JPH03135946A - 置換酢酸誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は抗菌性物質として有用な一般式は水素または
ハロゲン、Ｒ６はヒドロキシ基または低級アルコキシ基
をそれぞれ意味する）で示Ｒ７はアミノ基または保護き
れたアミノ基を意味する）で示される基、 Ｒ２はカルボキシ低級アルキル基、保護されたカルボキ
シ低級アルキル基または低級アルケニル基をそれぞれ意
味する］ は水素、ハロゲン、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基またはアシルオキシ基、Ｒ６はヒドロキシ基、アル
コキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基またはジア
ルキルアミノ基をそれぞれ意（式中、Ｒ７はアミノ基、
保護されたアミノ基、ヒドロキシ基またはアルキ（以下
余白）ル基を意味する）で示される基、または式ノ基、
保コされたイミノ基またはオキソ基をそれぞれ意味する
）で示される基、Ｒ２は適当な置換分を有するかまたは
有しない脂肪族炭化水素基、Ｒ３はカルボキシ基または
保護されたカルボキシ基、Ｒ１はアシルオキシメチル基
（但し、適当な置換分を有していてもよいカルバモイル
オキシメチル基を除く）、ヒドロキシメチル基、ホルミ
ル基または適当な置換分を有するかまたは有しない複素
環チオメチル基をそれぞれ意味するか、またはＲ３とＲ
４は一緒になって基−ＣＯＯＣＲ，−を意味する〕で示
される３、７−ジ置換−３−セフェム−４−カルボン酸
化合物のシン異性体およびその塩類およびそれらの製造
方法に関するものである。

この発明の目的化合物である３、７−ジ置換−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ｌ物のシン異性体は前記一般式（
Ｉ）で示されるが、ここにおいてシン異性体（！：け式 ％式％ （式中　Ｒ１およびＲ１はそれぞれ前と同じ意味）で示
される部分構造をその分子中に有する幾何異性体を意味
し、−力対応するアンチ異性体とけ式％式％ （式中　Ｒ１およびＲ２けそれぞれ前と同じ意味）で示
される部分構造をその分子中に有するもう一方の幾何異
性体を意味する。従ってこの明細書では、目的化合物お
よび原料化合物のシン異性体は、−０− により表わされるが、シン異性体およびアンチ異性体両
方を１つの一般式で表わした方が説明上都合のよい場合
には、式　−〇−Ｃｏ−で示される部１ 分構造により表わされる。

この発明の目的化合物ＣＩ）は新規化合物であり、例え
ば下記に示す方法１〜７により製造することができる。

方法１ 方法２ またはその塩類　　護基の脱離 またはその埋戻 方法３ ■ はその塩類 （マ） またはその塩類 Ｒ’ （Ｉｂ） またはその塩類 方法４ Ｒ’ またはその塩類 またはその塩類 方法６ 方法５ （マＣ） またはその塩類 またはその塩類 方法７ またはその塩類 〔式中、 Ｒ１゜ Ｒζ Ｒ３、 Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前と 獲されたアミノ基を意味する）で示される基、ま 味）で示される基、Ｒ”は水素、ハロゲン、ニトロ基、
アルコキシ基またはアシルオキシ基、Ｒ６′はアシルオ
キシ基、Ｒ１は保護されたカルボキシアルキルＬ　Ｈ”
“けカルボキシアルキル基、Ｒ４＃は式　Ｒ４″’−５
−（式中、Ｒ’−は適当な置換分を有するかまたは有し
ない複素環式基を意味する）で示される基により置換さ
れ得る基、Ｒは前と同じ意味をそれぞれ意味する。〕 原料化合物のうち、原料化合物（２）は、その対応する
アンチ異性体も含めて、新規化合物であり、下記に示す
製造法１〜７により製造することができる。

製造法１ ＲＩ′は保護されたイミノ基をそれぞれ意味する）（Ｍ
） （資） 帽） （ＩＸ） （ＸＩ） 製造法２ （ｎ［） 慄■） （Ｘ） （６） （Ｉｋ） （ＸＸＩＩ［） Ｈ ■） （可） 製造法３ 製造法４ 製造法５ （珂） 製造法６ 可）。

（Ｘｌ’１ｌｌ） （Ｘｒ＠ （Ｘ）［Ｘｌ） Ｒ”’−〇〇〇〇ＯＨ Ｒ’−Ｃ−Ｚ １ 製造法７ ■卸 （ｍｌり　　　　　　　　　　　　　　　（皿０Ｅ式中
、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、ｓｌ、Ｒ′、Ｒ７’、　　Ｒ１１
およびＲ′は前と同じ意味、Ｒ５″はハロゲン、ＹＦｉ
酸残基、ＲＩＤはアラルキル基　Ｒ５″′は水素、ハロ
ゲンまたはニトロ基、Ｒ６１はアルコキシ基、アラルコ
キシ基またはアシルアミノ基、Ｒ”’は水素、アルキル
基まＡＵアルケニル基、”Ｒ”Ｊ’ｔアルキル基または
アルクニルＬ　Ｒ”’は水素、ハロゲン、ニトロ基、ヒ
ドロキシ基またはアルコキシ基、ｘけ〕・ロゲン、２は
保職されたカルボキシ基、Ｒ１１はアルキル基、アミノ
基またはアルコキシ基、Ｒｆ′けアルキル基、アミノ基
またはヒドロキシ基、Ｒｆ″はアルキル基、および（Ｍ
ｌ）け互変異性体を包含する。即ち、と（式中　ＲＦｊ
Ｌはアミ７基、保護されたアミ７基またはヒドロキシ基
を意味する）で示される基が式Ｒ７は前と同じ意味）で
示される基または式で示される基　ｚｌはカルボキシ基
または保護されたカルボキシ基をそれぞれ意味する〕 その他の原料化合物（酌、（マ）、（マａλ（マＣ）お
よび（マｅ）もすべて新規化合物であり、これらは前記
の方法１〜７のいずれかの方法により製造することがで
きる。

この発明の目的化合物（Ｉ）、（Ｉａ）および（Ｉｃ）
、（Ｉｅ）〜（１ｇ）、および原料化合物（至）、（Ｉ
ｄｌｅ）、（Ｉ［Ｉｆ）、（［［Ｉｈ）、（ｆｆ）、　
　（マａ）、　（マＣ）、　（マｅχ　　（ｍｌｌ）　
〜（ｍ［Ｉ’す、　　（ＸＸＷ）　〜（ｍ■）Ｒｌｂは
イミノ基、保護されたイミノ基またはオキソ基を意味す
る）で示される基で表わすこともできる。即ちこれらの
基体）および（１３１は平衡関係にあり、下記の平衡式
で示すことができる。

（式中、Ｒ７１ＬおよびＲｕｂ　は前と同じ意味）上記
したようなアミノもしくはヒドロキシ化合物と、対応す
るイミノもしくはオキソ化合物との互変異性は周知であ
り、両者が容易に変換でき、同じ化合物ＫＭすることも
当業者に周知である。

この明細書の説明および特許請求の範囲では、これらの
目的化合物および原料化合物を便宜内傾互変異性体の一
方の表現方法である式 （） （式中、Ｒ７１は前と同じ意味）で示したが、これに限
定されるものではなく、両者の互変異性体がこの発明の
範囲に包含されるものである。

また目的化合物（Ｉ）、（Ｉａ）　〜（Ｉｃ）および（
Ｉｇ）および原料化合物（ＩＩ）、ＣＩＴ）、（マ）お
よび（マａ）において、Ｒ３がカルボキシ基およびＲ４
がホルミル基である場合の化合物は、Ｒ３とＲ４が一緒
になって式−ＣＯＯＣＨ（ＯＥＩ）　−で示される基を
有する化合物、すなわちいわゆる分子内のへミアシラー
ル型化合物としても認識することもでき、これらはとも
にこの発明の範囲に包含される。

この発明の目的化合物（Ｉ）の塩類としては、例えば、
ナトリウム塩、カリタム塩等のアルカリ金属塩、カルシ
タム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩等の無機塩基との塩、トリメチルアミン塩、
トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩、Ｎ、　Ｎ’−ジベンジルエチレン
ジアミン塩等の有機塩基との塩、酢酸塩、マレイン酸塩
、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩、ア
ルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等のア
ミノ酸との塩等が挙げられる。

次に上記−最大の定義について説明する。

脂肪族炭化水素基とは、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族
炭化水素基、例えばアルキル基、アルケニル基等か挙げ
られる。これらの脂肪族炭化水素基は、カルボキシ基、
保護されたカルボキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アリール基、アシルオ・キシ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、複素環式基等の適当な置換分を１個
以上有していてもよい。

ハロゲンとは、塩素、臭素、沃素、弗素を包含する。

アルコキシ基およびアラルコキシ基におけるアルコキシ
部分は、直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基を含み、
好ましくは例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ンプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、第３級ブトキ
シ、ペンチルオキスへキシルオキシ等の低級アルコキシ
基が挙げられる。

保護されたアミ７基としては、アシルアミノ基のほかア
ミノ基がベンジル基の様なアシル基以外の慣用される保
護基で置換されたものが挙げられる。

アルキル基およびアルキルチオ基、カルボキシアルキル
基、保護されたカルボキシアルキル基、アラルキル基お
よびジアルキルアミノ基におけるアルキル部分は、直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基を含み、好ましくは例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
インブチル、第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低
級アルキル基が挙げられる。

保護されたイミノ基としては、アシルアミノ基のほかイ
ミノ基がベンジル基の様なアシル基以外の慣用される保
護基で置換されたものが挙げられる。

保護されたカルボキシ基および保護されたカルボキシア
ルキル基における保護されたカルボキシ部分としては、
エステル化されたカルボキシ基が挙げられ、ここでエス
テルとしては、例えばメチルエステル、エチルエステル
、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエ
ステル、イソブチルエステル、第３級ブチルエステル、
ペンチルエステル、第３級ペンチルエステル、ヘキシル
エステル、１−シクロプロピルエチルエステル等のアル
キルエステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニ
ｌレオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、パレリルオキシメチルエスチル、２−アセトキシ
エチルエステル、２−プロピオニルオキシエチルエステ
ル、ピパロイルオキシメチルエステル等のアルカノイル
オキシアルキルニスサル、メシルメチルエステル、エク
ンスルホニルエチルエステル等のアルカンスルホニルア
ルキルエステル、２−ヨードエチルエステル、２゜２、
２−トＩＪ　クロロエチルエステル等のモノ（もしくは
ジもしくはトリ）ハロアルキルエステル等の１個以上の
適当な置換分を有するアルキルエステル、ビニルエステ
ル、アリルエステル等のアルケニルエステル、エチニル
エステル、プ、ロビニルエステル等のアルキニルエステ
ル、ベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル
、４−ニトロベンジルエステル、７エネチルエステル、
トリチルエステル、ジフェニルメチルエステル、ビス（
メトキシフェニル）メチルエステル、３，４−ジメトキ
シベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３
級ブチルベンジルエステル等の１個以上の適当な置換基
を有していてもよいアラルキルエステル、フェニルエス
テル、トリルエステル、第３級ブチルフェニルエステル
、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエス
テル等の１個以上の適当な置換基を有していてもよいア
リールエステル等が挙げられる。

アリール基およびアラルキル基、アラルコキシ基、アリ
ールチオ基およびアリールオキシ基におけるアリール部
分としては、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、
クメニル、ナフチル等が挙げられ、このアリール基は、
塩素、臭素、沃素、弗素のようなハロゲン、ヒドロキシ
基等の適当な置換分を１個以上有していてもよい。

複素環式基および適当な置換分を有するかまたは有しな
い複素環式基もしくは複素環チオメチル基における複素
環部分とは、飽和もしくは不飽和の、単環もしくは多環
の、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のへテロ原子を１
個以上含む複素環式基を意味し、さらに詳細には、ピロ
リル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジ
ルもしくはそのＮ−オキサイド、ピリミジル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、４Ｈ−１，２，４−）リアゾリル、
ＩＨ−１’、’２．３−）リアゾリル、２Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル等のトリアゾリル、ＩＨ−テトラゾリ
ル、２Ｈ−テトラゾリル等のテトラゾリル等の窒素含有
不飽和単環複素環式基、ピロリジニル１．イミダゾリジ
ニル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素含有飽和単環
複素環式基、インドリル、イソインドリル、イントリジ
ニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、
イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル等の窒素含有不飽和
縮合複素環式基、オキサシリル、インキサゾリル、１，
２．４＝オキサジアゾリル、１，３．４−オキサジアゾ
リル、１、２．５−オキサジアゾリル等のオキサジアゾ
リル等の酸素および窒素含有不飽和単環複素環式基、モ
ルホリニルのような酸素および窒素含有飽和単環複素環
式基、ベンズオキサシリル、ベンズオキデジアゾリル等
の酸素および窒素含有不飽和縮合複素環式基、チアゾリ
ル、１，２．４−チアジアゾリル、１，３．４−チアジ
アゾリル、１．・２．５−チアジアゾリル等のチアジア
ゾリル等の硫黄および窒素含硫黄および窒素含有飽和単
環複素環式基、チエニルのような硫黄含有不飽和単環複
素環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等
の硫黄および窒素含有不飽和縮合複素環式基等が挙げら
れ、これらの複素環式基は、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル
、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアル
キル基、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチル
、ジエチルアミノプロピル、ジエチルアミノブチル等の
ジアルキルアミノアルキル基、ビニル、アリル、ブテニ
ル等のアルクニル基、フェニル、トリル等のアリール基
、塩素、臭素、沃素、弗素を含むハロゲン、アミノ基等
の適当な置換分を１個以上有していてもよい。

アルクニル基としては、直鎖状または分枝鎖状のアルケ
ニル基を含み、好ましくは例えばビ乎ル、アリル、イン
プロペニル、ｌ−ｆロベニル、２−プテニル、３−ペン
テニル等の低級アルクニル基が挙げられる。

アシルアミ７基、アシルイミノ基、アシルオキシ基、お
よ°びアシルオキシメチル基におけるアシル部分として
は、例えばカルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香環ま
たは複素環を含むアシル基が挙げられ、さらに詳細には
、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イン
ブチリル、バレリル、インバレリル、オキサリル、サク
シニル、ピバロイル等のアルカノイル基、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
１−シクロプロピルエトキシカルボニル、インプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、第３級フトキシ力
ルポニル、ペンチルオキシカルボニル、第３級ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等のアル
コキシカルボニル基、メシル、エタンスルホニル、フロ
パンスルホニル、インプロパンスルホニル、ブタンスル
ホニル等のアルカンスルホニル基、ベンゼンスルホニル
、トシル等のアレーンスルホニル基、ベンゾイル、トル
オイル、ナフトイル、フクロイル、インダンカルボニル
等のアロイル基、フェニルアセチル、フェニルプロピオ
ニル等のアラルカメイル基、ヘンシルオキシカルボニル
、フェネチルオキシカルボニル等のアラルコキシカルボ
ニル基が挙げられ、これらのアシル部分は、例えば塩素
、臭素、沃素、弗素を含むハロゲン、ヒドロキシ基、シ
アノ、ニトロ基、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、インプロポキシ等のアルコキシ基、ビニル、
アリル等のアルケニル基、アミノ基の保、ＩＬ例えばク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル
、トリフルオロアセチル等のハロアルカノイル基の様な
アシル基、フェニル、トリル等のアリール基等の適当な
置換分を１個以上有していてもよいｂこれらの置換分を
有するアシルの好ましい例としては、トリフルオロアセ
チル、トリクロロアセチル等のモノ（もしくはジもしく
はトリ）ハロ低級アルカノイル基、トリクロロアセチル
カルバモイルの様なモノ（もしくはジもしくはトリ）ハ
ロ低級アルカノイルカルバモイル基等が挙げられる。

酸残基としては、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸
等の無機酸またはメクンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ）ルエンスルホン酸等の有機酸の様な酸の残基が
挙げられる。

式Ｒ４″−８−で示される基により置換され得る基とし
ては、前記した様なハロゲン、アシルオキシ基またはア
ジドの様な酸残基が挙げられる。

目的化合物（１）の好ましい例を次に挙げる。

Ｒ５の好ましい例としては、水素、ハロゲンまたはニト
ロ基が挙げられ　Ｒ６の好ましい例としては、とドロキ
シ基、低級アルコキシ基、アシルオキシ基（さらに好ま
しくは、低級アルカノイルオキシ基またはカルバモイル
オキシ基）、アシルアミノ基（さらに好ましくは、低級
アルカンスルホニルアミノ基）またけジ低級アルキルア
ミノ基が挙げられ　ＢＴの好ましい例としては、アミノ
基、アシルアミノ基（さらに好ましくけ、低級アルカン
スルホニルアミノ基、ハロ低級アルカノイルアミノ基、
低級アルコキシカルボニルアミノ基または低級アルカノ
イルアミノ基）、ヒドロキシ基または低級アルキル基が
挙げられ　Ｈａの好ましい例としては、低級アルキル基
が挙げられ　Ｒ９の好ましい例としては、アシルアミノ
基（さらに好ましくは、低級アルカンスルホニルイミフ
基）が挙げられ、Ｒ２の好ましい例としては、低級アル
キル基、低級アルケニル基、アリール低級アルケニル基
（さらに好ましくは、フェニル低級アルケニル基）、カ
ルボキシ低級アルキル基、保護されたカルボキシ低級ア
ルキル基（さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基）、アリールチオ低級アルキル基（さら
に好ましくけ、フェニルチオ低級アルキル基）、ハロゲ
ンおよびとドロキシ基を有していてもよいアリール低級
アルキル基（さらに好ましくは、フェニル低級アルキル
基）またはチエニル低級アルキル基が挙げられ、Ｒ３の
好ましい例としては、カルボキシ基が挙げられ、≠牟Ｒ
４の好ましい例としては、アシルオキシメチル基（但し
、適当な置換分を有していてもよいカルバモイルオキシ
メチル基を除く）（さらに好ましくは低級アルカノイル
オキシメチル基）、ヒドロキジメチル基、ホルミル基、
低級アルキル基もしくはジ低級アルキルアミノ低級アル
キル基を有するかまたは有しないテトラゾリルチオメチ
ル基、低級アルキル基を有するかまたは有しないトリア
ゾリルチオメチル基もしくはチアジアゾリルチオメチル
基が挙げられ、さらにＲ３とＲ４が一緒になって基−Ｃ
ＯＯＣＲ，−である場合が挙げられる。

次にこの発明の目的化合物の製造法について説明する。

方法１ この発明の目的化合物（Ｉ）またはその塩類は、化合物
（ｎ）もしくはそのアミノ基における反応性誘導体また
はそれらの塩類に、化合物（至）もしくはそのカルボキ
シ基における反応性誘導体またはその塩類を反応させる
ことＫより製造される。

化合物（■）のアミノ基における反応性誘導体としては
、例えばインシアネート、化合物（［１）とアルデヒド
、ケトン等のカルボニル化合物との反応により生成する
シックの塩基（イミノ型もしくはそのエナミン型の異性
体）、化合物（ＩＩ）とビス（トリノチルシリル）アセ
トアミド、トリメチルシリルアセトアミド等のシリル化
合物との反応により生成するシリル誘導体または化合物
（ｎ）と３塩化燐、ホスゲン等との反応により生成する
誘導体等のアミド化反応において慣用されるものはすべ
て包含される。また化合物（ロ）の塩類としては、酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩等の酸付
加塩、またナトリウム塩、カリタム塩、等のアルカリ金
属塩、カルシタム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との塩、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩等の有機塩基との塩が挙げられ
る。

また化合物（２）のカルボキシ基における反応性誘導体
としては、例えば酸ノ・ライド、酸無水物、活性アミド
、活性エステル等が挙げられるが、さらに詳細には酸ク
ロリド、酸アジド、ジアルキルりん酸混合酸無水物、フ
ェニルりん酸混合酸無水物、ジフェニルりん酸混合酸無
水物、ジベンジルりん酸混合酸無水物、ハロゲン化りん
酸混合酸無水物等の置換りん酸混合無水物、ジアルキル
亜りん酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水物、チオ硫酸
混合酸無水物、硫酸混合酸無水物、アルキル炭酸混合酸
無水物、脂肪族カルボン酸（たとえばピパリン酸、ペン
タン酸、イソペンクン酸、２−エチルブタン酸、トリク
ロル酢酸）混合酸無水物、芳香族カルボン酸（たとえば
安息香酸）混合酸無水物、対称形酸無水物等の酸無水物
、イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾール、テトラゾールなどとの酸アミド
、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジ
メチルイミノメチル（（ＣＨｓ　）ｇＮ＋−ａｎ−）　
エステル、ビニルエステル、フロパルギルエステル、ｐ
ニトロフェニルエステル、２．４−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、７エ二ルチオエステル、ｐ−ニト
ロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノリルチ
オエステル、またはＮ、Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミ
ン、ｌ−ヒドロキシ−２−（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒ
ドロキシ７タルイミド、Ｎ−ヒドロキシ７タルイミド、
１−ヒドロキシ−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾー
ル等とのエステル等のエステル類等が挙げられ、これら
は使用する化合物（２）の種類に応じて適宜選択される
。

化合物（２）の塩類としては、前記したようなアルカリ
金属塩、・アルカリ土類金属塩等の無機塩基との塩、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基との塩等が挙げられる。

この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンまたはその他の反応に悪影響を及ぼさない
一般有機溶媒等の溶媒中で行なわれ、これらのうち、親
水性の溶媒は水と混合して使用することもできる。

この反応において化合物＠）を遊離酸もしくはその塩の
状態で使用する際は、たとえば、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド、Ｎ−シクロへキシル−Ｎ／−モ
ルホリノエチルカルボジイミド、Ｎ−シクロへキシル−
Ｎ’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ、Ｎ’
−ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ、
Ｎ’−カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）、ペ
ンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、ジフ
ェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、アルコキシ
アセチレン、ｌ−アルコキシ−１−クロロエチレン、１
−（４−タロロベンセ°ンスルホニルオキシ）−６−ク
ロロ−ＩＨ−ベンゾトリアソール、亜すん酸トリアルキ
ルエステル、ポリりん酸エチルエステル、ポリりん酸イ
ソプロピルエステル、オキシ塩化りん、３塩化りん、塩
化チオニル、オキチリルクロリド、トリフェニルホスフ
ィン、Ｎ−エチルペンズイソキサゾリクム塩、Ｎ−エチ
ル−５−フェニルインキサゾリウム−３′−スルホナー
ト、ジメチルホルムアミドおよび塩化チオニルから製造
される（クロロエチレン）ジメチルアンモニクムクロリ
ド、ジメチルホルムアミドおよびオキシ塩化りんから製
造される化合物等のビルスマイヤー試薬等の縮合剤の存
在下に行なうのが有利である。

また、この反ｔ３Ｆｉ水酸化アルカリ金属、炭酸水素ア
ルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリアルキルアミン、
Ｎ、Ｎ−ジアルキルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジアルキルベン
ジルアミン、ピリジン、Ｎ−アルキルモルホリン等の有
機もしくは無機の塩基の存在下に行なってもよく、塩基
もしくは前述の縮合剤のうち、液体のものは溶媒を兼ね
て使用できる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないしは室
温で行なわれることが多い。

この反応において、原料化合物価を化合物（ロ）もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩
類に反応させる際に、例えば５塩化りん、塩化チオニル
等を用いた場合には、原料化合物（至）、すなわちシン
異性体、を用いた場合でも、例えばこの化合物（２）の
いわゆる活性化段階においてシン異性体がより安定なア
ンチ異性体へ部分的にまたは完全に異性化し、そのよう
に異性化した目的化合物が得られる。そこで目的化合物
（Ｉ）、すなわちシン異性体、を選択的にかつ高収率で
得ようとする場合には、まず原料化合物（２）、すなわ
ちシン異性体、を用い、目的化合物［Ｉ）を選択的にか
つ高収率で得るのに適した反応条件を選択する必要があ
る。

例えば、この反応を前記のビルスマイヤー試薬等の存在
下、かつ中性付近の反応条件で行なうと目的化合物（１
）、すなわちシン異性体、が選択的にかつ高収率で得ら
れる。さらに原料化合物（至）としを用いた場合には、
例えば、この反応をジメチルホルムアミドおよびオキシ
塩化りんから製造されるビルスマイヤー試薬の存在下Ｋ
かつ中性付近の反応条件で行なうと、目的化合物ＣＩ）
、すなわちシン異性体、が選択的にかつ高収率で得られ
、この場合実施例に示したようにオキシ塩化りんを原料
化合物（２）、すなわちシン異性体、およびジメチルホ
ルムアミド忙対して２モル当量以上用いると特忙好結果
が得られている。またこの場合には原料化合物（２）の
活性化け、ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ト
リメチルシリルアセトアミド等のシリル化合物等の存在
下に行なうと好結果が得られる。

この反応またはその後処理において　Ｈ４がヒドロキシ
メチル基である化合物（ＩＩ）を原料化合物として用い
た場合に　Ｒ３とＲ４が互いに結合して式＝Ｃ０ＯＣＨ
，−で示される基に転じた目的化合物（１１が得られる
ことがあり、さらに保護されたカルボキシ基が、遊離の
カルボキシ基に転じた化合物が得られることもあるが、
もちろんこれらの場合もすべてこの発明の範囲に包含さ
れる。

方法２ 目的化合物（Ｉａ）またはその塩類は、化合物（５））
またはその塩類をアミノ（またはイミノ）保護基の脱離
反応に付すことにより製造される。

化合物（閑の塩類としては前記した様な金属塩、アンモ
ニウム塩、有機アミン塩等が挙げられる。

このアミノ（またはイミノ）保護基の脱離反応には、加
水分解、還元、保護基がアシル基である化合物にイミノ
ハロゲン化剤、ついでイミノエーテル化剤を作用させた
後、必要に応じて加水分解する方法等のアミノ（または
イミノ）保護基の脱離方法として慣用されるすべての方
法が適用でき、例えば加水分解には酸、塩基、ヒドラジ
ン等を使用する方法が含まれる。これらの方法は、脱離
される保護基の種類により適宜選択される。これらの方
法の中、酸を使用する加水分解は一般的な方法の１つで
あり、例えば第３級ペンチルオキシ力ルホニルの様な置
換もしくけ非置換アルフキジカルボニル基、ホルミルの
様なアルカノイル基、シクロアルコキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキシカルボ
ニルの様な置換もしくけ非置換アラルコキシカルボニル
基、ベンジル、トリチルの様なアラルキル基、置換フェ
ニルチオ基、置換アルキリデン、置換シクｑアルキリデ
ン、置換アラルキリデン等の基の脱離に適用される。ま
た使用される酸としては、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸等の
有機および無機の酸が挙げられ、これらの中、ぎ酸、ト
リフルオロ酢酸等の様に減圧蒸留の様な慣用される方法
により容易に除去できるものが好ましい。これらの酸は
脱離されるアミノ（またはイミノ）保護基の種類に応じ
て適宜選択される。この脱離反応で酸を使用する場合に
は、無溶媒下もしくは水、親水性有機溶媒もしくはそれ
らの混合溶媒等の溶媒の存在下のいずれでも反応を行な
うこをができる。またトリフルオロ酢酸を用いる場合は
アニソールの存在下に反応を行ってもよい。

ヒドラジンを使用する加水分解は、例えばサクシニル、
フタロイル等の脱離に適用される。

塩基を用いる加水分解は、例えばトリフルオロアセチル
のようなアシル基の脱離に繁用される。

使用される塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水
酸°化カリクム等の水酸化アルカリ金属、水酸化マグネ
シウム、水酸化力ルシウム等の水酸化アルカリ土類金属
、炭酸ナトリウム、炭酸カリタム等の禾酸アルカリ金属
、炭酸マグネシウム、炭酸力ルシウム等の炭酸アルカリ
土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリタム等の
炭酸水素アルカリ金属、酢酸ナトリウム、酢酸カリタム
等の酢酸アルカリ金属、シん酸カルシウム、シん酸マグ
ネシウム等のりん酸アルカリ土類金属、りん酸水素２ナ
トリクム、りん酸水素２カリクム等のりん酸水素アルカ
リ金属等の無機塩基、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、Ｎ−メチルピ
ロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシ
クロ［４，３，Ｏｌノン−５−エン、１．４−ジアザビ
シクロ［２，２，２］オクタン、１．８−ジアザビシク
ロ［５，４，Ｏｌクンデセン−７等の有機塩基が挙げら
れる。

塩基を用いる加水分解は、通常、水、親水性有機溶媒ま
たはそれらの混合溶媒中で行なわれる。

さらにアミノ（またはイミノ）保護基がアシル基である
場合には、これらは一般的に上記の加水分解または他の
慣用される加水分解により脱離される。アシル基が、例
えばハロアルコキシカルボニル基、８−キノリルオキシ
カルボニル基等である場合には、銅、亜鉛等の重金属で
処理するととＫより脱離される。

還元的脱離方法は、例えばトリクロロエトキシカルボニ
ルの様なハロアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニルの様な置換もしくは非置換アクルコキシ力ル
ボニル基、２−ピリジルメトキシカルボニル等の基の脱
離に適用される。還元的脱離方法としては、例えば水素
化はう素ナトリクムの様な水素化はう素アルカリ金属に
よる還元方法等が挙げられる。

また保護基かアシルである化合物は、イミノハロゲン化
剤ついでイミノエーテル化剤を作用させた後、必要に応
じて加水分解することにより保護基を脱離する方法にお
いて使用されるイミノハロゲン化剤としては、例えば３
塩化燐、５塩化燐、３臭化燐１，５臭化燐、オキシ塩化
燐、塩化チオニル、ホスゲン等が挙げられる。この反応
温度は特に限定されないが、通常室温ないし冷却下で行
なわれることが多い。このようにして得られる反応生成
物に作用させるイミノエーテル化剤としては、アルコー
ル類もしくけ金属アルコキサイド類が挙げられ、アルコ
ールとしてメタノール、エタノール、プロパツール、イ
ンプロパツール、ブタノール、第３級ブタノール等のア
ルカノール類またはこれらのアルキル部分がメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ等の
アルコキシ基等で置換された化合物が挙げられ、金属ア
ルコキサイド類としては、上記の様なアルコールから誘
導されるナトリクムアルコキサイド、カリクムアルコキ
サイド等のアルカリ金属アルコキサイドおよびカルシク
ムアルコキサイド、パリクムアルコキサイド等のアルカ
リ土類金属アルコキサイドなどが例示される。反応温度
は特に限定されないが、通常冷却下〜室温で反応が行な
われる。

このようにして得られる反応生成物を必要に応じて加水
分解反応に付する。加水分解反応は、前段で得られる反
応液をそのまま水中へ注入すれば充分進行するが、メタ
ノール、エタノール等の親木溶媒、炭酸水素アルカリ金
属、トリアルキルアミン等の塩基もしくは希塩酸、酢酸
等の酸を予め水に添加しておいてもよい。

アミノ（またはイミノ）保護基の脱離反応における反応
温度は特に限定されず、例えばアミノ（またはイミノ）
保護基の種類、脱離方法の種類等に応じて適宜選択され
るが、冷却下、室温ないしやや加温程度の緩和な条件で
行なわれることが望ましい。

この反応では　Ｒ４がアシルオキシメチル基である（ｆ
ｆ）を用いた場合、反応条件により、Ｒ３とＲ−が互い
に結合して式−ｃｏｏｃ’ａ２−で示される基に転じた
目的化合物が得られることがあり、まだ保護されたカル
ボキシ基が遊離のカルボキシ基に転じることがあるがこ
れらもこの発明の範囲に含まれる。

方法３ 目的化合物（Ｉｂ）またはその塩類は、化合物（Ｖ）ま
たはその塩類のヒドロキシ基をアシル化することにより
製造される。

化合物（ｖ）の塩類としては、化合物＠）の塩類として
例示されたものが挙げられる。

この反応で使用されるアシル化剤としては、前記したア
シル基をそのアシル部分として含有する脂肪族、芳香族
および複素環カルボン酸、これらに対応するスルホン酸
およびチオ酸およびこれらの酸の反応性誘導体が挙げら
れる。反応性誘導体としては、前記化合物（４）の反応
性誘導体として例示された基がここでも例示される。

アシル化剤としては、上記の他にさらにメチルイソシア
ナート、フェニルイソシアナート、トリクロロアセチル
インシアナート、メチルイソチオシアナート等の脂肪族
、芳香族゛および複素環イソシアナートもしくけインチ
オシアナート、クロロ弗酸エチルエステル、クロロ弗酸
ベンジルエステル等のへ口弗酸工不テル等が挙げられる
。この場合、例えばトリクロロアセチルイソシアナート
をアシル化剤として用いる場合は、トリクロロアセチル
カルバモイル基がアシル基として導入され、この基は塩
基と処理してカルバモイル基に変えてもよい。また、例
えばクロロ弗酸エチルエステルをアシル化剤として使用
した場合は、エトキシカルボニル基がアシル基として導
入される。

この反応は、前記の化合物（ＩＩ）と化合物＠）の反応
による方法ｌと同様の反応条件で行なわれ、好ましくけ
塩基の存在下に行なわれる。

この反応では、保護されたカルボキシ基が遊離のカルボ
キシ基に転じることがあるがこれもこの発明の範囲に含
まれる。

方法４ 目的化合物（Ｉｃ）またはその塩類は、化合物（Ｙａ）
またはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造される。

化合物（マａ）の塩類としては、化合物（ＩＴ）の塩類
として例示されたものが挙げられる。

この脱離反応は、加水分解のような慣用の方法により行
なわれる。加水分解方法としては、酸、塩基等を用いる
方法が挙げられ、これらの方法は脱離される保護基の種
類により適宜選択される。

酸を用いる加水分解は、最も繁用される方法の１つであ
り、例えば、フェニルアルキル、置換フェニルアルキル
、アルキル、置換アルキル等の保護基を脱離するのに用
りられる。使用される酸としては、例えば、弗酸、トリ
フルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、Ｐ−）ルエンスル
ホン酸、塩酸等の有機または無機酸か挙げられ、またこ
の反応はアニソールの存在下に行ってもよい。使用する
酸は、脱離される保護基の種類等により適宜選択される
。この酸を用いる加水分解は、通常、水、親水性有機溶
媒またはこれらの混合溶媒中で行なわれることが多い。

反応温度は特に限定されず、保護基の種類、脱離方法等
により、適宜選択さ・れるが、通常、冷却下、室温ない
しやや加温程度の緩和な条件下で行われることが望まし
い。

この反応において、反応中または処処理中にＲ３の保護
されたカルボキシ基が遊離のカルボキシ基に転じる場合
、保護されたアミノ基（もしくはイミノ基）が遊離のア
ミノ基（もしくはイミノ基）Ｋそれぞれ変わる場合、ア
シルオキシ基がヒドロキシ基に変わる場合があるが、こ
れらもすべてこの発明の範囲に含まれる。

方法５ 目的化合物（Ｉｅ）またはその塩類は、化合物（ＶＣ）
またはその塩類と化合物（Ｖｄ）またはそのメルカプト
°基における反応性誘導体とを反応させることにより製
造される。

化合物（ＶＣ）の塩類としては、化合物（ＩＶ）の塩類
として例示されたものが挙げられる。

化合物（マｄ）のメルカプト基における反応性誘導体と
しては、例えばナトリクム塩、カリクム塩等のアルカリ
金属塩等の金属塩が挙げられる。化合物（ＶＣ）または
その塩類と化合物（Ｖｄ）またはそのメルカプト基にお
ける反応性誘導体との反応は、例、Ｉｔハ水、アセトン
、クロロホルム、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化
エチレン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノ
ール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホ
キサイド等のこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒、好ま
しくは極性の強い溶媒中で行われる。これらのうち親水
性の溶媒は水と混合して使用してもよい。化合物（Ｖｃ
）および（もしくは）化合物（マｄ）を遊離の状態で使
用、する場合には、この反応は、例えば前記した様な水
酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカ
リ金属、トリアルキルアミン、ピリジン等の有機もしく
は無機塩基等の塩基の存在下に行うと有利に進行する場
合が多いが、通常反応液の液性を弱塩基性から中性付近
に保って反応を行なうと好結果を得る場合が多い。この
反応の温度は特に限定されないが、通常室温〜加温下で
行なわれることが多い。

この反応およびその後処理におｈて、保護されたアミノ
基、保護されたイミノ基および（もしくけ）保護された
カルボキシ基が、それぞれ対応する遊離のアミ７基、イ
ミノ基および（もしくは）カルボキシ基に転じた化合物
が得られることがあ！７″！たアシルオキシ基がヒドロ
キシ基に転じることがあるが、もちろんこれらの場合も
この発明の範囲に包含される。

方法６ 目的化合物（Ｉｆ）またはその塩類は化合物（Ｗｅ）ま
たはその塩類を酸で処理することにより製造される。

化合物（マｅ）の塩類としては、化合物（ｆｆ）の塩類
として例示したものが挙げられる。

この反応で使用される酸としては、塩酸、臭化水素酸、
硫酸等の無機酸または弗酸、酢酸等の有機酸が挙げられ
る。

この反応は通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては、水
、アセトン、酢酸の他この反応に悪影響を及ぼさない他
の溶媒がすべて挙げられる。溶媒のうち、親水性の溶媒
は水と混合して用いることもできる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下〜加温下で
行われることが多い。

方法７ 目的化合物（Ｉｇ）またはその塩類は、化合物（マｅ）
またはその塩類を酸化することにより製造される。

この反応で使用される酸化剤としては、３酸化クロムと
硫酸を組み合わせて用いるいわゆるジョーンズ試薬、２
酸化マンガン、ジメチルスルホキサイドとＮ、Ｎ’−ジ
シクロへキシルカルボジイミド等を組み合わせて用いる
試剤等が挙げられる。

この反応は通常、溶媒中で行なわれるが、溶媒としては
、水、アセトン、ジメチルホルムアミドの他この反応に
悪影響を及ぼさない溶媒はすべて使用でき、これらの溶
媒は混合して使用してもよい０ 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下〜室温付近
で行なわれることが多い。

次に原料化合物（至）、すなわちシン異性体、および参
考例に使用される対応するアンチ異性体の製造法につい
て説明する。

１、　　（ｖｌ）＋（２）−帽の製造法［製造法１　＋
１１　］化合物（２）は、化合物（Ｗ）Ｋ化合物（６）
を反応させることＫより製造される。

この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては、
水、エタノール、アセトン、エーテル、ジメチルホルム
アミドの他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒
が挙げられる。この反応は、前記した様な無機塩基また
は有機塩基の存在下に行われるのが好ましい。反応温度
は特に限定されないが、通常、冷却下〜溶媒の沸点程度
の加熱下に行なわれることが多い。

化合物（Ｘ）または（ＸＸＸＩ［Ｉ）は、それぞれ化合
物叫または（ＸＸＸＩ）を酸化することにより製造され
る。

この酸化反応は、いわゆる活性メチレン基をカルボニル
基に変える慣用の方法により行なわれる。

すなわち、この反応は２酸化セレン、過マンガン酸カリ
クム等の慣用の酸化剤を用いる酸化の様な慣用の方法に
より行なわれる。この反応は、通常、この反応に悪影響
を及ぼさない溶媒中で行なわれ、溶媒としては例えば、
水、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリジン等が挙
げられる。

反応温度は、特忙限定されないが、通常、加温〜加熱下
に行なわれることが多い。

化合物（２）は、化合物値）をアラルキル基の脱離反応
に付すことにより製造される。

この脱離反応は、例えば、加水分解、還元等のアラルキ
ル基の脱離方法として慣用の方法をすべて包含する。

酸を用いる加水分解け、最も繁用される方法の１つであ
り、使用される酸としては、塩酸、臭化水素酸等の無機
酸、弗酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸およびこ
れらの混合酸が挙げられる。

この反応は、無溶媒下または水、親水性溶媒またはそれ
らの混合溶媒中で行なわれる。反応温度は特に限定され
ないが、通常、加温〜加熱下に行なわれることが多い。

化合物（Ｉｋ）、（ＸＸＸＶ）または（［ｎｆ）は、そ
レソｉ化合物（ＸＩ［Ｉ）、（ＨＸＩｎ）または（ｍＷ
）Ｋ化合物（Ｘ’ｆｆ）またはその塩類を反応させるこ
とＫより製造されん化合物（ｍ）の塩類としては、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、Ｐ−
）ルエンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。

この反応は通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては、水
、メタノール、エタノール等のアルコール、これらの混
合溶媒の他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒
が使用される。

この反応は、化合物（Ｉｆｆ）をその塩類の形で使用す
る場合には、例えば、前記した様な水酸化アルカリ金属
、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、炭酸ア
ルカリ土類金属、炭酸水素アルカリ金属等の無機塩基ま
たはアルカリ金属アルコキサイド、トリアルキルアミン
、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミン、Ｎ、Ｎ−ジアルキルベン
ジルアミン、ピリジン等の有機塩基のような塩基の存在
下に行われるのが好ましい。

反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下〜加熱下
で行なわれることが多い。

この反ｆ３においては、反応条件により化合物（ｌｋ）
、ＱＸＸマ）または（ＩＩｌｆ）フシジンよびアンチ異
性体の混合物が得られる場合がある。この場合には、両
異性体は、慣用の分離および単離手段により、その混合
物から分離され単離される。例えば、その混合物をエス
テル化し、このエステルを、例えば、クロマトグラフィ
ーにより両異性体それぞれに分離したのち、分離された
シンまたはアンチ異性体のエステルを慣用の方法で加水
分解して、それぞれ対応するシンまたはアンチ異性体の
カルボン酸とするととＫより分離、単離することができ
る。

この反応で目的物（＆）、（ＩＸＸＶ）または（ＩＩｌ
ｆ）のシン異性体を得ようとする場合忙け、この反応を
中性付近で行なうのが好ましい。

化合物（Ｘ■）または（ＸＩＸ■）は、それぞれ化合物
（ＸＶ）または（ＸＩＸＩＹ）　Ｋヒドロキシルアミン
またはその塩類を反応させることＫより製造される。

ヒドロキシルアミンの塩類としては、化合物（Ｘｆｆ）
の塩類として例示されたものが挙げられる。

この反応は、前記４　ノ（Ｘｍ）　＋　（ｍ）　−Ｃｎ
ｋ＞、（ＸＸＸＩＩＩ）＋　（ＸＩＶ）　−（ＸＸＩＶ
）および（ＸＸＸＩＶ）　＋　（ＸＩＶ）　−（Ｉ［Ｉ
ｆ）の方法と同様の反応条件で行なわれる。

５および６　＋３１　］ 化合物（鳳（ＩＩＶ）　、（ＩＸ’ｋｌ）または（ＸＩ
蔗）は、それぞれ化合物（ＩＩＶＩ）、（ＩＸｆｆ）、
（ＸＸＶＩ）または（Ｘｌｆｆｉ）をアルキル化するこ
とＫより製造される。

この反応で使用されるアルキル化剤としては、ジメチル
硫酸、ジエチル硫酸等のジアルキル硫酸、ジアゾメタン
、ジアゾエタン等のジアゾアルカン、メチルヨーゲイト
、エチルヨーゲイト等のアルキルハライド、ｐ−）ルエ
ンスルホン酸のメチルエステルのようなスルホン酸のア
ルキルエステル等が挙げられる。

ジアルキル硫酸、アルキルハライドまたはスルホン酸の
アルキルエステルを用いる反応は、通常、水、アセトン
、エタノール、エーテル、ジメチルホルムアミドの他こ
の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。この反
応は、前記した様な無機塩基または有機塩基のような塩
基の存在下に行うのが好ましい。反応温度は特に限定さ
れないが、通常、冷却下〜溶媒の沸点程度の加熱下で行
われることが多い。

ジアゾアルカンを用いる反応は、通常、エーテル、テト
ラヒドロ７ラン等の溶媒中で行なわれも反応温度は特忙
限定されないが、冷却下〜室温で行われることが多い。

化合物（Ｉｌｆｂ）または（Ｄｌｇ）は、それぞれ化合
物０１または（ｎｍ）を加水分解することにより製造さ
れる。

加水分解は、塩基または酸の存在下に行なわれるのが好
ましい。使用される塩基としては、前記した様な無機塩
基または有機塩基が挙げられる。

酸としては、弗酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸または塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機
酸が挙げられる。

この反応は通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としてけ、水
、メタノール、エタノール等のアルコール、−これらの
混合溶媒の他、この反応に悪影響を及ぼさないすべての
溶媒が挙げられる。塩基または酸のうち液体のものは、
溶媒を兼ねて使用できる。

反応温度は、特に限定されないが、通常、冷却下〜加温
下に行なわれることが多い。

化合物（胸）は、化合物（ｍ）をアシル化することＫよ
り製造される。

この反応で使用されるアシル化剤およびこの反応条件は
、前記目的化合物の方法３のところで例示したものがこ
こでも挙げられる。

化合物（Ｘｌｌ）は、化合物（ＸＩ）をニトロン化する
ことにより製造される。

この反応で使用されるニトロフ化剤としては、活性メチ
レン基と反応してＣ−ニトロン化合物を製造する慣用の
試剤が挙げられ、例えば、亜硝酸、亜硝酸ナトリウムの
ような亜硝酸のアルカリ土属塩、亜硝酸第３級ブチルエ
ステル、亜硝酸イソペンチルエステル等の亜硝酸のアル
キルエステル等が挙げられる。

亜硝酸の塩をニトロン化剤として用いる場合には、この
反応は通常、塩酸、酢酸等の無機または有機酸の存在下
に行なわれる。一方、亜硝酸のエステルを用いる場合に
は、反応は、アルカリ金属アルコキサイド等の強塩基の
存在下に行なうのが好ましい。

この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては水
、酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール等のアルコ
ールの他、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒がすべて
使用できる。

反応温度は、特に限定されないが、通常、冷却下〜室温
で行なわれることが多い。

１０、　　（′ｒＭ）＋（ｍ）−（ＸＸＩ［ｌ）　オ！
び（：ｍ）　＋　（ＸＸＩ）　−（ｘｎｒ）　ノ製造法
〔製造法、ｉ！ｔ）オ！ヒ５　］化合物（ＸＸＩＩＴ）
または（ｘｍ）は、それぞれ化合物（ＸＸＩ）または（
ＸＸＩ’ｌ）を化合物（ＸＸＩ）と反応させることによ
り製造される。

この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては、
水、メタノール、エタノール等のアルコール、ベンゼン
、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、テト
ラヒドロフランの他この反応に悪影響を及ぼさないすべ
ての溶媒が挙げられ、これらの溶媒は、混合して使用し
てもよい。

反応温度は特に限定されないが、通常、室温〜溶媒の沸
点程度の加熱下に行なわれることが多い。

この反応で目的物質（Ｘ■）または（ＸＸＩＸ）のシン
異性体を得るためには、原料物質（Ｘ’Ｍ）または（Ｘ
蔗）としてシン異性体を用い、反応を酢酸ナトリウム、
ピリジン等の塩基の存在下、中性付近で行なうのが好ま
しい。

化合物（ＸＸＩ［１う、（Ｕｋｌ）、（ｒＩＩｅ）、（
ＸＸＸＩＶ）または（Ｉｌｌｆ）は、それぞれ化合物（
ｘｍ）、（ＸＸＶ）、（ＨＩＸ）、（ＸＸＸＩＩＩ）ま
たは（ＸＸＸＶ）をカルボキシ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造される。

この脱離反応では、加水分解の様なカルボキシ保護基の
脱離反応に使用される慣用の方法が適用できる。

保護基がエステルの場合には、加水分解により脱離され
、この加水分解は、前記７の（Ｘ１’ｉ［）　−（［Ｉ
ｂ）および（ＸＸＸｊｌｌ）　−（Ｉｒ１ｇ）の製造法
と同様の方法で行なわれる。

１２、　　（ＸＸｖＩ）　−（ＸＸＶｍ）　＋７）製造
法〔製造法５〕化合物（Ｘｍ）は化合物（ＸＸＩＮ）を
Ｉ・ロゲン化すること忙より製造される。

この反応で使用されるノ）ロゲン化剤としては、臭素、
塩素等のハロゲン、塩化スルフリルのようなハロゲン化
スルフリル、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜塩素酸す）
　ＩＪクム等の次亜ノ・ロゲン酸もしくけその塩、Ｎ−
プロモサクシンイミド、Ｎ　−タロロサクシンイミド、
Ｎ−ブロモフタルイミド等のＮ−ハロゲン化イミド化合
物等のいわゆる活性メチレン基のハロゲン化に慣用され
るノ・ロゲン化剤が挙げられる。

この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、溶媒としては、
弗酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸、４塩化炭素の他
この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられ
る。

反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下〜加熱下
のいずれでも行なわれる。

１３、　　（ｍ）　−（ＸＥ）　オｊび（ＸＩＸＩＫ）
　−（ＩＩ［ｈ）　（７）製造法［製造法６（１）およ
び７］ 化合物（Ｉｆｆ）または（ＩＩＩｈ）は、化合物（ＸＸ
Ｘ）もしくはそのアミ７基における反応性誘導体または
その塩類または化合物（Ｉ：ｒＸｆｆ）もしくはそのア
ミン基における反応性誘導体またはその塩類に、それぞ
れアミノ保護化剤を反応させることにより製造される。

化合物（ＸＸＸ）　ｔたは（ＸＸＸＩＸ）のアミノ基に
おける反応性誘導体およびこれらの化合物の塩類として
は、前記した化合物（■）のアミ７基における反応性誘
導体およびその塩類がそれぞれ挙げられる。

アミノ保護化剤としては、例えばアシル化剤が挙げられ
、アシル化剤としては、脂肪族、芳香族および検索環カ
ルボン酸、これらに対応するスルホン酸も”しくはチオ
酸、ハロ義酸エステル、イソシアン酸エステル、カルバ
ミン酸および前記の酸の反応性誘導体等が挙げられる。

この酸の反応性誘導体としては、化合物（２）のカルボ
キシ基における反応性誘導体として例示されたものが挙
げられる。これらのアミノ保護化剤により化合物（ＸＸ
りまたは（ＸＸＩ）のアミノ基に導入される保護基（例
えばアシル基）の例としては、前記アシルアミノ基のア
シル部分として例示されたアシル基等が挙げられる。

このアシル化反応は、前記の化合物（ｎ）と化合物ａｍ
との反応（方法１）と同様の方法で行なわれる。

化合物（ＸＸｍｌ）は化合物（Ｘ■つを加水分解するこ
とにより製造される。

この加水分解は、亜硫酸水素ナトリクムのような亜硫酸
水素アルカリ金属、３塩化チタン、塩酸、臭化水素酸等
のハロゲン化水素酸、弗酸、亜硝酸等の無機酸もしくは
有機酸等の存在下に行なわれ、ハロゲン化水素酸はホル
ムアルデヒドの様なアルデヒドと併用するのが好ましい
。

この反応は、通常、溶媒中で行なわれ溶媒としては水、
水性メタノール、水性エタノール等の水性アルコール、
水・酢酸の他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶
媒が挙げられる。

反応温度は、特に限定されないが、通常、室温〜加熱下
に行なわれることが多い。

この反応では、保護されたカルボキシ基が遊離のカルボ
キシ基に変わる場合もあるが、これもこの発明の範囲に
含まれる。

前記したこの発明における互変異性体は、各工程の反応
中および（または）それらの反応の後処理中に相互に別
の互変異性体に変ることがあるが、もちろんこれらの場
合もこの発明の範囲に包含される。

この発明において、目的化合物（Ｉ）が、４位に遊離の
カルボキシ基を有するか、または（および）７位の置換
基中に遊離のアミ７基を有する等の場合の様に遊離のカ
ルボキシ基、アミ７基等を分子中に有する状態で得られ
る場合には、必要に応じて常法により前記した様な塩類
に導いてもよい。

この発明の目的化合物（Ｉ＞およびその塩類は、すべて
新規化合物であり、高い抗菌力を有しており、医薬とし
て有用である。また目的化合物（Ｉ）、すなわちシン異
性体、は対応するアンチ異性体と比較してけるかに高い
抗菌力を有しており、医薬としての価値は、目的化合物
（Ｉ）、すなわちシン異性体、が対応するアンチ異性体
に比較して木質的にはるかに優れている。またこの発明
の方法はいずれも目的化合物（Ｉ）およびその塩類、す
なわちシン異性体、を得るこ七Ｋ特に留、意したもので
、かかるシン異性体を選択的Ｋかつ高収率で製造するこ
とができる点で優れている。

次にこの発明の目的化合物（Ｉ）のうち下記の試験化合
物およびその対応するアンチ異性体の試験管内抗菌作用
、マクスにおける感染防御試験および急性毒性のデータ
を示す。

・試験化合物 １１）　　７−［２−メトキシイミノ−２−（３−ヒド
ロキシフェニル）アセトアミ）’］−３−（１−メチル
−１■−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体） （２１７−［２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキ
シフェニル）アセトアミド］−３−（１−メチル−ＩＨ
−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸（アンチ異性体） （３１７−［２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキ
シフェニル）アセトアミド］−３−（１，３゜４−チア
ジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）＋４１７−［２−メトキシ
イミノ、−２−（３−アセトキシフェニル）アセトアミ
ド］　−３−’（１，３゜４−チアジアゾール−２−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）（５１７−（２−メトキシイミノ−２−（・２
−アミフシ１．３−チアゾールー４−イル）アセトアミ
ド）−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルポン酸（シン
異性体） （６１７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミド］−３７
（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン１１Ｐ（アンチ異性
体） ＋７１７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）アｔドアミド］セファ
ロスポラン酸（シン異性体）＋８１７−［２−メトキシ
イミノ−２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−４−
イル）アセトアミド］セファロスポラン酸（アンチ異性
体）（９１７−（２−メトキシイミノ−２−（２−ホル
ムアミＦ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ
ド）−３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イル）
チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体） （＋０１７−［２−メトキシイミ７−２−（・２−ホル
ムアミＦ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ
ド］−３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イ／Ｌ
／　）　チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
アンチ異性体） （Ｉ＋）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（２−
ホルムアミド−１，３−チアゾール−４−イル）アセト
アミド］セファロスポラン酸（シン異性体）（＋２）７
−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）アセトアミド］　−３−（１，
３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ０３）７−（２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ）’　］−
］３−ヒドロキシメチルー３−セフェム４＝カルボン酸
（シン異性体） （＋４）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミド
］−３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−
２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体） （＋５１７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
−１，・３−チアゾール−４−イル）アセトアミド）−
３−（４−メチル−４Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カフＣボン
酸（シン異性体） １、試験管内抗菌作用 試験は寒天平板希釈法（接種菌量：１０８個／ｍｅ）で
行ない、各試験菌の増殖が起こらなくなる最小発育阻止
濃度（ＭＩＣ）を観察し、記録した。

（ｇ丁欲色） 上記の試験結果から明らかな様にこの発明の目的化合物
（１）、すなわちシン異性体、は対応するアンチ異性体
と比較してはるかに高い抗菌力を有している。

２、　マウスにおける感染防御試験 試験方法 マクスはＩＣＲ系、４週令、体重２０〜２３ｇ！％雄、
を−群８匹で使用した。試験菌はＨＩ寒天を用い、３７
℃で一夜培養し、それぞれの攻撃菌量に応じた菌液を２
．５〜５％ムチン溶液を用いて作製した。その菌液をマ
クスの腹腔内Ｋ　Ｏ，Ｓ　ｍｅずつ接種し、１時間後、
試験化合物を含む溶液を各種投与量で皮下投与した。マ
クスの生死を一週間にわたり観察し、−週間後の各投与
量に対するマウス生存率よりＥＤ、。を求めた。

（以下金ｆ３） ３、マウスにおける１、 前記の感染防御試験と同じ系のマクスを一群ｌＯ匹で使
用し、試験化合物（７１２ｇ！を静脈内投与し、１週問
観察したところすべてが異状なしに生存した。

この発明の目的化合物（Ｉ）を医薬として用いる場合は
、医薬上許容される塩の形で使用してもよい。

この発明の目的化合物ＣＩ＋およびその医薬上許容され
る塩は、その有効かつ非毒性量を含有する組成物の形で
投与される。投与ｊｌＩｒｉ患者の年令、疾病の種類、
目的化合物（１）の種類等忙より異なる右一般に１回の
投与ｔとしては約１〜１．０００１ｎｇもしくはそれ以
上を投与することができる。この組成物は医薬の製剤に
おいて慣用されている無機もしくは有機のあるいは固体
または液体の製剤用担体とともに、経口または非経口投
与に適した削形で使用される。この場合の経口剤として
は、錠剤、カプセル剤、トローチ剤、散剤等の固体製剤
あるいはシロップ剤等の液剤が挙げられ、非経口剤とし
ては注射剤、坐剤等が挙げられる。これら各種の製剤は
当業界周知の方法で製造することができる。

次にこの発明を製造例および実施例により説明する。

後記の実施例および参考例で使用される原料化合物の製
造 Ｑ仄千約） 製造例１ ３−クロロ−４−ヒドロキシアセトフェノン１１．９ｇ
、塩化ベンジル９．３５　ｇ　、炭酸カリウム１４．５
ｇおよびジメチルホルムアミド６０１Ｉｌの混合物をｌ
ＯＯ″Ｃに加熱下に１時間撹拌する１反応混合物を水１
５０−に注入し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
溶媒を留去する。残渣１８ｇをエタノール１６０ｍ１ｔ
から再結晶すると、ａｐＨｏ　〜１１２℃の３−クロロ
−４−ベンジルオキシアセトフェノン１３．２ｇを得る
。

製造例２ １〉２酸化セレンの粉末１２．６　ｇを、３−クロロ−
４−ベンジルオキシアセトフェノン１９．７　ｇを乾燥
ピリジンｔｏｏｍに溶かした液に１００℃に加熱攪拌下
に、１０分間を要して加えた後、同温度で３時間攪拌す
る。析出物を濾去し、濾液を濃縮する。残渣を水１５０
１１１１に溶解し、エーテルで洗浄する。水溶液を冷却
下に濃塩酸で酸性にし、エーテルで抽出する。抽出液を
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後濃縮すると、ｍｐ１３４〜１３５℃（７）２−（３
−クロロ−４−ベンジルオキシフェニル）グリオキシル
ｆｉ１５．９ｇを得る。

２）製造例２−１）と同様に処理すると次の化合物を得
る。

（１）２−（３−クロロ−４−メトキシフェニル）グリ
オキシル酸、ａ＋ｐ８１〜８２℃。

１、Ｒｏ　スペクトル　（スジ珈−ル）２５００−２６
００．１７１５．１６７０．１６００　ａｍ−’参考例
１ ２−（３−ニトロ−４−ベンジルオキシフェニル）グリ
オキシル＃３０ｇ、濃塩酸９０１１１１および酢酸１２
０１１１の混合物を１００’Ｃに加熱下に３時間攪拌す
る。ついで反応混合物に冷却下に氷水５ｏｏＩｌｉを加
え酢酸エチルで抽出する。抽出液を氷水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮乾固する。残渣を
ベンゼン：エーテル；石油エーテル（２：１：４’）の
混液から再結晶し、ベンゼンで洗浄後減圧下に乾燥する
と、ｍｐ１３９〜１４０．５℃の２−（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェニル）クリオキシル酸１９．０　ｇを
得る。

製造例３ 参考例１と同様に処理すると、次の化合物を得る。

（１）２−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）グ
リオキシル酸、ｍｐＨ４〜１１６℃。

製造例４ ２Ｍ化セレン１１．　ｔ　ｇ、ジオキサン２５０鶴およ
び水５　ｍＱの混合物を１１０〜１１５℃で１５分間撹
拌すると黄色溶液を与える。この溶液に２−（２−メシ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）酢酸のエチ
ルエステル２６．４　ｇを同温度で攪拌下に加える。１
時間攪拌後、反応液を熱時傾斜し、冷却すると黄色結晶
が析出する。この結晶を濾取、次いでジオキサンとエー
テルで洗浄後乾燥すると、２−（２−メシルアミノ−１
，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸のエチル
エステル２３．５ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（スジ臂−ル） ３３００、１７１８．１６８２　ａｍ−１製造例５ ２−（２−メシルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸のエチルエステル１３、９　ｇを水
酸化ナトリウム５．０ｇを水１５０戚に溶解した溶液に
重電で攪拌下に加える。室温で１時間攪拌後、濃塩醜で
ｐＨ７とし、酢酸エチルで洗浄する。水層を濃塩酸でｐ
Ｈ０，５とすると黄色結晶が析出する。この結晶を濾取
後、水洗、乾燥すると２−（２−メシルアミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸１０．１６　
ｇを得る。

１、Ｒスペクトル　（スジ腸−ル） ３３５０、１７２５．１６５０　ａｍ−１製造例６ ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）酢
酸のエチルエステル１４ｇをピリジン４０ｇおよび塩化
メチレン３００＋１１１１の混液に溶解した溶液に、０
．３５モルのクロロ弗酸の第３級ペンチルエステルを含
有するエーテル溶液７０ＩＩＩＩｌを攪拌下−２０℃で
１０分を要して徐々に加え、次いで同温度で２時間、０
℃で３０分間攪拌する０反応液を水２００賊に注ぎ、有
機層を分離する。この有機層を２Ｎ塩酸、水、５％炭酸
水素ナトリウム水溶液、次いで水の順に洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。

溶媒を留去すると暗褐色油分の２−（２−第３級ペンチ
ルオキシカルボニルアミノ−１，３−チアゾール−４−
イル）ｆｆ［のエチルエステル１２ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（液膜） １６６７、１６６０　（Ｃｏ）　ｃｍ″″ｌＮ、Ｍ、Ｒ
，スペクトル　（ＣＤＣｌ２．８　　）ｐｐｍ　３．７
５　（２Ｈ，ｓ）、　６．７５　（ＩＨ，ｓ）製造例７ ２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１
，３−チアゾール−４−イル）酢酸のエチルエステル０
．３．および２酸化セレン０．１１ｇを製造例４と同様
に処理すると、２−（２−第３級ペンチルオキシカルボ
ニルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸のエチルエステル０．２２芯を得る。

１、Ｒ，スペクトル　（液膜） １７２０、１６９０　（ＣＯ）　ａｍ−ＩＮ、Ｍ、Ｒ，
スペクトル　（ＣＤＣｌ２．δ　）ｐｐｍ　８．３　（
ＬＨ，ｓ） 製造例８ ２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１
，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸のエチル
エステル２．８客および水酸化ナトリウム０．５４　ｇ
を水２０１１１に溶解した溶液を製造例５と同様に処理
すると、褐色粉末の２−（２−第３級ペンチルオキシカ
ルボニルアミノ−１，３−デアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸１．７５ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（スジ曹−ル） １７３０、１６８０　（ＣＯ）　ｃｍ−１Ｎ、Ｍ、Ｒ，
スペクトル　（ｄ６−シメチルスル本部サイド、＆）ｐ
ｐａ＋　　８．４　　（ＩＨ，ｓ） 参考例２ フェノールフタレイン指示薬３？ｌＩｉヲ、　Ｏ−ｉチ
ルヒドロキシルアミン塩酸塩３．７ｇを乾燥メタノール
４５−に溶かした液に加え、ついでこの溶液に、ナトリ
ウムメトキサイドのＩＮメタノール溶液３ｇｍｒｒを溶
液の色が赤紫色に変るまで室温攪拌下に滴下する。つい
で、０−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩を溶液が無色
になるまで徐々に加えた後、室温で３０分間攪拌する。

析出する塩化ナトリウムを濾去し、濾液に２−（４−ヒ
ドロキシフェニル）グリオキシル酸６．５６　ｇを加え
た後、１時間室温で攪拌する。メタノールを低温で留去
し、残渣に塩化ナトリウム飽和水溶液を加え、１０％塩
酸でｐＨ１に調節し、塩析後、エーテルで抽出する。

抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥後エーテルを低温で留
去すると、２−メトキシイミノ−２−（４−ヒドロキシ
フェニル）酢Ｍ（シン異性体）を得る。

実施例１ ２−（３−ヒドロキシフェニル）グリオキシル酸２．０
ｇおよび０−アリルヒドロキシルアミン塩酸塩１．７ｇ
を参考例２と同様に反応させると、油状の２−アリルオ
キシイミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）酢酸（シ
ン異性体＞２．７ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（液膜） ３３５０、２５５０−２６００．１７２０．１６４５．
１６００　ｃｍ−”実施例２ ２−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）グリオキ
シル＊２ｇおよび０−アリルヒドロキシルアミン塩酸塩
１．１ｇを参考例２と同様に反応させると油状の２−ア
リルオキシイミノ−２−（３−クロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）酢酸（シン異性体）２．５ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（液膜） ３４５０、　２６００．　１７３０．　１７００．　１
６５０．　１６１０゜１６００　ｃ、５ａ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭｓｏ、８　）ｐ
ｐｍ　　９．５−１０．５　　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　　
ｓ）、　　７．５２　　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　　７．４２　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ
＝２．８Ｈｚ）。

７．１２　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　６．０　
　（ＩＨ，ｍ）。

５．４０　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　４．７０
　　（２Ｈ，ｄ。

、Ｃ３Ｈｚ） 実施例３ ２−（３−／ＦＯロー４−ヒドロキシフェニル）グリオ
キシル酸２．０ｇ、Ｏ−第３級ブトキシカルボニルメチ
ルヒドロキシルアミン１．６２ｇおよびメタノール２０
１ｇの混合物を、ナトリウムメトキサイドのＩＮメタノ
ール溶液でｐＨ５〜６に調節後、３時間室温で攪拌する
０反応混合物を減圧下に濃縮乾固し、残渣を水酸化ナト
リウムのＩＮ水溶液に溶かした後ｐＨ７，０に調節する
。ついでこの溶液をエーテルで洗浄し、１０％塩酸で水
冷下にｐＨ２に調節後、エーテルで抽出する。抽出液を
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に濃縮乾固す
ると、ｍｐ１１６〜１１８℃（分解）、結晶の２−第３
級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（３−クロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）酢酸（シン異性体）２．
６ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（スジー−ル） ３２５０、　２６００゜　１７３５．　１６９０．　１
６７０．　１６１０゜１５９０　　ｃ＋ａ−” Ｎ、１１．Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ　）
ｐｐｍ　　１１．００　　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　　ｓ）
、　　７．５０　　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ）、　　７．４０．（ＩＨ，ｄ４Ｊ：２．８
Ｈｚ）。

７．０８　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ冨８Ｈｚ）、　　４．６８
　　（２Ｈ，ｓ）。

１．４５　（９Ｈ，ｓ） 実施例４ （ａ）　２−ブロモプロピオニルブロマイド２５ｇを乾
燥クロロホルム５０−に溶かした液を、Ｎ、Ｎ−ジ）ｆ
ＪＬ、アニリン２４ｇを第３級ブタノール１１ｇに溶か
した液に水冷攪拌下に滴下した後、２時間加熱還流する
。冷機、反応混合物を６Ｎ硫酸１５０１＋１Ｑに注入後
、エーテルで抽出する。抽出液を、６Ｎ硫酸、水、１０
％ＡＩ２＃カリウム水溶液ついで水で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると、油状の２−
ブロモプロピオン酸の第３級ブチルエステル２１ｇをイ
畳る。

（ｂ）上記（ａ）で得られた油状物２１ｇを、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミド１６．３ｇ、　　トリエチルアミン
Ｕｇ１ジメチルホルムアミド２０−およびジメチルスル
ホキサイドの混合物に、室温攪拌下に加えた後、４時間
室温で攪拌する１反応混合物を水８００絨に注入し、析
出物を濾取し、水洗後乾燥すると２−フタルイミドオキ
シプロピオン酸の第３級ブチルエステル２２．７　ｇを
得る。

（ｃ）上記（ｂ）で得られた化合物２２．７　ｇを塩化
メチレン２００−に溶かした液に、１０％ヒドラジン水
化物９ｍＱをメタノール２０ｍ１ｌに溶かした液を加え
、２時間室温で攪拌する。５Ｎアンモニア水溶液を加え
て析出物を溶解後、塩化メチレン層を分取する。水層を
塩化メチレンで抽出し、先に分取した塩化メチレン層と
合し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去
すると、油状の０−（１−第３級ブトキシカルボニルエ
チル）ヒドロキシルアミン１３．５ｇを得る。

１、Ｒ１スベク）ル　（液膜） ３３５０、３２５０．１７４５　ａｍ’（ｄ）ｚ−（３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）グリオキシル酸２
．０ｇおよび０−（１−第３級ブトキシカルボニルエチ
ル）ヒドロキシルアミン３．２客を実施例３と同様に処
理すると、ｍｐ１４８〜１５１℃の２−（１−第３級ブ
トキシカルボニルエトキシイミノ）−２−（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）酢酸（シン異性体）３．３
ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（ヌジ量−ル） ３４５０、　２５００−２６００．　１７２５．　１６
９０．　１６２０゜１６００　ａｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭＳＯ，Ｓ　　）
ｐｐｍ　　７．４６　　（ＩＨ，ｄ、に２Ｈｚ＞、　　
７．３３　　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝２．８Ｈｚ）、　　７．０７　　（ＩＨ，ｄ、、Ｃ
３Ｈｚ）。

４．６７　　（ＬＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　１．５０
　　（１２Ｈ，ｓ）実施例５ 実施例１〜４と同様に処理すると次の化合物を得る。

（１）２−アリルオキシイミノ−，２−（３−メトキシ
フェニル）酢酸（シン異性体）、ｌ’ｌｈ状。

１、Ｒ１スベク）ル　（液膜） ３０５０−３１００．　２６００．　１７３０．　１６
４５．　１６１０゜１６００　ａｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭＳＯ，Ｓ　　）
ｐｐｍ　　７．００−７．５０　　（４Ｈ，ｍ）、　　
５．８０−６．３０　　（ＩＨ。

ｍ）、　　５．３３　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝９）１ｚ）、
　　４．７０　　（２Ｈ。

ｄ、Ｊ：５Ｈｚ＞、　　３．８２　　（３８，５）（２
）２−アリルオキシイミノ−２−（３−クロロ−４−メ
トキシフェニル）酢酸（シン異性体）、淡黄色油状。

１、Ｒ，スペクトル　（液膜） ３１００、　２６００．　１７１０−１７３０．　１６
４５．　１６１０゜１８００　ａｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭＳＯ，Ｓ　　）
ｐｐｍ　　７．６３　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　
　７．５０　　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝２．８Ｈｚ）、　　７．２３　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８）１ｚ）、　　５．９−６．３　　（ＩＨ，ａ＋）、
　　５．３３　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝９Ｈｚ＞。

４．７３　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　３．９１
　　（３Ｈ，ｓ）実施例６ ０−アリルヒドロキシルアミン塩酸塩０．８４　ｇを乾
燥メタノールｌｏｍ１２に溶解した溶液に、フェノール
フタレイン指示薬３滴を加える。この溶液に室温攪拌下
、ナトリウムメトキサイドのＩＮメタノール溶液６ｍｍ
を溶液が淡桃色になるまで滴下する。０−アリルヒドロ
キシルアミン塩酸塩を少量ずつ溶液が無色になるまで加
える。室温で３０分間攪拌後、析出する塩化ナトリウム
を濾去する。濾液に２−（２−第３級ペンチルオキシカ
ルボニルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸２．０ｇを加え、室温で１時間攪拌する。

低温でメタノールを留去後、残渣をＩＮ水酸化ナトリウ
ム水溶液に溶解する。この溶液をエーテルで洗浄後、酢
酸エチルを加える。この混液をりん酸でｐＨ１，５とし
酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化ナトリウム水溶液
で洗浄したのち硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄後濾取し、
乾燥すると、２−アリルオキシイミノ−２−（２−第３
級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３−デアゾー
ル−４−イル）酢酸（シン異性体）１．６２ｇを得る。

１、Ｒ，スペクトル　（スジＴ１輌ル）３２００、１７
１２　ｃｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，スペクトル　（ｄ６−ＤＭＳＯ，８＞ｐｐ
ｍ　　７．４０　　（ＩＨ，ｓ）、　　６．２４−５．
７６　　（ＩＨ，ｍ）。

５．２６　　＜２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝９．　１０８２＞、　
　４．６５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　１．７８　
　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

１．４４　　（６Ｈ，ｓ）、　　０．８８　　（３Ｈ，
ｔ、Ｊ：８Ｈｚ）実施例７ 実施例６と同様にして次の化合物を得る。

２−アリルオキシイミノ−２−（２−メシルアミノ−１
，３−チアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体） １、Ｒｏ　スペクトル　（スジ褒−ル）３１５０、１７
１０．１６０５　ａｍ−１参考例３ ジメチルホルムアミド２．８１　ｇおよびオキシ塩化り
ん５．３６　ｇを４０°Ｃに１時間加温する。冷機、こ
れに塩化メチレン６０１０９を加えた後溶媒を留去する
。

残渣に乾燥酢酸エチル５０鶴を加え、ついでこれに２−
メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）酢酸
（シン異性体）　６．８３　ｇを５°Ｃに水冷攪拌下に
加えた後、５０分間同温度で攪拌する。

方、７−アミノ−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸１１．５ｇおよびビス（ト・リメチルシリル）アセ
トアミド２８．４　ｇを乾燥酢酸エチル１５０１１１１
に溶かした液を、水冷下に攪拌し、ついでこれに上記で
得られた溶液を一４０°Ｃに冷却下に一度に加える。こ
れを−３０〜−２０℃に冷却下に２時間攪拌後、これに
塩化ナトリウム飽和水溶液１００−を−２０６０に冷却
下に加えた後、５分間攪拌する。

析出物を濾去し、濾液から酢酸エチル層を分取する。水
層をさらに酢酸エチルｓｏｍｕで２回抽出する。酢酸エ
チル層を合し、塩化ナトリウム飽和水溶液５０ＩＩｌｌ
ｉで洗浄し、ついで活性炭を加えて５分間攪拌後濾過す
る。濾液に水１００誠を加え、炭酸水素ナトリウム水溶
液でｐＨ７に調節後水層を分取する。水層を塩化メチレ
ンで洗浄後窒素ガスを水冷下に吹き込んで塩化メチレン
を除去する。濾過後、濾液を１０％塩酸で水冷攪拌下に
ｐＨ２に調節する。析出物を濾取し、水洗後乾燥すると
、７−［２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキシフ
ェニル）アセトアミド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テ
トラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）　１１．３２を得る。

１、Ｒ，スペクトル　（スジ■−ル） ３２５０、１７７０．１７２５．１６７０　ａｍ−１参
考例４ （ａ）２−第３級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
２−＜３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）酢酸（シ
ン異性体）１ｇおよび７−アミノ−３−（１−メチル−
ＩＨ−テトラゾール−５−イル）デオメテルー３−セフ
ェムー４−カルボン酸１ｇを参考例３と同様に反応させ
ると、粉末状の７−［２−第３級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−２−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）アセトアミトコ−３−（１−メチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）１．５ｇを得る。

（ｂ）上記（ａ）で得られた粉末１．５客をアニソール
１．５１１Ｑおよびトリフルオロ酢酸６１１の混合物に
加え、３０分間室温で攪拌する０反応液に、炭酸水素ナ
トリウム水溶液５０１１Ｉ、酢酸エチル５ｏｌｌＩおよ
び炭酸水素ナトリウムを水冷下に加え、ｐＨ８に調節後
、水層を分取する。水層を１０％塩酸でｐＨ５，０に調
節し、酢酸エチルＳＯＷで洗浄し、さらに１０％塩酸で
ｐＨ２に調節後、酢酸エチル１００１１１１で抽出する
。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧下に留去する。残渣をｐＨ５，０の酢酸緩衝液に溶
解した後、ｐＨ５，０の酢＃緩衝液を展開溶媒とするｗ
ｏε１ｍ中性アルミナ（商標名、ＩＣＮカンパニー製品
）カラムクロマトグラフィーに付す、溶出液を１０％塩
酸で水冷下にｐｕｚ、　Ｏに調節し、析出物を濾取し、
水洗後乾燥すると、ａｐ１４５〜１４８℃（分解）の７
−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）アセトアミド〕−３−（１
−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）Ｏ，Ｓ
客を得る。

参考例５ （ａ）２−（１−第３級ブトキシカルボニルエトキシイ
ミノ）−２−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）
酢酸（シン異性体）２ｇおよび７−アミノ−３−（１−
メチル−ＩＨ−テトラゾールー５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸２ｇを参考例３と同様に
反応させると、粉末状の７−［２−（１−第３級ブトキ
シカルボニルエトキシイミノ）−２−（３−クロロ−４
−ヒドロキシフェニル）アセトアミド］−３−（１−メ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）３．６ｇを
得る。

（ｂ）上記（ａ）で得られた粉末３．６ｇ、アニソール
４絨およびトリフルオロ酢酸１６−を参考例４（ｂ）と
同様に反応きせると、ｍｐ１４７〜１５１°Ｃ（分解）
、黄色粉末状の７−［２−（１−カルボキシエトキシイ
ミノ）−２−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）
アセトアミド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）　２．０２を得る。

参考例６ 参考例３と同様にして次の化合物を得る。

（１）７−［２−アリルオキシイミノ−２−（３−クロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）アセトアミトコ−３−（
１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、ｍ
ｐ１６３〜１６５°Ｃ（分解）（２）７−［２−アリル
オキシイミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）アセト
アミド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）、ｍｐ１４９〜１５２°Ｃ（分解）。

（３）７−［２−アリルオキシイル７−２−（３−メト
キシフェニル）アセトアミトコ−３−（１−メチル−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）、粉末、ｍｐ１３５
〜１３８°Ｃ（分解）。

（４）７−（２−アリルオキシイミノ−２−（３−クロ
ロ−４−メトキシフェニル）アセトアミド］−３−（１
−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、淡黄
色粉末、ｍｐ１５３〜１５６°Ｃ（分解）。

参考例７ オキシ塩化りん０．８９　ｇおよび乾燥ジメチルホルム
アミド０．４４　ｇを水冷下に混ぜ、次いで４０℃で３
０分間加温する。この液に乾燥塩化メチレン２０１Ｑを
加え次いで留去する。残渣に乾燥酢酸エチル１〇−を加
え、次いで水冷攪拌下に２−メトキシイミノ−２−［２
−（２，２，２−トリフルオロアセトアミド）−１，３
−デアゾール−４−イルコ酢酸（シン異性体）１．８ｇ
を加え、同温度で４０分間攪拌して均一溶液とする。一
方、７−アミノセファロスポラン酸１．６５ｇを乾燥酢
酸エチル２５１ｄに懸濁した液に、室温攪拌下トリメチ
ルシリルアセトアミド６、３６　ｇを加え、１時間攪拌
して均一溶液とする。この溶液に、−２０〜−２５℃で
冷却攪拌下、上記で得た酢酸エチル溶液を一度に加え次
いで同温度で２時間攪拌する０反応液に同温度で水３０
１１１１を加え次いで室温で５分間攪拌する。酢酸エチ
ル層を分取し、水層はざらに酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル層を合わせ、水５ＯｆｆＦ１１を加えた後炭酸
水素ナトリウムでｐＨ７，５とし水層を分取する。水層
に酢酸エチル４０１＋１１！を加え、水冷攪拌下に１０
％塩酸を加えてｐＨ２，５とする。酢酸エチル層を分取
し、水層をさらに酢酸エチル３０ＩＩＬ１１で２回抽出
する。酢酸エチル層を合わせ、塩化ナトリウム水溶液で
洗浄後、活性炭で処理し、次いで溶媒を留去すると、７
−［２−メトキシイミノ−２−（２−（２，２゜２−ト
リフルオロアセトアミド）−１，３−チアゾール−４−
イル）アセトアミド］セファロスポラン酸（シン異性体
）３．０５ｇを得る。　ｍｐ２０５°Ｃ（分解）。

参考例８ ２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ−１゜３−チア
ゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）２ｇを乾燥酢酸
エチル２０１１Ｑに懸濁し、これに５〜１０℃でオキシ
塩化りん２．Ｏｇを一度に加える。７〜１０°Ｃで２０
分間攪拌後、これに同温度でビス（トリメデルシリル）
アセトアミド０，４ｇを加える。

同温度で１０分間攪拌後、オキシ塩化りん２．Ｏｇを同
温度で滴下し、次いで７〜１０℃で１０分間攪拌する。

同温度でこれに乾燥ジメチルホルムアミド０．８ｇを滴
下したのち、７〜１０℃で３０分間攪拌して均一溶液と
する。一方、７−アミノセフアロスボラン９２．４５ｇ
を乾燥酢酸エチルＢｒｍに懸濁し、これにトリメチルシ
リルアセトアミド７、３５　ｇを加え、４０°Ｃで加温
攪拌して均一溶液とする。この溶液に、上記で得た酢酸
エチル溶液を一１５℃で一度に加え、次いで−１０〜−
１５℃で１時間攪拌する０反応液に一３０℃で水８０−
を加え、水層を分離する。

水層に炭酸水素ナトリウムを加えてｐＨ４，５とし、ダ
イヤイオンＨＰ＝２０樹脂（商８Ｉ：三菱化成工業株式
会社製）を用いてカラムクロマドグチフィ−に付し、２
５％イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液
を凍結乾燥すると、７−［２−メトキシイミノ−２−（
２−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトア
ミド］セファロスポラン酸（シン異性体）１．８ｇを得
る。　ｍｐ２２７＠ｃ　（分解）。

参考例９ 参考例７．８と同様にして次の化合物を得る。

（１）？−［２−アリルオキシイミノ−２−（２−メシ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ
ド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体） １、Ｒ，スペクトル　（スジ■−ル） ３１００−３３００．１７８０．１７２０．１６７５　
ｃｍ−’（２）？−４２−アリルオキシイミノー２−（
２−第３級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（１−メ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボンＷ１（シン異性体） １、Ｒ１スペクトル　（スジー−ル） ３２５０、１７８０．１７２０．１６７８．１６２５　
ａｍ’（３）７−［２−アリルオキシイミノ−２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ
ド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体） １゜Ｒｏ　スペクトル　（スジｌ−ル）３１００−３４
００．１７７５．１６６０．１６２５　ｃｍ−１参考例
１０ ７−［２−アリルオキシイミノ−２−（２−第３級ペン
チルオキシカルボニルアミノ−１，３−チアゾール−４
−イル）アセトアミド］−３−（１−メチル−ＩＨ−テ
トラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）０．９ｇに水冷下、トリプ
ルオロ酢酸４−およびアニソール２ＩＩＩＩを加え、次
いで室温で４０分間攪拌する３反応液を常法により後処
理すると、７−［２−アリルオキシイミノ−２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミド
］−３−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル
）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体”）　０．４２５　ｇを得る。

１、Ｒ，スベク）ル　（スジ１−ル） ３１００−３４００．１７７５．１６６０．１６２５　
ａｍ−１参考例１１ 上記と同様にして次の化合物を得る。

（１）７−［２−アリルオキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（１−
アリル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

１、Ｒ，（スｈ−ル）　　：　　３３５０．　３２１０
．　１７７８．　１６７５　　ａｍ−１（２）７−４２
−エトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（１，
３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−力ルボン酸（シン異性体）。

１゜Ｒ，（スジ謄−ル）　　：　　３３５０．　３２３
０．　３１００．　１７８０゜１６８０、１６３０　ｃ
ｍ−’ （３）７−［：２−カルボキシメトキシイミノ−２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−（１，３，４−デアジアゾール−２−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

１、、Ｒ，（スジ１−ル）　　：　　３３６０．　３２
４０．　３１００．　１７８０゜１６８０、１６３５　
ａｍ−１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１は式▲数式、化学式、表等があります▼
   （式中、Ｒ＾５ は水素またはハロゲン、Ｒ＾６はヒドロキシ基または低
   級アルコキシ基をそれぞれ意味する）で示される基、ま
   たは式▲数式、化学式、表等があります▼（式中、 Ｒ＾７はアミノ基または保護されたアミノ基を意味する
   ）で示される基、 Ｒ＾２はカルボキシ低級アルキル基、保護されたカルボ
   キシ低級アルキル基または低級アルケニル基をそれぞれ
   意味する］ で示される置換酢酸誘導体のシン異性体、そのカルボキ
   シ基における反応性誘導体およびその塩類。