
ゾール−４−イル］グリシン（3.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3350，1720，1680，1580，
1520cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.40（9H，ｓ），
5.27（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.27（1H，ｓ） 製造例 ４ 無水酢酸（18.7ｇ）にぎ酸（8.4ｇ）を氷冷撹
拌下に加え、45ないし50℃で１時間撹拌を続け
る。得られる溶液に２−（２−アミノチアゾール
−５−イル）酢酸（5.8ｇ）を室温で加え、混合
物を35分間撹拌する。反応混合物を濃縮乾固し、
残留物をジイソプロピルエーテルで処理した後濾
取すると、mp229℃（分解）の２−（２−ホルム
アミドチアゾール−５−イル）酢酸（5.87ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：3200，1670，1560，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.82（2H，ｓ），
7.29（1H，ｓ），8.47（1H，ｓ），12.37（1H，ブ
ロード ｓ） 製造例 ５ ジメチルホルムアミド（8.8ｇ）およびテトラ
ヒドロフラン（230ml）の溶液に、オキシ塩化燐
（18.5ｇ）を−５ないし０℃で加え、混合物を少
時撹拌する。この溶液に、２−（２−ホルムアミ
ドチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
酢酸（シン異性体）（25.2ｇ）を３℃で加え、同
温度で40分間撹拌して活性化された酸溶液を得
る。 他方、７−アミノ−３−クロロメチル−３−セ
フエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
塩酸塩（45.1ｇ）、トリメチルシリルアセトアミ
ド（104.8ｇ）および酢酸エチル（400ml）の混合
物を室温で20分間撹拌する。この溶液に上記活性
化された酸溶液を−40℃で撹拌下に加え、−30な
いし−10℃で1.8時間撹拌を続ける。水（200ml）
を加えた後、有機層を分取する。残留する水層を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を有機層と合わせ、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。濃縮後沈殿を濾取すると、７−［２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−メ
トキシイミノアセトアミド］−３−クロロメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（45.2ｇ）を得る。濾液
を濃縮乾固し、残留物をジエチルエーテルで洗浄
すると、同物質（7.9ｇ）を回収する。合計収量
53.1ｇ。 IR（ヌジヨール）：3250，3160，3110，1780，
1720，1690，1660，1630，1565，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.70（2H，ブロー
ド ｓ），3.93（3H，ｓ），4.47（2H，ブロード
ｓ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.03（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.03（1H，ｓ），7.17−
7.73（11H，ｍ），8.62（1H，ｓ），9.90（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz） 製造例 ６ ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
クロロメチル−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体）（25.0ｇ）
を酢酸エチル（300ml）にとかした溶液に、トリ
フエニルホスフイン（21.0ｇ）をテトラヒドロフ
ラン（170ml）にとかした溶液を加え、混合物を
10時間加熱還流する。沈殿を濾取すると、［７−
｛２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
２−メトキシイミノアセトアミド｝−４−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル−３−セフエム−３−
イル］メチル−トリフエニルホスホニウムクロラ
イド（シン異性体）（17.7ｇ）を得る。残留する
濾液を10時間加熱還流する。同様に沈殿を濾取
し、同物質（9.75ｇ）を回収する。さらにこの操
作を１回くり返し、同物質（3.3ｇ）を回収する。
合計収量30.75ｇ。 IR（ヌジヨール）：1780，1720，1680，1590，
1540cm-1 製造例 ７ ［７−｛２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝−４
−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３−セフエ
ム−３−イル］メチルートリフエニルホスホニウ
ムクロライド（シン異性体）（5.33ｇ）をアセト
ン（60ml）と水（10ml）の混合物にとかし、この
溶液を2N水酸化ナトリウム水溶液にPH11に調整
し、酢酸エチル（100ml）で３回抽出する。抽出
液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮乾固すると残留物を
得、これをジエチルエーテルで粉末化すると、７
−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ト
リフエニルホスホラニリデンメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シ
ン異性体）（3.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300−3170，1730，1670，
1580，1540cm-1 製造例 ８ Ｌ−セリン（50ｇ）と水（500ml）、ジオキサン
（500ml）のけんだく液に、トリエチルアミン
（140ml）および２−第３級ブトキシカルボニルオ
キシイミノ−２−フエニルアセトニトリル（138
ｇ）を加え、混合物を室温で24時間撹拌する。ジ
オキサンを除去した後、残留する水溶液を炭酸水
素ナトリウム水溶液でPH8.0に調整し、酢酸エチ
ル（200ml）で４回洗浄する。水溶液を濃塩酸で
PH2.0に調整し、酢酸エチル（300ml）で２回抽出
する。抽出液を合わせ、塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮する。濃縮液に、ジアゾジフエニルメタンと酢
酸エチルの溶液を薄層クロマトグラフイー上で原
料化合物が消失するまで滴下する。溶媒を留去
し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末化す
ると、Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−Ｌ−セリ
ンベンズヒドリルエステル（109ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1746，1677cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.37（9H，ｓ），
3.73（2H，ｔ，Ｊ＝12.0Hz），4.20（1H，ｍ），
4.93（1H，ｔ，Ｊ＝12Hz），6.82（1H，ｓ），
7.40（10H，ブロード ｓ） 製造例 ９ DL−ホモセリン（50ｇ）、トリエチルアミン
（140ml）、２−第３級ブトキシカルボニルオキシ
イミノ−２−フエニルアセトニトリル（103.3
ｇ）、水（500ml）およびジオキサン（500ml）の
混合物を、室温で24時間撹拌する。ジオキサンを
除去した後、残留する水溶液を10％水酸化ナトリ
ウム水溶液でPH8.5−9.0に調整し、酢酸エチル
（500ml×５）で洗浄する。残留する水溶液を濃塩
酸でPH2.0に調整し、酢酸エチルで抽出し、塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。この溶液に、ジアゾジフエニルメ
タンと酢酸エチルの溶液を薄層クロマトグラフイ
ー上で原料化合物が消失するまで滴下する。溶媒
を留去し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉
末化すると、mp125−129℃のＮ−第３級ブトキ
シカルボニル−DL−ホモセリンベンズヒドリル
エステル（117.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3500，3320，1735，1687cm-1 NMR δ ppm（CDCl3）：1.43（9H，ｓ），1.8−
2.5（2H，ｍ），3.6（2H，ｍ），4.58（1H，ｍ），
5.5（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），6.92（1H，ｓ），7.3
（10H，ｓ） 製造例 10 ７−（２−フエニルアセトアミド）−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸（15.3ｇ）、Ｎ
−第３級ブトキシカルボニル−Ｌ−セリンベンズ
ヒドリルエステル（15ｇ）、トリフエニルホスフ
イン（15.9ｇ）およびジアゼンジカルボン酸ジエ
チルエステル（10.6ｇ）をテトラヒドロフラン
（450ml）にとかした溶液を３時間加熱還流する。
反応混合物を減圧濃縮し、得られる残留物を酢酸
エチル（30ml）にとかし、炭酸水素ナトリウム水
溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残
留物をシリカゲル（400ml）を用いてクロマトグ
ラフイーに付し、メチレンクロライドで溶離し、
目的化合物を含むフラクシヨンを集める。溶媒を
留去し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末
化すると、７−（２−フエニルアセトアミド）−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２
−ベンズヒドリルオキシカルボニル−２−第３級
ブトキシカルボニルアミノエチルエステル（17.2
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3350，1767，1735，1718，
1678，1653cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.40（9H，ｓ），
3.53，4.00（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.57（2H，
ｓ），4.55（3H，ｍ），5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.61（1H，dd，
Ｊ＝５Hz，８Hz），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），
6.86（1H，ｓ），6.92（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18
Hz），7.37（5H，ｓ），7.57（10H，ブロード
ｓ），9.20（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 製造例 11 ５塩化燐（4.5ｇ）、ピリジン（1.8ml）および
メチレンクロライド（50ml）の混合物を室温で半
時間撹拌する。得られたけんだく液に、７−（２
−フエニルアセトアミド）−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−２−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノエチルエステル（10ｇ）を５℃で加え、
混合物を同温度で半時間撹拌する。反応混合物を
メタノール（60ml）に−30℃で注入し、混合物を
−20℃で半時間撹拌し、水（50ml）を加え、５％
水酸化ナトリウム水溶液でPH6.0に調整する。濃
縮後、残留物をメチレンクロライドで抽出する。
抽出液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理する。濾
液を減圧濃縮し、残留物にベンゼンを加え、ピリ
ジンを共沸留去する。残留物を石油エーテルとジ
イソプロピルエーテルの混液で粉末化すると、７
−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−カル
ボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカルボニル
−２−第３級ブトキシカルボニルアミノエチルエ
ステル（7.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3350，1773，1737，1709，
1693cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.37（9H，ｓ）
3.47，3.93（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），4.52（3H，
ｍ），4.68，5.02（2H，ABq，Ｊ＝５Hz），5.30
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.58（1H，ｄ，Ｊ＝18
Hz），6.80（1H，ｓ），6.82（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz），7.37（10H，ｓ） 製造例 12 （２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）グ
リオキシル酸（2.4ｇ）、メトキシルアミン塩酸塩
（5.0ｇ）および水（144ml）のけんだく液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でPH4.9−5.0に調整
し、室温で4.7時間撹拌する。水を加えて不溶物
をとかし、水溶液を100mlまで濃縮する。沈殿を
濾取し、水洗し、テトラヒドロフランと水の混液
にとかす。この溶液を酢酸エチルと水の混合物中
に注入し、有機層を分取する。水層を酢酸エチル
で抽出し、酢酸エチル層を合わせ、塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去すると、mp159℃（分解）の２
−（２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）−２
−メトキシイミノ酢酸（アンチ異性体）（0.9ｇ）
を得る。濾液を70mlまで濃縮し、沈殿を濾取する
と同物質（0.23ｇ）を回収する。合計収量1.13
ｇ。 IR（ヌジヨール）：3180，1700，1560，1460cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：4.14（3H，ｓ），
8.30（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ） さらに、濾液に酢酸エチルを加え、混合物を10
％塩酸でPH1.5に調整し、酢酸エチル層を分取す
る。残留する水層を酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を合わせ、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去すると、mp183℃（分解）の２−（２−ホルム
アミドチアゾール−５−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸（シン異性体）（0.87ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1720，1650，1535，1465cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.92（3H，ｓ），
7.58（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ） 製造例 13 Ｎ−ヒドロキシフタルイミド（4.3ｇ）、Ｎ−第
３級ブトキシカルボニル−DL−ホモセリンベン
ズヒドリルエステル（10ｇ）およびトリフエニル
ホスフインをテトラヒドロフラン（100ml）にと
かした溶液に、ジアゼンジカルボン酸ジエチルエ
ステル（4.6ｇ）を室温で撹拌下に滴下し、32な
いし35℃で３時間撹拌を続ける。溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルでクロマトグラフイーに付
し、ベンゼンとアセトンの混液で溶離する。目的
化合物を含むフラクシヨンを集め、濃縮すると、
mp162−163℃のDL−２−第３級ブトキシカルボ
ニルアミノ−４−フタルイミドオキシブタン酸ベ
ンズヒドリルエステル（10ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3360，1740，1722，1681cm-1 NMR δ ppm（CDCl3）：1.45（9H，ｓ），2.37
（2H，ｑ，Ｊ＝６Hz），4.26（2H，ｔ，Ｊ＝６
Hz），4.58（1H，ｍ），5.73（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz），6.90（1H，ｓ），7.3（10H，ｓ），7.77（4H，
ｓ） 製造例 14 DL−２−第３級ブトキシカルボニルアミノ−
４−フタルイミドオキシブタン酸ベンズヒドリル
エステル（7.0ｇ）をメチレンクロライド（100
ml）にとかした溶液を、ヒドラジン１水化物
（2.0ｇ）をメタノール（６ml）にとかした溶液に
室温で滴下し、混合物を半時間撹拌する。沈殿を
濾取し、メチレンクロライド（30ml）で洗浄す
る。濾液と洗液を合し、水を加え、濃塩酸でPH
7.0に調整する。メチレンクロライド層を分取し、
水および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留
物をジイソプロピルエーテルで粉末化すると、
mp92−93℃のDL−２−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノ−４−アミノオキシブタン酸ベンズヒド
リルエステル（5.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3340，3305，1730，1695cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.38（9H，ｓ），
1.95（2H，ｍ），3.58（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz），4.18
（1H，ｍ），5.92（2H，ｓ），6.82（1H，ｓ），
7.37（10H，ｓ） 製造例 15 ２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
グリオキシル酸（3.40ｇ）、ピリジン（3.6ml）お
よび水（32ml）のけんだく液に、DL−２−第３
級ブトキシカルボニルアミノ−４−アミノオキシ
ブタン酸ベンズヒドリルエステル（7.0ｇ）をテ
トラヒドロフラン（30ml）にとかした溶液を室温
で加え、混合物を３時間撹拌する。反応混合物を
酢酸エチル（200ml）中に注入し、酢酸エチル層
を分取し、希塩酸および塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去すると、mp61−65℃の２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）−２−（DL−３−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−３−第３級ブト
キシカルボニルアミノプロポキシイミノ）酢酸
（シン異性体）（9.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3150，1740，1695cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.4（9H，ｓ），
2.1（2H，ｍ），4.2（3H，ｍ），6.82（1H，ｓ），
7.33（10H，ｓ），7.53（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ） 製造例 16 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（0.48ｇ）とオ
キシ塩化燐（1.0ｇ）から製したビルスマイヤー
試薬を酢酸エチル（20ml）にけんだくし、４−ブ
ロモ−２−メトキシイミノアセト酢酸（シン異性
体）（1.34ｇ）を氷冷下に加え、同温度で半時間
撹拌して活性化された酸溶液を得る。この溶液
を、７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩
（2.15ｇ）とトリメチルシリルアセトアミド
（3.93ｇ）を酢酸エチル（30ml）にとかした溶液
に−20℃で加え、混合物を−20ないし０℃で1.5
時間撹拌する。反応混合物に酢酸エチル（100ml）
および水（100ml）を加え、酢酸エチル層を分取
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジエチルエ
ーテルで洗浄すると、７−（４−ブロモ−２−メ
トキシイミノアセトアセトアミド）−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（2.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3280，1770，1710，1700，
1660，1600，1560cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.07（3H，ｓ），4.63（2H，ｓ），5.27
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11
Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.93（1H，dd，
Ｊ＝５Hz，８Hz），6.78（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），6.98（1H，ｓ），7.17−7.67（10H，ｍ），
9.57（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 製造例 17 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（6.4ｇ）、ト
リメチルシリルアセトアミド（9.8ｇ）および酢
酸エチル（80ml）の溶液に、４−ブロモ−３，３
−ジエトキシ−２−メトキシイミノブチリルクロ
ライド（シン異性体）（5.0ｇ）を−20℃で撹拌下
に加え、−20ないし−５℃で１時間撹拌を続ける。
反応混合物に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル
層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ
び塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去すると、７−
（４−ブロモ−３，３−ジエトキシ−２−メトキ
シイミノブチルアミド）−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シン異性体）（10.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1780，1720，1610，1510cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.13（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），3.60（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），3.76（2H，
ｍ），3.83（3H，ｓ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.24（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.60（1H，ｄ，
Ｊ＝17Hz），5.82（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），
6.70（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），6.93（1H，
ｓ），7.17−7.60（10H，ｍ），9.00（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 製造例 18 ７−（４−ブロモ−３，３−ジエトキシ−２−
メトキシイミノブチルアミド）−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）（6.5ｇ）をメチレンクロライ
ド（60ml）にとかした溶液に、濃塩酸（６ml）を
３ないし５℃で加え、混合物を氷冷ないし室温で
８時間撹拌する。反応混合物にメチレンクロライ
ド（100ml）を加え、水洗し無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジエチル
エーテルで洗浄すると、７−（４−ブロモ−２−
メトキシイミノアセトアセトアミド）−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体）（3.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3280，1770，1710，1700，
1660，1600，1560cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.07（3H，ｓ），4.63（2H，ｓ），5.27
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11
Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.93（1H，dd，
Ｊ＝５Hz，８Hz），6.78（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），6.98（1H，ｓ），7.17−7.67（10H，ｍ），
9.57（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 製造例 19 ７−（４−ブロモ−３，３−ジエトキシ−２−
メトキシイミノブチルアミド）−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）（3.36ｇ）、アニソール（2.1
ｇ）およびメチレンクロライド（20ml）の溶液
に、トリフルオロ酢酸（8.0ｇ）を氷冷撹拌下に
加え、室温で１時間撹拌を続ける。溶媒を留去
し、残留物を酢酸エチルと水の混合物にとかす。
酢酸エチル層を分取し、水を加え、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でPH７に調整する。水層を分取
し、酢酸エチルを加え、10％塩酸でPH２に調整す
る。酢酸エチル層を分取し、塩化ナトリウム水溶
液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去すると、７−（４−ブロモ−２−メトキ
シイミノアセトアセトアミド）−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）（1.6
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300−3200，1780，1700，
1675（シヨルダー），1540cm-1 製造例 20 Ｎ−（２−ピリジルメトキシ）フタルイミド
（50ｇ）をエタノール（500ml）にけんだくし、こ
れにヒドラジン１水化物（20.8ｇ）を60℃で加
え、同温度で１時間撹拌する。反応混合物に濃塩
酸（60ml）と水（450ml）の混液を冷却下に加え、
沈殿を濾去する。濾液からエタノールを留去し、
沈殿を再び濾去する。濾液にエタノール（500ml）
を加え、4N水酸化ナトリウム水溶液でPH7.0に調
整する。これに（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）グリオキシル酸（30.3ｇ）を加え、10
％塩酸でPH4.5に調整し、1.5時間撹拌する。撹拌
中混合物のPHを水酸化ナトリウム水溶液でPH４な
いし4.5に保つ。反応混合物を4N水酸化ナトリウ
ム水溶液PH7.5に調整し、エタノールを留去する。
得られる水溶液を10％塩酸でPH3.0に調整し、沈
殿する結晶を濾取すると、２−（２−ホルムアミ
ドチアゾール−４−イル）−２−（２−ピリジルメ
トキシイミノ）酢酸（シン異性体）（35.4ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：3100，1680，1610，1560，
1540cm-1 NMR δ ppm（NaHCO3＋D2O）：5.3（2H，
ｓ），7.47（1H，ｓ），7.17−8.07（3H，ｍ），
8.47（1H，ｓ），8.33−8.67（1H，ｍ） 製造例 21 （２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−
グリオキシル酸（8.8ｇ）と、Ｎ−（３−ピリジル
メトキシ）フタルイミド（14.5ｇ）と、ヒドラジ
ン１水化物（6.3ｇ）から製した３−ピリジルメ
トキシアミンとを製造例20と同様に反応させるこ
とにより、２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）−２−（３−ピリジルメトキシイミノ）
酢酸（シン異性体）（8.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400，3050，1670，1550cm-1 NMR δ ppm（NaHCO3＋D2O）：5.28（2H，
ｓ），7.44（1H，ｓ），7.24−7.50（1H，ｍ），
7.82（1H，ｍ），8.46（1H，ｓ），8.14−8.66
（2H，ｍ） 製造例 22 （２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−
グリオキシル酸（10.3ｇ）と、Ｎ−（４−ピリジ
ルメトキシ）フタルイミド（17.0ｇ）と、ヒドラ
ジン１水化物（6.0ｇ）から製した４−ピリジル
メトキシアミンとを製造例20と同様に反応させる
ことにより、２−（２−ホルムアミドチアゾール
−４−イル）−２−（４−ピリジルメトキシイミ
ノ）酢酸（シン異性体）（10.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3500，1650，1560，1500cm-1 NMR δ ppm（NaHCO3＋D2O）：5.22（2H，
ｓ），7.38（1H，ｓ），7.27−7.47（2H，ｍ），
8.42（1H，ｓ），8.33−8.55（2H，ｍ） 製造例 23 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（48
ｇ）、メタノール（250ml）およびアニソール（70
ml）のけんだく液に、ｐ−トルエンスルホン酸
（85ｇ）を加え、混合物を50℃で２時間撹拌する。
反応混合物を10％炭酸水素ナトリウム水溶液
（600ml）および酢酸エチル（700ml）中に注入し、
20％炭酸ナトリウム水溶液でPH7.5に調整する。
水層を分取し、酢酸エチル（500ml）で洗浄し、
濃塩酸でPH2.5に調整し、氷冷下に１時間撹拌す
る。沈殿する結晶を濾取し、アセトンで洗浄する
と、mp200−230℃（分解）の７−アミノ−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（15.4
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1800，1605cm-1 NMR δ ppm（D2O＋NaHCO3）：3.67（2H，
ｓ），4.8−5.8（5H，ｍ），6.88（1H，dd，Ｊ＝
12Hz，18Hz） 製造例 24 Ｎ−ヒドロキシフタルイミド（70.08ｇ）をア
セトニトリル（300ml）にとかした溶液に、トリ
エチルアミン（48ｇ）および４−ブロモクロトン
酸第３級ブチルエステル（96.0ｇ）を撹拌下に加
え、混合物を1.5時間加熱還流する。反応混合物
を水（600ml）中に注入し、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮乾
固し、残留物をｎ−ヘキサンで粉末化する。得ら
れる物質をシリカゲルでカラムクロマトグラフイ
ーに付し、ｎ−ヘキサン、酢酸エチルおよびジイ
ソプロピルエーテルの混液（容量比５：0.5：
4.5）で溶離し、目的化合物を含むフラクシヨン
を集める。溶媒を留去し、残留物をｎ−ヘキサン
で粉末化し濾取すると、４−フタルイミドオキシ
クロトン酸第３級ブチルエステル（41.7ｇ）を得
る。 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.45（9H，ｓ），
4.90（2H，ｍ），6.09（1H，ｍ），6.66−7.19
（1H，ｍ），7.86（4H，ｓ） 製造例 25 ４−フタルイミドオキシクロトン酸第３級ブチ
ルエステル（20.0ｇ）をメチレンクロライド
（140ml）にとかした溶液に、ヒドラジン１水化物
（5.0ｇ）をメタノール（10ml）にとかした溶液を
撹拌下に加え、室温で15分間撹拌を続ける。不溶
物を濾取し、メチレンクロライドで洗浄する。洗
液と濾液を合わせ、５％塩酸で３回抽出する。抽
出液を合わせ、ジエチルエーテルで洗浄し、メチ
レンクロライドを加え、28％水酸化アンモニウム
水溶液でPH7.5に調整する。メチレンクロライド
溶液を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると、油状の４−アミノオキシクロトン酸第３級
ブチルエステル（11.03ｇ）を得る。 IR（液膜）：3340，3250，2980，2940，1720，
1660cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.43（9H，ｓ），
4.18（2H，ｍ），5.85（1H，ｍ），6.14（2H，ブロ
ード ｓ），6.52−7.06（1H，ｍ） 製造例 26 ４−アミノオキシクロトン酸第３級ブチルエス
テル（10.0ｇ）にエタノール（150ml）および水
（150ml）を加え、（２−ホルムアミドチアゾール
−４−イル）グリオキシル酸（11.0ｇ）を撹拌下
徐々に加える。添加中、混合物のPHを10％水酸化
ナトリウム水溶液で５ないし5.5に調整し、室温
で２時間撹拌を続ける。エタノールを留去し、残
留する水溶液に酢酸エチルを加え、10％水酸化ナ
トリウム水溶液でPH7.5に調整する。水層を分取
し、酢酸エチルで洗浄する。これに酢酸エチルを
加え、10％塩酸でPH2.0に調整する。有機層を分
取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物
をｎ−ヘキサンとテトラヒドロフランで粉末化し
濾取する。これにエタノール（50ml）および水
（30ml）を加え、10％水酸化ナトリウム水溶液で
PH7.5に調整する。沈殿を濾取し、水とエタノー
ルの混液（容量比１：１）で洗浄し、水および酢
酸エチルを加え、10％塩酸でPH2.0に調整する。
有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留物をｎ−ヘキサンとテトラヒドロフラン
で粉末化すると、２−（トランス−３−第３級ブ
トキシカルボニルアリルオキシイミノ）−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）酢酸（シ
ン異性体）（12.01ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3150，1720，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.47（9H，ｓ），
4.89（2H，ｍ），5.96（1H，ｍ），6.69−7.16
（1H，ｍ），7.60（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ），
12.72（1H，ブロード ｓ） 製造例 27 （２−ホルムアミド−５−クロロチアゾール−
４−イル）グリオキシル酸エチルエステル（14.5
ｇ）を1N水酸化カリウム水溶液（110ml）に室温
で加え、混合物を10分間撹拌して（２−ホルムア
ミド−５−クロロチアゾール−４−イル）グリオ
キシル酸カリウムの溶液を得る。この溶液を10％
塩酸で氷冷下PH２に調整し、ピリジン（20ml）、
および２−アミノオキシ酢酸第３級ブチルエステ
ル（10.3ｇ）とテトラヒドロフラン（50ml）の溶
液を加え、室温で５時間撹拌する。反応混合物を
酢酸エチルで洗浄し、残留する水溶液を10％塩酸
でPH1.5に調整し、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去すると、２−第３
級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２
−ホルムアミド−５−クロロチアゾール−４−イ
ル）酢酸（シン異性体）（8.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3150，1725，1690，1650，
1560，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.47（9H，ｓ），
4.75（2H，ｓ），8.7（1H，ｓ），12.8（1H，ｓ） 製造例 28 ３−アミノ−３−チオキソプロピオン酸エチル
エステル（73.5ｇ）をジエチルエーテル（100ml）
にとかした溶液を、ブロモピルビン酸（88.5ｇ）
をジエチルエーテル（300ml）にとかした溶液に
加え、室温で15時間撹拌する。沈殿を濾取し、水
（500ml）とジエチルエーテル（300ml）の混合物
に加え、20％炭酸ナトリウム水溶液でPH7.5に調
整する。水層を分取し、濃塩酸でPH1.0に調整し、
ジエチルエーテルで抽出する。ジエチルエーテル
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残留
物をジイソプロピルエーテルで洗浄すると、２−
（４−カルボキシチアゾール−２−イル）酢酸エ
チルエステル（57.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3100，2870−2400，1730，
1670cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.28（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），4.23（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），4.30（2H，
ｓ），8.50（1H，ｓ） 製造例 29 ２−（４−カルボキシチアゾール−２−イル）
酢酸エチルエステル（21.5ｇ）を第３級ブタノー
ル（200ml）とジフエニル亜燐酸アジド（27.5ｇ）
にとかした溶液に、トリエチルアミン（10.1ｇ）
を加え、混合物を２時間加熱還流する。反応混合
物から溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル（500
ml）にとかす。酢酸エチル溶液を水、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム水溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去し、残留物をジイソプロピルエーテルで洗浄
し濾取すると、２−（４−第３級ブトキシカルボ
ニルアミノチアゾール−２−イル）酢酸エチルエ
ステル（19.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3180，1730，1710，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.23（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），1.50（9H，ｓ），4.07（2H，ｓ），4.15
（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），7.15（1H，ｓ），10.00
（1H，ｓ） 製造例 30 ２−（４−第３級ブトキシカルボニルアミノチ
アゾール−２−イル）酢酸エチルエステル（5.1
ｇ）を、２酸化セレン（2.96ｇ）をジオキサン
（60ml）と水（２ml）にとかした溶液に110℃で加
え、110℃で4.5時間撹拌する。混合物を濃縮し、
残留物を酢酸エチルと水にとかす。酢酸エチル層
を分取し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルでカラムクロマトグラフイーに付
し、メチレンクロライドで溶離する。目的化合物
を含むフラクシヨンを集め、濃縮すると、（４−
第３級ブトキシカルボニルアミノチアゾール−２
−イル）グリオキシル酸エチルエステル（4.2ｇ）
を得る。 IR（液膜）：3250，3150，1720，1680cm-1 NMR δ ppm（CDCl3）：1.42（3H，ｔ，Ｊ＝７
Hz），1.52（9H，ｓ），4.44（2H，ｑ，Ｊ＝７
Hz），7.89（1H，ｓ），8.28（1H，ｓ） 製造例 31 水酸化ナトリウム（2.05ｇ）を水（30ml）にと
かした溶液を、（４−第３級ブトキシカルボニル
アミノチアゾール−２−イル）グリオキシル酸エ
チルエステル（7.7ｇ）をメタノール（20ml）に
とかした溶液に加え、室温で１時間撹拌する。混
合物を10％塩酸でPH7.0に調整し、ジエチルエー
テルで洗浄する。水層を分取し、10％塩酸でPH
2.0に調整し、ジエチルエーテルで抽出する。ジ
エチルエーテル層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留する（４−第３級ブトキシカルボニルア
ミノチアゾール−２−イル）グリオキシル酸をメ
タノール（20ml）にとかす。一方、1N−ナトリ
ウムメチレートメタノール溶液（25ml）を、メト
キシルアミン塩酸塩（2.35ｇ）をメタノール（20
ml）とフエノールフタレイン指示薬（２−３滴）
にとかした溶液に加え、30分間撹拌する。不溶物
を濾去し、濾液を上記溶液に加え、室温で２時間
撹拌する。反応混合物にジイソプロピルエーテル
を加え、沈殿を濾取すると、２−メトキシイミノ
−２−（４−第３級ブトキシカルボニルアミノチ
アゾール−２−イル）酢酸（シン異性体）（3.6
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，3150，1730，1640，
1630cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.45（9H，ｓ），
3.97（3H，ｓ），7.37（1H，ｓ），10.33（1H，ｓ） 目的化合物の製造 実施例 １ ジケテン（1.26ｇ）を４塩化炭素（12ml）にと
かした溶液に、臭素（2.40ｇ）を４塩化炭素（３
ml）にとかした溶液を−30ないし−25℃で加え、
混合物を同温度で半時間撹拌して４−ブロモアセ
トアセチルブロマイドの溶液を得る。この溶液
を、７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩
（6.43ｇ）とトリメチルシリルアセトアミド
（7.82ｇ）を酢酸エチル（129ml）にとかした溶液
に−30℃で撹拌下に加え、−30ないし−10℃で２
時間撹拌を続ける。反応混合物に−20℃で水と酢
酸エチルを加え、有機層を分取し、水、炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮す
る。残留物をエタノール（100ml）とテトラヒド
ロフラン（100ml）の混液にとかし、チオ尿素
（3.42ｇ）を加え、室温で１時間撹拌する。反応
混合物を濃縮し、残留物におよび酢酸エチルを加
え、炭酸水素ナトリウムでPH７に調整する。酢酸
エチル層を分取し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮す
ると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（6.89
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1760，1740，1650，1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.47（2H，ブロー
ド ｓ），3.80（2H，ｍ），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.68（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.87（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.33（1H，ｓ），6.85（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz），6.93（2H，ｍ），7.02（1H，ｓ），7.43
（10H，ｓ），9.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 ２ 実施例１と同様の方法により、７−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバ
ロイルオキシメチルエステルを得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1750，1650cm-1 実施例 ３ ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（1.9
ｇ）とトリメチルシリルアセトアミド（4.6ｇ）
を酢酸エチル（30ml）にとかした溶液に、２−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸（シン異性体）（1.1ｇ）、オ
キシ塩化燐（0.81ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（0.39ｇ）および酢酸エチル（20ml）を氷
冷下に半時間撹拌して製した活性化された酸溶液
を−30℃で加え、混合物を−30ないし−10℃で１
時間撹拌する。酢酸エチル（100ml）および水
（50ml）を加え、有機層を分取し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮乾
固すると、７−［２−（２−ホルムアミドチアゾー
ル−４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（2.4
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1710，1700，
1660，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｍ），
3.95（3H，ｓ），５，30（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），
5.32（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.66（1H，ｄ，Ｊ＝
17Hz），5.96（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.82
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.00（1H，ｓ），
7.17−7.73（11H，ｍ），8.57（1H，ｓ），9.80
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.7（1H，ブロード
ｓ） 実施例 ４ ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（2.15
ｇ）と２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−アリルオキシイミノ酢酸（シン異性
体）（1.53ｇ）を実施例３と同様に反応させて、
７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）−２−アリルオキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）（3.1ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：3250，1760，1710，1690，
1660，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.65（2H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.00−6.3
（7H，ｍ），6.77（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），
6.97（1H，ｓ），7.17−7.63（11H，ｍ），8.53
（1H，ｓ），9.78（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.7
（1H，ブロード ｓ） 実施例 ５ ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（1.0
ｇ）と２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−プロパルギルオキシイミノ酢酸（シ
ン異性体）（0.71ｇ）を実施例３と同様に反応さ
せて、７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）−２−プロパルギルオキシイミノアセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（1.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1720，1690，
1660，1550cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.38（1H，ｍ），
3.82（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.82（2H，ｍ），
5.33（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.55（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.98（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.85（1H，dd，Ｊ＝11
Hz，18Hz），7.02（1H，ｓ），7.17−7.82（10H，
ｍ），7.55（1H，ｓ），8.62（1H，ｓ），9.80（1H，
ｄ，Ｊ＝８Hz），12.60（1H，ブロード ｓ） 実施例 ６ ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（6.0
ｇ）と（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸（3.93ｇ）を実施例３と同様
に反応させて、mp141−144℃（分解）の７−
［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（6.1ｇ）
を得る。 IR（ヌジヨール）：3150，1780，1720，1695，
1670，1620，1520cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.33（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），
5.93（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.87（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.00（1H，ｓ），7.20−
7.67（10H，ｍ），8.50（1H，ｓ），8.63（1H，
ｓ），9.97（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.82（1H，ブ
ロード、 ｓ） 下記実施例７ないし16に記載の化合物は、７−
アミノ−３−ビニルセフアロスポラン酸誘導体と
対応する酸を実施例３と同様に反応させて得られ
た。 実施例 ７ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸 IR（ヌジヨール）：3260，1760，1650cm-1 実施例 ８ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸塩酸塩
（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3260，1775，1720，1660，
1645，1600，1500cm-1 実施例 ９ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−アリルオキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1655，1605，
1545cm-1 実施例 10 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1760，1680，1620，
1530cm-1 実施例 11 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸 IR（ヌジヨール）：3300，3200−3100，1780，
1660，1610，1520cm-1 実施例 12 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステル IR（ヌジヨール）：1770，1750，1650cm-1 実施例 13 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シン異
性体） IR（ヌジヨール）：1770，1740，1670cm-1 実施例 14 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチル
エステル IR（ヌジヨール）：1775，1745，1660cm-1 実施例 15 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ヘキサノイルオキシメチルエステル（シン
異性体） IR（ヌジヨール）：1770，1650cm-1 実施例 16 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ヘキサノイルオキシメ
チルエステル IR（ヌジヨール）：1770，1660cm-1 実施例 17 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（6.79ｇ）
をメチレンクロライド（68ml）にとかした溶液
に、トリフルオロ酢酸（29.1ｇ）およびアニソー
ル（11.02ｇ）を０℃で加え、混合物を室温で65
分間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物に酢
酸エチルおよび水を加え、炭酸水素ナトリウム水
溶液でPH７に調整する。水層を分取し、10％塩酸
でPH3.0に調整し、沈殿を濾取すると、mp104−
116℃（分解）の７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（1.88ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3260，1760，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：３，47（2H，
ｓ），3.77（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），5.18（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62
（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝５
Hz，８Hz），6.33（1H，ｓ），6.75−7.15（2H，
ｍ），6.98（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），8.95
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 18 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）（2.3ｇ）とメチレ
ンクロライド（40ml）のけんだく液に、アニソー
ル（3.3ｇ）およびトリフルオロ酢酸（8.7ｇ）を
氷冷撹拌下に加え、室温で75分間撹拌を続ける。
反応混合物を濃縮し、残留物に水および酢酸エチ
ルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７
に調整する。水層を分取し、酢酸エチルを加え、
10％塩酸でPH２に調整する。酢酸エチル層を分取
し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮乾固し、残留物をジエ
チルエーテルで洗浄すると、７−［２−（２−ホル
ムアミドチアゾール−４−イル）−２−メトキシ
イミノアセトアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）（1.45ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1690，1650，
1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.70（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），3.88（3H，ｓ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz）5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.55（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.82（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.93（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.45
（1H，ｓ），8.52（1H，ｓ），9.73（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 実施例 19 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−アリルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル（シン異性体）（3.0ｇ）とト
リフルオロ酢酸（10.8ｇ）とアニソール（4.0ｇ）
の存在下実施例18と同様に反応させて、７−［２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２
−アリルオキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（1.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1680（シヨルダ
ー），1650，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.67（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.60（2H，ｄ，Ｊ＝４Hz），4.83−
6.33（7H，ｍ），6.90（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18
Hz），7.38（1H，ｓ），8.48（1H，ｓ），9.70（1H，
ｄ，Ｊ＝８Hz），12.62（1H，ブロード ｓ） 実施例 20 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−プロパルギルオキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（1.2
ｇ）とトリフルオロ酢酸（4.4ｇ）をアニソール
（1.7ｇ）の存在下実施例18と同様に反応させて、
７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル］−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸（シン異性体））（0.77ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1680，1660，
1550cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.52（1H，ｍ），
3.77（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.80（2H，ｍ），
5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.37（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.87（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.00（1H，dd，Ｊ＝11
Hz，18Hz），7.50（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ），
9.83（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.77（1H，ブロー
ド ｓ） 実施例 21 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（6.0ｇ）とトリフルオロ酢酸（23.7ｇ）をアニソ
ール（9.0ｇ）の存在下実施例18と同様に反応さ
せて、７−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸（3.0ｇ）を得る。 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.37（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），
5.83（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.00（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），8.50（1H，ｓ），8.65
（1H，ｓ），9.93（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.8
（1H，ブロード ｓ） 下記実施例22ないし25に記載の化合物は、対応
するセフアロスポラン酸誘導体のベンズヒドリル
エステルとトリフルオロ酢酸をアニソールの存在
下実施例18と同様に反応させて得られた。 実施例 22 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸塩酸塩
（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3260，1775，1720，1660，
1645，1600，1550cm-1 実施例 23 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−アリルオキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1655，1605，
1545cm-1 実施例 24 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1760，1680，1620，
1530cm-1 実施例 25 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸 IR（ヌジヨール）：3300，3200−3100，1780，
1660，1610，1520cm-1 実施例 26 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体）（1.4ｇ）をメタノール（30ml）およびテト
ラヒドロフラン（20ml）にとかした溶液に、濃塩
酸（1.0ml）を加え、混合物を室温で2.7時間撹拌
する。反応混合物を濃縮し、残留物をテトラヒド
ロフランで洗浄すると、７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸塩酸塩（シン異性体）（1.2ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3260，1775，1720，1660，
1645，1600，1500cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.00（3H，ｓ），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.60（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.80（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.98（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.02
（1H，ｓ），9.87（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 27 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−アリルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）（1.6ｇ）、濃塩酸（1.5ml）およびメタ
ノール（30ml）の混合物を室温で２時間撹拌す
る。反応混合物を濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、不溶物を濾去する。濾液を10％
塩酸でPH３に調整し、沈殿する固体を濾取し、水
洗すると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−アリルオキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）（1.25ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1655，1605，
1545cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.67（2H，ｍ），5.00−6.5（7H，ｍ），
6.80（1H，ｓ），7.00（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18
Hz），9.67（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 28 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−プロパルギルオキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）と濃塩酸（0.5ml）をメタノ
ール（14ml）とテトラヒドロフラン（４ml）の混
液中で実施例27と同様に反応させて、７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−プロパ
ルギルオキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）
（0.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1760，1680，1620，
1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.43（1H，ｍ），
3.68（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.7（2H，ｍ），5.17
（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝12
Hz），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.73（1H，dd，
Ｊ＝４Hz，８Hz），6.83（1H，ｓ），6.92（1H，
dd，Ｊ＝12Hz，18Hz），9.67（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz） 実施例 29 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（1.23ｇ）と濃塩酸
（1.25ml）をメタノール（25ml）とテトラヒドロ
フラン（10ml）の混液中で実施例27と同様に反応
させて、７−［（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（0.76ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，3200−3100，1780，
1660，1610，1520cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.80（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.42（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），
5.82（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.05（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.92（1H，ｓ），9.58
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 下記実施例30ないし34に記載の化合物は、対応
するホルムアミド基を有するセフアロスポラン酸
誘導体と濃塩酸を実施例27と同様に反応させて得
られた。 実施例 30 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステ
ル IR（ヌジヨール）：1770，1750，1650cm-1 実施例 31 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シン異
性体） IR（ヌジヨール）：1770，1740，1670cm-1 実施例 32 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル IR（ヌジヨール）：1775，1745，1660cm-1 実施例 33 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ヘキサノイルオキシメチルエステル（シン
異性体） IR（ヌジヨール）：1770，1650cm-1 実施例 34 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル IR（ヌジヨール）：1770，1660cm-1 実施例 35 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸（1.33ｇ）および炭酸水素ナトリウ
ム（0.304ｇ）から製した７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（1.36ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（14
ml）にとかす。この溶液にピバリン酸ヨードメチ
ルエステル（0.932ｇ）とＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（３ml）の溶液を氷冷下に加え、同温度
で10分間撹拌する。酢酸エチル（80ml）を加え、
反応混合物を水で２回、５％炭酸水素ナトリウム
水溶液で３回、塩化ナトリウム水溶液で２回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃
縮乾固し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉
末化すると、mp128−132℃（分解）の７−［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステル（1.0ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1750，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.18（9H，ｓ），
3.42（2H，ｓ），3.80（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.40（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.77（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），5.87（2H，ｓ），6.30
（1H，ｓ），6.87（2H，ブロード ｓ），6.88
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），8.93（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz） 実施例 36 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ナ
トリウム（シン異性体）（２ｇ）とピバリン酸ヨ
ードメチルエステル（1.21ｇ）を実施例35と同様
に反応させて、mp163−185℃（分解）の７［２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−プロパ
ルギルオキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイルオキ
シメチルエステルシン異性体（1.64ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1740，1670cm-1NMR
δ ppm（DMSO−d6）：1.22（9H，ｓ），3.5（1H，
ｓ），3.85（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.75（1H，ｓ），
5.35（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.45（1H，ｄ，Ｊ＝11
Hz）、5.70（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz）、5.85（1H，dd、
Ｊ＝５Hz，８Hz）、5.92（2H，Ｓ）、6.87（1H，
ｓ）、6.88（1H、dd，Ｊ＝11Hz，18Hz）、7.32（2H、
ｍ）、9.73（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 37 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリオ
キシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ナトリウム（1.05ｇ）とピバリン酸
ヨードメチルエステル、（0.63ｇ）を実施例35と
同様に反応させて、mp108−115℃の７−［（２−
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステル（0.94ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：1775，1745，1660cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.12（9H，ｓ），
3.75（2H，ｍ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.38（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.67（1H，ｄ，Ｊ＝
18Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），5.83
（2H，ｓ），6.85（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），
7.35（2H，ブロード ｓ），7.83（1H，ｓ），
9.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 38 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−プロパルギルオキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ナ
トリウム（シン異性体）（２ｇ）をＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（20ml）にとかした溶液に、ヘ
キサン酸ヨードメチルエステル（1.28ｇ）をＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ml）にとかした溶
液を氷冷下に加え、混合物を同温度で15分間撹拌
する。反応混合物に酢酸エチル（80ml）を加え、
水で２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で３
回、飽和塩化ナトリウム水溶液で２回洗浄する。
得られる溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
濃縮し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末
化すると、mp98−109℃（分解）の７−［２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−プロパル
ギルオキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸ヘキサノイルオキ
シメチルエステル（シン異性体）（1.85ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1770，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.87（3H，ｔ，Ｊ
＝８Hz），1.38（6H，ｍ），2.53（2H，ｍ），3.47
（1H，ｓ），3.80（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.72
（2H，ｓ），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.42
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝18
Hz），5.88（3H，ｍ），6.80（1H，ｓ），6.80（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.25（2H，ブロード
ｓ），9.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 39 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ナトリウム（1.05ｇ）とヘキサン
酸ヨードメチルエステル（0.666ｇ）を実施例38
と同様に反応させて、mp89−94℃の７−［（２−
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ヘキサノイルオキシメチルエステル（0.96ｇ）
を得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1660cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.82（3H，ｓ），
1.30（6H，ｍ），2.30（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz），
3.77（2H，ｍ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.37（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝
18Hz），5.77（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），5.83
（2H，ｓ），6.88（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），
7.37（2H，ｍ），7.83（1H，ｓ），9.78（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz） 実施例 40 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（4.3
ｇ）および２，６−ルチジン（1.08ｇ）をメチレ
ンクロライド（60ml）にとかした溶液に、Ｎ−第
３級ブトキシカルボニル−２（２−ホルムアミド
チアゾール−４−イル）グリシン（3.0ｇ）およ
びＮ，N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（2.06ｇ）を氷冷撹拌下に加え、同温度で１時間、
室温で3.5時間撹拌を続ける。メチレンクロライ
ド（100ml）を加え、反応混合物を希塩酸で洗浄
し、沈殿を濾去する。濾液を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、残
留物をジエチルエーテルで粉末化すると、７−
［Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−（２−ホル
ムアミドチアゾール−４−イル）グリシンアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（5.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3280，1780，1720，1660，
1630，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.39（9H，ｓ），
3.65（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.19（1H，ｓ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝11
Hz），5.59（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.74（1H，dd，
Ｊ＝４Hz，８Hz），6.68（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz），6.93（1H，ｓ），7.00−7.70（12H，ｍ），
9.24（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 41 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（3.4ｇ）と
Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−［２−（２，
２，２−トリフルオロアセトアミド）チアゾール
−４−イル］グリシン（3.3ｇ）を実施例40と同
様に反応させて、７−［Ｎ−第３級ブトキシカル
ボニル−２−｛２−（２，２，２−トリフルオロア
セトアミド）チアゾール−４−イル｝グリシンア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（4.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3270，1780，1720，1670，
1560cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.43（9H，ｓ），
3.77（2H，ｍ），5.13−6.00（5H，ｍ），6.82
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.00（1H，ｓ），
7.10−7.70（11H，ｍ），9.27（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz） 実施例 42 ７−［Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）グリシンアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（3.9ｇ）とメチレン
クロライド（20ml）のけんだく液に、トリフルオ
ロ酢酸（13.7ｇ）およびアニソール（3.8ｇ）を
氷冷下に加え、混合物を室温で１時間撹拌する。
反応混合物を濃縮し、残留物に水（100ml）およ
び酢酸エチルを加え、2N水酸化ナトリウム水溶
液でPH７に調整する。沈殿する固体を濾去し、水
層を分取する。これに酢酸エチルを加え、10％塩
酸でPH５に調整する。水層を分取し、有機溶媒を
完全に留去し、得られる水溶液を10％塩酸で冷却
下にPH４に調整し、非イオン性吸着樹脂「ダイヤ
イオンHP−20」（120ml）でカラムクロマトグラ
フイーに付す。水（270ml）で洗浄し、10％イソ
プロピルアルコール、次いで30％イソプロピルア
ルコールで溶離し、目的化合物を含むフラクシヨ
ンを集めて減圧濃縮し、残留物を凍結乾燥する
と、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）グリシンアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（0.8ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1760，1670，
1610，1520cm-1 NMR δ ppm（D2O＋NaHCO3）：3.68（2H，ブ
ロード ｓ），5.08（1H，ｓ），5.08（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.40
（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），6.73（1H，ｓ），6.80（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz） 実施例 43 ７−［Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリシン
アミド）−３−ビニル−３−セフエム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル（5.6ｇ）、濃塩酸
（2.6ml）、メタノール（60ml）およびテトラヒド
ロフラン（15ml）の混合物を、室温で2.5時間撹
拌する。反応混合物中の沈殿を濾取し、メタノー
ルと水の混液（容量比１：２）、次いで水で洗浄
し、乾燥すると、７−［Ｎ−第３級ブトキシカル
ボニル−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
グリシンアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（0.4ｇ）
を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1710，1650，
1620，1570，1510cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.40（9H，ｓ），
3.67（2H，ブロード ｓ），5.00−6.00（5H，
ｍ），6.47（1H，ｓ），6.97（1H，ｓ），6.67−
7.67（12H，ｍ），9.00（1H，ｍ） 実施例 44 ７−［Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−｛２
−（２，２，２−トリフルオロアセトアミド）チ
アゾール−４−イル｝グリシンアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル（2.5ｇ）、酢酸ナトリウム（2.8
ｇ）、テトラヒドロフラン（20ml）、アセトン（20
ml）および水（40ml）の混合物を室温で２時間撹
拌する。反応混合物を濃縮し、残留物を酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
し、残留物をシリカゲル（50ｇ）でカラムクロマ
トグラフイーに付す。メチレンクロライド、次い
でメチレンクロライドとジエチルエーテルの混液
（容量比９：１）で溶離し、目的化合物を含むフ
ラクシヨンを集めて濃縮すると、７−［Ｎ−第３
級ブトキシカルボニル−２（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）グリシンアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル（1.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1710，1650，
1620，1570，1510cm-1 実施例 45 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸（2.35ｇ）をメタノール（100ml）
にとかした溶液に水素化ほう素ナトリウム（0.34
ｇ）を５−10℃で加え、混合物を同温度で５分間
撹拌する。反応混合物を10％塩酸でPH５に調整
し、メタノールを留去し、残留する水溶液を10％
塩酸でPH５に調整し、非イオン性吸着樹脂「ダイ
ヤイオンHP−20」（70ml）でカラムクロマトグ
ラフイーに付す。水（140ml）で洗浄後、30％イ
ソプロピルアルコール（140ml）で溶離し、目的
化合物を含むフラクシヨンを集める。イソプロピ
ルアルコールを留去し、残留する水溶液を凍結乾
燥すると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−DL−グリコールアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４カルボン酸（2.01ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1755，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.48（2H，ｍ），
3.83（1H，ブロード ｓ），4.83（1H，ｓ），
4.98（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.2（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.47（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.5，5.53
（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.37（1H，ｓ），
6.85（2H，ｍ），7.07（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18
Hz），8.17，8.27（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 46 ２−（２−メタンスルホンアミドチアゾール−
４−イル）酢酸（2.6ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（0.88ｇ）、オキシ塩化燐（1.85ｇ）、酢
酸エチル（10ml）およびテトラヒドロフラン（20
ml）の混合物を氷冷下30分間撹拌する。これを、
７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（4.3ｇ）
とトリメチルシリルアセトアミド（7.9ｇ）を酢
酸エチル（50ml）にとかした溶液に−20℃で撹拌
下に加え、−20−０℃で２時間撹拌を続ける。水、
テトラヒドロフランおよび酢酸エチルを加え、反
応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７
に調整する。沈殿を濾取すると、７−［２−（２−
メタンスルホンアミドチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（3.6ｇ）を
得る。濾液に酢酸エチルおよびテトラヒドロフラ
ンを加え、有機層を分取し、塩化ナトリウム水溶
液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮すると同物質（0.9ｇ）を回収する。合計収量
4.5ｇ。 IR（ヌジヨール）：3250，1760，1700，1650，
1610，1600cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：2.88（3H，ｓ），
3.75（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，
ｄ，Ｊ＝17Hz），5.77（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.51（1H，ｓ），6.74（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），6.94（1H，ｓ），7.10−7.54（10H，ｍ），
9.22（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 47 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（10.3
ｇ）と、２−（２−ホルムアミドチアゾール−５
−イル）酢酸（5.4ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（2.56ｇ）およびオキシ塩化燐（5.34ｇ）
から常法により製した活性化された酸を実施例46
と同様に反応させて、mp173℃（分解）の７−
［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（11.48ｇ）
を得る。 IR（ヌジヨール）：3270，1770，1715，1680cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｓ），
3.79（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），５，24（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.3−6.0（3H，ｍ），6.5−7.1（1H，
ｍ），6.97（1H，ｓ），7.2−7.7（11H，ｍ），8.46
（1H，ｓ），9.23（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 48 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（4.3
ｇ）とメチレンクロライド（100ml）のけんだく
液に、２，６−ルチジン（1.08ｇ）を８℃で加
え、混合物を少時撹拌する。得られる溶液に、２
−（２−メタンスルホンアミドチアゾール−５−
イル）酢酸（2.6ｇ）およびジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（2.06ｇ）を氷冷撹拌下に加え、同
温度で１時間、室温で3.5時間撹拌を続ける。水
を加え、沈殿を濾去する。濾液を10％塩酸で洗浄
し、有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残
留物をジエチルエーテルで洗浄すると、７−［２
−（２−メタンスルホンアミドチアゾール−５−
イル］アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（1.8ｇ）を得る。上記濾去物から同物質（1.8ｇ）
を回収する。合計収量3.6ｇ。 IR（ヌジヨール）：3320，1770，1710，1660，
1620，1570，1520cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：2.90（3H，ｓ），
3.67（2H，ｍ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝
17Hz），5.77（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.75
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），6.95（1H，ｓ），
7.03（1H，ｓ），7.17−7.60（10H，ｍ），9.15
（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz） 実施例 49 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−
イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（4.67ｇ）、濃塩酸（4.67
ｇ）、メタノール（93ml）およびテトラヒドロフ
ラン（46ml）の混合物を、30℃で４時間撹拌す
る。有機溶媒を留去し、残留物に水（70ml）を加
え、10％水酸化ナトリウム水溶液でPH６ないし７
に調整する。不溶物を濾去し、濾液を10％塩酸で
冷却下にPH3.0に調整し、同温度で20分間撹拌す
る。沈殿を濾取し、水洗し、乾燥し、残留物を炭
酸水素ナトリウム水溶液にとかし、アルミナ（12
ml）でクロマトグラフイーに付し、酢酸ナトリウ
ム水溶液で溶離する。目的化合物を含むフラクシ
ヨンを集め、10％塩酸でPH3.1の酸性にし、沈殿
を濾取し、乾燥すると、mp290℃以上の７−［２
−（２−アミノチアゾール−５−イル）アセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（1.52ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3550，3280，1725，1650，
1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.53（2H，ｓ），
3.70（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.2−5.8（2H，ｍ），5.67（1H，dd，Ｊ
＝５Hz，８Hz），6.73（1H，ｓ），6.7−7.4（1H，
ｍ），9.07（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 50 ７−［２−（２−メタンスルホンアミドチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（4.5ｇ）、メチレンクロライド（30ml）およ
びアニソール（4.6ｇ）のけんだく液に、２，２，
２−トリフルオロ酢酸（16.8ｇ）を氷冷下に加
え、室温で１時間撹拌する。反応混合物を濃縮
し、水および酢酸エチルを加え、1N水酸化ナト
リウム水溶液でPH７に調整する。水層を分取し、
酢酸エチルおよびテトラヒドロフランを加え、10
％塩酸でPH２に調整する。有機層を分取し、塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジエチル
エーテルで洗浄すると、７−［２−（２−メタンス
ルホンアミドチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸（1.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3260，3140，3080，1770，
1700，1660，1610，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：2.88（3H，ｓ），
3.53（2H，ｓ），3.72（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），
5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.57（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.68（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.50（1H，ｓ），6.95
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），9.07（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz） 実施例 51 ７−［２−（２−メタンスルホンアミドチアゾー
ル−５−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（3.6ｇ）と２，２，２−トリフルスロ酢酸
（13.2ｇ）をアニソール（3.7ｇ）の存在下実施例
50と同様に反応させて、７−［２−（２−メタンス
ルホンアミドチアゾール−５−イル）アセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸（2.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，3110，1770，1705，
1660，1560，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：2.88（3H，ｓ），
3.58（2H，ｓ），3.68（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），
5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.32（1H，ｐ，Ｊ＝
12Hz），5.56（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.68（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.95（1H，dd，Ｊ＝12
Hz，18Hz），7.07（1H，ｓ），9.20（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 下記の化合物は、ベンズヒドリルエステルを有
する７−アシルアミノ−３−ビニルセフアロスポ
ラン酸誘導体と、２，２，２−トリフルオロ酢酸
をアニソールの存在下実施例50と同様に反応させ
て得られた。 実施例 52 ７−［２−（２−アミノチアゾール−５−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸 IR（ヌジヨール）：3550，3280，1725，1650，
1540cm-1 実施例 53 ７−［２−（２−グアニジノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸臭化水素酸塩 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1760，1680，
1660，1620，1540cm-1 実施例 54 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−
イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（11.48ｇ）、メチレンクロライド（57.4ml）およ
びアニソール（15ml）のけんだく液に、２，２，
２−トリフルオロ酢酸（46ml）を氷冷下に加え、
混合物を７ないし８℃で15分間撹拌する。反応混
合物をジイソプロピルエーテル（600ml）中に注
入し、氷冷下に20分間撹拌し不溶物を濾取し、ジ
イソプロピルエーテルで洗浄する。この物質
（11.4ｇ）を水（150ml）にけんだくし、炭酸水素
ナトリウムでPH6.5に調整し、活性炭で処理する。
濾液を10％塩酸でPH2.0に調整し、沈殿を濾取し、
水洗乾燥すると、mp200℃（分解）の７−［２−
（２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸（5.88ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3260，3220，3050，1780，
1750，1670，1540cm- 1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.71（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），3.76（2H，ｓ），5.15（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.3−6.9（3H，ｍ），6.6−7.2（1H，ｍ），
7.29（1H，ｓ），8.50（1H，ｓ），9.24（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz） 実施例 55 (1) ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸（6.2ｇ）と水
（60ml）のけんだく液に、炭酸水素ナトリウム
（1.36ｇ）を撹拌下に加え、少時撹拌を続ける。
得られる溶液を凍結乾燥すると、７−［２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−DL−グリコ
ールアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ナトリウム（6.50ｇ）を得る。 (2) 上記物質（9.5ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（95ml）にけんだくし、氷冷下窒素気
流中に５分間撹拌する。得られる溶液に、ピバ
リン酸ヨードメチルエステル（5.7ｇ）をＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（10ml）にとかした
溶液を氷冷下に加え、同温度で10分間撹拌す
る。反応混合物を水と酢酸エチルの混合物中に
注入し、少時撹拌する。有機層を分取し、水層
を酢酸エチルで抽出する。抽出液を上で得た有
機層と合わせ、塩化ナトリウム飽和水溶液で３
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮する。残留物にジイソプロピルエーテルを加
え、けんだく液を少時撹拌する。不溶物を傾斜
して集め、この操作を３回くり返すと、mp90
−94℃の７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−DL−グリコールアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイル
オキシメチルエステル（8.8ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3370，1780，1750，1680，
1620cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.18（9H，ｍ），
3.77（2H，ｑ，Ｊ＝18.0Hz），4.90（1H，ｍ），
5.19（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.36（1H，ｄ，Ｊ
＝12.0Hz），5.50−6.22（4H，ｍ），6.43（1H，
ｓ），6.84（1H，dd，Ｊ＝12.0Hz，18.0Hz） （8.36（ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 8.47（ｄ，Ｊ＝8.0Hz））（1H） 実施例 56 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸および炭酸水
素ナトリウムから実施例55(1)と実質的に同様に製
した７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（2.9ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（30ml）にとかし、ピバリン酸ヨードメ
チルエステル（1.62ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（５ml）にとかした溶液を氷冷撹拌下に
滴下し、同温度で10分間撹拌を続ける。反応混合
物に酢酸エチル（200ml）および水（150ml）を加
え、有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、得
られる油状物をジイソプロピルエーテルで粉末化
すると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイ
ルメチルエステル（シン異性体）（2.1ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1770，1745，
1670，1610，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.18（9H，ｓ），
3.77（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），3.84（3H，ｓ），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.69（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.64−6.00
（3H，ｍ），6.75（1H，ｓ），6.82（1H，dd，Ｊ
＝11Hz，18Hz），7.24（2H，ブロード ｓ），
9.60（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 57 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ナトリウム（2.0ｇ）をＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（20ml）にとかした溶液に、
ヘキサン酸ヨードメチルエステル（3.4ｇ）およ
びよう化ナトリウム（3.1ｇ）を窒素気流中で加
え、混合物を室温で1.5時間撹拌する。反応混合
物を酢酸エチル（200ml）と水（200ml）の混合物
中に注入し、有機層を分取し、水および飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、活性炭で処理する。濾液を濃縮し、
ジイソプロピルエーテルを加え、沈殿を濾取する
と、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ヘキサノイルオキシメチルエス
テル（1.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1765，1655cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.2（10H，ｍ），
2.41（2H，ｍ），3.40（2H，ｓ），3.75（2H，ｑ，
Ｊ＝16Hz），5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.58
（3H，ｍ），5.82（2H，ｓ），6.23（1H，ｓ），
6.72（1H，dd，Ｊ＝12Hz，18Hz），6.90（2H，
ｍ），8.87（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例58 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸（1.0ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（10ml）にとかした溶液に、トリエチ
ルアミン（0.27ｇ）、３−ブロモフタリド（0.56
ｇ）およびよう化ナトリウム（０，39ｇ）を10℃
で撹拌下に加え、同温度で半時間撹拌を続ける。
反応混合物を水（50ml）に注入し、テトラヒドロ
フランおよび酢酸エチルの混液（容量比１：１）
で抽出する。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
し、得られる油状物をジイソプロピルエーテルで
粉末化すると、７−［（２−アミノチアゾール−４
−イル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸フタリド−３−イル
エステル（1.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1650cm-1 実施例 59 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（2.16ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（20ml）にとかした溶液に、３−ブロモ
フタリド（1.3ｇ）およびよう化ナトリウム
（1.35ｇ）を加え、混合物を室温で40分間撹拌す
る。酢酸エチル（100ml）および水（50ml）を加
え、酢酸エチル層を分取し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去し、残留物（2.6ｇ）をシリカゲル（50ｇ）で
クロマトグラフイーに付し、ベンゼンと酢酸エチ
ルの混液で溶離する。目的化合物を含むフラクシ
ヨンを集め、濃縮すると、７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノア
セトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸フタリド−３−イルエステル（シン異
性体）（1.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1775，1670，1610，
1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.80（2H，ｍ），
3.88（3H，ｓ），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
5.20−6.00（3H，ｍ），（6.78（ｓ），6.82（ｓ））
（1H），7.05（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），（7.65
（ｓ），7.68（ｓ））（1H），7.67−8.10（4H，ｍ），
（9.67（ｄ，Ｊ＝８Hz），9.70（ｄ，Ｊ＝８Hz））
（1H） 実施例 60 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸（2.0ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（15ml）にとかした溶液に、トリエチル
アミン（0.55ｇ）、３−ブロモフタリド（1.2ｇ）
およびよう化ナトリウム（0.82ｇ）を順次窒素気
流中で加え、混合物を室温で半時間撹拌する。反
応混合物を酢酸エチル（300ml）と水（200ml）の
混合物中に注入し、有機層を分取し水および飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、活性炭で処理する。濾液を濃縮
し、残留物にジエチルエーテルを加える。沈殿を
濾取すると、７−［２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸フタリド−３−イルエス
テル（1.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1760，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.43（2H，ｓ），
3.80（2H，ｍ），5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.6
（3H，ｍ），6.23（1H，ｓ），6.87（2H，ｍ），
7.03（1H，dd，Ｊ＝12Hz，18Hz），（7.60（ｓ）
7.63（ｓ））（1H），7.8（4H，ｍ），（8.83（ｄ，Ｊ
＝８Hz）8.86（ｄ，Ｊ＝８Hz））（1H） 実施例 61 実施例60と同様にして、７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−DL−グリコールアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸フタリド−３−イルエステルを得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1740，1660，1610cm-1 実施例 62 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸フタリド−３−イルエステル
（0.3ｇ）をメタノール（9.0ml）およびテトラヒ
ドロフラン（3.0ml）にとかした溶液に、水素化
ほう素ナトリウム（0.012ｇ）を氷冷下に加え、
混合物を同温度で30分間撹拌する。溶媒を留去
し、残留物を水（15ml）、テトラヒドロフラン
（15ml）および酢酸エチル（15ml）の混合物中に
とかし、10％塩酸でPH7.0に調整する。有機層を
分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で２回洗浄し
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留物をシリカゲルでクロマトグラフイーに
付し、酢酸エチルとクロロホルムの混液（容量比
17：３）で溶離する。目的化合物を含むフラクシ
ヨンを集め、濃縮乾固し、残留物をジイソプロピ
ルエーテルで粉末化すると、mp118−120℃（分
解）の７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸フタリド−３−イル
エステル（0.14ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1740，1660，1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.80（2H，ｍ），
4.84（1H，ｍ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.19−6.04（3H，ｍ），6.38（1H，ｓ），6.93
（1H，ｍ），7.54−8.04（5H，ｍ），8.33（1H，
ｍ） 実施例 63 実施例62と同様にして７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−DL−グリコールアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピ
バロイルオキシメチルエステルを得る。 IR（ヌジヨール）：3370，1780，1750，1680，
1620cm-1 実施例 64 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸（1.95ｇ）、トリメチルシリルアセト
アミド（5.6ｇ）および酢酸エチル（20ml）のけ
んだく液を40℃で少時撹拌して溶液Ａとする。一
方、ジケテン（0.87ｇ）を４塩化炭素（９ml）に
とかした溶液に、臭素（1.65ｇ）を４塩化炭素
（２ml）にとかした溶液を−20℃で滴下し、混合
物を−10℃で半時間撹拌して溶液Ｂとする。溶液
Ａに溶液Ｂを−20ないし−10℃で加え、混合物を
同温度で半時間撹拌する。酢酸エチル（80ml）お
よび水（80ml）を加え、有機層を分取し、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮すると、７−（４−ブロモ−
３−オキソブチルアミド）−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（3.2ｇ）を得る。この
物質をテトラヒドロフラン（50ml）とエタノール
（50ml）の混液にとかし、１−アミジノチオ尿素
（1.7ｇ）を加え、２時間撹拌する。沈殿を濾取し
乾燥すると、７−［２−（２−グアニジノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸臭化水素酸塩（0.7
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1760，1680，
1660，1620，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.27−3.95（4H，
ｍ），5.1−5.91（4H，ｍ），6.9（1H，ｓ），7.1
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），9.1（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 下記の化合物は、７−アミノ−３−ビニルセフ
アロスポラン酸誘導体とジケテン、臭素およびチ
オ尿素を実施例64と同様に反応させて得られた。 実施例 65 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ヘキサノイルオキシメチルエス
テル IR（ヌジヨール）：3250，1765，1655cm-1 実施例 66 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸フタリド−３−イルエステル IR（ヌジヨール）：3250，1780，1760，1650cm-1 実施例 67 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
トリフエニルホスホラニリデンメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シン異性体）（2.2ｇ）、36％ホルムアルデヒド水
溶液（20ml）およびテトラヒドロフラン（60ml）
の混合物を室温で12.5時間撹拌する。反応混合物
に酢酸エチル（100ml）を加え、有機層を分取し、
10％塩酸および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留物をジエチルエーテルで粉末化し、シリ
カゲルでクロマトグラフイーに付し、クロロホル
ム、次いでクロロホルムとアセトンの混液（容量
比19：１および９：１）で溶離する。目的化合物
を含むフラクシヨンを集め、濃縮すると、７−
［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体）（0.25ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1710，1700，
1660，1540cm-1 下記の化合物は、７−アシルアミノ−３−トリ
フエニルホスホラニリデンメチルセフアロスポラ
ン酸誘導体とホルムアルデヒド水溶液を実施例67
と同様に反応させて得られた。 実施例 68 ７−［２−（２−メタンスルホンアミドチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル IR（ヌジヨール）：3250，1760，1700，1650，
1610，1600cm-1 実施例 69 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−
イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル IR（ヌジヨール）：3270，1770，1715，1680cm-1 実施例 70 ７−［２−（２−メタンスルホンアミドチアゾー
ル−５−イル）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル IR（ヌジヨール）：3320，1770，1710，1660，
1620，1570，1520cm-1 実施例 71 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメ
チルエステル IR（ヌジヨール）：3370，1780，1750，1680，
1620cm-1 実施例 72 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイ
ルオキシメチルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3400−3100，1770，1745，
1670，1610，1530cm-1 実施例 73 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル IR（ヌジヨール）：3250，1765，1655cm-1 実施例 74 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸フタリド−３−イルエステル IR（ヌジヨール）：3300，1770，1650cm-1 実施例 75 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸フタリド
−３−イルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3300，1775，1670，1610，
1530cm-1 実施例 76 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸フタリド−３−イルエステル IR（ヌジヨール）：3250，1780，1760，1650cm-1 実施例 77 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸フタリド−３−イル
エステル IR（ヌジヨール）：1770，1740，1660，1610cm-1 実施例 78 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（3.54ｇ）を
メチレンクロライド（35ml）にとかした溶液に、
２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−
２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカルボニル
−３−第３級ブトキシルボニルアミノプロポキシ
イミノ）酢酸（シン異性体）（6.0ｇ）をテトラヒ
ドロフラン（60ml）にとかした溶液、次いでＮ，
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（2.2ｇ）
を加え、室温で４時間撹拌する。沈殿を濾去し、
濾液を濃縮乾固し、残留物をシリカゲルクロマト
グラフイーに付し、ジイソプロピルエーテルとア
セトンの混液で溶離する。目的化合物を含むフラ
クシヨンを集め、濃縮すると、mp153−158℃の
７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）−２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカル
ボニル−３−第３級ブトキシカルボニルアミノプ
ロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル（シン異性体）（3.80ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3200，1780，1700（ブロード）
cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.36（9H，ｓ），
2.1（2H，ｍ），3.6（2H，ｍ），4.2（3H，ｍ），
5.2−6.1（4H，ｍ），6.8（1H，ｓ），6.97（1H，
ｓ），6.8−7.2（1H，ｍ），7.37（20H，ｍ），7.43
（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ），9.75（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），12.7（1H、ブロード ｓ） 実施例 79 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（1.10ml）およ
びテトラヒドロフラン（６ml）の溶液に、オキシ
塩化燐（1.30ml）を滴下し、10分間撹拌する。テ
トラヒドロフラン（25ml）および２−（２−ホル
ムアミドチアゾール−４−イル）−２−メトキシ
イミノ酢酸（シン異性体）（2.96ｇ）を加え、混
合物を５℃で45分間撹拌して活性化された酸溶液
を得る。この溶液を、７−アミノ−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル−２−第３級ブトキシカ
ルボニルアミノエチルエステル（5.0ｇ）とトリ
メチルシリルアセトアミド（9.05ｇ）をメチレン
クロライド（50ml）にとかした溶液に−30℃で５
分間に滴下し、−20ないし−10℃で半時間撹拌す
る。反応混合物を酢酸エチル（300ml）および水
（100ml）の混合物中に注入し、10％水酸化ナトリ
ウム水溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液でPH
7.5に調整する。酢酸エチル層を分取し、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去すると、粗製の７−［２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２
−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル−２−第３級ブトキシカ
ルボニルアミノエチルエステル（シン異性体）
（7.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3280，1782，1709，1689，
1656cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.40（9H，ｓ），
3.73（2H，ｍ），3.92（3H，ｓ），4.56（3H，ｍ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.75（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.84（1H，ｓ），6.93
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.37（10H，ｍ），
7.43（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ），9.73（1H，ｄ，
Ｊ＝８Hz），12.7（1H，ブロード ｓ） 実施例 80 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（1.44ml）、オ
キシ塩化燐（1.71ml）およびテトラヒドロフラン
（６ml）から常法により製したビルスマイヤー試
薬に、（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
グリオキシル酸（3.108ｇ）を加え、少時攪伴す
る。これにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（45
ml）とテトラヒドロフラン（60ml）を加えて活性
化された酸溶液を得る。この活性化された酸溶液
を、７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカル
ボニル−２−第３級ブトキシカルボニルアミノエ
チルエステル（4.5ｇ）とトリメチルシリルアセ
トアミド（8.4ｇ）をメチレンクロライド（45ml）
にとかした溶液に−30℃で５分間に滴下する。反
応混合物に酢酸エチル（400ml）を加え、炭酸水
素ナトリウム水溶液でPH7.5に調整する。溶液を
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去すると、粗製の７
−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシ
カルボニル−２−第３級ブトキシカルボニルアミ
ノエチルエステル（8.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1777，1720，1667cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.37（9H，ｓ），
3.67（2H，ｍ），4.43（3H，ブロード ｓ），
5.10（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.55（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.58（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.71（1H，ｓ），7.23
（10H，ｍ），8.37（1H，ｓ），8.47（1H，ｓ），
9.77（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.7（1H，ブロード
ｓ） 実施例 81 ７−アミノ−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル塩酸塩（2.28ｇ）と２−
（２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸（シン異性体）（1.4ｇ）を実
施例79および80と同様に反応させて、mp208℃
（分解）の７−［２−（２−ホルムアミドチアゾー
ル−５−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（2.9
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1720，1685，
1655，1570cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.82（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），3.92（3H，ｓ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.67（1H，
ｄ，Ｊ＝17Hz），5.92（1H，dd，Ｊ＝８Hz），
6.85（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.00（1H，
ｓ），7.2−7.6（10H，ｍ），7.61（1H，ｓ），8.62
（1H，ｓ），9.98（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 82 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（2.68
ｇ）と（２−ホルムアミドチアゾール−５−イ
ル）グリオキシル酸（1.5ｇ）を実施例79および
80と同様に反応させて、mp178℃（分解）の７−
［（２−ホルムアミドチアゾール−５−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（3.0ｇ）
を得る。 IR（ヌジヨール）：3280，1775，1730，1705，
1635，1555cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.80（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.35（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），
5.82（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.89（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.2−7.8（10H，ｍ），
6.99（1H，ｓ），8.58（1H，ｓ），8.68（1H，ｓ），
9.92（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.98（1H，ブロー
ド ｓ） 実施例 83 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（17.2
ｇ）と２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−エトキシイミノ酢酸（シン異性体）
（8.8ｇ）を実施例79および80と同様に反応させ
て、７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）（25.0ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：3260，3150，1770，1720，
1700，1660，1620，1560，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.27（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），3.79（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），4.18（2H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝
17Hz），5.96（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.78
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），6.97（1H，ｓ），
7.17−7.67（11H，ｍ），8.55（1H，ｓ），9.73
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.70（1H，ブロード
ｓ） 実施例 84 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（4.29
ｇ）と２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−ヘキシルオキシイミノ酢酸（シン異
性体）（3.29ｇ）を実施例79および80と同様に反
応させて、７−［２−（２−ホルムアミドチアゾー
ル−４−イル）−２−ヘキシルオキシイミノアセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（5.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1710，1700，
1650，1570，1535cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.87（3H，ｔ，Ｊ
＝６Hz），1.0−2.0（8H，ｍ），3.75（2H，ABq，
Ｊ＝18Hz），4.12（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz），5.28
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.42（1H，ｄ，Ｊ＝11
Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.90（1H，dd，
Ｊ＝５Hz，８Hz），6.77（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），6.97（1H，ｓ），7.12−7.75（11H，ｍ），
8.50（1H，ｓ），9.52（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），
12.70（1H，ブロード ｓ） 下記の化合物は、７−アミノ−３−ビニルセフ
アロスポラン酸誘導体と対応する酸の塩酸塩を実
施例79および80と同様に反応させて得られた。 実施例 85 ７−［２−（２−アミノチアゾール−５−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）、mp250℃以上。 IR（ヌジヨール）：3300，1780，1645，1530，
1515cm-1 実施例 86 ７−［２−（２−アミノチアゾール−５−イル）
グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸、mp250℃以上 IR（ヌジヨール）：3300，3130，1770，1690，
1620，1510，1460cm-1 実施例 87 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体） IR（ヌジヨール）：3300，1770，1660，1545cm-1 実施例 88 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイ
ルオキシメチルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3300，1780，1740，1670，
1610，1530cm-1 実施例 89 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）、mp147−155℃（分解） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1660，1530cm-1 実施例 90 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸アセトキ
シメチルエステル（シン異性体）、mp78−83℃ IR（ヌジヨール）：3300，1765（ブロード），1660，
1610，1535cm-1 実施例 91 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸プロピオ
ニルオキシメチルエステル（シン異性体）、
mp79−85℃ IR（ヌジヨール）：3350，1770（ブロード），1650，
1620，1530cm-1 実施例 92 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸イソブチ
リルオキシメチルエステル（シン異性体）、
mp92−100℃（分解） IR（ヌジヨール）：3400−3100，1780−1740，
1670，1610，1530cm-1 実施例 93 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸１−アセ
トキシプロピルエステル（シン異性体）、mp97
−101℃ IR（ヌジヨール）：3300，1765，1670，1610cm-1 実施例 94 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−
アミノ−２−カルボキシエテルエステル（シン
異性体） IR（ヌジヨール）：3200，1770，1735（シヨルダ
ー），1650（ブロード）cm-1 実施例 95 ７−［（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−２−第３級ブトキシカルボ
ニルアミノエチルエステル IR（ヌジヨール）：3340，1775，1720，1660，
1614cm-1 実施例 96 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル−３−第３級ブトキシカルボニルアミノプ
ロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体）、mp119−122℃ IR（ヌジヨール）：3300，1780，1719，1680cm-1 実施例 97 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカ
ルボニル−３−第３級ブトキシカルボニルアミノ
プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（3.65ｇ）をメタノール
（109ml）にとかした溶液に、濃塩酸（1.96ml）を
加え、混合物を35℃で24分間撹拌する。反応混合
物を10％水酸化ナトリウム水溶液および５％炭酸
水素ナトリウム水溶液でPH6.5に調整し、メタノ
ールを留去する。残留物を酢酸エチルにとかし、
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジイ
ソプロピルエーテルで粉末化すると、mp119−
122℃の７−［２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカ
ルボニル−３−第３級ブトキシカルボニルアミノ
プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（3.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1780，1719，1680cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.37（9H，ｓ），
2.1（2H，ｍ），3.7（2H，ｍ），4.2（3H，ｍ），
5.2−6.1（4H，ｍ），6.8（2H，ｓ），6.8−7.2
（1H，ｍ），6.97（1H，ｓ），7.37（20H，ｓ），
9.67（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 98 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−
ベンズヒドリルオキシカルボニル−２−第３級ブ
トキシカルボニルアミノエチルエステル（シン異
性体）（6.8ｇ）をメタノール（300ml）にとかし
た溶液に、濃塩酸（3.8ml）を加え、混合物を35
℃で１時間撹拌する。水（100ml）を加えた後、
反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でPH5.5
に調整し、メタノールを留去する。残留物を酢酸
エチルにとかし、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処
理する。溶媒を留去すると、７−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカル
ボニル−２−第３級ブトキシカルボニルアミノエ
チルエステル（シン異性体）（5.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3370，1775，1730，1616cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.33（9H，ｓ），
3.83，3.93（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.80（3H，
ｓ），４，47（3H，ブロード ｓ），5.12（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），
5.60（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），5.66（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），6.70（1H，ｓ），6.77（1H，
ｓ），6.8−7.2（1H，ｍ），7.3（10H，ブロード
ｓ）9.57（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 99 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−２−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノエチルエステル（8.7ｇ）をメタノール
（150ml）にとかした溶液に、濃塩酸（4.7ｇ）を
加え、混合物を35ないし40℃で70分間撹拌する。
反応混合物を５％水酸化ナトリウム水溶液および
５％炭酸水素ナトリウム水溶液でPH5.0に調整し、
水（600ml）に滴下する。沈殿する固体を濾取し、
水洗乾燥すると、７−［（２−アミノチアゾール−
４−イル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル−２−第３級ブトキシカ
ルボニルアミノエチルエステル（5.40ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：3340，1775，1720，1660，
1614cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.37（9H，ｓ），
3.47，3.97（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），4.53（3H，
ｍ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.33（1H，ｄ，
Ｊ＝11Hz）5.65（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），
5.68（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），6.82（1H，ｓ），
6.92（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.37（10H，
ｓ），7.83（1H，ｓ），9.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 100 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体）（1.9ｇ）と濃塩酸（1.36ｇ）をメタノール
（190ml）にとかした溶液を、室温で1.3時間撹拌
する。反応混合物を濃縮乾固し、残留物を水（35
ml）にけんだくし、10％水酸化ナトリウム水溶液
でPH７−８に調整し、次いで10％塩酸でPH３に調
整する。沈殿する固体を濾取し、水洗乾燥する
と、mp250℃以上の７−［２−（２−アミノチアゾ
ール−５−イル）−２−メトキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（1.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1780，1645，1580，
1515cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.76（2H，ｑ，Ｊ
＝20Hz），3.81（3H，ｓ），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.60（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.98（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.12
（1H，ｓ），7.60（2H，ブロード ｓ），9.76
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 101 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−５−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（１，73ｇ）と濃塩酸
（2.2ｇ）を実施例100と同様に反応させて、
mp250℃以上の７−［（２−アミノチアゾール−５
−イル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（1.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，3180，1770，1690，
1620，1510，1460cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.24（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.35（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），
5.73（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.03（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），8.28（1H，ｓ），8.56
（2H，ブロード ｓ），9.54（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz） 実施例 102 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体）（15.2ｇ）と濃塩酸（14ml）を実施例100と
同様に反応させて、７−［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−エトキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（12.2ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1660，1545cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.27（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），3.77（2H，ｑ，Ｊ＝18Hz），4.17（2H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），５，23（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝
17Hz），5.83（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.78
（1H，ｓ），6.98（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），
9.63（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 103 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）（３ｇ）と濃塩酸（0.65ｇ）を実施
例100と同様に反応させて、mp147−155℃（分
解）の７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）（2.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1660，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.84（3H，ｔ，Ｊ
＝６Hz），1.03−2.0（8H，ｍ），3.70（2H，
ABq，Ｊ＝18Hz），4.07（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.55（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.77（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.70（1H，ｓ），6.93
（1H，dd，Ｊ＝11Hz17Hz），9.58（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 下記の化合物は、ホルムアミド基を有する７−
アシルアミノ−３−ビニルセフアロスポラン酸誘
導体と濃塩酸を実施例100と同様に反応させて得
られた。 実施例 104 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−
アミノ−２−カルボキシエチルエステル（シン
異性体） IR（ヌジヨール）：3200，1770，1735（シヨルダ
ー），1650（ブロード）cm-1 実施例 105 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−アミノ−２
−カルボキシエチルエステル IR（ヌジヨール）：3300，3180，1760，1720，
1628cm-1 実施例 106 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（DL−３−アミノ−３−カルボキシプロ
ポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）、
mp145℃（分解） IR（ヌジヨール）：3120，1766，1612cm-1 実施例 107 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−５−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）（2.7ｇ）をアニソ
ール（3.5ml）およびトリフルオロ酢酸（10.8ml）
にとかした溶液を、氷冷下に15分間撹拌する。反
応混合物をジイソプロピルエーテル（140ml）中
に注入し、10分間撹拌する。沈殿する固体を濾取
し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し乾燥する
と、mp147℃（分解）の７−［２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−５−イル）−２−メトキシイミ
ノアセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸（シン異性体）（2.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，3090，1770，1660，
1530cm61 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），3.92（3H，ｓ），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.58（1H，
ｄ，Ｊ＝17Hz），5.82（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.97（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.57
（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ），9.89（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 実施例 108 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−５−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（2.9ｇ）とトリフルオロ酢酸（11.6ml）をアニソ
ール（3.8ml）の存在下実施例107と同様に反応さ
せて、mp157℃（分解）の７−［（２−ホルムアミ
ドチアゾール−５−イル）グリオキシルアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（2.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3270，1775，1700，1655，
1535，1470cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.73（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.24（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），５，34
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.60（1H，ｄ，Ｊ＝17
Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），7.00
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），8.57（1H，ｓ），
8.68（1H，ｓ），9.87（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 109 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）（24.7ｇ）とトリ
フルオロ酢酸（45.6ｇ）をアニソール（17ｇ）の
存在下実施例107と同様に反応させて、７−［２−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−
エトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）
（15.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1690，1660，
1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.30（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），3.77（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），4.22（2H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）5.36
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝17
Hz），5.88（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.98
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.43（1H，ｓ），
8.55（1H，ｓ），9.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），
12.47（1H，ブロード ｓ） 実施例 110 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体）（5.5ｇ）と
トリフルオロ酢酸（9.3ｇ）をアニソール（3.5
ｇ）の存在下実施例107と同様に反応させて、７
−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）（3.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1700，1685（シヨ
ルダー），1650，1570，1550cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.88（3H，ｔ，Ｊ
＝６Hz），1.07−2.0（8H，ｍ），3.72（2H，
ABq，Ｊ＝18Hz），4.13（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.37（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.60（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.83（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.97（1H，dd，Ｊ＝11
Hz，17Hz），7.40（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ），
9.65（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.62（1H，ブロー
ド ｓ） 下記の化合物は、ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル基を有する７−アシルアミノ−３−ビニルセ
フアロスポラン酸誘導体とトリフルオロ酢酸をア
ニソールの存在下実施例107と同様に反応させて
得られた。 実施例 111 ７−［２−（２−アミノチアゾール−５−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体）mp250℃以上 IR（ヌジヨール）：3300，1780，1645，1580，
1515cm-1 実施例 112 ７−［（２−アミノチアゾール−５−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸、mp250℃以上 IR（ヌジヨール）：3300，3180，1770，1690，
1620，1510，1460cm-1 実施例 113 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体） IR（ヌジヨール）：3300，1770，1660，1545cm-1 実施例 114 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）、mp147−155℃（分解） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1660，1530cm-1 実施例 115 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（2.2ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（25ml）にとかした溶液に、酢酸ヨード
メチルエステル（１ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（３ml）にとかした溶液を２分を要して
５℃以下で滴下し、同温度で15分間撹拌する。反
応混合物を水（100ml）と酢酸エチル（50ml）の
混合物に注入し、水層を分取し、酢酸エチル（30
ml）で抽出する。酢酸エチル層を合わせ、５％炭
酸水素ナトリウム水溶液で２回、塩化ナトリウム
水溶液で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去し、残留物をジイソプロピル
エーテルで粉末化し濾取すると、mp78−83℃の
７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸アセトキシメチ
ルエステル（シン異性体）（1.6ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1765（ブロード），1660，
1610，1535cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：2.10（3H，ｓ），
3.77（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.87（3H，ｓ），
5.25（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.67（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.85（3H，
ｍ），6.77（1H，ｓ），6.90（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），9.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 116 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（1.5ｇ）とプロピオン酸ヨードメ
チルエステル（0.82ｇ）と実施例115と同様に反
応させて、mp79−85℃の７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノア
セトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸プロピオニルオキシメチルエステル
（シン異性体）（1.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3550，1770（ブロード），1650，
1620，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.03（3H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），2.40（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），3.77（2H，
ABq，Ｊ＝17Hz），3.85（3H，ｓ），5.38（1H，
ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），
5.85（3H，ｍ），6.75（1H，ｓ），6.85（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，17Hz），9.62（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 117 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（3.0ｇ）とイソブタン酸ヨードメ
チルエステル（1.7ｇ）を実施例115と同様に反応
させて、mp92−100℃（分解）の７−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイ
ミノアセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸イソブチリルオキシメチルエス
テル（シン異性体）（2.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1780−1740，
1670，1610，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.1（6H，ｄ，Ｊ
＝６Hz），2.3−2.9（1H，ｍ），3.46−4.23（2H，
ｍ），3.85（3H，ｓ），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.52−6.0
（2H，ｍ），5.87（2H，ｓ），6.77（1H，ｓ），
6.85（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），9.63（1H，
ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 118 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（3.56ｇ）とピバリン酸ヨードメチ
ルエステル（1.94ｇ）とを実施例115と同様に反
応させて、７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロ
イルオキシメチルエステル（シン異性体）（2.6
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1780，1740，1670，
1610，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.17（9H，ｓ），
1.23（3H，ｔ，Ｊ＝６Hz），3.77（2H，ｑ，Ｊ＝
17Hz），4.12（2H，ｑ，Ｊ＝６Hz），5.23（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），
5.62（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.73（3H，ｍ），
6.73（1H，ｓ），6.83（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17
Hz），9.57（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 119 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸ナトリウム（2.0ｇ）と
ヘキサン酸ヨードメチルエステル（1.3ｇ）を実
施例115と同様に反応させて、mp65−70℃の７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−DL−
グリコールアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ヘキサノイルオキシメチルエス
テル（1.86ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1680，1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.61−1.80（9H，
ｍ），2.37（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），３，40（1H，
ｍ），３，78（2H，ｑ，Ｊ＝18.0Hz），4.90（1H，
ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.41（1H，ｄ，Ｊ＝12.0Hz），5.53−6.13（4H，
ｍ），6.45（1H，ｓ），6.88（1H，dd，Ｊ＝12.0
Hz，18.0Hz）， 8.44（ｄ，Ｊ＝9.0Hz） 8.56（ｄ，Ｊ＝9.0Hz）（1H） 下記の化合物は、実施例115と同様の方法によ
り得られた。 実施例 120 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−
２−ベンズヒドリルオキシカルボニル−２−第
３級ブトキシカルボニルアミノエチルエステル
（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3280，1782，1709，1689，
1656cm-1 実施例 121 ７−［（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒド
リルオキシカルボニル−２−第３級ブトキシカ
ルボニルアミノエチルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：1777，1720，1667cm-1 実施例 122 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（2.0ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（40ml）にとかした溶液に、よう化ナト
リウム（0.8ｇ）および酢酸１−ブロモプロピル
エステル（0.9ｇ）を氷冷撹拌下に加え、同温度
で半時間撹拌を続ける。反応混合物を水と酢酸エ
チルの混合物中に注入し、有機層を分取し、飽和
塩化ナトリウム水溶液で２回、水で２回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末化
し、シリカゲルでクロマトグラフイーに付し、酢
酸エチルとクロロホルムの混液（容量比４：６な
いし６：４）で溶離し、目的化合物を含むフラク
シヨンを集める。溶媒を留去し、残留物をジイソ
プロピルエーテルで粉末化し濾取すると、mp97
−101℃の７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸１−ア
セトキシプロピルエステルン（シン異性体）
（0.62ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1765，1670，1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.95（3H，ｍ），
1.87（2H，ｍ），2.07（3H，ｓ），3.48−4.23
（2H，ｍ），3.85（3H，ｓ），5.25（1H，ｄ，Ｊ
＝4.0Hz），5.25−5.98（3H，ｍ），6.74（1H，
ｓ），6.53−7.38（4H，ｍ），9.58（1H，ｄ，Ｊ
＝8.0Hz） 実施例 123 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸ナトリウム（2.0ｇ）と
酢酸１−ブロモプロピルエステル（1.0ｇ）をよ
う化ナトリウム（0.8ｇ）の存在下実施例122と同
様に反応させて、７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−DL−グリコールアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸１−アセ
トキシプロピルエステル（0.68ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1680，1620cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：0.71−1.12（3H，
ｍ），1.81（2H，ｍ），2.05（3H，ｓ），3.76（2H，
ｑ，Ｊ＝18.0Hz），4.91（1H，ｍ），5.20（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.23−5.96（3H，ｍ），6.41−
7.51（3H，ｍ），8.53（1H，ｍ） 実施例 124 ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカ
ルボニル−２−第３級ブトキシカルボニルアミノ
エチルエステル（5.4ｇ）をメタノールにとかし
た溶液に、水素化ほう素ナトリウム（0.417ｇ）
を５℃で少量づつ加え、混合物を同温度で15分間
撹拌する。反応混合物を濃塩酸でPH5.0に調整し、
減圧下に濃縮乾固し、残留物をシリカゲル（100
ml）でクロマトグラフイーに付し、ベンゼンとア
セトンの混液で溶離する。目的化合物を含むフラ
クシヨンを集め、濃縮すると、７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−DL−グリコールア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
２−第３級ブトキシカルボニルアミノエチルエス
テル（2.50ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3340，1774，1715cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.33（9H，ｓ），
3.30（1H，ｓ），3.46，3.90（2H，ABq，Ｊ＝18
Hz），4.50｛（3H，ｍ），4.83（ｓ）4.92（ｓ）｝
（1H） 5.1−6.0（3H，ｍ），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
6.41（1H，ｓ），6.77（1H，ｓ），6.88（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，18Hz），7.37（10H，ｓ），｛8.36（ｄ，
Ｊ＝８Hz）8.46（ｄ，Ｊ＝８Hz）｝（1H） 実施例 125 ７−（４−ブロモ−２−メトキシイミノアセト
アミド）−３−ビニル−３−セフエム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（1.2ｇ）、チオ尿素（0.5ｇ）および酢酸ナトリウ
ム（３水化物）（0.7ｇ）と水（20ml）およびテト
ラヒドロフラン（20ml）にとかした溶液を、30℃
で3.5時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチルで
抽出し、抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジエチルエ
ーテルで粉末化すると、７−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（1.05ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3230，1780，1710，1650，
1620，1580，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.78（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），3.87（3H，ｓ），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.65（1H，
ｄ，Ｊ＝17Hz），5.72（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.80（1H，ｓ），6.80（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
17Hz），6.97（1H，ｓ），7.20−7.67（10H，ｍ），
9.67（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 126 ７−（４−ブロモ−２−メトキシイミノアセト
アセトアミド）−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸（シン異性体）（1.5ｇ）とチオ尿素
（0.8ｇ）を実施例125と同様に反応させて、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）（0.8
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1780，1660，
1630，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.72（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），3.87（3H，ｓ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.58（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.77（1H，ｓ），6.95（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz），9.62（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 下記の化合物は、対応する７−アシルアミノ−
３−ビニルセフアロスポラン酸誘導体とチオ尿素
を実施例125と同様に反応させて得られた。 実施例 127 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸Ｌ−２−
ベンズヒドリルオキシカルボニル−２−第３級
ブトキシカルボニルアミノエチルエステル（シ
ン異性体） IR（ヌジヨール）：3370，1775，1730，1616cm-1 実施例 128 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体） IR（ヌジヨール）：3300，1770，1660，1545cm-1 実施例 129 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヘキシルオキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体）、mp147−155℃（分解） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1660，1530cm-1 実施例 130 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸アセトキ
シメチルエステル（シン異性体）、mp78−83℃ IR（ヌジヨール）：3300，1765（ブロード），1660，
1610，1535cm-1 実施例 131 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸プロピオ
ニルオキシメチルエステル（シン異性体）、
mp79−85℃ IR（ヌジヨール）：3350，1770（ブロード），1650，
1620，1530cm-1 実施例 132 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸イソブチ
リルオキシメチルエステル（シン異性体）、
mp92−100℃（分解） IR（ヌジヨール）：3400−3100，1780−1740，
1670，1610，1530cm-1 実施例 133 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイ
ルオキシメチルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3300，1780，1740，1670，
1610，1530cm-1 実施例 134 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸１−アセ
トキシプロプルエステル（シン異性体）、mp97
−101℃ IR（ヌジヨール）：3300，1765，1670，1610cm-1 実施例 135 トリフルオロ酢酸（28.8ml）およびアニソール
（4.8ml）の混合物に、７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセト
アミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カル
ボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリルオキシカルボニル
−２−第３級ブトキシカルボニルアミノエチルエ
ステル（4.8ｇ）を５℃で加え、混合物を０ない
し５℃で半時間撹拌する。反応混合物をジイソプ
ロピルエーテル（900ml）中に滴下し、沈殿を濾
取し、水（100ml）および酢酸エチル（100ml）を
加える。分離した水層を酢酸エチル（50ml）で洗
浄し、酢酸エチルを完全に留去する。得られる水
溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液でPH3.0に
調整し、沈殿を濾去する。水溶液を非イオン性吸
着樹脂「ダイヤイオンHP−20」（商標名、三菱
化成社製）（100ml）でクロマトグラフイーに付
す。水（300ml）で洗浄し、30％水性イソプロピ
ルアルコールで溶離し、目的化合物を含むフラク
シヨンを集める。溶媒を留去し、残留物を凍結乾
燥し、乾燥すると、７−［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−メトキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸Ｌ−２−アミノ−２−カルボキシエチルエス
テル（シン異性体）（1.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3200，1770，1735（シヨルダ
ー），1650（ブロード）cm-1 NMR δ ppm（DCl−D2O）：3.73，3.94（2H，
ABq，Ｊ＝18Hz），4.13（3H，ｓ），4.5−4.9
（3H，ｍ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.56
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.77（1H，ｄ，Ｊ＝18
Hz），5.80（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.11（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，18Hz），7.19（1H，ｓ） 実施例 136 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−DL−グリコールアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸Ｌ−２−ベンズヒドリル
オキシカルボニル−２−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノエチルエステル（2.2ｇ）とアニソール
（５ml）をトリフルオロ酢酸（20ml）にとかした
溶液を、５℃で半時間撹拌する。反応混合物をジ
イソプロピルエーテル（600ml）中に滴下し、沈
殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、
水（50ml）にとかす。５％炭酸水素ナトリウム水
溶液でPH3.5に調整し、水層を非イオン性吸着樹
脂「ダイヤイオンHP−20」（80ml）でクロマト
グラフイーに付す。水（240ml）で洗浄し、10％
水性イソプロピルアルコールで溶離し、目的化合
物を含むフラクシヨンを集める。溶媒を留去し、
残留物を凍結乾燥し、乾燥すると、７−［２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−DL−グリコー
ルアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸Ｌ−２−アミノ−２−カルボキシエチル
エステル（1.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，3180，1760，1720，
1628cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.55，3.97（2H，
ABq，Ｊ＝18Hz），4.3−4.83（3H，ｍ），4.88
（1H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.38
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝18
Hz），5.77（1H，ｍ），6.43（1H，ｓ），6.98（1H，
dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），｛8.4（ｄ，Ｊ＝８Hz）
8.47（ｄ，Ｊ＝８Hz）｝（1H） 実施例 137 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（DL−３−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ル−３−第３級ブトキシカルボニルアミノプロポ
キシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル（シン異性体）（3.3ｇ）、トリフルオロ酢酸
（20ml）およびアニソール（3.3ml）の混合物を５
ないし10℃で1.5時間撹拌する。反応混合物をジ
イソプロピルエーテル（300ml）中に滴下し、沈
殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、
水（50ml）にとかす。水溶液を酢酸エチル（50ml
×２）で洗浄し、酢酸エチルを完全に留去する。
得られる水溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液
でPH3.1に調整し、非イオン性吸着樹脂「ダイヤ
イオンHP−20」（100ml）でクロマトグラフイー
に付す。水（300ml）で洗浄し、20％水性イソプ
ロピルアルコールで溶離し、目的化合物を含むフ
ラクシヨンを集め、活性炭で処理する。溶媒を留
去し、残留物を凍結乾燥すると、mp145℃（分
解）の７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（DL−３−アミノ−３−カルボキシプ
ロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）
（0.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3120，1766，1612cm-1 NMR δ ppm（D2O＋DCl）：2.53（2H，ｍ），
3.82（2H，ブロード ｓ），4.31（1H，ｔ，Ｊ＝
６Hz），4.57（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz），5.32（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），
5.73（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.82（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），7.13（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.25
（1H，ｓ） 実施例 138 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（1.8ｇ）、オキ
シ塩化燐（3.7ｇ）およびテトラヒドロフラン
（60ml）から製したビルスマイヤー試薬に、２−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−
（２−ピリジルメトキシイミノ）酢酸（シン異性
体）（6.74ｇ）を氷冷撹拌下に加え、同温度で30
分間撹拌して活性化された酸溶液を得る。この溶
液を、７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩
（8.6ｇ）とトリメチルシリルアセトアミド（15.7
ｇ）を酢酸エチル（100ml）にとかした溶液に−
20℃で加え、混合物を−20ないし−５℃で２時間
撹拌する。反応混合物に酢酸エチルと水を加え、
酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物をジイソプロピルエー
テルで粉末化すると、７−［２−（２−ホルムアミ
ドチアゾール−４−イル）−２−（２−ピリジルメ
トキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）（13.6ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1760，1720，1660，
1580，1560，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.77（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.33（4H，ｍ），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝
17Hz），6.03（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.80
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），7.00（1H，ｓ），
7.13−8.00（14H，ｍ），8.53（1H，ｍ），8.53
（1H，ｓ），10.07（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.7
（1H，ｓ） 実施例 139 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（8.6
ｇ）と２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（３−ピリジルメトキシイミノ）酢酸
（シン異性体）（6.74ｇ）を実施例138と同様に反
応させて、７−［２−（２−ホルムアミドチアゾー
ル−４−イル）−２−（３−ピリジルメトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン
異性体）（8.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3260，1770，1710，1690，
1650，1580，1570，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.75（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.27（2H，ｓ），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.67（1H，
ｄ，Ｊ＝17Hz），5.97（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.78（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），6.97
（1H，ｓ），7.20−7.67（12H，ｍ），7.87（1H，
ｍ），8.53（1H，ｓ），8.47−8.70（2H，ｍ），
9.88（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.67（1H，ブロー
ド ｓ） 実施例 140 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（２−ピリジルメトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（5.45ｇ）、濃塩酸（５ml）およびメタノール
（150ml）の混合物を室温で1.5時間撹拌する。溶
媒を留去し、残留物に酢酸エチルと水を加え、20
％炭酸ナトリウム水溶液でPH７に調整する。分取
した酢酸エチル層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去すると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−（２−ピリジルメトキシイミノ）ア
セトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）（4.6ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3240，1775，1720，1670，
1610，1590，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.73（2H，ｑ，Ｊ
＝17Hz），5.28（2H，ｓ），5.28（2H，ｍ），5.63
（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.98（1H，dd，Ｊ＝５
Hz，８Hz），6.82（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），
6.85（1H，ｓ），7.00（1H，ｓ），7.1−8.00
（13H，ｍ），8.53（1H，dd，Ｊ＝２Hz，６Hz），
10.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（２−ピリジルメトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（2.72ｇ）を、ジメチル硫酸（0.95ｇ）をテトラ
ヒドロフラン（120ml）にとかした溶液に加え、
混合物を43ないし46℃で25時間撹拌する。溶液を
留去し、残留物を水（30ml）、テトラヒドロフラ
ン（30ml）および酢酸エチル（50ml）の混合物に
とかし、水層を分取する。残る有機層を水で抽出
し、水層を合わせてエタノールを加える。溶媒を
留去し、残留物をエタノールとジエチルエーテル
の混液で洗浄すると、１−メチル−２−［１−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−１−｛Ｎ
−（４−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３−
ビニル−３−セフエム−７−イル）カルバモイ
ル｝メチレンアミノオキシメチル］ピリジニウム
メチルスルフエイト（シン異性体）（1.7ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：3180，1770，1710，1670，
1625，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.40（3H，ｓ），
3.73（2H，ｍ），4.38（3H，ｓ），5.33（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.65
（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.75（2H，ｓ），6.02
（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.30（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，17Hz），6.98（1H，ｓ），7.2−7.7
（10H，ｍ），7.57（1H，ｓ），8.55（1H，ｓ），
7.93−8.63（3H，ｍ），9.13（1H，dd，Ｊ＝２
Hz，６Hz），10.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 上記で得られた化合物（1.6ｇ）と濃塩酸（１
ml）をメタノール（30ml）とテトラヒドロフラン
（20ml）にとかした溶液を、室温で５時間撹拌す
る。溶媒を留去し、残留物をテトラヒドロフラン
およびエタノールにとかし、濃縮し、残留物をジ
エチルエーテルで粉末化すると、１−メチル−２
−［１−（２−アミノチアゾール−４−イル）−１
−｛Ｎ−（４−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
３−ビニル−３−セフエム−７−イル）カルバモ
イル｝メチレンアミノオキシメチル］ピリジニウ
ムメチルスルフエイト塩酸塩（シン異性体）（1.5
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1780，1720，1680，1630，
1585，1545，1500cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.43（3H，ｓ），
3.80（2H，ｍ），4.40（3H，ｓ），5.33（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.57
（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.73（2H，ｓ），5.83
（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.82（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，17Hz），6.97（1H，ｓ），7.07（1H，
ｓ），7.17−7.67（10H，ｍ），7.93−8.80（3H，
ｍ），9.17（1H，dd，Ｊ＝２Hz，６Hz），10.08
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 141 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（３−ピリジルメトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（3.4ｇ）とジメチル硫酸（1.26ｇ）を実施例141
(1)と同様に反応させて、１−メチル−３−［１−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−１−
｛Ｎ−（４−ベンズヒドリルオキシカルボニル−３
−ビニル−３−セフエム−７−イル）カルバモイ
ル｝メチレンアミノオキシメチル］ピリジニウム
メチルスルフエイト（シン異性体）（2.6ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1770，1720，1670，1550cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.42（3H，ｓ），
3.80（2H，ｍ），4.40（3H，ｓ），5.33（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.52
（2H，ｓ），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.95
（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.82（1H，dd，
Ｊ＝11Hz，17Hz），7.00（1H，ｓ），7.13−7.67
（10H，ｍ），7.58（1H，ｓ），8.17（1H，ｍ），
8.57（1H，ｓ），8.67（1H，ｍ），9.03（1H，ｍ），
9.03（1H，ｓ），9.95（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 142 上で得られた化合物（1.5ｇ）と濃塩酸（1.2
ml）を実施例141(2)と同様に反応させて、１−メ
チル−３−［１−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−１−｛Ｎ−（４−ベンズヒドリルオキシカル
ボニル−３−ビニル−３−セフエム−７−イル）
カルバモイル｝メチレンアミノオキシメチル］ピ
リジニウムメチルスルフエイト塩酸塩（シン異性
体）（1.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1760，1660，
1600，1530cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.40（3H，ｓ），
3.73（2H，ブロード ｓ），4.45（3H，ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.38（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.47（2H，ｓ），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝17
Hz），5.80（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），6.7−
7.7（11H，ｍ），6.97（1H，ｓ），7.12（1H，ｓ），
8.17（1H，ｍ），8.7（1H，ｍ），9.00（1H，ｍ），
9.17（1H，ブロード ｓ），10.02（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） 実施例 143 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（２−ピリジルメトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（4.6
ｇ）をメチレンクロライド（20ml）およびアニソ
ール（3.0ｇ）にとかした溶液に、トリフルオロ
酢酸（11.2ｇ）を氷冷撹拌下に加え、室温で1.5
時間撹拌を続ける。反応混合物をジイソプロピル
エーテル（300ml）中に滴下し、沈殿する結晶を
濾取し、水（70ml）にけんだくする。1N水酸化
ナトリウム水溶液でPH7.5に調整し、得られる水
溶液を酢酸エチルで洗浄する。水溶液をさらに10
％塩酸でPH3.4に調整し、沈殿する結晶を濾取す
ると、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（２−ピルリジルメトキシイミノ］アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）（1.8ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300，1770，1650，1620（シヨ
ルダー），1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.70（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.30（2H，
ｓ），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.60（1H，ｄ，
Ｊ＝17Hz），5.85（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），
6.82（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），6.82（1H，
ｓ），7.00−8.10（3H，ｍ），8.57（1H，ｄ，Ｊ
＝４Hz），9.97（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 144 １−メチル−２−［１−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−１−｛Ｎ−（４−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−３−ビニル−３−セフエム−７
−イル）カルバモイル｝メチレンアミノオキシメ
チル］ピリジニウムメチルスルフエイト塩酸塩
（シン異性体）（2.6ｇ）をメチレンクロライド
（20ml）およびアニソール（1.4ｇ）にけんだく
し、トリフルオロ酢酸（5.8ｇ）を氷冷撹拌下に
加え、室温で1.5時間撹拌を続ける。反応混合物
をジイソプロピルエーテル（250ml）中に滴下し、
沈殿を濾取し、水（20ml）にとかす。水溶液を
1N水酸化ナトリウム水溶液でPH6.5に調整し、酢
酸エチルで洗浄し10％塩酸でPH２に調整し、非イ
オン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」（100
ml）でクロマトグラフイーに付す。水洗後、30％
水性イソプロピルアルコールで溶離し、目的化合
物を含むフラクシヨンを集め濃縮する。残留物を
凍結乾燥すると、７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−｛（１−メチル−２−ピリジ
ニオ）メトキシイミノ｝アセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボキシレート塩酸
塩（シン異性体）（1.2ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1770，1720，1670，1630，
1540cm-1 NMR δ ppm（D2O）：3.60（2H，ブロード
ｓ），4.38（3H，ｓ），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.40（1H，ｄ，
Ｊ＝17Hz），5.70（2H，ｓ），5.82（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.82（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），
7.03（1H，ｓ），7.80−8.73（3H，ｍ），8.87
（1H，dd，Ｊ＝２Hz，６Hz） 実施例 145 １−メチル−３−［１−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−１−｛Ｎ−（４−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−３−ビニル−３−セフエム−７
−イル）カルバモイル｝メチレンアミノオキシメ
チル］ピリジニウムメチルスルフエイト塩酸塩
（シン異性体）（1.0ｇ）とトリフルオロ酢酸（2.8
ｇ）をアニソール（0.52ｇ）の存在下実施例144
と同様に反応させて、７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−｛（１−メチル−３−ピ
リジニオ）メトキシイミノ｝アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボキシレート
塩酸塩（シン異性体）（0.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1760，1660，
1600，1530cm-1 NMR δ ppm（D2O）：3.67（2H，ブロード
ｓ），4.43（3H，ｓ），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝15
Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.43（1H，ｄ，
Ｊ＝17Hz），5.50（2H，ｓ），5.80（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.83（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），
7.02（1H，ｓ），8.10（1H，ｍ），8.78−8.90
（2H，ｍ），8.90（1H，ｓ） 実施例 146 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（３
ｇ）を乾燥酢酸エチル（50ml）とトリメチルシリ
ルアセトアミド（6.4ｇ）に40℃でとかす。 一方、乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（0.66ｇ）、オキシ塩化燐（1.39ｇ）および酢酸エ
チル（2.64ml）から常法により製したビルスマイ
ヤー試薬に、テトラヒドロフラン（25ml）および
２−（トランス−３−第３級ブトキシカルボニル
アリルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチ
アゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）（2.7
ｇ）を加え、−３ないし３℃で少時撹拌して活性
化された酸溶液を得る。 この溶液を上記酢酸エチル溶液に−10℃で撹拌
下に加え、−10ないし−５℃で半時間撹拌を続け
る。反応混合物に水を加え、分離した有機層を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナト
リウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去し、残留物をジイソプロピルエ
ーテルで粉末化すると、７−［２−（トランス−３
−第３級ブトキシカルボニルアリルオキシイミ
ノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン
異性体）（4.83ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1780，1710，1660cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.47（9H，ｓ），
3.79（2H，ｑ，Ｊ＝18.0Hz），4.89（2H，ｍ），
5.34（1H，ｄ，Ｊ＝11.0Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ
＝5.0Hz），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝18.0Hz），5.86−
６，30（2H，ｍ），6.52−7.22（2H，ｍ），7.00
（1H，ｓ），7.21−7.74（11H，ｍ），8.58（1H，
ｓ），9.91（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz），12.73（1H，
ブロード ｓ） 実施例 147 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（2.5
ｇ）と２−シアノメトキシイミノ−２−（２−ホ
ルムアミドチアゾール−４−イル）酢酸（シン異
性体）（1.6ｇ）を実施例146と同様に反応させて、
７−［２−シアノメトキシイミノ−２−（２−ホル
ムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体）（3.1ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：3180，1770，1720，1680cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.77（2H，ｍ），
5.03−6.10（5H，ｍ），5.81（1H，dd，Ｊ＝5.0
Hz，8.0Hz），6.43−7.13（1H，ｍ），6.96（1H，
ｓ），7.35（10H，ｓ），7.56（1H，ｓ），8.53
（1H，ｓ），9.93（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 148 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル塩酸塩（3.43
ｇ）と２−第３級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−２−（５−クロロ−２−ホルムアミドチア
ゾール−４）酢酸（シン異性体）（3.2ｇ）を実施
例146と同様に反応させて７−［２−第３級ブトキ
シカルボニルメトキシイミノ−２−（５−クロロ
−２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセ
トアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
（5.6ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3200，1780，1720，1680，
1606，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.43（9H，ｓ），
3.77（2H，ｍ），4.67（2H，ｓ），5.30（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.65
（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），6.03（1H，dd，Ｊ＝５
Hz，８Hz），6.83（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），
7.02（1H，ｓ），7.23−7.8（10H，ｍ），8.60
（1H，ｓ），9.73（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 下記の化合物は、７−アミノ−３−ビニルセフ
アロスポラン酸誘導体と対応するアシル化剤を実
施例146と同様に反応させて得られた。 実施例 149 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（トランス−３−第３級ブトキシカルボ
ニルアリルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1770，1700，1670，
1610cm-1 実施例 150 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3430，3250，1780，1720，
1680，1660cm-1 実施例 151 ７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２−第３級ブトキシカルボニル
メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3425，3270，1780，1720，
1675，1620，1540cm-1 実施例 152 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3330，2020，1770，1670，
1620cm-1 実施例 153 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（トランス−３−第３級ブトキシカルボニ
ルアリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル（シン異性体）（4.4ｇ）とアニソー
ル（4.4ml）をメチレンクロライド（9.0ml）にと
かした溶液に、トリフルオロ酢酸（17.6ml）を氷
冷下に加え、混合物を室温で２時間撹拌する。反
応混合物にジイソプロピルエーテルを加え、沈殿
を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄する。
これに酢酸エチルと水を加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でPH7.5に調整する。分離した水層
を酢酸エチルで洗浄し、水層中に残る酢酸エチル
を完全に留去し、10％塩酸でPH2.2に調整する。
沈殿を濾取し乾燥すると、７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−（トランス−３−カ
ルボキシアリルオキシイミノ）アセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）（2.31ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1760，1690，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.73（2H，ｑ，Ｊ
＝16.0Hz），4.84（2H，ｍ），5.24（1H，ｄ，Ｊ
＝4.0Hz），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝12.0Hz），5.47−
6.23（3H，ｍ），6.63−7.34（2H，ｍ），6.83
（1H，ｓ），9.77（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 154 ７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２−第３級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノアセトアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル（シン異性体）（4.6ｇ）とトリフルオロ酢酸
（14.4ｇ）をアニソール（2.7ｇ）の存在下実施例
153と同様に反応させて、７−［２−（２−アミノ
−５−クロロチアゾール−４−イル）−２−カル
ボキシメトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（2.2ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400，3180，1770，1685，
1650，1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.70（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），4.63（2H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.56（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.83（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.95（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），9.45
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 155 ７−［２−（トランス−３−第３級ブトキシカル
ボニルアリルオキシイミノ）−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）（4.7ｇ）、濃塩
酸（1.34ｇ）、メタノール（30ml）およびテトラ
ヒドロフラン（10ml）の混合物を室温で2.5時間
撹拌する。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でPH7.5に調整する。
分離した有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残留物をジイソプロピルエーテルで粉末化す
ると、７−［２−（トランス−３−第３級ブトキシ
カルボニルアリルオキシイミノ）−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−
ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シン異性体）（4.50ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1770，1700，1670，
1610cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.45（9H，ｓ），
3.76（2H，ｍ），4.86（2H，ｍ），5.34（1H，ｄ，
Ｊ＝12.0Hz），5.35（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.68
（1H，ｄ，Ｊ＝18.0Hz），5.77−6.30（2H，ｍ），
6.54−7.17（2H，ｍ），6.86（1H，ｓ），7.00
（1H，ｓ），7.17−7.70（10H，ｍ），9.81（1H，
ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 156 ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］
−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体）（3.0ｇ）と
濃塩酸（0.35ｇ）を実施例155と同様に反応させ
て、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル（シン異性体）（2.17ｇ）を
得る。 IR（ヌジヨール）：3430，3250，1780，1720，
1680，1660cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.77（2H，ｍ），
5.02（2H，ｓ），5.10−6.08（2H，ｍ），5.28
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.85（1H，dd，Ｊ＝5.0
Hz，8.0Hz），6.83（1H，dd，Ｊ＝10.0Hz，18.0
Hz），6.89（1H，ｓ），6.95（1H，ｓ），7.09−
7.63（10H，ｍ），9.83（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 157 ７−［２−（２−ホルムアミド−５−クロロチア
ゾール−４−イル）−２−第３級ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノアセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（5.5ｇ）と濃塩酸（2.3
ml）を実施例155と同様に反応させて、７−［２−
（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）
−２−第３級ブトキシカルボニルメトキシイミノ
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）（4.6ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3425，3270，1780，1720，
1675，1620，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.43（9H，ｓ），
3.77（2H，ｍ），4.63（2H，ｓ），5.30（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.32（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.68
（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），6.00（1H，dd，Ｊ＝５
Hz，８Hz），6.85（1H，dd，Ｊ＝11Hz，17Hz），
7.03（1H，ｓ），7.22−7.90（10H，ｍ），9.60
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 下記の化合物は、ホルムアミド基を有する７−
アシルアミノ−３−ビニルセフアロスポラン酸誘
導体と濃塩酸を実施例155と同様に反応させて得
られた。 実施例 158 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］−
３−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸
（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3330，2020，1770，1670，
1620cm-1 実施例 159 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（トランス−３−カルボキシアリルオキ
シイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3250，1760，1690，1650cm-1 実施例 160 ７−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−
４−カルボン酸（シン異性体） IR（ヌジヨール）：3400，3180，1770，1685，
1650，1610cm-1 実施例 161 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−シアノメトキシイミノアセトアミド］−３
−ビニル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）（2.1ｇ）とメチ
レンクロライド（4.0ml）のけんだく液に、アニ
ソール（2.1ml）とトリフルオロ酢酸（8.4ml）を
加え、混合物を室温で1.5時間撹拌する。溶媒を
留去し、残留物をジイソプロピルエーテル中に滴
下し、沈殿を濾取する。これを水にけんだくし、
2N−水酸化ナトリウム水溶液でPH7.5に調整し、
酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合物で２回
洗浄する。得られる水溶液に、酢酸エチルとテト
ラヒドロフランを加え、混合物を塩化ナトリウム
で飽和し、10％塩酸でPH1.0に調整する。有機層
を分取し、水層を酢酸エチルとテトラヒドロフラ
ンの混液で２回抽出する。有機層を合わせ、塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を留去し、残留物をジエチルエー
テルで粉末化すると、７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−シアノメトキシイミノ
アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４
−カルボン酸（シン異性体）（0.92ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3330，2020，1770，1670，
1620cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.73（2H，ｑ，Ｊ
＝18.0Hz），5.02（2H，ｓ），5.23（1H，ｄ，Ｊ
＝5.0Hz），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝12.0Hz），5.37−
6.80（1H，ｍ），5.79（1H，dd，Ｊ＝5.0Hz，8.0
Hz），6.63−7.38（1H，ｍ），6.91（1H，ｓ），
9.83（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 162 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（4.7ｇ）と、
２−（Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメトキシイミノ）
−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
酢酸（シン異性体）（5.5ｇ）、オキシ塩化燐
（2.07ml），Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（1.75
ml）およびテトラヒドロフラン（55ml）から常法
により製した活性化された酸溶液を、実施例146
と同様に反応させて、mp135ないし142℃の７−
［２−（Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメトキシイミ
ノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフエム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン
異性体）（4.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400，3160，1785，1723，
1675cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.25（6H，ｔ，Ｊ
＝６Hz），3.73（2H，ｍ），4.13（4H，ｍ），4.57
（2H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.2−5.8（2H，ｍ），5.90（1H，ｍ），6.80
（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），6.95（1H，ｓ），
7.37（10H，ｍ），7.47（1H，ｓ），8.53（1H，
ｓ），9.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，）12.7（1H，ブ
ロード ｓ） 実施例 163 ７−［２−（Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメトキシ
イミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シン異性体）（4.2ｇ）をメチレンクロライド
（20ml）およびアニソール（２ml）にとかした溶
液に、トリフルオロ酢酸（５ml）を氷冷下に加
え、10℃で1.5時間撹拌する。反応混合物にジイ
ソプロピルエーテル（400ml）中に滴下し、沈殿
を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、減
圧乾燥すると、mp173ないし176℃の７−［２−
（Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメトキシイミノ）−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸（シン異性体）（2.8ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3160，1775（ブロード），1680
（ブロード）cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.28（6H，ｔ，Ｊ
＝６Hz），3.76（2H，ｍ），4.17（4H，ｍ），4.58
（2H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.36（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.63（1H，ｄ，
Ｊ＝18Hz），5.87（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），
7.0（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.70（1H，
ｓ），8.56（1H，ｓ），9.82（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz），12.7（1H，ブロード ｓ） 実施例例 164 ７−［２−（Ｏ，Ｏ−ジエチルホスホノメトキシ
イミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（シン異性体）（1.725ｇ）
をメチレンクロライド（26ml）に溶かした溶液
に、ビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（3.05ｇ）およびトリメチルシリルヨーダイド
（3.0ｇ）を25ないし28℃で加え、室温で18時間撹
拌する。溶媒を留去し、残留する油状物をメタノ
ール（25ml）にとかす。濃塩酸（２ml）を加え、
混合物を30℃で２時間撹拌する。溶媒を留去し、
残留物を水（50ml）にとかし、1N水酸化ナトリ
ウム水溶液でPH5.5に調整する。この水溶液を、
非イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」で
カラムクロマトグラフイーに付す。水洗後、10％
水性メタノールで溶離する。目的化合物を含むフ
ラクシヨンを集め、凍結乾燥すると、mp185℃
（分解）の７−［２−ホスホノメトキシイミノ−２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（1.0ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3300（ブロード），1780，1658，
1600cm-1 NMR δ ppm（D2O＋NaHCO3）：3.70（2H，
ｍ），4.32（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz），5.28（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz），5.43（1H，ｄ，Ｊ＝18Hz），5.50
（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.83（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），6.93（1H，dd，Ｊ＝11Hz，18Hz），7.0
（1H，ｓ） 下記の化合物は、ホルムアミド基を有する７−
アシルアミノ−３−ビニルセフアロスポラン酸誘
導体と濃塩酸を実施例155と同様に反応させて得
られた。 実施例 165 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビニ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体）（0.9ｇ）とメチレンク
ロライド（10ml）およびアニソール（0.66ｇ）の
けんだく液に、トリフルオロ酢酸（2.5ｇ）を氷
冷下に加え、室温で１時間撹拌する。反応混合物
をジイソプロピルエーテル（100ml）に滴下し、
沈殿を濾取し、酢酸エチルと水の混合物にけんだ
くし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH７に調
整する。分離した水層に塩化ナトリウムを飽和
し、これに酢酸エチルとテトラヒドロフランの混
合溶媒（容量比８：２）を加える。10％塩酸でPH
3.2に調整し、有機層を分取し、飽和塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物をジイソプロピルエー
テルで洗浄すると、７−［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−メトキシイミノアセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（0.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3400−3100，1780，1660，
1630，1540cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：3.72（2H，ｑ，Ｊ
＝18Hz），3.87（3H，ｓ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝11Hz），5.58（1H，
ｄ，Ｊ＝18Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝５Hz，８
Hz），6.77（1H，ｓ），6.95（1H，dd，Ｊ＝11Hz，
18Hz），9.62（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 実施例 166 オキシ塩化燐（1.8ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（0.8ｇ）および酢酸エチル（3.2ml）か
ら常法によりビルスマイヤー試薬を作る。このビ
ルスマイヤー試薬を乾燥テトラヒドロフラン（30
ml）にけんだくした液に、２−（２−シクロペン
テン−１−イルオキシイミノ）−２−（２−ホルム
アミドチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性
体）（2.7ｇ）を氷冷撹拌下に加え、同温度で30分
間撹拌する（溶液Ａ）。７−アミノ−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸（2.0ｇ）と酢
酸エチルのけんだく液に、トリメチルシリルアセ
トアミド（8.1ｇ）を撹拌下に加え、混合物を35
ないし40℃で10分間撹拌する。混合物に−10℃で
溶液Ａを一度に加え、同温度で0.5時間撹拌する。
反応混合物に水（40ml）を加え、分離した有機層
を水に加える。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH7.5に調整する。分離した水層を10％
塩酸でPH2.0に調整し、酢酸エチルで抽出する。
抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去すると、
７−［２−（２−シクロペンテン−１−イルオキシ
イミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（シン異性体）（3.20ｇ）
の沈殿を得る。 IR（ヌジヨール）：3200，1780，1680，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.79−2.78（4H，
ｍ），3.73（2H，ｑ，Ｊ＝20.0Hz），5.22（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.33（1H，ｄ，Ｊ＝12.0Hz），
5.60（1H，ｄ，Ｊ＝18.0Hz），5.71−6.28（4H，
ｍ），6.96（1H，dd，Ｊ＝12.0Hz，18.0Hz），
7.40（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ），9.63（1H，ｄ，
Ｊ＝8.0Hz） 実施例 167 ７−［２−（２−シクロペンテン−１−イルオキ
シイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）−アセトアミド］−３−ビニル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（シン異性体）（3.1ｇ）、
メタノール（22ml）、テトラヒドロフラン（10ml）
および濃塩酸（1.3ｇ）の混合物を室温で2.5時間
撹拌する。反応混合物を水と酢酸エチルの混合物
に加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH7.5
に調整する。分離した水層を10％塩酸でPH3.0に
調整する。沈殿を濾取し、水洗し、５酸化燐上で
真空乾燥すると、７−［２−（２−シクロペンテン
−１−イルオキシイミノ）−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）
（2.7ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3270，1765，1650cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.92−2.75（4H，
ｍ），3.73（2H，ｑ，Ｊ＝18.0Hz），5.21（1H，
ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.21−6.33（6H，ｍ），6.80
（1H，ｓ），6.96（1H，dd，Ｊ＝11.0Hz，18.0
Hz），9.62（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） 実施例 168 ７−アミノ−３−ビニル−３−セフエム−４−
カルボン酸（0.7ｇ）と２−（４−第３級ブトキシ
カルボニルアミノチアゾール−２−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸（シン異性体）（0.9ｇ）を実
施例３と同様に反応させて、７−［２−（４−第３
級ブトキシカルボニルアミノチアゾール−２−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（0.95ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3250，1785，1720，1690，
1600，1535cm-1 NMR δ ppm（DMSO−d6）：1.45（9H，ｓ），
3.72（2H，ｑ，Ｊ＝17Hz），3.95（3H，ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝
11Hz），5.52（1H，ｄ，Ｊ＝17Hz），5.82（1H，
dd，Ｊ＝５Hz，８Hz），5.90（1H，dd，Ｊ＝11
Hz，17Hz），7.28（1H，ｓ），9.71（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），10.27（1H，ｓ）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
    ノ基、R2はカルボキシ基または保護されたカル
    ボキシ基、R3は水素またはハロゲン、Ａはアミ
    ノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、お
    よび式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
    ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
    れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
    カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
    護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、保護された
    ホスホノおよびピリジルから選ばれた１個もしく
    は２個以上の置換基で置換された低級アルキル基
    を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
    てもよい低級アルキレン基を意味するが、ただ
    し、【式】が【式】を示す基 である場合、R4は、カルボキシもしくは保護さ
    れたカルボキシで置換された低級アルキル基でな
    いものとする］ で示される化合物およびその塩類。 ２ R1がアミノ基、R2がカルボキシ基またはエ
    ステル化されたカルボキシ基である、特許請求の
    範囲第１項記載の化合物。 ３ 【式】が式 で示される基である、特許請求の範囲第２項記載
    の化合物。 ４ R4が低級アルキル基である、特許請求の範
    囲第３項記載の化合物。 ５ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
    ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
    ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
    体）およびそのナトリウム塩である、特許請求の
    範囲第４項記載の化合物。 ６ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
    ル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
    ニル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
    体）およびそのナトリウム塩である、特許請求の
    範囲第４項記載の化合物。 ７ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
    ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
    ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイル
    オキシメチルエステル（シン異性体）である、特
    許請求の範囲第４項記載の化合物。 ８ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
    ル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−ビ
    ニル−３−セフエム−４−カルボン酸ピバロイル
    オキシメチルエステル（シン異性体）である、特
    許請求の範囲第４項記載の化合物。 ９ Ａが式 で示される基である、特許請求の範囲第２項記載
    の化合物。 １０ ７−［（２−アミノチアゾール−４−イル）
    グリオキシルアミド］−３−ビニル−３−セフエ
    ム−４−カルボン酸およびそのナトリウム塩であ
    る、特許請求の範囲第６項記載の化合物。 １１ 式 （式中、R2はカルボキシ基、または保護され
    たカルボキシ基を意味する） で示される化合物もしくはそのアミノ基における
    反応性誘導体またはそれらの塩類に、式 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
    ノ基、R3は水素またはハロゲン、Ａはアミノ、
    保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、および
    式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
    ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
    れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
    カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
    護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、保護された
    ホスホノ、およびピリジルから選ばれた１個もし
    くは２個以上の置換基で置換された低級アルキル
    基を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
    てもよい低級アルキレン基を意味するが、ただ
    し、【式】が【式】を示す 基である場合、R4はカルボキシもしくは保護さ
    れたカルボキシで置換された低級アルキル基でな
    いものとする］ で示される化合物もしくはそのカルボキシ基にお
    ける反応性誘導体またはそれらの塩類を反応させ
    て、式 （式中、R1，R2，R3およびＡは前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得ることを特
    徴とする７−アシルアミノ−３−ビニルセフアロ
    スポラン酸誘導体またはその塩類の製造法 １２ 式 ［式中、X1はハロゲンを意味し、R2はカルボ
    キシ基または保護されたカルボキシ基、A0はア
    ミノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、
    および式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
    ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
    れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
    アミノ、保護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、
    保護されたホスホノ、およびピリジルから選ばれ
    た１個もしくは２個以上の置換基で置換された低
    級アルキル基を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
    てもよい低級アルキレン基を意味する］ で示される化合物またはその塩類に、式 （式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
    ノ基を意味する） で示される化合物を反応させて、式 （式中、R1，R2およびA0は前と同じ意味）で
    示される化合物またはその塩類を得ることを特徴
    とする７−アシルアミノ−３−ビニルセフアロス
    ポラン酸誘導体またはその塩類の製造法。 １３ 式 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
    ノ基、R2はカルボキシ基または保護されたカル
    ボキシ基、R3は水素またはハロゲン、R5はアリ
    ール基、Ａはアミノ、保護されたアミノ、ヒドロ
    キシ、オキソ、および式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
    ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
    れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
    カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
    護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、保護された
    ホスホノ、およびピリジルから選ばれた１個もし
    くは２個以上の置換基で置換された低級アルキル
    基を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
    てもよい低級アルキレン基を意味するが、ただ
    し、【式】が【式】を示す 基である場合、R4はカルボキシもしくは保護さ
    れたカルボキシで置換された低級アルキル基でな
    いものとする］ で示される化合物またはその塩類にホルムアルデ
    ヒドを反応させて、式 （式中、R1，R2，R3およびＡは前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得ることを特
    徴とする７−アシルアミノ−３−ビニルセフアロ
    スポラン酸誘導体またはその塩類の製造法。 １４ 式 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
    ノ基、R2はカルボキシ基または保護されたカル
    ボキシ基、R3は水素またはハロゲン、Ａはアミ
    ノ、保護されたアミノ、ヒドロキシ、オキソ、お
    よび式 （式中、R4は水素、シクロ（低級）アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、カ
    ルボキシもしくは保護されたカルボキシで置換さ
    れた低級アルケニル基、低級アルキル基、または
    カルボキシ、保護されたカルボキシ、アミノ、保
    護されたアミノ、シアノ、ホスホノ、保護された
    ホスホノおよびピリジルから選ばれた１個もしく
    は２個以上の置換基で置換された低級アルキル基
    を意味する） で示される基の中から選ばれた置換基を有してい
    てもよい低級アルキレン基を意味するが、ただ
    し、【式】が【式】を示す 基である場合、R4は、カルボキシもしくは保護
    されたカルボキシで置換された低級アルキル基で
    ないものとする］ で示される化合物またはその塩類を有効成分とし
    て含有する抗菌剤。
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