JPS62158290A - 新規セフアロスポリン誘導体 - Google Patents
新規セフアロスポリン誘導体Info
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- JPS62158290A JPS62158290A JP60293467A JP29346785A JPS62158290A JP S62158290 A JPS62158290 A JP S62158290A JP 60293467 A JP60293467 A JP 60293467A JP 29346785 A JP29346785 A JP 29346785A JP S62158290 A JPS62158290 A JP S62158290A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
Ｌ１Ｌ立旦ユ分１
本発明は新規なセファ０スポリン誘導体、その製法及び
それを有効成分として含有する抗菌剤に関するものであ
る。 従来技術 従来、セフ１０スポリン核の７位側鎖に２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−置換オキシイミノアセ
トアミド基を、３位にアンモニオメチル基を合せ持つ化
合物は極めて多く合成され、それらの記載された公開技
術としては、例えば特開昭５４− １５４７８６号、同
５５−５９１９６号、同５７−１９２３９４号、同５８
−１７４３８７号、同５８− １９８４９０号、同５９
− ２１９２９２号及び同６０− ９７９８３号公報な
どが挙げられ、ダラム陽性菌及びシュードモナス エル
ギノーザ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏ
ｓａ）を含むセフ１０スポリン耐性のダラム陰性菌に対
しても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌スペクト
ルを有することが示唆されている。 発明が解決しようとする問題点 β−ラクタム抗生物質は、細菌のみに選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。 しかしながら、近年、耐性のダラム陽性菌及び耐性のブ
ドウ糖非醗酵グラム陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向に
あり、これらの菌に対する抗菌ツノの増強が望まれてい
る。 問題を解決するための手段 本発明は浸れた抗菌力を右ヅ゛る新規なセファロスポリ
ン誘導体を提供することを目的とし、３位に置換基を有
してもよいピリジニオ基を、７位に（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−（３．４−ジヒドロキシベンジ
ルオキシイミノ）アセドアミド基もしくは２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（３、４−ジアセト
キシベンジルＡキシイミノ）アセ１ヘアミド基を有する
新規なセファロスポリン誘導体について鋭意研究した結
果、グラム陽性菌及びグラム陽性菌に対して強い抗菌力
とを有することを見出し本発明を完成した。 作 用 本発明は、一般式（１） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性エ
ステル、その製法及びそれを有効成分として含有する抗
菌剤に関する。 次に本明細占に記載された各種記号、用語について説明
する。 一般式（Ｉ）の化合物の置換基Ｑの置換基としては、ハ
ロゲン原子、二１−ロ基、水酸基、アミノ基、カルボキ
シル基、カルバモイル ル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、
アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、ス
ルホ低級アルキル基、シクロペンテノ基等を挙げること
ができる。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル チル基、メトキシ基、アロチルアミノ基、スルホメチル
基、スルホエチル基、シクロペンテノ基等が好ましい。 ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。又、低級アルキル基とは、炭
素数１〜５個の直鎖又は分岐した炭素鎖を示す。置換位
置は限定されないが、置換基の特に好ましい例どしては
、１−ピリジニオ基、３−アミノ ー１−ピリジニオ基
、３−アセトアミド−１−ピリジニオ基、３−カルボキ
シ−１−ピリジニオ基、４−力ルボキシ−１−ピリジニ
オ基、４−カルバモイル−１−ピリジニオ基、４−スル
ホメチル−１−ピリジニオ基、４−（２−スルホエチル
−１−ピリジニオ基、又は、２，３−シクロペンテノ
−１−ピリジニオ基等が挙げられる。 又、一般にオキシイミノ基における置換はシン異性体及
びアンチ異性体が存在するが、本発明は、シン異性体及
びアンチ異性体の何れをも包含づる。特にシン異性体が
優れた抗菌活性を有効する。 本発明の化合物としては、例えば以下に示す化合物が挙
げられる。 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ ー１−ピリジニＡ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシル−１− ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］
−３−（３−カルボキシ−１−ピリジニオ）メチル＝３
ーセフェムー４ーカルボキシレーｈ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルボキシ−１−ピリジニオ）メ
チル−３−セフェム−４−カルホキシレー（・７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ、１〜アミ
ド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ〕メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−（２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジ
ヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−（４−スルホメチル−１−ピリジニオ）メチル−３−
セフェム−４−カルホキシレー１〜７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒドロ
キシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−［４
−（２−スルホエチル）−１−ピリジニオ】メチル−３
−セフェム−４−カルボキシル基Ｉ〜７−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（
２，３−シクロペンテノ −１−ピリジニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート一般式ＣＩ）の化
合物は常法により、その無毒性塩又は生理的に加水分解
可能なその無毒性エステルとすることができる。 一般式（１）の化合物の無毒性塩としては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、例えばす１ヘリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム等の金
属塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力
イン等の有はアミン塩、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸
、過塩素酸等の無機酸塩、酢酸、乳酸、プロピオン酸、
マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸
等の有感酸塩、メタンスルボン酸、イセチオン酸、ｐ−
トルエンスルボン酸等のスルホン酸塩、グルタミン酸、
アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のアミノ酸塩等
が挙げられる。 又、一般式（Ｉ）の無毒性エステルとしては、そのカル
ボキシル基にお番ノる医薬上許容される慣用的なものを
意味し、例えばアセトキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基等のアルカノイルオキシメチル基、１−（エト
キシカルボニルオキシ）エチル基等のアルコキシカルボ
ニルオキシアルキル基、フタリジル基、５−メチル−２
−オ＋ソー１．３−ジオキソールー４−イルメチル基等
の５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−
イルメチル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の製造方法について説明する。 一般式（Ｉ）の化合物は、以下に示す製造法Ａ、Ｂいず
れの方法でも製造することができる。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又はカルボキシル保護基、「く４は水素原子又は
アミノ保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱離基、ＹはＳ又
はＳＯを示す）で表される化合物又はその塩に、保護さ
れた置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応さけて
、 一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ２、Ｒ３，１又１及びＹは前記の意味を有し
、Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基
、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要
ずれば還元及び／又は保護基を除去ザることにより、本
発明化合物（１）を製造り゛ることかできる。 一般式（Ｉｌｌ）のＸはＪａ素、臭素、ヨウ素等のハロ
ゲン原子、又はアセトキシ基、′トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、１）
−１へルエンスルホニルオキシ基等の脱ｆ！１１基を表
し、特に臭素、ヨウ素等のハロゲン原子が好適である。 本反応の３位置換反応に用いるピリジン誘導体としては
、とリジン、３−アミノ −ピリジン、３−アセ１−ア
ミドピリジン、３−カルボキシピリジン、４−カルボキ
シピリジン、４−カルバモイルピリジン４−スルホメチ
ルビリジン、４−（２−スルホエチル）ピリジン、２，
３−シクロペンテノピリジン等が挙げられる。尚、これ
らのアミノ基、カルボキシル基、及びスルホ基は保護さ
れていてもよい。 製造法Ｂ 一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳＯ、Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピ
リジニオ基、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物
又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素原子
又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミノ保［を
示す）で表されるカルボン酸又はその反応性Ｌｉ３９体
によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ，Ｑ′及びＸｅは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要゛すれば還
元及び／又は保護基を除去することにより、本発明化合
物（Ｉ）を製造することができる。 尚、前記一般式におけるカルボキシル基、アミン基及び
水１基の保護基としては、β−ラクタム合成の分野で通
常使用されている保護基を適宜選択して使用することが
できる。 カルボキシル基の保護基としては、し−ブチル基、２，
２．２−トリクロロエチル基、アはトキシメチル基、プ
ロピオニルオキシメチル基、ピバロイルＡキシメヂル基
、１−アレ１−キシエチル基、１−プロピオニルオキシ
エチル阜、１−（工１−キシカルボニルオキシ）エチル
基、フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル
基、３．４−ジメトキシベンジル基、４−二トロベンジ
ル基、ベンズヒドリル塩、ビス（４−メ１へキシフェニ
ル）メチル基、５−メチル−２−オキソ−１．３−ジオ
キソ−ルー４−イル−メチル基、１〜リメヂルシリル基
、
それを有効成分として含有する抗菌剤に関するものであ
る。 従来技術 従来、セフ１０スポリン核の７位側鎖に２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−置換オキシイミノアセ
トアミド基を、３位にアンモニオメチル基を合せ持つ化
合物は極めて多く合成され、それらの記載された公開技
術としては、例えば特開昭５４− １５４７８６号、同
５５−５９１９６号、同５７−１９２３９４号、同５８
−１７４３８７号、同５８− １９８４９０号、同５９
− ２１９２９２号及び同６０− ９７９８３号公報な
どが挙げられ、ダラム陽性菌及びシュードモナス エル
ギノーザ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏ
ｓａ）を含むセフ１０スポリン耐性のダラム陰性菌に対
しても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌スペクト
ルを有することが示唆されている。 発明が解決しようとする問題点 β−ラクタム抗生物質は、細菌のみに選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。 しかしながら、近年、耐性のダラム陽性菌及び耐性のブ
ドウ糖非醗酵グラム陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向に
あり、これらの菌に対する抗菌ツノの増強が望まれてい
る。 問題を解決するための手段 本発明は浸れた抗菌力を右ヅ゛る新規なセファロスポリ
ン誘導体を提供することを目的とし、３位に置換基を有
してもよいピリジニオ基を、７位に（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−（３．４−ジヒドロキシベンジ
ルオキシイミノ）アセドアミド基もしくは２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（３、４−ジアセト
キシベンジルＡキシイミノ）アセ１ヘアミド基を有する
新規なセファロスポリン誘導体について鋭意研究した結
果、グラム陽性菌及びグラム陽性菌に対して強い抗菌力
とを有することを見出し本発明を完成した。 作 用 本発明は、一般式（１） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性エ
ステル、その製法及びそれを有効成分として含有する抗
菌剤に関する。 次に本明細占に記載された各種記号、用語について説明
する。 一般式（Ｉ）の化合物の置換基Ｑの置換基としては、ハ
ロゲン原子、二１−ロ基、水酸基、アミノ基、カルボキ
シル基、カルバモイル ル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、
アミノ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、ス
ルホ低級アルキル基、シクロペンテノ基等を挙げること
ができる。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル チル基、メトキシ基、アロチルアミノ基、スルホメチル
基、スルホエチル基、シクロペンテノ基等が好ましい。 ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。又、低級アルキル基とは、炭
素数１〜５個の直鎖又は分岐した炭素鎖を示す。置換位
置は限定されないが、置換基の特に好ましい例どしては
、１−ピリジニオ基、３−アミノ ー１−ピリジニオ基
、３−アセトアミド−１−ピリジニオ基、３−カルボキ
シ−１−ピリジニオ基、４−力ルボキシ−１−ピリジニ
オ基、４−カルバモイル−１−ピリジニオ基、４−スル
ホメチル−１−ピリジニオ基、４−（２−スルホエチル
−１−ピリジニオ基、又は、２，３−シクロペンテノ
−１−ピリジニオ基等が挙げられる。 又、一般にオキシイミノ基における置換はシン異性体及
びアンチ異性体が存在するが、本発明は、シン異性体及
びアンチ異性体の何れをも包含づる。特にシン異性体が
優れた抗菌活性を有効する。 本発明の化合物としては、例えば以下に示す化合物が挙
げられる。 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ ー１−ピリジニＡ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシル−１− ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］
−３−（３−カルボキシ−１−ピリジニオ）メチル＝３
ーセフェムー４ーカルボキシレーｈ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルボキシ−１−ピリジニオ）メ
チル−３−セフェム−４−カルホキシレー（・７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ、１〜アミ
ド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ〕メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−（２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジ
ヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−（４−スルホメチル−１−ピリジニオ）メチル−３−
セフェム−４−カルホキシレー１〜７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒドロ
キシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−［４
−（２−スルホエチル）−１−ピリジニオ】メチル−３
−セフェム−４−カルボキシル基Ｉ〜７−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（
２，３−シクロペンテノ −１−ピリジニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート一般式ＣＩ）の化
合物は常法により、その無毒性塩又は生理的に加水分解
可能なその無毒性エステルとすることができる。 一般式（１）の化合物の無毒性塩としては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、例えばす１ヘリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム等の金
属塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力
イン等の有はアミン塩、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸
、過塩素酸等の無機酸塩、酢酸、乳酸、プロピオン酸、
マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸
等の有感酸塩、メタンスルボン酸、イセチオン酸、ｐ−
トルエンスルボン酸等のスルホン酸塩、グルタミン酸、
アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のアミノ酸塩等
が挙げられる。 又、一般式（Ｉ）の無毒性エステルとしては、そのカル
ボキシル基にお番ノる医薬上許容される慣用的なものを
意味し、例えばアセトキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基等のアルカノイルオキシメチル基、１−（エト
キシカルボニルオキシ）エチル基等のアルコキシカルボ
ニルオキシアルキル基、フタリジル基、５−メチル−２
−オ＋ソー１．３−ジオキソールー４−イルメチル基等
の５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−
イルメチル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の製造方法について説明する。 一般式（Ｉ）の化合物は、以下に示す製造法Ａ、Ｂいず
れの方法でも製造することができる。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又はカルボキシル保護基、「く４は水素原子又は
アミノ保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱離基、ＹはＳ又
はＳＯを示す）で表される化合物又はその塩に、保護さ
れた置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応さけて
、 一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ２、Ｒ３，１又１及びＹは前記の意味を有し
、Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基
、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要
ずれば還元及び／又は保護基を除去ザることにより、本
発明化合物（１）を製造り゛ることかできる。 一般式（Ｉｌｌ）のＸはＪａ素、臭素、ヨウ素等のハロ
ゲン原子、又はアセトキシ基、′トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、１）
−１へルエンスルホニルオキシ基等の脱ｆ！１１基を表
し、特に臭素、ヨウ素等のハロゲン原子が好適である。 本反応の３位置換反応に用いるピリジン誘導体としては
、とリジン、３−アミノ −ピリジン、３−アセ１−ア
ミドピリジン、３−カルボキシピリジン、４−カルボキ
シピリジン、４−カルバモイルピリジン４−スルホメチ
ルビリジン、４−（２−スルホエチル）ピリジン、２，
３−シクロペンテノピリジン等が挙げられる。尚、これ
らのアミノ基、カルボキシル基、及びスルホ基は保護さ
れていてもよい。 製造法Ｂ 一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳＯ、Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピ
リジニオ基、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物
又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素原子
又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミノ保［を
示す）で表されるカルボン酸又はその反応性Ｌｉ３９体
によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ，Ｑ′及びＸｅは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要゛すれば還
元及び／又は保護基を除去することにより、本発明化合
物（Ｉ）を製造することができる。 尚、前記一般式におけるカルボキシル基、アミン基及び
水１基の保護基としては、β−ラクタム合成の分野で通
常使用されている保護基を適宜選択して使用することが
できる。 カルボキシル基の保護基としては、し−ブチル基、２，
２．２−トリクロロエチル基、アはトキシメチル基、プ
ロピオニルオキシメチル基、ピバロイルＡキシメヂル基
、１−アレ１−キシエチル基、１−プロピオニルオキシ
エチル阜、１−（工１−キシカルボニルオキシ）エチル
基、フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル
基、３．４−ジメトキシベンジル基、４−二トロベンジ
ル基、ベンズヒドリル塩、ビス（４−メ１へキシフェニ
ル）メチル基、５−メチル−２−オキソ−１．３−ジオ
キソ−ルー４−イル−メチル基、１〜リメヂルシリル基
、
【−ブチルジメチルシリル基等が挙げられ、特にベン
ズヒドリル基、１−ブチル基、シリル基等が好適である
。 アミノ基の保護基としては、トリデル基、ホルミル基、
クロロアヒチル暴、トリフルオロアＵチル基、ｔ−ブｌ
〜キシカルボニル基、トリメチルシリル基、【−ブチル
ジメチルシリル基等が挙げられる。 水酸基の保ｖ１基としては、２−メトキシエ１〜キシメ
チル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テト
ラヒドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基、
ｔ−ブチル基、ベンジル基、４−二Ｉ・ロベンジル基、
アセデル基、２，２．２−１−リクロロ工トキシ力ルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アレトナイド、
トリメデルシリル基、Ｌ−ブチルジメチルシリル基等が
挙げられる。 次に本発明化合物（Ｉ）の製造法Δ及び製造法Ｂを詳説
する。 製造法Ａ 一般式（ｎｌ）のＸがハロゲン原子である化合物とピリ
ジン誘導体との反応は、塩化メチレン、クロロホルム、
エーテル、ｆｉｔｌｌｌｔエヂル、酢酸ブヂル、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ１トジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド等の有機溶媒中又はこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。又、本反応に用
いるピリジン誘導体は、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩
、硝酸塩、酢酸塩等の無機酸塩又は有１ａ酸塩を用いて
もよい。 この場合、反応は中用量のｉ〜リエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
−メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に行う。又、本
反応に用いるピリジン誘導体はＮ、０−ビストリメチル
シリルアセトアミド等のシリル化剤でシリル化して使用
することもできる。 反応は一般式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対して、ピリ
ジン誘導体を１〜２モル使用し、反応温度及び反応時間
は０〜４０℃、０．５〜５時間である。 又、一般式（ＩＩＩ）のＸがアセトキシ基である化合物
とピリジン誘導体との反応は、水、リン酸緩衝液、アセ
トン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド等の溶媒又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。反応は中性付近で行う
ことが好ましく、反応温度は室温から９０℃で、反応時
間は１〜１０時間であるｄ又、本反応は、ヨウ化ナトリ
ウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシアン酸ナト
リウム、ヂオシアン酸カリウム等のチオシアン１ナン塩
の存在下で行うことにより促進される。 基ＹがＳＯであるアンモニオ化合物（ｎ）はジャーナル
オブ オーガニック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃ１＋ｅｍｉｓｔｒｙ） ３
５巻、２４３０頁（１’１７４年）等に記載の方法によ
り、スルホキサイド基を還元することができる。即ら基
Ｙ ｂ（Ｓ Ｏであるアンモニオ化合物（１［）はアセ
１〜ン溶媒中、ヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウムの
存在下、−４０〜０℃で、アセチルクロライドを滴下し
、１〜２時間反応させることにより還元することがその
一例として示すことができる。反応は基ＹがＳＯである
化合物（■）１モルに対して、ヨウ化物３．５〜１０モ
ル及びアセチルクロライド１．５〜５モル使用する。 更に、本発明化合物（Ｉ）は、要すれば基ＹがＳである
一般式（ＩＩ）の化合物から保護基を除去することによ
り製造することができる。 保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、プロ
テクテイブ グルーブス イン オーガニックス シン
セシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ＧｒＯＵｐＳ ｉｎＯ
ｒｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈｅｓｒｓ） １９８１年など
に記載の常用の方法を適宜選択して行うことができる。 例えば、１−リチル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカル
ボニル基、ベンズヒドリル基、ｔ−ブチル基、２−メト
キシエトキシメチル基等の保護基の除去は塩酸、ギ酸、
トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の無Ｆｊ１酸又は有償酸等で出来、特にト
リフルオロ酢酸が好適である。 尚、酸としてトリフルオロ酢酸を使用する場合には、ア
ニソールを添加することにより反応は促進される。 又、反応は水、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒中、或いはこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。 反応温度及び反応時間は化合物（ｎ）及び本発明化合物
（Ｉ）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択し
、特に氷冷乃至は加温程度の緩和な条件で行うのが好ま
しい。 、 尚、製造法Ａの原料化合物（Ｉｌｌ）は以下のよう
にして製造することができる。 基ＹがＳである一般式（ＩＩＩ）の化合物は、ベンズヒ
ドリル ７−アミノ −３−クロロメチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート、７−アミツセフアロスボラ
ン酸、又はそのエステルに一般式（Ｖ）のカルボン酸又
はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン化物、混合酸
無水物、活性エステル等）を反応させて製造することが
できる。ベンズヒドリル １−アミノ −３−クロロメ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレートは、例えば
特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７号公報
記載の方法により製造することができる。 基Ｙ ｌｆｉ Ｓ Ｏである一般式（ＩＩＩ）の化合物
は、基Ｙ ｌｆｉ Ｓである一般式（ＩＩＩ）の化合物
を塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム等の反応
に関与しない溶媒中、氷冷下に等モルのｍ−クロロ過安
息香酸で酸化して製造することができる。 基Ｘがヨウ素原子である（ＩＩＩ）の化合物は、基Ｘが
塩素原子である一般式（ＩＩ［）の化合物をアセトン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、水冷又は室
温でヨウ化す１−リウム等のヨウ化物と反応させて製造
することができ、単離もしくは、単離せずにそのまま次
の反応に用いてもよい。 製造法Ｂ 一般式（ｎ）の化合物と一般式（ＩＶ）の化合物を水、
アセトン、ジオキリ“ン、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン
、ベンゼン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド等の反応に悪影響を与えな
い溶媒中、又はこれらの混合溶媒中で、一般式（Ｖ）の
カルボン酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン
化物、混合酸無水物、活性エステル等）を反応させて製
造することができる。 反応は一般式（ＩＶ）の化合物１モルに対し、一般式（
Ｖ）の反応性誘導体１〜１．５モルを使用し、反応温度
は一４０〜４０℃でである。 一般式（Ｖ）の反応性ＬＬ＞７２体として、酸ハロゲン
化物を使用する場合、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱
酸剤が必要である。 酸ハロゲン化物形成反応は、カルボン酸（ｖ）１モルに
対し、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リン、オキシ塩化リン、Ａキザリルクロライド、ホスゲ
ン等のハロゲン化剤を１〜１０モル好ましくは１〜１．
５モル使用し、反応温度は一４０〜１００℃、好ましく
は一２０〜２０℃で、反応時間は数時間で完結り−る。 混合酸無水物形成反応は、カルボン酸（Ｖ）１モルに対
し、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアニリン、ピリジン等のＤ＋２酸剤１〜１．
２モルの存在下、メチルクロロホルメート、エチルクロ
ロホルメ−１−、イソブチルクロロホルメート等のクロ
ル炭酸エステ・ル１〜１．２モル使用し、反応温度は一
４０〜２０℃、好ましくは一２０〜５℃で、反応時間は
１０〜６０分間である。 活性エステル形成反応は、カルボン酸（Ｖ）１モルに対
し、Ｎ−ヒドロキシ化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシコ
ハク酸イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等）
又はフェノール化合物（例えば、４−ニトロフェノール
、２，４−ジニトロフェノール、トリクロロフェノール
等）１〜１．２モル及びＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドを１〜１，４モル使用し、反応温度は一１
０〜５０℃で、反応時間は３０〜１２０分間である。 又、アシル化反応においては、一般式（Ｖ）のカルボン
酸を遊離酸の形で使用する場合、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、オキシ塩
化リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド・オキシ塩化リ
ン付加物等の縮合剤の存在下でも、一般式（Ｉ）の化合
物を製造することができる。一般式（Ｉ）から本発明化
合物°（Ｉ）の製造は前記製造法Ａに同じである。 尚、製造法Ｂの原料化合物（ＩＶ）は、フラン（Ｆｌｙ
ｎｎ）著のセファロスポリン アンド ペニシリン、ア
カデミツク プレス（Ｃｃｐｌ＋ａｌｏｓｐｏｒｉｎｓ
ａｎｄ Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓ、Ａｃａｄｅｍｉｃ
ＰＲＥＳＳ） １５１〜１７１頁、１９７２年等に記
載の方法により製造することができる。例えば、１−ア
シルアミノ −３−ハロメチル−３−セフェム−４−カ
ルホキシート誘導体（特開昭５８−７２５９０号、同５
８−１５４５８８号公報等）又は７−アジルアミノロフ
７０スボラン１Ｎ導体に、ぐリジン誘導体を反応させて
、 一般式 （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ′は保護された′Ｐｉ換基を有してもよ
いピリジニオ基、ＸＯは陰イオン、ａｃｙｌ−はアシル
基を示す）で表される化合物とし、次いで脱アシル化す
ることにより製造することができる。 脱アシル化反応は既に当分野では公知であり、例えば、
五塩化リン等によるイミノクロル化、次いでメタノール
等によるイミノエーテル化及び加水分解からなる方法又
はアシラーゼによる方法等がある。 アシル基としては、例えばフェニルアセチル基、フェノ
キシアセチル基、アミノアジピル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の種々の細菌に対する試験管内抗菌活
性を下記の寒天平板希釈法により測定した。 ミューラー ヒントン ブロス（Ｈｕｅｌｌｅｒ ｌｌ
ｉｌトン アガー（Ｈｕｅｌｌｅｒ ｌ１ｉｎｔｏｎ
ａｇａｒ ）に接種した。この培地には抗菌剤が各濃度
で含まれており、３７℃で１６時間培養した後、最小発
育阻止濃度（ＨＩＣ：縛＃りを測定した。比較化合物と
してセファタキシム（Ｃｅｒａｔａｘｉｍｅ）を用いた
。その結果を次表に示す。 本発明化合物は、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラ
ム陰性菌に対して強い抗菌力を示した。 従って、一般式（Ｉ）の化合物、その無毒性塩及び生理
的に加水分解可能なその無毒性エステルは、抗菌剤とす
ることが可能である。 本発明化合物は当分野で公知の固体又は液体の斌形剤の
担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外部投与に適
した医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤と
しては、注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤、カ
プセル剤、粒剤等の固形剤及び軟膏、半開等の外用剤等
が挙げられる。又、これらの製剤には必要に応じて助剤
、安定剤、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等
の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。 添加剤としては注射用蒸溜水、リンゲル液、グルコース
、蔗糖シロップ、ゼラチン、食用油、カカオ脂、エチレ
ングリコール、蔗糖、とうもろこし澱粉、ステアリン酸
マグネシウム、タルク等が挙げられる。 更には、本発明の化合物は抗菌剤として、ヒトの細菌感
染症の治療に使用することができる。投与量は患者の年
齢、性別等の状態によって異なるが、通常、成人１日当
り２〜２５０ｍ１／Ｋｇの範囲で使用され、１回当り１
〜ｓｏｍｙ ／ Ｉｃ！Ｊで２〜５回に分けて投与する
のが好ましい。 次に実施例及び参考例を挙げて、本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）の製造（八）
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）１．ＯＣＪ
（１，４ミリモル）及びベンズヒドリル １−アミノ−
３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．５６９ （１，４ミリモル）を塩化メチレン２０
ｍに溶解し、０℃でＮ、Ｎ−ジメチルアニリン０．７７
ｄ （６，３ミリモル）、次にオキシ塩化リン０，１
２ ｄ （１，７ミリモル）を滴下後、３０分撹拌する
。 反応溶液は水、１ト塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水
で順次洗浄する。水層を更に酢酸エチルで抽出し、有機
層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下に溶媒を
留去し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート（シン異性体）を得、Ｍ製することなく
次の反応に用いる。 （Ｂ）上記（Ａ）で１ｑだ化合物をアセトン２０ｍに溶
かし、０℃でヨウ化ナトリウム０．４９ （２，８ミリ
モル）を加え、室温で３０分撹拌する。□反応液を１０
％チオ硫酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで２
回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマ１−グラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキ
サン（１：１）溶出画分を濃縮し、ベンズヒドリル ３
−ヨードメチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メトキ
シエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（
２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） １．０９ ｇ（収率６５％）を得る。 Ｉｎ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３３９０．１７８５．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．４５（６１１，ｍ）、 ３．７５（４１１，ｍ）
、 ４．３５（２１１，ｂｒｓ）、 ５．０５（２１１
，ｂｒｓ）、 ５．２４（４１１，Ｓ）、 ５．２４（
ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．７８（ＩＨ，ｍｌ
。 ６、７５（１１１，ｓ）、 ６．９６（ＩＩＩ、 ｓ）
、 ７．０〜７．８（２８＋１゜ｍ）、８．８０（ｉｌ
ｌ、ｂｒｓ、丁ｒＮＩｌ−）、９、（３３（ｉｌｌ、ｂ
ｒｄ、Ｊ＝８１１Ｚ） （’Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物５００ｍｇ（０，４１
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｄに溶か
し、ピリジン０．０６ ｄ （０，フロミリモル）を加
え、室温で１時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、溶出画分く５％メタノール・塩化メチレン）を１
！縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（
２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ
］−２−（２−トリデルアミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド）−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−
セフェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性
体） ４３０ｍｇ （収率８０％）を泡状物として得
る。 ＮＨＩｔ （０８３０−ｄ６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．５０（６１１，ｍ）、 ３．７５（２１１，ｍ）
、 ５．０３（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２２（４１１
，Ｓ）、 ５．２２（１’ｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ
）、 ５．５９（２１１，ｂｒｓ）、 ５．９０（ｉｌ
ｌ、 ｍ）。 ６．７２（１１１，ｓ）、６．９２（１１１，ｓ）、７
．０〜１゜７（２８＋１゜ｍ）、 ８．１８（２１１，
ｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ａ、 ６２（１１Ｉ、 ｍ）
、 ８．９６（２１１，ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．
８３（ＩＩＩ、 ｂｒｓ）、 ９．６８（ＩＩＬ ｂｒ
ｄ、Ｊ＝８１１７） （Ｄ）上記（Ｃ）で１ｑた化合物０．４３ ｇ（０，３
３ミリモル）を塩化メチレン２，０蔵に溶かし、アニソ
ール０．８ｒｄ、次いで０℃でトリフルオロ酢酸２．０
−を加え、室温にて１時間撹拌する。溶媒を減圧下に留
去し、冷却下にジエチルエーテルを加え沈澱物を濾取す
る。この沈澱物に水を加え、不溶物を濾別後、ＯＤＳカ
ラムクロマトグラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社
）に付し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、
凍結乾燥上で標記化合物４１／ｉｇ（収率２１％）を得
る。 ＭＰ １４０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃｉＡ ： ３４００． １７７
５． １６２ＯＮ１４１ｔ （０８３０−ｄ５ ）
δ：３、４５ （２１１，ｍ）、 ４．９３（２１
１，ｂｒｓ）、 ５．２０（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１
１ｚ）、５．５６（２１１，ｂｒｓ）、６．６４（１１
１，ｓ）、６．７２（１１１゜ｓ）、 ６．７３（２１
１，ｍ）、 ８．２０（２１１，ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１
ｚ）、 ８．６６（ＩＩＩ、 ｍ）、 ９．０４（２１
１，１ａｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ７．２９（２１１
，ｂｒｓ）、９．５８（ＩＩＩ、ｍ） 実施例２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−Ｉｌ？
ｌエフー４−カルホキシレー１−（シン異性体）の製造
（Ａ） ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイ
ミノ）−２−（２−トリアチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸（シン異性体） １．２ｇ（１，８７ミリ
モル）及びベンズヒドリル １−アミノ −３−クロロ
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート０．７７
ｇ（１，８１ミリモル）を塩化メチレン２４ｄに溶か
し、室温にてＮ、Ｎ−ジメチルアニリン１．１ｍ （８
，４ミリモル）、次にオキシ塩化リン０．２１ Ｉｄ（
２，２ミリモル）を滴下し３０分撹拌する。反応溶液は
水、１Ｎ−塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水で順次洗
浄し、水層は更に各々酢酸エチルで抽出する。有Ｂ１層
を合せて、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ＝
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３〜１：１）で精製
し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル−７−（２−（
３，４−シアｕ１−キシベンジルオキシイミノ）−２−
（２−１〜リチルアミノチアゾール−４−イル）アレド
アミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体） ０．２４ ｇ及びその脱アセチル体を１！
７る。脱アセチル体をピリジン２ｄ及び無水酢酸２ｄで
処理後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
ベンズヒドリル ３−／）、ロロメチル−７−［２−（
３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−２−（
２−トリデルアミノデアゾール′−４−イル）アセトア
ミド］−３−ｔ７フエムー４−カルボキシレート（シン
異性体） ０．６４ ｇを得る（甜０．８８ｇ：収率
４５％）。 ＮＯＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２．２４（３Ｈ，ｓ）、２．２６（３１１，ｓ）、３．
６０（２Ｎ、ｍ）、４．４１（２１１，ｂｒｓ）、 ５
．１０（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２０（Ｉｌｌ、 ｄ
、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．８２（ｉｌｌ、 ｍ）、
６．７１（ＩＨ，ｓ）、 ６．９３（ＩＩＩ、Ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．８２（１１１，
ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）。 ９、７２（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（Ｂ）上記
（八）で得た化合物を０．８８９ （０，８５ミリモル
）をアセトン１８成に溶かし、０℃でヨウ化ナトリウム
０．２５９ （１，７ミリモル）を加え、室温にて３０
分撹拌する。反応液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液
中に注ぎ、酢酸エチルで３回抽出し、有ｔａＳを飽和食
塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に溶媒を留去して、ベンズヒドリル ３−ヨー
ドメチル−７−［３，４−ジアセトキシベンジルオキシ
イミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド］−３−セフェム−４−カルボキシ
レート（シン異性体） ０．８８ ｇ（収率９２％）
を泡状物として得る。 Ｎ）ＩＲ（ＤＨ３Ｏ−６６） δ ：２、２８（６１
１，ｓ）、 ３．７（２１１，ｍ）、 ４．３３（２１
１，ｍ）、 ５．１３（２１１，ｂｒｓ）、５．２５（
ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．７６（１１１，ｍ）
。 ６、７６（ＩＩＩ、 ｓ）、 ６．９６（ＩＩＩ、 ｓ
）、 ７．０〜７．９（２８１１゜ｍ）、 ８．８３（
ＩＩＩ、 ｔａｒｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．７（Ｉ
ＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８（Ｃ）上記（Ｂ）テ得た化合
物０．８８ ｇ（０，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド９戒に溶かし、ピリジン０．２ｄ （２
，５ミリモル）を加え、至濡にて４時間放置する。減圧
下に溶媒を留去し、１ｑられる残渣をシリカゲルカラム
クロマ１〜グラフイーで精製し、溶出画分（５％メタノ
ール・塩化メチレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ？
−［２−（３，４−ジアセトキシペンシルオキシイミノ
）−２−（２−一トリチルアミノチアゾールー４−イル
）アセトアミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３
−セフェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異
性体）５００ＩＩｔｇ（収率４９％）の泡状物を得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２、２６（３Ｎ、 ８７．２．３０（３１１，Ｓ）、
３．５２（２１１，ｍ）、 ５゜２２（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．２９（１１１，ｄ、 Ｊ＝５ｔｌｚ）、 ５
．５８（２１１，ｂｒｓ）、５．９２（ＩＨ，ｍ）、６
．７６（１１１，ｓ）、６．９３（ＩＩＩ、ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．２０（２１１，
ｂｒｄ、Ｊ＝６１１２）。 ８、６８（Ｉｌｌ、 ｍ） 、 ８．９６（２１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．９０（１１１゜ｂｒ
ｓ、Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．７４（１１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝８１１ｚ、−ＣＯＮＩＩ−）（Ｄ）上記（Ｃ）で得
た化合物０．５ｇ（０，４１ミリモル）を塩化メチレン
２．５ｍＱに溶かし、アニソール０．５ｍを加え、０℃
に冷却し、１−リフルオロ酢酸２，５ｄを加える。室温
にて１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去して得られる残
渣に０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱を濾
取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別復、ＯＤＳカラムク
ロマトグラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社）に付
し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、凍結乾
燥して標記化合物１０７ｍｇ（収率３９％）を１りる。 ）ＩＰ １６０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃｔＨ： ３４２０．１７６５．１
６６５．１６２ＯＮ１イＲ（１）ｌイ５Ｏ−ｄ６ ）
δ ：２、２６（６ｔｌ、 ｓ）、 ３．４２（２１
１，ｂｒｓ）、 ５．１０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、２０（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．３
５ （ＩＨ，ｍ）、 ５．６５ （ＩＩＩ、 ｍ）、
５．７０（ｉｌｌ、 ｓ）、 ６．６９（１１１，ｓ）
、 ７．２０（３１１，ｍ）。 ８゜１３（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ａ、
５８（ｉｌｌ、 ｍ）、 ９．４８（２１１゜ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１２） 実施例３ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）７０ド
アミド］−３−（３−アミノ−１−ピリジニオ）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチルづ−（２−［
３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
オキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド）−３−Ｌ＝フェムー４−ノ
コルポキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）を加え
、室温にて２時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフイーで精
製し、溶出画分く２％メタノール・塩化メチレン）を濃
縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２
−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド）−３−（３−ｈリチルアミノ −１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・ヨ
ード塩（シン異性体）１．３５ｇ（収率１００％）の泡
状物として得る。 ＮＮＲ（０８３０−６６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．５２（６１１，ｍ）、３．８０（４１１，ｍ）、 ５
．２０（２１１，ｍ）、 ５．３６（４１１，ｂｒｓ）
、 ５．４０（２１１，ｍ）、５．９５（ＩＩＩ、ｍ）
、６．７８（１１１，ｓ）、６．８８（ＩＩＩ。 ｓ）、７．０〜７．７（２８１１，ｍ）、８．４Ｇ（１
１１，ｂｒｓ）。 ８、８２（ｉｌｌ、 ｂｒｓ）、 ９．６２（ｉｌｌ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化
合物を１．３５ ｇ（０，８７ミリモル）を塩化メチレ
ン５．０Ｉｎ１に溶かし、アニソール１．Ｏ蔵を加え、
０℃に冷却し］ヘリフルオロ酢Ｒ５，Ｏｒｄを加える。 室温にて１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去して得られ
る残渣に０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱
を濾取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別後ＯＤＳカラムクロ
マ１−グラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社）にイ
；Ｊし、溶出画分（２０％メタノール・水）を濃縮、凍
結乾燥し、標記化合物を含む△ ・Δ （３：２＞の混
合物４５ｒｎｇを得る。 ＨＰ １７０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃｉＡ ： ３３４０．３２００．
１７６０．１６２ＯＮＩＩＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６） δ
：３．５０（２１１，ｍ）、４．９６（２１１，ｂｒ
ｓ）、５．０６（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２
〜５．４（２１１’、ｍ）、５．６８（ｉｌｌ、ｍ）、
０．７１（１１１，ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍ）、
７．２１（２１１，ｂｒｓ、−旧（２）。 ７゜６４（３１１，ｍ）、 ８．２２（１１１，ｂｒｓ
）、 ９．５０（ＩＩＩ、 ｍ、 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例４ ３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）メチル−７
−（２（２−アミノチアゾール−４−イル）τ２−（３
，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルホキシレー＋−＜シン異
性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］アレドアミド］−３−セフェム−４−
カルボキシレート４．０ｇ（３，３ミリモル）を塩化”
メチレン８０ｔｄに溶かし、０℃に冷却する。次にｍ−
クロロ過安患香酸（８０％含有） ０．７０ ｇ（３
，３ミリモル）を加え、１５分撹拌する。反応溶液に１
０％ヂオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、次
に１０％重曹水で洗浄する。水層を塩化エチレンで抽出
し、先の有償層と合せ、無水ｉａ酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に溶媒を留去し、残漬をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄してベンズヒドリル３−ヨードメチル−７−（
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド１−３−セフェム−４
−カルボキシレート １−オキサイド）−３−セフェム
−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性体
） ３．９５ ｇ（収率９７％）を得る。 Ｉｎ （ＫＢｒ ） ｃｉｄ ： ３３７０．１７９８
．１７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ）
δ ：３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１
，ｓ）、 ３．４６（６１１，ｍ）、 ３．７６（４１
１，ｍ）、４．４２（２１１，ｍ）、５．０５（３１１
，ｍ）、５．２３（４１１゜ｂｒｓ）、 ５．８７（１
１１，ｄｄ、 Ｊ＝５．８１１ｚ）、 ６．８０（１１
１，ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．７３（ＩＩＩ、
ｂｒｓ）、８．９８（ＩＩＩ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物１．０ｇ（０，８１ミリ
モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０−に溶かし
、３−トリチルアミノピリジン０．５ｇ（１，５ミリモ
ル）を加え、室温にて１時間放置する。減圧下に溶媒を
留去し、得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、溶出画分く５％メタノール・塩化メチ
レン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（２−（３，
４−ジ（２−メ１−キシエ１−キシメＩ−キシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−（３−トリチルア
ミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート ード塩（シン異性体） １．１７ ！？ （収率９３
％）の泡状物として得る。 ＮＯＲ（０８３０−ｄｅ ）δ： ３、１９（３１１，ｓ）、 ３．２１（３Ｎ、 ｓ）、
３．４０（２１１，ｂｒｓ）。 ３、４４（４１１，ｍ）、 ３．７２（４１１，ｍ）、
５．０８（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２０（４
１１，ｓ）、５．２３（２１１゜ｍ）、６．００（Ｉｌ
ｌ、 ｍ）、 ６．８１ （１１ｉ、 ｓ）、 ６．８
８（ＩＩＩ、 ｓ）。 ７．０〜７．８（３２１１，ｍ）、８．４０（１１１，
ｂｒｓ、ＴｒＨｌｌ−）。 ８、７３（ｉｌｌ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩＩ−）、 ９
．１６（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ。 −−ＣＯＮＩＩ−） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物１．２７ ｇ（０，８１
ミリモル）をアセトン２５ｍに溶かし、ヨウ化カリウム
０．５４９ （３，２ミリモル）を加え、次いで０℃で
アセチルクロライド０．１２ ｍ ＜ １．６ミリモ
ル）を滴下後、１時間撹拌する。反応溶液を１０％メオ
重亜流酸ソーダ水に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。 有ｇ１層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬を再び同様の操
作を繰り返し、ベンズヒドリル７−（２−［３，４−ジ
（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ］−２−（２−一トリチルアミノチアゾールー４−イ
ル）アセトアミド）−３−［３−（Ｎ−１−リチル）ア
セトアミド−１−ピリジニ第１メチルー３−セフェム−
４−カルボキシレート・ヨードＪＭ （シン異性体）
１．５６９を泡状物として得、精製することなく次の
反応に用いる。 （１５）上記（Ｃ）で得た化合物１．２９ （０，７５
ミリモル）を塩化メチレン５．０ｍＱに溶かし、アニソ
ール１．０−を加え、０℃に冷Ｕ】下し１−リフルオロ
酢酸５． Ｏｒｄ、を加える。室温にて１時間撹拌し、
溶媒を減圧下に留去して得られる残漬に０℃にてジエチ
ルエーテルを加え生成する沈澱を濾取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別後、００８カラムク
ロマ１へグラフィー＜ ＬＣ−３Ｏｒｂ ：ケムコ礼）
に付し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、凍
結乾燥して標記化合物５５ｍｙ＜収率１２％）を得る。 ＵＰ １５５℃（分解） ＩＩＩ（にＢｒ ） ｃｉｔＩ ： ３３３０．１７６
８．１６６２．１６０８ＮＯＲ（ＤＨ５Ｏ−ｄｅ ）δ
： ２．０９（３）１． ｓ）、 ３．６０（２１ｍ）、
４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（Ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、’ ５．
４０（１１１，ｍ）、 ５．６０（１１１，ｍ）、 ５
．７２（Ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．６０（ｌｔｌ、 ｓ）
、 ６．６２（１１Ｉ、 Ｓ）。 ６．８９（２１１，ｍ）、８．０２（１１１，ｍ）、８
．５５（１１１，ｍ）、８．９２（１１１，ｍ）、 ９
．４８（１１１，ｂｒｓ）、 ７．１０（２１１，ｂｒ
ｓ、 −Ｎｌ２）、 ９．５０（１１１，ｍ、 −ＣＯ
ＮＩＩ−）実施例５ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−（カルボキシレート−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・
モノナ１ヘリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１−アミド）−３−Ｌ−フエムー４
−カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と
３−ベンズヒドリルオキシカルボニルピリジン０．２５
ｇ（０，８γミリモル）から、実施例３（八）と同様
の方法によりベンズヒドリル ３−（３−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニル−１−ピリジニオ）メチル−７−（
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル） ）
−２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ】アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性体）０．
１８ｇ（収率６３％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄｅ）δ： ３．２２（６１１，ｓ）、３．４０＜６１１．ｍ）、３
．７２（４１１，ｍ）、５．０２（３１１，ｍ）、５．
２２（４１１，、ｂｒｓ）、５．７４（２１１，ｍ）、
５．９０（ＩＨ，ｍ）、６．７３（１１１，ｓ）、７．
００（１１１，ｓ）、 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ
）、８．３０（１１Ｉ、ｍ）、８．８０（１１１，ｍ）
、９．１８（１＋＋、ｍ）、９．６２（１１１，ｂｒｓ
）（Ｂ）上記（八）で得た化合物０．７８７（０，５２
ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化
合物１０１０１ｌ （収率３２％）を（ｑる。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｎ （にＢｒ）ｃＭ： ３４００．１７６８．１６４
０．１６１０旧４１ （ＤＨ３Ｏ−６６）δ； ３．４Ｇ（２１１，ｂｒｓ）、４．８８（２１１，ｂｒ
ｓ）、５．０３（１Ｎ、ｄ。 Ｊ＝４１１ｚ）、 ５．２０（Ｉｌｌ、 ｍ）、 ５．
６２（１１１，ｄｄ、 Ｊ＝４及び８１１Ｚ）、 ５．
７０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．５８（ｉｌｌ、 Ｓ）、
６．６６（Ｉｌｌ、 Ｓ）。 ６、７２（ＩＩＩ、 ｍ）、 ７．１２（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ８．０４（ＩＩＩ、 ｄｄ、 Ｊ＝６及び６１
１ｚ）、８．７２（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、
９．２８（ＩＩＩ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．６０（１１１，ｍ）
実施例６ ７−［２−（２−アミノチアゾルー４−イル）−２−（
３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ１−
アミド］−３−（４−カルボキシレート−１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・モ
ノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）と４−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニルピリジン０．２３ （Ｊ
（Ｏ，ａＯミリモル）から実施例３（＾）と同様の方法
によりベンズヒドリル ３−（４−ベンズヒドリルオキ
シカルボニル−１−ピリジニオ）−７−（２−［３，４
−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシ
イミノ］−２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−
イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・ヨード塩（シン異性体）６９５ｍｇ（収率５６
％）を泡状物として得る。 ＮＮＲ（ＤＨＳＯ−ｃｌ ６ ン δ ：３、２２（３
１１，Ｓ）、 ３．２４（３１１，Ｓ）、 ３．４５（
６１１，ｍ）、 ３．７２（４１１，ｍ）、５．０３（
２１１，ｂｒｓｌ、５．２０（４１１，ｂｒｓ）、５．
２０（ｉｌｌ、 ｄ 、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ｓ、 ６
９（２１１，ｂｒｓ） 、 ５．８８（１１１’、 ｍ
）。 ６．７３（１１１，ｓ）、６．９１（ｉｌｌ、ｓ）、７
．０〜７．８（２８１１，ｍ）、 ａ、 ７０（２１１
，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１８（２１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８０（ｉｌｌ、 ｂｒ
ｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．６４（ｉｌｌ、 ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＩＩ−） （Ｂ）上記（Ａ）で１すた化合物０．４３ ｇ（０，３
３ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記
化合物４ｉｉｙ（収率２２％）を１ｑる。 ＭＰ １６５℃ （分解） ［Ｒ（ＫＢｒ）ｃＭ： ３４００． １γ７０． １
６２ＯＮＨＲ（叶５Ｏ−ｄ６）δ： ３．８８（２１１，ｍ）、４．９０（２１１，ｂｒｓ）
、５．０４（ｌｔｌ、ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ５．２２
（１１１，ｍ）、 ５．６０（ＩＩＩ、 ｍ）、 ５．
７５（Ｉｌｌ、 ｍ）。 ６、６０（ｉｌｌ、 ｓ）、 ６．６８（ＩＩＩ、 ｓ
）、 ６．７３（２１１，ｍ）、 ８．２０（２１１，
ｄ 、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２８ （２１１，ｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、 ７．１８（２１１゜ｂｒｓ、−Ｎ
１１２）、９．５４（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝８１１ｚ、
−ＣＯＮＩＩ−）実施例７ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アレド
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−１−リヂルアミノチアゾ
ールー４−イル）アセトアミド）−３−ｔ７フエムー４
−カルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−カルバモイルピリジン０．１０ ｇ（０，８２ミリモ
ル）がら実施例３（八）と同様の方法によりベンズヒド
リル ３−（４−カルバモイル− −７−（２−［３．４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（２− トリデル
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セ
フェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性体
）０、７０ （ｊ （収率６４％）を泡状物として得る
。 ＮＭＲ （ＤＨＳＯ−ｄ＄ ）δ： ３、２０（３１１， ｓ）、 ３． ２２（３１１，
ｓ）、 ３． ３８（２１１， ｓ）、 ３．４８（４
１１， ｆｉｌ）、 ３． ７６（４１１， ｍ）、
５． ０３（２１１， ｂｒｓ）、 ｓ． ２２（４１
１， ｂｒｓ）、 ５．３０（ｉｌｌ， ｂｒｄ， Ｊ
＝６１１ｚ）、 ５．６８（２１１， ｍ）、５．９０
（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝６及び８１１ｚ）、 ６． ７４
（ＩＩＩ， ｓ）。 ６、９２（１１１， ｓ）、７．０ 〜７．７（２８１
１，ｍ）、７．８０（１１１。 ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、８．４５（Ｈｌ，ｂｒｄ，Ｊ
＝６１１ｚ）、８．６８（ＩＩＩ。 ｂｒｓ， ＴｒＮＨ−）、 ８． ７８（ｉｌｌ， ｂ
ｒｄ，−ＣＯＮＩＩ−）、 ９、１２（１１１， ｂｒ
ｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ９． ６８（１１１， ｂｒ
ｄ， −Ｃｕｌｌ−）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０
．７０ ｇ（ ０．５２ミリモル）を実施例３（Ｂ）と
同様の方法により標記化合物８４ｍｇ（収率２６％）を
得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｌｌ （にＢｒ）ｃｆｆｌ ： ３３９０． １
７７９． １６８ＯＮＨＲ−（ＯＨ３Ｏ−１６）δ： ３、５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．０４（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、５
．２０（ＩＩＩ、ｍ）、５．６５（ｉｌｌ、ｍ）、５．
７５（１１１，ｍ）。 ６．６６（１１１，ｓ）、６．６８（ＩＩＩ、ｓ）、Ｇ
、７０（２１１，ｍ）、 ８．４５（２１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．５８（２１１，１ａｒｄ、
Ｊ＝（３１１ｚ）。 ７．１３（２１１，ｂｒｓ、−Ｎ１１２）、９．４９（
ＩＩＩ、ｍ、−ＣＯＮＩＩ−）実施例８ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・
モノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシ上１〜キシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−ｔフ↓ムー４−
カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−ピリジルメタンスルホン酸ナトリウム０．３１ Ｌｊ
（１，６４ミリモル）から実施例３（八）と同様の方法
によりベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２−
メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド）−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）７１ｈ＋ｇ（収率６８％）を泡状物とし
て１ｑる。 ＮＨＲ（ＯＨ８Ｏ−ｄ６）δ： ３．２０（３１Ｌｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３．
５２（６１１，ｍ）、３．７６（４１１，ｍ）、 ４．
１２（２１１，ｂｒｓ）、 ５．０３（３１１，ｍ）、
５．２２（４１１，ｂｒｓ）、５．３〜５．６（２１
１，ｍ）、５．９２（ｉｌｌ、ｍ）。 ６．７２（ＩＨ，ｓ）、６．９３（１１１，ｓ）、７．
０〜７．７（２８ｔｌ、ｍ）、 ７．９８（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．０６（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１Ｚ） 、 ８．７８（２１１，ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．８５（１１１，ＬｔｒＳ
。 ＴｒＮＩｌ−）、 ９．７０（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ
＝８１１Ｚ、 −ＣＯＮｆｌ−）（Ｂ）上記（八）で得
た化合物０．７１ ’；Ｊ （０，５（３ミリモル）を
実施例３（Ｂ）と同様の方法により標配化合物を含む△
・Δ （３：２）の混合物２１５ｒｒｔｇ（収率５８
％）を得る。 ）ＩＰ １８０℃ （分解） （Ｒ（ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００．１７６３．１６
３８．１６１ＯＮ）ＩＲ（ＯＨ５Ｏ−ｄ６ ）δ： ３、６０（２１１，ｍ）、 ４．１２（２１１，ｂｒｓ
）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜５．
７（２１１，ｍ）。 ５．６９（ｌｉｔ、ｍ）、６．６６（１１１，ｓ）、６
．７２（３１１，ｍ）、７．１６（２１１，ｂｒｓ、−
ＮＩ１２ ）、８．００（２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１
Ｚ）。 ８．９２（２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．２２
（ｉｌｌ、ｂｒｄ、Ｊ＝６１１Ｚ）。 ９、５０（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −Ｃ
ＯＮＩＩ−）実施例９ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４＝ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネー１−エチルー１
−ピリジニ第１メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（八）
ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）とテトラブチル
アンモニウム ２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸
塩０．３５９ （０，８２ミリモル）から実施例３（Ａ
）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−［３
，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオ
キシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−［４−（２−スルホネ
ートエチル−１−ピリジニ第１メチルー３−セフェム−
４−カルボキシレート（シン異性体） ２９３．７１
ｇ（収率２８％）を泡状物として得る。 Ｎｕｌｌ （ＯＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２、８６（２１１，ｍ）、 ３．２０（３Ｈ，ｓ）、
３．２０（２１１，ｍｌ、 ３．２３（３１１，ｓ）、
３．５６（６１１，ｍ）、３．乃（４１１，ｍ）、５．
０５（２１１゜ｂｒｓ）、 ５．２６（ＩＩＩ、 ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．２６（４１１，３）、 ５．
５５（２１１，ｂｒｓ）、 ５．８８（１１Ｉ、 ｍ、
−ＣＯＮＩＩ−）、 ６．７８（１１１，ｓ）。 ６．８３（１１１，ｓ）、７．０〜７．８（２８１１，
ｍ）、７．９５（２１１゜ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、
８．７０（ＩＩＩ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩｌ−）、
８．７８（１１１゜ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
６５（１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）（Ｂ）上記（八）
ｒｔ９た化合物０．２９ ｇ（０，２３ミリモル）を実
施例３（６）と同様の方法により標配化合物を含む△
・△ （１：１）の混合物７２ｍｇ（収率４６％）を得
る。 ト（Ｐ１７０℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）Ｃｉｉ： ３４１０．１７６０．１６３
５．１６２０８８＋１ （ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３、００（２１１，ｍ） 、 ３．２０（２１１，ｍ）
、 ３．６＜２８． ｍ）、 ４．９８［２Ｈ，ｂｒｓ
）、５．０２（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜
５．５（２１１，ｍ）、５．８０（ｉｌｌ、ｍ）、６．
６１（１１１，Ｓ）、 ６．７５（３１１゜ｍ）、７ｉ
７（２１１，、ｂｒｓ、−Ｎｌｌ ）、８．０６（２
１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８８（Ｉｌｌ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝（３１１ｚ）、 ９．２０（ＩＩＩ、
ｂｒｄ。 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．７８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ
＝６１１ｚ、 Ｃ０ＮＩＩ−）実施例１０ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネートエチル）−１
−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（Ａ）
ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−γ−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミンチアゾール−４
−イル）アセトアミド１）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート １−オキサイド１．２ｇ（０，９１ミリモ
ル）と２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸カリウム
０．４２ ｇ（１８，７ミリモル）から実施例４（８）
と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−［３゜
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリデルアミンチアゾール−４
−イル）アセトアミド）−３−［４−［２−スルボネー
ｌへエチル）−１−ピリジニオ］−メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性
体）１１０＃Ｉ！ｉＦ（収率５６％）を泡状物として得
る。 ＮＨｒｔ （０８３０−１６）δ： ２、９０（２１１，ｍ）、 ３．２０（２１１，ｍ）、
３．２０（３１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．３５（２１１，ｍ）、３．５０（４１１，１Ｔｌ）
、３．７５（２１１゜ｍ）、 ５．０６（２１（、、ｂ
ｒｓ）、 ５． ｔｏ（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ−５１１ｚ
）。 ５、２０（４１１，ｓ）、 ５．４８（２１１，ｂｒｓ
）、 ６．００（２１１，ｄｄ、 Ｊ＝５．６１１ｚ）
、６．８０（ｉｌｌ、ｓ）、６．９５（１１１，ｓ）、
７．０ 〜γ、７（２８１１，ｍ）、 ８．０６（２１
１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．７２（２１１ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．７３（１１１，ｂｒ
ｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．２０（Ｉｌｌｂｒｄ、
Ｊ−６Ｈｚ、 −ＣＯＮｉ−）（Ｂ）上記（八）で得た
化合物０．７１ ｇ（０，５５ミリモル）をヨウ化カリ
ウム０．３６９ （２，２ミリモル）及びアセチルクロ
ライド０．０７８ｍ （１，１ミリモル）を用い、実施
例４（Ｃ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（
２−（３，４−ジ（２−メトキシエｉ・キシメ１−キシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミン
チアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−［４−（
２−スルホネートエチル）−１−ピリジニ第１メヂルー
３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
８００ｍ！？を泡状物として（’Ｊ、Ｙｎ製すること
なく次の反応に用いる。 （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８０ ｇ（０，５５
ミリモル）を実施例４（Ｄ）と同様の方法により標記化
合物１８７＋＋！Ｆ（収率５０％）を得る。 ＭＰ １５０℃ （分解） 、 Ｉｎ （ＫＢｒ）ｃｊＩ： ３４００． １７
７５． １６２０、ＮＨＲ（叶５Ｏ−ｄ６ ）δ： ２．９６（２Ｎ、ｌ１ｌ）、３．１８（２Ｎ、 ｍ）、
３．３８（２Ｎ、 ｂｒｓ）。 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）、５．０２（１１１，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、５．１０（ＩＨ，ｍ）、５．６０
（ｉｌｌ、ｂｒｓ）、５．７０（ｉｌｌ、ｍ）、、６．
６９（１８，ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍ）、８．０
２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 。 ９．００（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
１８（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）７、１８（２
１１，ｂｒｓ−Ｍｌ−１２）、 ９．５２（ＩＨ，ｂｒ
′ｄ、 Ｊ＝６１１Ｚ。 −ＣＯＮＩＩ−） 実施例１１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシル〜１
〜（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノデアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）及び２，
３−シクロペンテノピリジン０．１１ｎ１（０，８５ミ
リモル）から実施例３（Ａ）と同様、の方法によりベン
ズヒドリル ３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピ
リジニオ）メチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メト
キシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−
（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセ１〜
アミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート・ヨー
ド塩（シン異性体） ０．９０ ｍＦＩ （収率８２
％）を泡状物として得る。 Ｎ）唱Ｒ（ＤｔｌＳＯ−ｄ６）δ： ２、２０（２１１，ｍ）、 ３．２０（４１１，ｍ）、
３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）
、 ３．５０（２１１，ｍ）、 ３．５０（４１１，ｍ
）、 ３．７８（４１１゜ｍ）、５．０４（２１１，ｂ
ｒｓ）、５．２０（２１１，ｂｒｓ）、５．２８（ＩＩ
Ｉ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝５ｔｌｚ）、 ５．５０（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ５．９２（ＩＩＩ、 ｄｄ、 Ｊ＝５及び６１
１ｚ）、 ６．７５（Ｉｌｌ、 ｓ）、 ７．００（ｉ
ｌｌ、 ｓ）、 ７゜０〜７．８（２８１１，ｍ）、７
．８８（１１１，ｂｒｔ、Ｊ＝６１１ｚ）、８．４０（
ｉｌｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝６ｉ１ｚ）、８．６２（１１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、８．８０（ｉｌｌ。 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩｌ−）、 ９．６８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（
八）で得た化合物０．９０ ｇ（０，ロアミリモル）を
実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化合物１０２ｍ
ｇ（収率２５％）を１ｑる。 ＭＰ １６５℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｊｆ： ３４００．１７７０．１６１
８ＮＭＲ（０８３０−ｄ５ ）δ： ２、２０（２１１，ｍ）、 ３．１６（４１１，ｍ）、
３．５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ５．００（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、
５．３８（２１１，ｍ）。 ５．６０（１１１，ｍ）、６．６０（ｉｌｌ、ｓ）、６
．６４（１１１，ｓ）、６．７２（２Ｈ，ｍ）、７．２
０（２１１，ｂｒｓ、 −ＮＩ＋２ ）、７．８２（１
ｔｌ。 ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．２８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１０（ｉｌｌ。 ｂｒｔｉ、 Ｊ＝ｅ）ｌｚ）、 ９．５０（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈ７，−ＣＯＮＩＩ−）参考例１ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒドの製造 ３．４−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．９ｇ（５０
ミリモル）を塩化メチレン１４０ｄ１．：溶解し、ジイ
ソプロピルエチルアミン２６．１ｍ （１５０ミリモル
）を加え、０℃で２−メトキシエトキシメチルクロライ
ド１７ｒｒｄｌ （１５０ミリモル）を滴下する。反応
溶液を０℃で１時間撹拌した後、水５０ｍｆ！、０．５
Ｎ水酸化す１〜リウム水溶液５０ｄ及び飽和食塩水で順
次洗浄する。有Ｉｊ１層を無水硫酸ナトリウムで脱水し
た後、減圧下に溶媒を留去し標記化合物１５．７ｇ（収
率１００％）を１りる。 ＮＯＲ（ＣＤＣＩａ ）δ： ３．４０（６１１，ｓ
）、３．６０（４１１，ｍ）、３．８９（４１１，ｍ）
、 ５．３９（２１１，Ｓ）、 ５．４２（２１１゜Ｓ
）、 ７．３０（Ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝７１１ｚ）、
７．５５（ｉｌｌ。 ｄｄ、Ｊ＝１及び７＋１２）、７．７０（Ｉｌｌ、ｄ、
Ｊ＝Ｉ１１ｚ）、 ９．８６（ＩＩＩ、ｓ）参考例２ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
アルコールの製造 ３．４−ジ（２−メ１〜キシエＩ・キシメトキシ）ベン
ズアルデヒド１５．７ｇ（５０ミリモル）をメタノール
３００ｄに溶解し、冷却下に水素化ホウ素ナトリウム１
．８９９ （５０ミリモル）を数回に分けて加えた復、
３０分間撹拌する。反応溶液に酢酸２．８６蔵を加え１
０分間撹拌後、減圧下に溶媒を留去する。 残渣を酢酸エチル３００ｄに溶解し抽出液を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸す１〜リウムで脱水し、溶媒を留去
して標記化合物１５．０ｇ（収率９４．８％）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣＩａ ） δ： ３．５（１１
１，Ｓ）、３．３５（６＋１．Ｓ）。 ３．５５（４１１，ｍ）、 ３．８５（４１１，ｍ）、
４．５５（２１１，ｓ）、 ５．２６（４１１，ｓ）
、６．９（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝１及び７＋１２）、 ７
．１３（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）、 ７．６（ＩＩ
Ｉ、ｄ、Ｊ＝１１１ｚ）参考例３ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシベンジルク
ロライドの製造 ３、４−ジ（２−メ１へキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルアルコール１２．９ｇ（４０．８ミリモル）及びピリ
ジン１６．１ｇ（ ２０３．７ミリモル）に塩化メチレ
ン２３０ｍｌを加え、水冷下に塩化チオニル５．８ｄ（
８１．６ミリモル）を含む塩化メチレン溶液８０ｍを滴
下し、２時間撹拌する。反応溶液を水、飽和重曹水、及
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
脱水する。減圧下に溶媒を留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）に
付し、標記化合物１１．５ｇ（収率８３．４％）を得る
。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＨ８Ｏ−ｄｒ、 ） δ ： ３
．３（６１１，ｓ）、３．５（４１１，ｍ）。 ３、８（４１１，ｍ）、 ４．７３（２１１，Ｓ）、
５．３（４１１，ｓ）、 ７．１〜ｙ、２（３１１，ｍ
） 参考例４ エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリチ
ルアミンチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異
性体）の製造 エチル ２−ヒドロキシイミノ −２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異性
体） ５２ｇ（０，１１モル）を１１．Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド５２０ｄに溶かし、５０％油性水素化ナトリ
ウム５．４ｇ（０，１１モル）を０℃で加える。１５分
撹拌後、ヨウ化ナトリウム１８．８ｇ（０，１２モル）
を加え、次いで３．４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルクロライド４？Ｆ （０，１２モル）を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｄに溶かした溶液
を加える。１０℃に昇温し、１時間撹拌後、減圧下に溶
媒を留去し、得られる残渣を酢酸エチルに溶かす。この
溶液を水、及び飽和食塩水で順次洗浄し、水層をさらに
酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせて無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝３＋１）で精製して標記化合物５８ｇ（収率６
９％）を油状物として得る。 ＩＲ：（にＢｒ ） ｃＭ ： ２９３０．１７４０．
１５１５８８１１ （ＤＨ８Ｏ−ｄ６）δ： １．
１（３１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．２２３．４６（
４１１，ｍ）、３．７２（４Ｈ，ｍ）４、０（２１１，
Ｑ、 Ｊ＝７１１ｚ） 、 ５．０（２１１゜１１ｒｓ
）、５．２１（４１１，ｂｒｓ）、６．９（ｉｌｌ、Ｓ
）、 ７．０〜７．５（１８１１゜ｍ）、 ８．７５（
ｉｌｌ、 ｂｒｓ）参考例５ ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］ −２−（２−１−リチルアミ
ノチアゾールー４−イル）酢酸及びそのナトリウム塩（
シン異性体）の製造 エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエ］・キシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
チルアミノデアゾール−４−イル）酢酸エステル３６．
０ｇ（４７，３ミリモル）をエタノール１２０成に懸濁
し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２８．４ｄ（５６，８
ミリモル）を加え、１時間加熱、還流、撹拌する。反応
液を放冷し減圧下に溶媒を留去する。沈澱物をｎ−へキ
リ゛ンで洗浄し、乾燥して標記化合物のす１〜リウム塩
２９．６ｇ（収率８５％）を得る。 ＩＲ： （ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３４２０
． １６１０． １５４０． １４１ＯＮｕｌｌ
（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ： ３．２２（３１
１，ｓ）、３．２４（３１１，ｓ）。 ３、４５（４１１，ｍ）、 ３．７４（４１１，ｍｌ。 ４．９（２１Ｌｂｒｓ）、５．２０（４１１゜ｂｒｓ）
、６．５６．、（ｉｌｌ、ｓ）、 ６．９〜７．６（１
８１１，ｍ）、８．６２（Ｉｌｌ、ｂｒｓ）上記母液を
減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（１０％メタノール・塩化メチレン）に付し、標
記化合物の遊離酸５，３ｑ（収率１５．．６％）を得る
。 参考例６ ３．４−ジアセＩ−キシベンジルアルコールの製造３．
４−ジアセトキシベンズアルデヒド２．０ｇ（９，０ミ
リモル）をテトラヒドロフラン４０Ｉｒｄｌと水４ｄの
混合溶液に溶かし、０℃に冷却する。５０％油性水素化
ホウ素ナトリウム０．３４ ｇ（９，０ミリモル）を加
え、１０分間撹拌俊、酢酸０．６ｄ （１０ミリモル）
を滴下し反応を止める。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢
酸エチルで３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して、粗標記化合
物２．０ｇ（収率９９％）の油状物を得、精製すること
なく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．２７（６１１，
ｓ）、４．５３（２１１，ｓ）。 ７．２（３１１，ｍ） 参考例７ ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイドの製造３．４
−ジアセトキシベンジルアルコール２．０ｇ（０，８９
ミリモル）を塩化メチレン４０フ溶かし０℃に冷却する
。三臭化リン０．２８ ｄ （０，３ミリモル）を加え
１５分撹拌する。反応液を水中に注ぎ、塩化メチレンで
３回抽出し、有ＩＮ層を合せ１０％重曽水で洗浄する。 この水層を酢酸エチル３回抽出し有機層を合せて無水硫
酸す１−リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、粗標
記化合物１．３７ ｇ（収率５３％）を油状物として得
る。精製することなく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（ＤＨ５Ｏ−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、４．７２（２１１，ｓ）。 ７．２〜７．５（３１１，ｍ） 参考例８ Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミドの製造 ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイド１．３７ ｇ
（４，７７ミリモル）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド
０．７８ ｇ（４，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチル
ボルムアミド１３ｄに溶かし、室温にてトリエチルアミ
ン０．６６蛇（４，７７ミリモル）を加え、３０分撹拌
する。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで３回抽
出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧下に溶媒を留去する。残漬をピリジン２厩に溶かし
、無水酢酸２ｄを加え、室温にて１時間放置づる。減圧
下に溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３）にて精
製し、標記化合物０．ｅａ ｇ（収率４２％）を油状物
として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄｉ） ）δ： ２．３（（３１
１，ｓ）、５．２（２１１，ｓ）。 １．３〜７．６（３１１，ｍ）、７．８（４１１，Ｓ） 参考例９ ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
（シン異性体）の製造 Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミド０．６８ ｇ（２，０ミリモル）を塩化メチレン１
４ｄ溶かし、０℃で８０％泡水ヒドラジン０．１４ｄ（
２，４ミリモル）を含むメタノール溶液３ｄを加え、３
０分間撹拌する。沈澱物を濾別した後、減圧下に濾液を
澹縮し、再び沈澱物を濾別し沈澱物を、酢酸エチルで洗
浄する。濾液は無水ｆａ酸ナトリウムで乾燥後、減圧上
濃縮し、残渣をメタノール６ｒｎＩｌに溶かし、次の反
応に用いる。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−オキソ酢酸０．６５９ （１，５７ミリ
モル）をメタノール６ＩｒｔＩｌに溶かし、先に調製し
たヒドロキシルアミン溶液に加え、３０分間撹拌する。 減圧下に溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶かし、有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去して粗標記化合物１．２ｇ（収率９４％）を泡状物と
して得る。 ＮＩＩＲ（ロＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ： ２．３
（ｅｌｌ、ｓ）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３１１，ｍ）、 ７．８５（４１１，
Ｓ） 発明の効果 本発明化合物は文獣未記載の新規化合物であり、特に感
受性耐性のグラム陰性菌及びグラム陰性菌に対して強く
抗菌力を有するため、抗菌剤どして期待されるものであ
る。 特許出願人 萬有製薬株式会社 手続補正書（自発） １．事件の表示 昭和６０年特許願第２９３４６７号
２、発明の名称 ３、補正をする者 Ｓ、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄、及
び「発明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 別紙訂正明細書のとおり訂正明細
轡 １、発明の名称 新規セファロスポリン誘導体 ２、特許請求の範囲 （１）一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ル。 （２）一般式（ＩＩ［） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又゛はカルボキシル保護基、Ｒ４は水素原子又は
アミン保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱離基、ＹはＳ又
はＳＯを示す）で表される化合物又はその塩に、保護さ
れた置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応させて
、 一般式（ＩＦ） （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＹは前記の意味を有し、
Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基、
ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要す
れば還元及び／又は保護基を除去することを特徴とする （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルの製法。 （３）一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保￥！１基、
ＹはＳ又は５Ｏ１Ｑ′は保護された置換基を有してもよ
いピリジニオ基、Ｘθは陰イオンを示す）で表される化
合物又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素
原子又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミン保
護基を示す）で表されるカルボン酸又はその反応性誘導
体によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、Ｑ′及びｘＯは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要すれば還元
及び／又は保護基を除去することを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルの製法。 （４）一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルを有効成分として含有する抗菌剤。 （５）ＱのＭ換基として、アミン基、アセトアミド基、
カルボキシル基、カルバモイル基、スルホメチル基、ス
ルホエチル基およびシクロペンテノ基の群より選ばれる
置換基を少なくとち１ｆ［！ｉｔ有する特許請求の範囲
第１項記載の化合物。 （Ｇ） Ｒ’は水素原子、Ｑは１−ピリジニオ基である
特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （７） Ｒ＋は水素原子、Ｑは３−アミノ−１−ピリジ
ニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （８） Ｒ１は水素原子、Ｑは３−アセトアミド−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （９） Ｒ’は水素原子、Ｑは３−カルボキシ−１−ピ
リジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１０）Ｒ１は水素原子、Ｑは４−カルボキシ−１−ピ
リジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１１）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−カルバモイル−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （１２）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−スルホメチル−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （１３）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−（２−スルホエチル
）−１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載
の化合物。 （１・４）Ｒ１は水素原子、Ｑは２，３−シクロペンテ
ノ −１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 （１５）Ｉ’（１はアセデル基、Ｑは１−ピリジニオ基
である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、発明の詳細な説明 Ｌｌ直立皿旦史１ 本発明は新規なセファ０スポリン誘導体、その製法及び
該化合物を有効成分として含有する抗菌剤に関するもの
である。 従来技術 従来、セファロスポリン核の７位側鎖に２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル） −２−＠換オキシイミノ
アセトアミド基を、３位にアンモニオメチル基を合せ持
つ化合物は極めで多く合成され、それらの記載された公
開技術としては、例えば特開昭５４−１５４７８６号、
同５５− ５９１９６号、同５７．−１９２３９４号、
同５８−１７４３８７号、同５８−１９８４９０号、同
５９−２１９２９２号及び同６０−９７９８３号公報な
どが挙げられ、ダラム陽性菌及びシュードモナス エル
ギノーザ（Ｉ’ｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｌＪ（Ｊ
ｉｎＯ３ａ）を含むセファ０スポリン耐性のダラム陰性
菌に対しても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌ス
ペクトルを有することが示唆されている。 発明が解決しようとする問題点 β−ラクタム抗生物質は、細菌のみに選択ｍ性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。 しかしながら、近年、耐性のダラム陽性菌及び耐性のブ
ドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向に
あり、これらの菌に対する抗菌力の増強が望まれている
。 肌逆Ｊ」口紅り杢Ｊ」し欠玉退 本発明は優れた抗菌力を有する新規なセファロスポリン
誘導体を提供することを目的とし、３位に＠換基を有し
てもよいピリジニオ基を、７位に２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒドロキシベン
ジルオキシイミノ）アセ１〜アミド基もしくは２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジア
セトキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド基を有す
る新規なセファ０スポリン誘導体について鋭意研究した
結果、ダラム陰性菌及びグラム陽性菌に対して強い抗菌
力を右することを見出し本発明を完成した。 作 用 本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）０表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ル、その製法及び該化合物を有効成分として含有する抗
菌剤に関する。 次に本明細角に記載された各種記号、用語について説明
する。 一般式（Ｉ）の化合物の置換基Ｑの置換基としては、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アミン基、カルボキシ
ル基、カルバモイル基、アセチル基、低級アルコキシ基
、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、スルホ低級アルキル基、シ
クロペンテノ基等を挙げることができる。特に、水酸基
、アミノ基、カルボキシル デル基、メ１ヘキシ基、アセトアミド基、スルホエチル
基、スルホエチル基、シクロペンテノ基等が好ましい。 ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。又、低級アルキル基とは、炭
素数１〜５個の直鎖又は分岐した炭素鎖を示す。置換位
置は特に限定されないが、基Ｑの特に好ましい例として
は、１−ピリジニオ基、３−アミノ ー１−ピリジニオ
基、３−アセトアミド−１−ピリジニオ基、３−カルボ
キシ−１−ピリジニオ基、４−カルボキシ−１−ピリジ
ニオ基、４−カルバモイル−１−ピリジニオ基、４−ス
ルホメチル−１−ピリジニオ基、４−（２−スルホエチ
ル）−１−ピリジニオ基、又は、２．３−シクロペンテ
ノ −１−ピリジニオ基等が挙げられる。 又、一般にオキシイミノ基における配置はシン異性体及
びアンチ異性体が存在するが、本発明は、シン異性体及
びアンチ異性体の何れをも包含する。特にシン異性体が
優れた抗菌活性を有する。 本発明の化合物としては、例えば以下に示ず化合物が挙
げられる。 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミドＪ−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ−１−ピリジニオ）メチル
−３−セフ１ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３． ４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）ア
セ１−アミド］−３−（３−アセトアミド−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（
３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−カルボキシ−１−ピリジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミドｌ−３−（４−カルボキシ−１−ピリジニオ）メ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］
−３−（４−スルホメチル−１−ピリジニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２−（２−
アミノデアゾール−４−イル）−２−（３．４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３４４
−（２−スルホエチル）−１−ピリジニオ］メチルー３
ーセフェム−４−カルホキシレー１−７−［２−（２−
アミノデアゾール−４−イル）−２−（３．４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（
２．３−シクロペンテノ−１−ピリジニオ）メチル−３
−セフェム−４−カルボキシレーｈ一般式（Ｉ）の化合
物は常法により、その無毒性塩又は生理的に加水分解可
能な無毒性エステルとすることができる。 一般式（Ｉ）の化合物の無毒性塩としては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、例えばナトリウム、カリ、
ラム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム等の金
属塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力
イン等の有機アミン塩、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸
、過塩素酸等の無機酸塩、酢酸、乳酸、プロピオン酸、
マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸
等の有瀘酸塩、メタンスルホン酸、イセチオン酸、ロー
トルエンスルホン酸等のスルボン酸塩、グルタミン酸、
アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のアミノ酸塩等
が挙げられる。 又、一般式（Ｉ）の無毒性エステルとしては、セフェム
核３位のカルボキシル基における医薬上許容される慣用
的なものを意味し、例えばアセ１へキシメチル基、ピバ
ロイルオキシメチル基等のアルカノイルオキシメチル ニルオキシ）エチル基等のアルコキシカルボニルオキシ
アルキル基、フタリジル基、５−メチル−２−オキソ−
１．３−ジオキソ−ルー４−イルメチル基等の５−＠換
−２−オキソ ー１．３−ジオキソ−ルー４−イルメチ
ル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の製造方法について説明する。 一般式（Ｉ）の化合物は、以下に示り゛製造法Ａ．Ｂい
ずれの方法でも製造することができる。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又はカルボキシル保護基、Ｒ４は水素原子又はア
ミン保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱難基、ＹはＳ又は
Ｓ○を示す）で表される化合物又はその塩に、保護され
た置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応させて、 一般式（ＩＦ） （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＹは前記の意味を有し、
Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基、
ｘＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要す
れば還元及び／又は保護基を除去することにより、本発
明化合物（Ｉ）を製造することができる。 一般式（Ｉ［Ｉ）のＸは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲ
ン原子、又はアセトキシ基、トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ｐ−トル
エンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、特に臭素、
ヨウ素等のハロゲン原子及びアセトキシ基が好適である
。 本反応の３位置換反応に用いるピリジン誘導体としては
、ピリジン、３−アミノ−ピリジン、３−アセトアミド
ピリジン、３−カルボキシピリジン、４−カルボキシピ
リジン、４−カルバモイルピリジン４−スルホメチルピ
リジン、４−（２−スルホエチル）ピリジン、２．３−
シクロペンテノピリジン等が挙げられる。尚、これらの
アミン基、カルボキシル基、及びスルホ基は保護されて
いてもよい。 製造法Ｂ 一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピ
リジニア１基、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合
物又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素原
子又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミノ保護
基を示す）で表されるカルボン酸又はその反応性誘導体
によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、Ｑ−及びＸＯは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要すれば還元
及び／又は保護基を除去することにより、本発明化合物
（Ｉ）を製造することができる。 尚、前記一般式におけるカルボキシル基、アミノ基及び
水酸基の保護基としては、β−ラクタム合成の分野で通
常使用されている保護基を適宜選択して使用することが
できる。 カルボキシル基の保護基としては、［−ブチル基、２，
２．２−トリクロロエチル基、アセトキシエチル基、プ
ロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基
、１−アセトキシエチル基、１−プロピオニルオキシエ
チル基、１−＜エトキシカルボニルオキシ）エチル基、
フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシメチル基、３
，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベンジル基、
ベンズヒドリル基、ビス（４−メトキシフェニル）メチ
ル基、５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ル
ー４−イル−メチル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基等が挙げられ、特にベンズヒドリル
基、ドブチル基、シリル基等が好適である。 アミン基の保護基としては、トリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、１−リフルオロアセデル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル基、トリメチルシリル基、（−ブチル
ジメチルシリル基等が挙げられる。 水酸基の保護基としては、２−メトキシエトキシメチル
基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラヒ
ドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基、ｔ−
ブチル基、ベンジル基、４−二１へロベンジル基、アセ
チル基、２，２．２−１〜リクロロエトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、アセトナイド、トリ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げ
られる。 次に本発明化合物＜Ｉ）の！！！ｊ造法Ａ及び製造法Ｂ
を詳説する。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ）のＸがハロゲン原子である化合物とピ
リジン誘導体との反応は、塩化メチレン、クロロホルム
、エーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルボルムアミド
、ジメチルスルホキサイド等の有機溶媒中又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。又、本反応に用いるピ
リジン誘導体は、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸
塩、酢酸塩等の無機酸塩又は有機酸塩を用いてもよい。 この場合、反応は中和量のトリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−
メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に行う。又、本反
応に用いるピリジン誘導体はＮ、Ｏ−ビス（トリメチル
シリル）アセ［〜アミド等のシリル化剤でシリル化して
使用することもできる。 反応は一般式（［［）の化合物１モルに対して、ピリジ
ン誘導体を１〜２モル使用し、反応温度及び反応時間は
０〜４０℃、０．５〜５時間である。 又、一般式（Ｉ［［）のＸがアセトキシ基である化合物
とピリジン誘導体との反応は、水、リン酸緩衝液、アセ
トン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルボキサイド等の溶媒又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。反応は中性付近で行う
ことが好ましく、反応温度は室温から９０℃で、反応時
間は１〜１０時間である。又、本反応は、ヨウ化ナトリ
ウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシアン酸ナト
リウム、チオシアン酸カリウム等のチオシアン酸塩の存
在下で行うことにより促進される。 基ＹがＳＯであるアンモニオ化合物（ｎ）はジャーナル
オブ オーガニック ケミス１〜り一（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ ０ｒａａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ） ３
５巻、２４３０頁（１９７４年）等に記載の方法により
、スルホキサイド基を還元することができる。即ち基Ｙ
がＳＯであるアンモニオ化合物（Ｉ［）はアセトン溶媒
中、ヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウムの存在下、−
４０〜０℃で、アセチルクロライドを滴下し、１〜２時
間反応させることにより還元されることがその一例とし
て示すことができる。反応は基ＹがＳＯである化合物（
■）１モルに対して、ヨウ化物３．５〜１０モル及びア
セチルクロライド１．５〜５モル使用する。 更に、本発明化合物（Ｉ）は、要すれば基ＹがＳである
一般式（ＩＩ）の化合物から保ｉｌを除去することによ
り製造することができる。 保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、プロ
テクティブ グループス イン オーガニック シンセ
シス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎＯｒ
ｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈｅｓｉｓ） １９８１年などに
記載の常用の方法を適宜選択して行うことができる。例
えば、トリチル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニ
ル基、ベンズヒドリル基、（−ブチル基、２−メ１〜キ
シ工トキシメヂル基等の保護基の除去は塩酸、ギ酸、ト
リフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸等の無機酸又は有機酸等で出来、特にトリフル
オロ酢酸が好適である。 尚、酸としてトリフルオロ酢酸を使用する場合には、ア
ニソールを添加することにより反応は促進される。 又、反応は水、塩化メチレン、クロロボルム、塩化エチ
レン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒中、或いはこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。 反応温度及び反応時間は化合物（ｎ）及び本発明化合物
（Ｉ）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択し
、特に氷冷乃至は加温程度の緩和な条件で行うのが好ま
しい。 尚、製造法Ａの原料化合物（１）は以下のようにして製
造することができる。 基ＹがＳである一般式（Ｉ［［）の化合物は、ベンズヒ
ドリル １−アミノ −３−クロロメチル−３−セフェ
ム−４−ノＪルポキシレート、７−アミツセフアロスボ
ラン酸、又はそのエステルに一般式 （Ｖ）のカルボン
酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン化物、混
合酸無水物、活性エステル等）を反応させて製造するこ
とができる。ベンズヒドリル ７−アミノ −３−クロ
ロメチル−３−ｔ？フエムー４−カルボキシレートは、
例えば特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７
号公報記載の方法により製造することができる。 ＮＹがＳＯである一般式（Ｉ［）の化合物は、基ＹがＳ
である一般式（ＩＩＩ）の化合物を塩化メチレン、塩化
エチレン、クロロホルム等の反応に関与しない溶媒中、
氷冷下に等モルのｍ−クロロ過安息香酸で酸化して製造
することができる。 基Ｘがヨウ素原子である（ＩＩＩ）の化合物は、基Ｘが
塩素原子である一般式（Ｉ［［）の化合物をアセトン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、水冷又は室
温でヨウ化ナトリウム等のヨウ化物と反応さけて製造す
ることができ、Ｍｉ 阿［もしくは、単Ｎ１せずにその
まま次の反応に用いでもよい。 製造法Ｂ 一般式（ＩＩ）の化合物は一般式（Ｖ）の化合物を水、
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、
ベンゼン、酢酸［チル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ジメヂルスル小キケイド等の反応に悪影響を与えない
溶媒中、又はこれらの混合溶媒中で、一般式（ＩＶ）の
カルボン酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン
化物、混合酸無水物、活性エステル等）と反応させて製
造することができる。 反応は一般式（Ｖ）の化合物１モルに対し、一般式（Ｉ
Ｖ）の反応性誘導体１〜１．５モルを使用し、反応温度
は一４０〜４０℃である。 一般式＜ＩＶ）の反応性誘導体として、酸ハロゲン化物
を使用する場合、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホ
リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤
の存在下に行うのが好ましい。 酸ハロゲン化物形成反応は、カルボン酸（ＩＶ）１モル
に対し、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩
化リン、オキシ塩化リン、オキザリルクロライド、ホス
ゲン等のハロゲン化剤を１〜１０モル好ましくは１〜１
．５モル使用し、反応温度は一４０〜１００℃、好まし
くは一２０〜２０℃で、反応時間は数時間で完結する。 混合酸無水物形成反応は、カルボン酸（ＩＶ）１モルに
対し、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤１〜１．２
モルの存在下、メチルクロロポルメート、エチルクロロ
ポルメート、イソブチルクＥ１ロホルメート等のクロル
炭酸エステル１〜１．２モル使用し、反応温度は一４０
〜２０℃、好ましくは一２０〜５°Ｃで、反応時間は１
０〜６０分間である。 活性エステル形成反応は、カルボン酸（［Ｖ）１モルに
対し、Ｎ−ヒドロキシ化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシ
コハク酸イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等
）又はフ丁ノール化合物（例えば、４−ニトロフェノー
ル、２．４−ジニトロフェノール、２．４．５−トリク
ロロフェノール等）１〜１．２モル及びＮ、Ｎ−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドを１〜１．４モル使用し、反
応温度は一１０〜５０℃で、反応時間は３０〜１２０分
間である。 又、アシル化反応において、一般式（ＩＬ）のカルボン
酸を遊離酸の形で使用する場合、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、オキシ塩
化リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド・オキシ塩化リ
ン付加物等の縮合剤の存在下でも、一般式（ＩＩ）の化
合物を製造することができる。一般式（ＩＩ）から本発
明化合物（Ｉ）の製造は前記製造法Ａに同じである。 尚、製造法Ｂの原料化合物（Ｖ）は、フラン（Ｆ ｌ
ｙｎｎ ）著のセファロスポリン アンド ペニシリン
、アカデミツク プレス（Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｎ
ｓ ａｎｄ Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓ、Ａｃａｄｅｍｉ
ｃ ＰＲＥＳＳ） １５１〜１７１頁、１９７２年等に
記載の方法により製造づることがぐきる。例えば、１−
アシルアミノ −３−へロメチルー３−セフェムー４−
カルボキシート誘導体（特開昭５８−７２５９０号、同
５８−１５４５８８号公報等）又は７−アシルアミノセ
ファロスポランｌ Ｌｉ導体に、ピリジン誘導体を反応
させて、 一般式 （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピ
リジニオ基、ＸＯは陰イオン、ａｃｙ ｌ −はアシル
基を示す）で表される化合物とし、次いで脱アシル化す
ることにより製造することができる。 脱アシル化反応は既に当分野では公知であり、例えば、
五塩化リン等によるイミノクロル化、次いでメタノール
等によるイミノエーテル化及び加水分解からなる方法又
はアシラーゼによる方法笠がある。 アシル基としては、例えばフェニルアセチル基、フェノ
キシアセチル基、アミノアジピル基笠が挙げられる。 次に本発明化合物の種々の細菌に対する試験管内抗菌活
性を下記の寒天平板希釈法により測定した。 ミコーラー ピン１〜ン ブロス（Ｍｕｅｌｌｃｒ Ｈ
ｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で一夜培養した各試験菌株
の一白金耳（接種菌量： １０６ＣＦＵ／戒）をミュー
ラー ヒントン アガー（）Ｉｕｅｌｌｅｒ １ｌｉｎ
ｔｏｎ ａｏａｒ ）に接種した。この培地には抗菌剤
が各濃度で含まれており、３７℃で１６時間培養した後
、最小光育阻止濃度（［Ｃ：埒／Ｉｎｌ＞を測定した。 比較化合物としてセフｔタキシム（Ｃｅｆｏｔａｘｉｍ
ｅ）を用いた。その結果を次表に示す。 本発明化合物は、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラ
ム陰性菌に対して強い抗菌力を示した。 従って、一般式（Ｉ）の化合物、その無ｍ性塩及び生理
的に加水分解可能な無毒性エステルは、抗菌剤とするこ
とが可能である。 本発明化合物は当分野で公知の固体又は液体の賦形剤の
担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外部投与に適
した医薬製剤の形で使用づることができる。医薬製剤と
しては、注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤、カ
プセル剤、粒剤等の固形剤及び軟膏、半開等の外用剤等
が挙げられる。又、これらの製剤には必要に応じて助剤
、安定剤、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面′活性剤
等の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。 添加剤としては注射用蒸溜水、リンゲル液、グルコース
、蔗糖シロップ、ゼラチン、食用油、カッＪオ脂、エチ
レングリコール、蔗糖、とうもろこし澱粉、ステアリン
酸マグネシウム、タルク等が挙げられる。 □ 更には、本発明の化合物は抗菌剤として、ヒトの細菌感
染症の治療に使用することがＣきる。、投与量は患者の
年齢、性別等の状態によって異なるが、通常、１日当り
１〜１００ｍ’ｊ／に９の範囲で使用され、１回当り５
〜３０ｍｇ／Ｋｇで２〜４回に分けて投与するのが好ま
しい。 次に実施例及び参考例を挙げて、本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ ７−ｆ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アレ１
ヘアミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）の製造（＾
） ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）１０ｇ（１
，４ミリモル）及びベンズヒドリル ７−アミノ −３
−クロロメチル−３−セフェム−４−カルホキシレー１
〜０．５６ ｇ（１，４ミリモル）を塩化メチレン２０
−に溶解し、０℃でＮ、Ｎ−ジメチルアニリン０．７７
ｒｄ、（６，３ミリモル）、次にオキシ塩化リン０１
２ｄ（１，７ミリモル）を滴下後、３０分間撹拌する。 反応溶液を水、１Ｎ−塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩
水で順次洗浄する。水層を更に酢酸二「チルで抽出し、
右１Ｍ層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下に
溶媒を留去し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル７−
（２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメ１へキシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−１−ジチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）を得、精製す
ることなく次の反応に用いる。 （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物をアセトン２０ｄに溶か
し、０℃でヨウ化ナトリウムｏ、４９ （２，８ミリモ
ル）を加え、室温で３０分間撹拌する。反応液を１０％
チオ硫酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで２回
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水６Ｍ酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラ１１りロマトグラフィーに付し、目的物を含
む溶出画分（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）を濃縮し
、ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−［３
，４−ジ（２−メトキシエトキシン１−キシ）ベンジル
オキシイミノｌ−２−（２−１−ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１〜アミド）−３−セフェム−４−
カルボキシレート（シン異性体）１．０９ｇ（収率６５
％）を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３３９０．１７８５．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３．２０（３Ｈ，Ｓ）、３．２２（３＋１．Ｓ）、３．
４５（６Ｈ，ｍ）、 ３．７５（４１１，ｍ）、４゜３
５（２１１，ｂｒｓ）、５．０５（２１１，ｂｒｓ）、
５．２４（４１１，Ｓ）、 ５．２４（１１１，ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．７８（１１１，ｍ）。 ６、７５（１１１，Ｓ）、 ６．９６（１１１，Ｓ）、
７．０〜７．８（２８１１゜ｍ）、 ８．８０（１１
１，ｂｒｓ、 ＴｒＮＨ−）、 ９．６３（１１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物５０ｈ＋ｙ （０，４１
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５７！に溶
かし、ピリジン０．０６ ｄ （０，フロミリモル）を
加え、室温で１時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、
１ｑられる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール・塩
化メチレン）を濃縮しで、ベンズヒドリル ７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシニ「トキシン１〜キシ）ベ
ンジルオキシイミノ］−２−（２−トリデルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド）−３−（１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート〜
・ヨウ化物（シン異性体） ４３０ｍ’ｊ （収率８
０％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ’） δ ：３．２０（
３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３．５０（６
１１，ｍ）、３．７５（２１１，ｍｌ、５．０３（２１
１，ｂｒｓ）、５．２２（／ＩＨ，Ｓ）、５．２２（１
１Ｉ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．５９（２１１，ｂｒｓ
）、５．９０（１１Ｉ、ｍ）。 ６、７２（１１１，ｓ）、 ６．９２（ｉｌｌ、 ｓ）
、 ７．０〜７．７（２８１１゜ｍ）、８．１８（２１
１，ｔ、Ｊ＝６１１Ｚ）、８．６２（１１１，ｍ）、８
．９６（２１１，ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８３（
ＩＨ，ｂｒｓ）、 ９．６８（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、Ｊ＝
８１１ｚ） （０）上記（Ｃ）で得た化合物０．４３９ （０，３３
ミリモル）を塩化メチレン２．０蔵に溶かし、アニソー
ル０．８ｄ、次いで０℃で１−リフルオロ酢酸２．０−
を加え、室温にて１時間撹拌する。溶媒を減圧下に留去
し、冷ＮＪ下にジエチルエーテルを加え沈澱物を濾取す
る。この沈澱物に水を加え、不溶物を濾別後、ＯＤＳカ
ラムクロア１〜グラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ
社）に付し、目的物を含む溶出画分（３０％メタノール
・水）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物４１ｍｇ（収率
２１％）を得る。 ＨＰ １４０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３４００．１７７５．１
６２ＯＮＭＲ（Ｄ）ＩｓＯ−ｄｓ ） δ：３．４
５（２１１，ｍ）、４．９３（２Ｈ，ｂｒｓ）、５．２
０（ｌｉｔ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．５６（２ｔｌ
、 ｂｒｓ）、 ６．６４（１１１，ｓ）、 ６．７２
（１１１゜ｓ）、６．７３（２１１，ｍ）、８．２０（
２１１，ｂｒｔ、Ｊ＝６１１ｚ）、８．６６（１Ｎ、
ｍ）、 ９．０４（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）
、 ７．２９（２１１，ｂｒｓ）、９．５８（ｉｌｌ、
ｍ） 実施例２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルポキシレー１−（シン異性体）の製造（Ａ
） ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ
）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
酢酸（シン異性体） １．２！７ （１，８７ミリモ
ル）及びベンズヒドリル ７−アミノ −３−クロロメ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレート０．７７
ｆｆ （１，８７ミリモル）を塩化メチレン２ｈｔｆ２
に溶ｈＸシ、室温にてＮ、Ｎ−ジメチルアニリン１．１
ｄ （８，４ミリモル）、次にオキシ塩化リン０．２１
ｄ （２，２ミリモル）を滴下し３０分間撹拌する。 反応溶液を水、１ト塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水
で順次洗浄し、水層を更に各々酢酸エチルで抽出する。 有機層を合せて、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３〜１：１）
で精製し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル−７−１
’２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（
シン異性体） ０．２４ ｇ及びその脱アセチル体を
得る。脱アセデル体をピリジン２ｍｌ及び無水酢酸２厩
で処理後、前記同様にシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、ベンズヒドリル３−クロロメチル−７−［
２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセ
トアミド］−３−ｔ？フエムー４−カルボキシレート（
シン異性体） ０．６４９を得る（計０．８８ ｃｉ
：収率４５％）。 ＮＭＩｔ （Ｄ）１３０−ｄｓ ） δ ：２．
２４（３１１，ｓ）、２．２６（３１１，ｓ）、３．ｆ
３０（２ｆｔ、ｍ）、４．４１（２１１，ｂｒｓ＞、
５．１０（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２０（７Ｈ，ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、５．８２（１１１，ｍ）、−６，７
１（１１１，ｓ）、６．９３（Ｉｌｌ、ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．８２（Ｉｔｌ、
ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）。 ９、７２（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝８ｔｌｚ）（８）上
記（八）で１７だ化合物０．８８ ｇ（０，８５ミリモ
ル）をアセｉ〜ン１８成に溶かし、Ｏ′Ｃでヨウ化ナト
リウム０．２５ ’；Ｊ （１，７ミリモル）を加え、
Ｖ温にて３０分間撹拌する。反応液を１０％チオ硫酸ナ
トリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで３回抽出し、有
機層を飽和食塩水で洗浄する。有１Ｍ層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して、ベンズヒド
リル ３−ヨードメチル−７−ｒ２−（３，４−ジアセ
トキシベンジルオキシイミノ）−２−（２−ドリチルア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−ｔ？
フコムー４−カルボキシル−１へ（シン異性体） ０
．８８ ｇ（収率９２％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−６６） δ ： ２、２８（６１１，ｓ）、 ３．７（２１１，ｍ）、
４．３３（２１１，ｍｌ、 ５．１３（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．２５（１１１，ｄ、 Ｊ＝５１１Ｚ）、 ５
．７６（１１１，ｍｌ。 ６、７６（ＩＩＩ、 ｓ）、６．９６（１１Ｉ、 ｓ）
、 ７．０〜７．９（２８１１゜ｍ）、８．８３（ＩＩ
Ｉ、ｂｒｓ、丁ｒＮＨ−）、９．７（０１，ｂｒｄ、Ｊ
＝８（Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８８ ！Ｊ（０
，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｄ
に溶かし、ピリジン０．２ｍ （２，５ミリモル）を加
え、室温にて４時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ１−グラフィー
で精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール・塩
化メチレン）を濃縮しＣ、ベンズヒドリル ７−［２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−２−
（２−−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体） ５０ｈ＋ｙ （収率４９％）の泡状物を得る。 Ｎ旧 （Ｄ）ＩｓＯ−ｄ６ ） δ ：２．２６（
３１１，ｓ）、２．３０（３１！、ｓ）、３．５２（２
１１，ｍ）、５．２２（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２９
（ｉｌｌ、 ｄ、 、Ｉ’５１１Ｚ）、 ５．５８（２
ｔ（、ｂｒｓ）、５．９２（１１１，ｍ）、６．７６（
ｉｌｌ、ｓ）、６．９３（１１１，ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．２０（２１１，
ｂｒｄ、Ｊ＝６Ｈ２）。 ８．６８（１１１，ｍ）、８．９６（２１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝Ｇｔｌｚ）、８．９０（ｉｌｌ。 ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）、 ９．７４（１１１，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝８１１ｚ、−ＣＯＮＩＩ−）（ＤＪ上記（Ｃ）
で１９だ化合物０．５４７ （０，４１ミリモル）をｊ
ｎ化メチレン２．５ｄに溶かし、アニソール０．５ｔｔ
ｄｌを加え、０℃に冷却し、１−リフルオＩコ酢酸２．
５ｍｌを加える。室温にて１時間攬拝し、溶媒を減圧下
に留去して得られる残渣にＯ′Ｇにでジエチルエーテル
を加え生成する沈澱物を濾取する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、００５カラム
クロマトグラフイー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケム＝１社）
に（＝Ｊし、目的物を含む溶出画分く３０％メタノール
・水）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物１０７ｍｇ（収
率３９％）を得る。 ）ＩＰ １６０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃｒｉ ： ３４２０． １７６
５． １６６５． １６２ＯＮＨＲ（Ｄ）１３０−ｄ６
）δ： ２．２６（６１１，Ｓ）、 ３．４２（２Ｈ，ｂｒｓ）
、 ５．１０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．２０（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．３５（１
１，ｍ）、５．６５（１１１，ｍ）、 ５．７０（ＩＨ
，Ｓ）、 ６．６９（ｌｔｌ、 ｓ）、 ７．２０（３
Ｈ，ｍ）。 ８、１３（２１１，ｂｒｃｊ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８
．５８（１１１，ｍ）、 ９．４８（２１１゜ｂｒｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ） 実施例３ ７−ｒ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ −１−ピリジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミンデアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｚ （０，８２ミリモル）をＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｄに溶かし、３−トリチ
ルアミノピリジンｏ、ｉｇ（０，８２ミリモル）を加え
、室温にて２時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物を含む溶出画分（２％メタノール・塩化メ
チレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３
，４−ジ２−（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミンデアゾー
ル−４−イル）アセ１〜アミド）−３−（３−トリチル
アミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４
−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体） １．
３５９ （収率１００％）を泡状物としで得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３Ｎ、ｓ）、３．
５２（６ｆｌ、ｍ）、３．８０（４１１，ｍ）、５．２
０（２１１，ｍ）、５．３６（４１１，ｂｒｓ）、５．
４０（２ｔｌ、ｍ）、５．９５（１１１，ｍ）、６．７
８（ｉｌｌ、ｓ）、６．８８（１ｔｌ。 ｓ）、７．０〜７．７（２８１，ｍ）、８．４６（１ｔ
（、ｂｒｓ）。 ８、８２（ｉｌｌ、 ｂｒｓ）、 ９．６２（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）（Ｂ）上記（＾）で得た化合
物１．３５ ｙ （０，８７ミリモル）を塩化メチレン
５．０ｄに溶かし、アニソール１．０ｄを加え、０℃に
冷却しトリフルオロ酢酸５． （７を加える。室温にて
１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去しＣ得られる残渣に
０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱物を辺数
する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィ＝（ＬＣ−３Ｏｒｂ ：ケムコ礼）に
付し、目的物を含む溶出画分（２０％メタノール・水）
を濃縮、凍結乾燥し、標記化合物を含む△２ ・△”
（３：２）の混合物４５ｍ９Ｉを得る。 ＨＩ’ １７０℃（分解） Ｉｎ （ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３３４０．３２００．
１７６０．１６２ＯＮ）ＩＲ（Ｄ）４３０−ｄ６ ）δ
： ３．５０（２１１，ｍ）、４．９６（２１１，ｂｒｓ）
、５．０６（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．２〜５．
４（２１１，ｍ）、５．６８（ＩＮ、ｍ）、６．７１（
ＩＩＩ、 ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍｌ、 ７．２
１（２１１，ｂｒｓ、−Ｎｌ１２）。 ７．６４（３１１，ｍ）、 ８．２２（１１１，ｂｒｓ
）、 ９．５０（１１１，ｍ、 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例４ ３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）メチル−７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（
３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトア
ミド１−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ１アセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボキシレート４．０９ （３，３ミリモル）を塩化
メチレン８０−に溶かし、０℃に冷却する。次にｍ−ク
ロロ過安＠香酸（８０％含有） ０．７０９（３，３
ミリモル）を加え、１５分間撹拌する。反応溶液に１０
％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、次に
１０％重曹水で洗浄する。水層を塩化メチレンで抽出し
、先の有感層と合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで
洗浄してベンズヒドリル３−ヨードメチル−７−（２７
［３，４−ジ（２−メ１〜キシ二ｒ１〜キシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ］−２−（２−１−リチルアミノ
チアゾールー４−イル）アセ１〜アミド）−３−セフ１
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性
体） ３．９５ ｇ（収率９７％）を得る。 ＩＲ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３３７０．１７９８．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．４６（６１１，ｍ）、３．７６（４Ｈ，ｍ）、４．４
２（２Ｈ，ｍ）、５．０５（３Ｈ，ｍ）、５．２３（４
Ｎ。 ｂｒｓ）、５．８７（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝５及び８１１
ｚ）、 ６．８０（ＩＩＩ、ｓ）、 ７．０〜７．８（
２８１１，ｍ）、８．′７３（１１１Ｊｒｓ）。 ８、９８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（８）
上記（＾）で得た化合物１．Ｏび（０，８１ミリモル）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｒｄ！に溶かし、
３−トリチルアミノピリジンｏ、５ｇ（１，５ミリモル
）を加え、空温にて１時間放置する。減圧下に溶媒を留
去し、得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール
・塩化メチレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ１−２＝（２−１〜リチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセ１〜アミド］−３−（３−ト
リチルアミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド・ヨウ化物
（シン異性体）１．１７４７（収率９３％）を泡状物と
しで得る。 ｔ４ＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３、１９（３１１，ｓ）、 ３．２−１ （３１１，ｓ
）、 ３．４０（２１１，ｂｒｓ）。 ３．４４（４１１，ｍ）、３．７２（４１１，ｍ）、５
．０８（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ−ｓｌｌｚ）、 ５．２
０（４１１，Ｓ）、 ５．２３（２ｔｌ。 ｍ）、 ６．００（ＩＩＩ、 ｍ）、 ６．８１ （１
１１，ｓ）、 ６．８８（ｉｌｌ、 ｓ）。 ７．０〜７．８（３２Ｈ，ｍ）、８．４０（ＩＨ，ｂｒ
ｓ、丁ｒＮＨ−）。 ８、７３（ＩＩＩ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩＩ−）、 ９
．１６（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ。 −ＣＯＮｉ−） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物１．２１グ（０，８１ミ
リモル）をアセトン２５ｄに溶かし、ヨウ化カリウｌｘ
Ｏ，５４９（３，２ミリモル）を加え、次いで０℃で
アセチルクロライド０．１２ ｄ （１，６ミリモル）
を滴下後、１時間撹拌する。反応溶液を１０％メタ重亜
流酸ソーダ水に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す］・リウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去する。残渣を再び同様の反応及
び操作を繰り返し、ベンズヒドリル ７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミノデアゾール−４
−イル）アセ１−アミド）−３−［３−（Ｎ−１−リチ
ル）アセトアミド−１−ピリジニオ］メチルー３−セフ
ェム−４−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体＞
１．５６ ｇを泡状物として１！？、精製すること
なく次の反応に用いる。 （Ｄ）上記（Ｃ）で得た化合物１．２ｇ（０，７５ミリ
モル）を塩化メチレン５．０Ｉｎ１１．：溶かし、アニ
ソール１．Ｏｄを加え、０℃に冷却下しトリフルオロ酢
酸５．ＯＩｄを加える。゛室温にて１時１！！撹拌し、
溶媒を減圧下に留去して得られる残渣に０℃にてジエヂ
ルエーテルを加え生成する沈澱物を濾取する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィー（ＬＣ−３Ｏｒｂ 、：ケムコ社）
に付し、目的物を含む溶出画分（３０％メタノール・水
）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物５５ｍｇ（収率１２
％）を得る。ＨＰ １５５℃（分解）ｒＲ（にａｒ
）ｃｉＡ ： ３３３０．．１７６８．１６６２．１６
０８Ｎ）Ｉｆｆ （ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ：
２、０９（３１１，ｓ）、 ３．６０（２Ｈ，ｍ）、
４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．４０（１
１１，ｍ）、５．６０（１Ｎ、ｍ）、５．７２（ｌｔｌ
、ｍ）、６．６０（ＩＨ，ｓ）、６．６２（１１１，ｓ
）。 ６．６９（２１１，ｍ）、７．１６（２１１，ｂｒｓ、
−Ｎｆ１２）。 ８．０２（ｉｌｌ、ｍ）、８．５５（ＩＩＩ、ｍ）、８
．９２（Ｉｆｆ、ｍ）。 ９、４８（１１１，ｂｒｓ）、 ９．５０（１１１，ｍ
、 −ＣＯＮｔｌ−）実施例５ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，Ｉｔ−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（３−ノノルポキシレート−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
ナトリ１クムＪｐ （シン異性体）の製造（Ａ）ベンズ
ヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−１３，４−ジ
（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト １．０ｇ（０，８２ミリモル）と３−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルピリジン０．２５ ｑ＜ ０．８７
ミリモル）から、実施例３（八）と同様の方法によりベ
ンズヒドリル ３−（３−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル−１−ピリジニオ）メチル−７−（２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−［３，４−ジ
（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ１アセトアミド）−３−セフェ・ムー４−カルボキシ
レート・ヨウ化物（シン異性体） ０．７８ｇ（収率
６３％）を泡状物として得る。 Ｎｔ（Ｉｔ （Ｄ）１３０−ｄ６）δ：３．２２（６
１１，ｓ）、３．４０（ｆ３１１．ｍ）、３．７２（４
Ｈ，ｍ）、５．０２（３１１，ｍ）、５．２２ （４１
１，ｂｒｓ）、５．７４（２１１，ｍ）、５４）０（Ｉ
ｌｌ、ｍ）、６．７３（ＩＮ、ｓ）、７．００（１１１
，ｓ）、 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．３
０（１１１，ｍ）、 ８．８０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ９
．１８（ＩＩＩ、Ｉｌｌ、９．（３２（ｉｌｌ、ｂｒｓ
）（Ｂ）上記（八）でキ程だ化合物０．７８ ｑ （０
，５２ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により
標記化合物１０４ｍｙ（収率３２％）を得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） ｒＲ（ＫＢｒ）ｃＩｌｌ： ３４００． １７８８．
１６４０． １６１ＯＮ１４ｆｔ （叶５ｏ−ｄ５
）δ：３、４０（２１１，ｂｒｓ）、 ４．８８（２
ｔｌ、 ｂｒｓ）、 ５．０３（１Ｈ，ｄ。 Ｊ＝４１１ｚ）、 ５．２０（ＩＨ，ｍ）、 ５．６２
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４及び８ｔｌｚ）、 ５．７０（
ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．５８（ＩＨ，ｓ）、 ６．６６
（１８，ｓ）。 θ、７２（１）ｆ、ｍ）、 ７．１８（２１１，ｂｒｓ
）、８．０４（１１１，ｄｄ、Ｊ＝６及び引１ｚ）、
８．７２（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２
８（ｉｌｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．６０（１１１，ｍ）実施
例６ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルボキシレート−１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・モ
ノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７、−（２
−［３，４−ジ（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルホキシレー１〜１．０ｓ （０，８２ミリモル）と
４−ベンズヒドリルオキシカルボニルピリジン （ ０．８０ミリモル）から実施例３（Ａ）と同様の方
法によりベンズヒドリル ３−（４−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−１−ピリジニオ）−７−（２−（３．
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオ
キシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート・ヨウ化物（シン異性体） ６９５Ｒ＋ｇ
（収率５６％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ （ＯＨ３０−６６ ）δ： ３、２２（３ｔｌ，ｓ）、３、２４（３日，ｓ）、３．
４５（６１１，ｍ）、３．７２（４１１，ｍ）、５．０
３（２１１， ｂｒｓ）、５．２０（４１１，ｂｒｓ）
、５．２（）（ＩＨ，ｄ，Ｊ−５Ｈｚ）、５．６９（２
Ｈ，ｂｒｓ）、５．８８（１ｔｌ，ｍ）。 ６、７３（１１１，ｓ）、６．９１（１ｔｌ，ｓ）、７
．０ 〜７．８（２８１１，ｍ）、 ａ． ７０（２Ｈ
， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ９． １８（２１１，
ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、８．８０（１１１，ｂｒ
ｓ，ＴｒＮｌｌ−）、９．６４（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ， −ＣＯＮｔ（−） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０．４３ ｙ （ ０．
３３ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標
記化合物４１ｍｙ（収率２２％）を得る。 ＨＰ １６５℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）ＣＩＩｔ： ３４００， １７７０．
１６２ＯＮ）Ｉｎ （Ｄ）１３０−６６ ）δ：３
、 ６８（２Ｈ， ｍ）、 ４． ９０（２１１， ｂ
ｒｓ）、 ５． ０４（ＩＨ， ｄ， Ｊ＝６１１ｚ）
、５．２２（ｉｌｌ， ｍ）、 ５．６０（１１１，
ｍ）、 ５． ７５（１１１， ｍ）。 ６、 ６０（ＩＨ， ｓ）、 ６． ６８（１１１，
ｓ）、 ６． ７３（２１１， ｍ）。 ７、１８（２１１，ｂｒｓ，−Ｎｌ１２）、 ８。２０
（２１１， ｄ， Ｊ＝６ｔｌｚ）。 ９、２８（２＋１，ｄ，Ｊ＝６１１２）。 ９、 ５４ （１１１ 、 ｂｒｄ 、 Ｊ＝８１１ｚ
， −ＣＯＮＩＩ− ）実施例７ ７−ｒ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフＴムー４ーカルボキシレー］・（シン
異性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨートメデル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ１−２−（２− トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルホキシレーｔ− １．０ｇ（ ０．８２ミリモル）
と４−カルバモイルピリジン０．１０ ９ （ ０．８
２ミリモル）から実施例３（八）と同様の方法によりベ
ンズヒドリル ３−（４−カルバモイル−１−ピリジニ
オ）メチル−７−（２−［３．４−ジ（２−メトキシエ
トキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
）−３−ｔフエムー４−カルボキシレート・ヨウ化物（
シン異性体）０、７０ ｇ（収率６４％）を泡状物とし
て得る。 ＮＨＲ （ＤＨＳＯ−６６）δ： ３、２０（３１１，ｓ）、３．２２（３Ｎ，ｓ）、３．
３８（２Ｎ， ｓ）、３． ４８（４１１， ｍ）、
３． ７６（４１１， ｍ）、 ５． ０３（２１１，
ｂｒｓ）、 ５． ２２（４１１， ｂｒｓ）、 ５
． ３０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．
０８（２Ｈ， ｍ）、５．９０（１１１，ｄｄ，Ｊ＝
６及び８１１ｚ）、６．７４（１ｔｌ，ｓ）。 ６、９２（ＩＩＩ，ｓ）、７．０ 〜７．７（２８ｔｌ
，ｍ）、７．８０（１１１。 ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ８． ４５（ｉｌｌ，
ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ８． ６８（ＩＩＩ。 ｂｒｓ， ＴｒＮｆｌ−）、 ８． ７８（ＩＨ， ｂ
ｒｄ， Ｊ＝６１１Ｚ，−ＣＯＮＨ−）。 ９、１２（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、９．６８
（１ｔｌ，ｂｒｄ，−ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（Ａ）
で得た化合物０．７０ ｇ（ ０．５２ミリモル）を実
施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化合物８４■（収
率２６％）を得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）Ｃｆｆｌ： ３３９０．１７７９．１
６８０ＨＨＲ（Ｄ）１３０−ｄ６）δ： ３、５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．０４（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５
．２０（ＩＩＩ、 ｍ）、 ５．６５（ＩＨ，ｍ）、
５．７５（ＩＨ，ｍ）。 ６、６６（１１１，ｓ）、 ６．６８（ＩＩＩ、 ｓ）
、 ６．７０（２１１，ｍ）。 ７．１３（２１１，ｂｒｓ、−Ｎ１１２）、８．４５（
２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、５８（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ９．４
９（１１１，ｍ、 −ＣＯＮＩＩ−）実施例８ ７−ｒ２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−＋４−スルホネートメチル−１−ピリジ
ニＡ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレーＩ−
・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１−アミド）−３−セフェム−４−
カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−ピリジルメタンスルホン酸ナトリウム０．３１ ｑ
（１，０４ミリモル）から実施例３（Ａ）と同様の方法
によりベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２−
メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド）−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
異性体）７１０ｍｇ（収率６８％）を泡状物として１り
る。 ＮＨＲ （叶Ｓｏ−ｄ６）δ： ３、２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．５２（６１１，ｍ）、３．７６（４１１， ｍ）、
４． １２ （２１１， ｂｒｓ）、 ｓ． ０３（３
Ｈ， ｍ）、 ５． ２２（４１１，ｂｒｓ）、５．３
〜５．６（２１１，ｍ）、５．９２（１１１，ｍ）。 ６、７２（１１１，ｓ）、６．９３（ｉｌｌ，ｓ）、７
．０ 〜７．７（２８ｔｌ，ｍ）、 ７． ９８（１１
１， ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ８． ０６（ｉｌ
ｌ， ｂｒｄ， Ｊ＝６ｔｌｚ）、 ８． ７８（２Ｈ
， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ） 、 ８．８５（ＩＩＩ，
ｂｒｓ。 ＴｒＮＨ−）、 ９． ７０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ
＝８ｔｌｚ， −ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（八）で得
た化合物０．７１ ｇ（ ０．５６ミリモル）を実施例
３（Ｂ）と同様の方法により標配化合物を含む△ ・△
（３：２）の混合物２１５ｍｇ（収率５８％）を得る
。 ＋（Ｐ １８０℃ （分解） ＩＩＩ （ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００， １７６３
． １８３８． １６１ＯＮＯＲ （ ０８３０−ｄ
６）δ： ３、ｆ３０（２１１，ｍ）、４．１２（２１１，ｂｒｓ
）、４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝５ｔｌｚ）、５．２ 〜５
．７（２ｔｌｍ）。 ５、 ６９（１１Ｉ， ｍ）、 ６． ６６（ＩＨ，
ｓ）、 ６． ７２（３１１， ｍ）、 ７． １６（
２１１，ｂｒｓ，−Ｎ１１２）、８．００（２１１，ｂ
ｒｄ，Ｊ＝６１１Ｚ）。 ８、９２（２１１，ｂｒｄ，Ｊ＝Ｇ１１ｚ）、９．２２
（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、 ５０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ＝６１１Ｚ， −
ＣＯＮＨ−）実施例９ ７−１２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３． ４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）７
０ドアミド］−３−［４−＋２−スルホネートコニチル
）−１−ピリジニ第１メチルー３ーセフェム−４−カル
ボキシレート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造
（Ａ．）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２
−〔３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノ］−２−（２− トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４
−カルボキシレート１．０ｇ（ ０．８２ミリモル）と
テトラブチルアンモニウム ２−（４−ピリジル）エタ
ンスルホン酸塩０、３５ ｇ（ ０．８２ミリモル）か
ら実施例３（八）と同様の方法によりベンズヒドリル
７−（２−（３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキ
シ）ベンジルオキシイミノ１−２−（２− トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−［４
−（２−スルホネートエチル）−１−ビリジニ第１メチ
ルー３ーセフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）２９３ｍｙ（収率２８％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ （ ＤＨＳＯ−ｄ６）δ： ２、８６（２１１， ｍ）、 ３．２０（３１１， ｓ
）、 ３．２０（２Ｈ，ｍ）、 ３．２３（３１１，ｓ
）、３．５６（６１１，ｍ）、３．７５（４１１，ｍ）
、５．０５（２１１。 ｂｒｓ）、 ５．２６（１１， ｄ，Ｊ＝５１１ｚ）、
５．２６（４１１， ｓ）、 ５．５５（２ｔｌ，
ｂｒｓ）、 ５． ８８（１１１， ｍ，−ＣＯＮＨ−
）、 ６． ７８（１１１， ｓ）。 ６、８３（ＩＨ，Ｓ）、７．Ｑ〜７．８（２８１（、ｍ
）、 ７．９５（２＋１。 ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、８．７０（ｌｌｔ，ｂｒｓ，
ＴｒＮＩ！−）、８．７８（１１１。 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．６５（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０．２９ ｑ
（０，２３ミリモル）を実施例３（８）と同様の方法
により標記化合物を含むΔ２・△３ （１：１）の混合
物７２ｍｙ （収Ｘ？４６％）を得る。 ）ＩＰ １７０℃ （分解） １１（（にＢｒ）ｃｆｆｌ ： ３４１０． １７６
０． １６３５． １６２ＯＮＭＲ（ＤＨ３Ｏ−６６）
δ ： ３．００（２１１，ｍ）、 ３．２０（２１１，ｍ）、
３．６（２１，ｍ）、 ４．９６（２１１，ｂｒｓ）、
５．０２（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜ｓ、
５（２１１，ｍ）、５．８０（１１１，ｍ）、６．６７
（１１１，ｓ）、６．７５（３１１゜ｍ）、７．１７（
２１１，、ｂｒｓ、−ＮＩＩ２ ）、８．０６（２１
１，ｂｒｄ、Ｊ−６１１ｚ）、 ８．８８（１１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２０（ＩＩＩ、 ｂｒ
ｄ。 Ｊ＝６Ｈ２）、 ９．７８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝
６Ｈｚ、 −ｃｏＮ＋＋−）実施例１０ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネートエチル）−１
−ピリジニ第１メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（＾）
ベンズヒドリル ３−ヨートメデル−７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−＜２− トリチルアミンチアゾール−
４−イル）アセ］・アミド）−３−セフ１ムー４−力ル
ポキシレート １−オキサイド１．２Ｕ （０，９７ミ
リモル）と２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸カリ
ウム０．４２ ｇ （１，８７ミリモル）から実施例４
ＣＢ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−
１３゜４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−［４−（２−スル
ホネートエチル）−１−ピリジニオ］−メチル−３−セ
フェム−４−力ルポキシレート １−オキサイド（シン
異性体〉 ７１０■（収率５６％）を泡状物として得る
。 ＮＭＲ（ＯＨ３０−ｄ６）δ： ２、９０（２１１，ｍ）、 ３．２０（２ｔ（、ｍ）、
３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，Ｓ）
、 ３．３５（２１１，ｍ）、 ３．５０（４１１，ｍ
）、 ３．７５ （２１１゜ｍ）、 ５．０６ （２Ｎ
、 ｂｒｓ）、 ５．１０（ｉｆｔ、 ｄ、 Ｊ＝５Ｈ
ｚ）。 ５．２０（４１１，ｓ）、５．４８（２ｔｌ、ｂｒｓ）
、６．００（２１１，ｄｄ、Ｊ＝５及び６１（ｚ）、
６．８０（ＩＩ（、ｓ）、 ６．９５ （ｔｌ（、ｓ）
。 ７．０〜７．７（２８１１，ｍ）、８．０６（２１１，
ｂｒｄ、、Ｉ＝６１１ｚ）。 ８、７２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ８．７
３（１１１，ｂｒｓ、 ＴｒＮＨ−）。 ９、２０（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯ
Ｎｌｌ−）（８）上記（ＡＪで得た化合物０．７１ ’
；ｉ （０，５５ミリモル）、ヨウ化カリ１クム０．３
６ ！７ （２，２ミリモル）及びアセチルクロライド
０．０７８ｄ （１，１ミリモル）を用い、実施例４（
Ｃ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−（
３，４−ジ（２−メ１〜キシＴＩ・キシン１〜キシ）ベ
ンジルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセ１−アミド）−３−［４−（２
−スルホネートよチル）−１−ピリジニ第１メチルー３
−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
８（）Ｏｍｙを泡状物として得、精製することなく次の
反応に用いる。 （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８０９ ＜ ０．５
５ミリモル）を実施例４（Ｏ）と同様の方法により標記
化合物１８７＃ （収率５０％）を得る。 ＭＰ ７５０℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００． １７７５
． １６２ＯＮＨＲ（０８３０−ｄ６ ） δ：２
、９６（２１１，ｍ）、 ３．１８（２１１，ｍ）、
３．３８（２１１，ｂｒｓ）。 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）、５．０２（１ｆｔ、ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、５．１０（？ｆｌ、 ｍ）、 ５．
６０（１１Ｉ、 ｂｒｓ）、 ５．７０（ＩＩＩ、 ｍ
）、 ６．６９（１）ｌ、 ｓ）、 ６．７５（３Ｈ，
ｍ）、 ７．１８（２ｔ（、ｂｒｓ、 −Ｎ）−１２）
。 ８．０２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
００（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、１８（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．５２
（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝ＧＨｚ。 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例１１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリ
ジニア１１メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）の製造 （＾）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ルー４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）及び２，
３−シクロペンテノピリジン０．１ｄ （０，８５ミリ
モル）から実施例３（＾）と同様の方法によりベンズヒ
ト 。 リル ３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリジニ
オ）メチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メトキシ」
ニドキシメトキシ）ベンジルオキシイミノＪ−２−（２
−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセトアミド
）−３−ｔフエムー４− ｊｙルポキシレー１−・ヨウ
化物（シン異性体）０．９０５Ｆ（収率８２％）を泡状
物として得る。 Ｎ）（Ｒ（ＤＨ３Ｏ−ｄ（、）δ： ２．２０（２１１，ｍ）、３．２０（４１，ｍ）、３．
２０（３Ｎ、ｓ）、３．２２（３ｆｔ、 ｓ）、 ３．
５０（２１１，ｍ）、 ３．５０（４Ｎ、 ｍ）、 ３
．７８（４ｔｌｍ）、５．０４（２１１，ｂｒｓ）、５
．２０（２１１，ｂｒｓ）、５．２８（ｌｔｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．５０（２ｔｌ、ｂｒｓ）
、５．９２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５及び８１１ｚ）、６．
７５（１１１，ｓ）、７．００（ＩＩＩ、ｓ）、７．０
〜７．８（２８１１，ｍ）、７．８８（ＩＨ，ｂｒｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４０（１１１゜ｂｒｄ、Ｊ＝６ｔｌ
ｚ）、８．６２（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６ｆｌｚ）、８
．８０（１１１゜ｂｒｓ、 ＴｒＮｔ（−）、 ９．６
８（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮｔｌ−
）（Ｂ）上記（八）で得た化合物０．９０９ （０，ロ
アミリモル）を用い、実施例３（Ｂ）と同様の方法によ
り標記化合物１０２ｍｇ（収率２５％）を得る。 ）ＩＰ １６５℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｉｉｉ： ３４００．１７７０．１６
１８ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−６６）δ： ２、２０（２＋１． ｍ）、 ３．１６（４１１，ｍ）
、 ３．５０（２１ｉ、 ｍ）、、 ４．９０（２１１
，ｂｒｓ）、 ５．００（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１
ｚ）、 ５．３８（２Ｈ，ｍｌ。 ５、６０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．６０（１１１，ｓ）
、 ６．６４（１１１，ｓ）、 ６．７２（２０，ｍ）
、、 ７．２０（２Ｈ，ｂｒｓ、 −Ｎ１１２ ）、７
．８２（ＩＨ。 ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．２８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１０（ｉｆｆ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝６ｔｌｚ） 、 ９．５０（ＩＩ、 ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＨ−）参考例１ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒドの製造 ３．４−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．９ｇ（５０
ミリモル）を塩化メチレン１４０ｄ ｌ、：溶解し、ジ
イソプロピルエチルアミン２６．１１ｎｆ！（１５０ミ
リモル）を加え、０℃で２−メトキシエトキシメチルク
ロライド１７Ｉｄ（１５０ミリモル）を滴下する。反応
溶液を０℃で１時間撹拌した後、水５０７．０．５Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液５０ｄ及び飽和食塩水で順次洗浄
する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した後、減圧
下に溶媒を留去し標記化合物１５．７！？（収率１００
％）を得る。 ｔ４ＨＩｌ （ＣＤＣｌ２ ）δ： ３．４０（６＋
１．Ｓ）、３．６０（４１１，ｍ）、３．８９、（４Ｈ
，ｍ）、５．３９（２Ｈ，ｓ）、５．４２（２１１゜ｓ
）、 ７．３０（Ｉｌｌ、 ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）、 ７
゜５５（ｉｌｌ。 ｄｄ、Ｊ＝１及び７Ｈｚ）、 ７．７０（１Ｎ、 ｄ、
Ｊ＝１１１ｚ）、 ９．８６（ｉｌｌ、ｓ）参考例２ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
アルコールの製造 ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒド１５．７９ （５０ミリモル）をメタノール３
００ｄに溶解し、冷却下に水素化ホウ素ナトリウム１．
８９ ｇ（５０ミリモル）を数回に分けて加えた後、３
０分間撹拌する。反応溶液に酢酸２．８６ｄを加え１０
分間撹拌後、減圧下に溶媒を留去する。 残漬を酢酸エチル３００ｍに溶解し抽出液を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を留去し
て標記化合物１５．０ｇ（収率９４．８％）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ１ａ ） δ： ３．３５（６
１１，ｓ）、３．５０（ｉｌｌ、ｓ）。 ３．５５（４１１，ｍ）、３．８５（４Ｈ，ｍ）、４．
５５（２１１，ｓ）、５．２６（４１１，ｓ）、６．９
（ＩＩＩ、ｄｄ、Ｊ＝１及び７１１ｚ）、 ７．１３（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７ｔｌｚ）、 ７．６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
１ｔｌｚ）参考例３ ３．４−ジ（２−メトキシ１１〜キシメ１〜キシ）ベン
ジルクロライドの製造 ３．４−ジ（２−メ１〜キシコニトキシメ１−キシ）ベ
ンジルアルコール１２．９ｙ （４０，８ミリモル）及
びピリジン１６．１Ｓ？ （２０３，７ミリモル）に塩
化メチレン２３（７を加え、水冷下に塩化チオニル５．
８戒（８１，６ミリモル）を含む塩化メチレン溶液８０
ｍ１を滴下し、２時間撹拌する。反応溶液を水、飽和重
曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで脱水する。減圧下に溶媒を留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサジ＝１
：１）に付し、標記化合物１１．５７（収率８４．３％
）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３．３（ｅｌｌ
、ｓ）、３．５（４１１，ｍ）。 ３．８（４１１，ｍ）、４．７３（２Ｎ、Ｓ）、５．３
（４１１，Ｓ）、７．１〜７．２（３１１，ｍ） 参考例４ エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシニ［トキシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
デルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン
異性体）の製造 エチル ２−ヒドロキシイミノ −２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異性
体） ５２ｇ（０，１１モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５２０ｄに溶かし、５０％油性水素化すトリウ
ム５．４！？ （０，１１モル）を０℃で加える。１５
分間撹拌後、ヨウ化ナトリウム１８．８ｇ（０゜１２モ
ル）を加え、次いで３．４−ジ（２−メトキシエトキシ
メトキシ）ベンジルクロライド４２ｇ（０，１２モル）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｄに溶かした溶
液を加える。７０℃に昇温し、１時間撹拌後、減圧下に
溶媒を留去し、′得られる残渣を酢酸エチルに溶かす。 どの溶液を水、及び飽和食塩水で順次洗浄し、水層をさ
らに酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせて無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル二〇
−ヘキサン＝３：１）で精製して標記化合物５８ｇ（収
率６９％）を油状物として得る。 ＩＲ： （ＫＢｒ ） ｃｉＡ ： ２９３０．１７４
０．１５１５ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： １１（
３８，ｔ、Ｊ＝７）ｆｚ）、３．２２（６１１，ｓ）
、 ３．４６（４Ｈ，ｍ）、 ３．７２（４Ｎ、 ｎ＋
）４．０（２Ｈ，ｑ、Ｊ−７１１ｚ）、５．０（２Ｈ，
ｂｒｓ）。 ５．２１（４Ｎ、ｂｒｓ）、６．９（ＩＨ，ｓ）。 ７．０〜７．５（１８１１，ｍ）、８．７５（ＩＨ，ｂ
ｒｓ）参考例５ ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸及びそのナトリウム塩（シ
ン異性体）の製造 コニチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル３６．
０９（４７，３ミリモル）をエタノール７２０ｍに懸濁
し、２Ｎ水酸化すＩ・リウム水溶液２８．４ｄ （５６
，８ミリモル）を加え、１時間煮沸還流する。反応液を
放冷し減圧下に溶媒を留去する。沈澱物をｎ−ヘキナン
で洗浄し、乾燥して標記化合物のす１−リウム塩２９．
６ ｑ（収率８５％）を得る。 １１ｔ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３４２０．１６１０．
１５４０．１４１ＯＮ）ＩＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ：
３．２２（３１１，ｓ）、３．２４（３ｔｌ、ｓ）。 ３．４５（４ｔｌ、ｍ）、３．７４（４１１，ｍ）。 ４．９（２１１，ｂｒｓ）、５．２０（４１１゜ｂｒｓ
）、６．５６．（ｌｔｌ、ｓ）、 ６．９〜７．６（１
８Ｈ，ｍ）、８．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）上記母液を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（１０％メタノール・塩化メチレン）に付し、標記化
合物の遊離ｉ１５．３ｇ（収率１５．６％）を得る。 参考例６ ３．４−ジアセトキシベンジルアルコールの製造３．４
−ジアセトキシベンズアルデヒド２．０ｇ（９，０ミリ
モル）をテトラヒドロワラ１ン４０ｄと水４ＩｎＩｌの
混合溶液に溶かし、０℃に冷却する。水素化ホウ素ナト
リウム０．３４９ （９，０ミリモル）を加え、１０分
間撹拌後、酢酸０．６ｍ （１０ミリモル）を滴下し反
応を止める。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで
３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧下に溶媒を留去して、粗標記化合物２．０９
（収率９９％）の油状物を骨、精製することなく次の
反応に用いる。 ＮＨＲ（０ｆ（Ｓｏ −ｄ６）δ： ２．２７（６ｆ
（、ｓ）、４．５３（２Ｎ、ｓ）。 ７．２（３Ｈ，ｍ） 参考例７ ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイドの製造３．４
−ジアセトキシベンジルアルコール２．０ｇ（０，８９
ミリモル）を塩化メチレン４０ｒｄ、溶かし０℃に冷却
する。三臭化リン０．２８ ｍ （０，３ミリモル）を
加え１５分間撹拌する。反応液を水中に注ぎ、塩化メチ
レンで３回抽出し、有ＩＩを合！１０％重費水で洗浄す
る。この水層を酢酸エチルで３回抽出し有機層を合仕て
無水ｆｉｔ！［１ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を
留去し、租標記化合物１．３７ ｇ（収率５３％）を油
状物として得る。精製することなく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、４．７２（２１１，ｓ）。 ７．２〜７．５ （３＋１． ｍ） 参考例８ Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミドの製造 ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイド１．３７ ｑ
（４，７７ミリモル）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド
０．７８９ （４，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１３ｒｄに溶かし、室温にてトリエチルア
ミン０．６６７ （４，７７ミリモル）を加え、３０分
間撹拌する。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで
３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリＣクムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をとリジン２ｄ
に溶かし、無水酢酸２蔵を加え、空温にて１時間放置す
る。減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル二〇−ヘキサン＝１：３
）にて精製し、標記化合物０．６８ ｇ（収率４２％）
を油状物として得る。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３Ｎ、 ｍ）、 ７．８５（４Ｈ，Ｓ
） 参考例９ ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）酢−
酸（シン異性体）の製造 Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミド０．６８ ｇ（２，０ミリモル）を塩化メチレン１
４ｍ溶かし、０℃で８０％抱水ヒドラジン０．１４ｄ（
２，４ミリモル）、を含むメタノール溶液３−を加え、
３０分間撹拌する。沈澱物を濾別した後、減圧下に濾液
を濃縮し、再び沈澱物を濾別し沈澱物を、酢酸エチルで
洗浄する。濾液は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上
濃縮し、残渣をメタノール６ｒｄに溶かし、次の反応に
用いる。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−オキソ酢酸０．６５ ｇ （１，５７ミリモ
ル）をメタノール１６ｄに溶かし、先に調製した０−（
３，４−ジアセトキシベンジル）ヒドロキシルアミンの
メタノール溶液に加え、３０分間撹拌する。減圧下に溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶かし、１Ｎ塩酸及び
飽和食塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去して粗標記化合物１，２ｇ
（収率９４％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３Ｈ，ｍ）、７．８５（４１１，ｓ） １匪立鬼】 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、特に感
受性及び耐性のグラム陰性菌及びグラム陰性菌に対して
強く抗菌力を有するため、抗菌剤として期待されるもの
である。
ズヒドリル基、１−ブチル基、シリル基等が好適である
。 アミノ基の保護基としては、トリデル基、ホルミル基、
クロロアヒチル暴、トリフルオロアＵチル基、ｔ−ブｌ
〜キシカルボニル基、トリメチルシリル基、【−ブチル
ジメチルシリル基等が挙げられる。 水酸基の保ｖ１基としては、２−メトキシエ１〜キシメ
チル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テト
ラヒドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基、
ｔ−ブチル基、ベンジル基、４−二Ｉ・ロベンジル基、
アセデル基、２，２．２−１−リクロロ工トキシ力ルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アレトナイド、
トリメデルシリル基、Ｌ−ブチルジメチルシリル基等が
挙げられる。 次に本発明化合物（Ｉ）の製造法Δ及び製造法Ｂを詳説
する。 製造法Ａ 一般式（ｎｌ）のＸがハロゲン原子である化合物とピリ
ジン誘導体との反応は、塩化メチレン、クロロホルム、
エーテル、ｆｉｔｌｌｌｔエヂル、酢酸ブヂル、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ１トジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド等の有機溶媒中又はこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。又、本反応に用
いるピリジン誘導体は、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩
、硝酸塩、酢酸塩等の無機酸塩又は有１ａ酸塩を用いて
もよい。 この場合、反応は中用量のｉ〜リエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
−メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に行う。又、本
反応に用いるピリジン誘導体はＮ、０−ビストリメチル
シリルアセトアミド等のシリル化剤でシリル化して使用
することもできる。 反応は一般式（ＩＩＩ）の化合物１モルに対して、ピリ
ジン誘導体を１〜２モル使用し、反応温度及び反応時間
は０〜４０℃、０．５〜５時間である。 又、一般式（ＩＩＩ）のＸがアセトキシ基である化合物
とピリジン誘導体との反応は、水、リン酸緩衝液、アセ
トン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド等の溶媒又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。反応は中性付近で行う
ことが好ましく、反応温度は室温から９０℃で、反応時
間は１〜１０時間であるｄ又、本反応は、ヨウ化ナトリ
ウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシアン酸ナト
リウム、ヂオシアン酸カリウム等のチオシアン１ナン塩
の存在下で行うことにより促進される。 基ＹがＳＯであるアンモニオ化合物（ｎ）はジャーナル
オブ オーガニック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃ１＋ｅｍｉｓｔｒｙ） ３
５巻、２４３０頁（１’１７４年）等に記載の方法によ
り、スルホキサイド基を還元することができる。即ら基
Ｙ ｂ（Ｓ Ｏであるアンモニオ化合物（１［）はアセ
１〜ン溶媒中、ヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウムの
存在下、−４０〜０℃で、アセチルクロライドを滴下し
、１〜２時間反応させることにより還元することがその
一例として示すことができる。反応は基ＹがＳＯである
化合物（■）１モルに対して、ヨウ化物３．５〜１０モ
ル及びアセチルクロライド１．５〜５モル使用する。 更に、本発明化合物（Ｉ）は、要すれば基ＹがＳである
一般式（ＩＩ）の化合物から保護基を除去することによ
り製造することができる。 保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、プロ
テクテイブ グルーブス イン オーガニックス シン
セシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ＧｒＯＵｐＳ ｉｎＯ
ｒｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈｅｓｒｓ） １９８１年など
に記載の常用の方法を適宜選択して行うことができる。 例えば、１−リチル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカル
ボニル基、ベンズヒドリル基、ｔ−ブチル基、２−メト
キシエトキシメチル基等の保護基の除去は塩酸、ギ酸、
トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の無Ｆｊ１酸又は有償酸等で出来、特にト
リフルオロ酢酸が好適である。 尚、酸としてトリフルオロ酢酸を使用する場合には、ア
ニソールを添加することにより反応は促進される。 又、反応は水、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒中、或いはこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。 反応温度及び反応時間は化合物（ｎ）及び本発明化合物
（Ｉ）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択し
、特に氷冷乃至は加温程度の緩和な条件で行うのが好ま
しい。 、 尚、製造法Ａの原料化合物（Ｉｌｌ）は以下のよう
にして製造することができる。 基ＹがＳである一般式（ＩＩＩ）の化合物は、ベンズヒ
ドリル ７−アミノ −３−クロロメチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート、７−アミツセフアロスボラ
ン酸、又はそのエステルに一般式（Ｖ）のカルボン酸又
はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン化物、混合酸
無水物、活性エステル等）を反応させて製造することが
できる。ベンズヒドリル １−アミノ −３−クロロメ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレートは、例えば
特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７号公報
記載の方法により製造することができる。 基Ｙ ｌｆｉ Ｓ Ｏである一般式（ＩＩＩ）の化合物
は、基Ｙ ｌｆｉ Ｓである一般式（ＩＩＩ）の化合物
を塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム等の反応
に関与しない溶媒中、氷冷下に等モルのｍ−クロロ過安
息香酸で酸化して製造することができる。 基Ｘがヨウ素原子である（ＩＩＩ）の化合物は、基Ｘが
塩素原子である一般式（ＩＩ［）の化合物をアセトン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、水冷又は室
温でヨウ化す１−リウム等のヨウ化物と反応させて製造
することができ、単離もしくは、単離せずにそのまま次
の反応に用いてもよい。 製造法Ｂ 一般式（ｎ）の化合物と一般式（ＩＶ）の化合物を水、
アセトン、ジオキリ“ン、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン
、ベンゼン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド等の反応に悪影響を与えな
い溶媒中、又はこれらの混合溶媒中で、一般式（Ｖ）の
カルボン酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン
化物、混合酸無水物、活性エステル等）を反応させて製
造することができる。 反応は一般式（ＩＶ）の化合物１モルに対し、一般式（
Ｖ）の反応性誘導体１〜１．５モルを使用し、反応温度
は一４０〜４０℃でである。 一般式（Ｖ）の反応性ＬＬ＞７２体として、酸ハロゲン
化物を使用する場合、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱
酸剤が必要である。 酸ハロゲン化物形成反応は、カルボン酸（ｖ）１モルに
対し、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リン、オキシ塩化リン、Ａキザリルクロライド、ホスゲ
ン等のハロゲン化剤を１〜１０モル好ましくは１〜１．
５モル使用し、反応温度は一４０〜１００℃、好ましく
は一２０〜２０℃で、反応時間は数時間で完結り−る。 混合酸無水物形成反応は、カルボン酸（Ｖ）１モルに対
し、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアニリン、ピリジン等のＤ＋２酸剤１〜１．
２モルの存在下、メチルクロロホルメート、エチルクロ
ロホルメ−１−、イソブチルクロロホルメート等のクロ
ル炭酸エステ・ル１〜１．２モル使用し、反応温度は一
４０〜２０℃、好ましくは一２０〜５℃で、反応時間は
１０〜６０分間である。 活性エステル形成反応は、カルボン酸（Ｖ）１モルに対
し、Ｎ−ヒドロキシ化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシコ
ハク酸イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等）
又はフェノール化合物（例えば、４−ニトロフェノール
、２，４−ジニトロフェノール、トリクロロフェノール
等）１〜１．２モル及びＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドを１〜１，４モル使用し、反応温度は一１
０〜５０℃で、反応時間は３０〜１２０分間である。 又、アシル化反応においては、一般式（Ｖ）のカルボン
酸を遊離酸の形で使用する場合、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、オキシ塩
化リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド・オキシ塩化リ
ン付加物等の縮合剤の存在下でも、一般式（Ｉ）の化合
物を製造することができる。一般式（Ｉ）から本発明化
合物°（Ｉ）の製造は前記製造法Ａに同じである。 尚、製造法Ｂの原料化合物（ＩＶ）は、フラン（Ｆｌｙ
ｎｎ）著のセファロスポリン アンド ペニシリン、ア
カデミツク プレス（Ｃｃｐｌ＋ａｌｏｓｐｏｒｉｎｓ
ａｎｄ Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓ、Ａｃａｄｅｍｉｃ
ＰＲＥＳＳ） １５１〜１７１頁、１９７２年等に記
載の方法により製造することができる。例えば、１−ア
シルアミノ −３−ハロメチル−３−セフェム−４−カ
ルホキシート誘導体（特開昭５８−７２５９０号、同５
８−１５４５８８号公報等）又は７−アジルアミノロフ
７０スボラン１Ｎ導体に、ぐリジン誘導体を反応させて
、 一般式 （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ′は保護された′Ｐｉ換基を有してもよ
いピリジニオ基、ＸＯは陰イオン、ａｃｙｌ−はアシル
基を示す）で表される化合物とし、次いで脱アシル化す
ることにより製造することができる。 脱アシル化反応は既に当分野では公知であり、例えば、
五塩化リン等によるイミノクロル化、次いでメタノール
等によるイミノエーテル化及び加水分解からなる方法又
はアシラーゼによる方法等がある。 アシル基としては、例えばフェニルアセチル基、フェノ
キシアセチル基、アミノアジピル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の種々の細菌に対する試験管内抗菌活
性を下記の寒天平板希釈法により測定した。 ミューラー ヒントン ブロス（Ｈｕｅｌｌｅｒ ｌｌ
ｉｌトン アガー（Ｈｕｅｌｌｅｒ ｌ１ｉｎｔｏｎ
ａｇａｒ ）に接種した。この培地には抗菌剤が各濃度
で含まれており、３７℃で１６時間培養した後、最小発
育阻止濃度（ＨＩＣ：縛＃りを測定した。比較化合物と
してセファタキシム（Ｃｅｒａｔａｘｉｍｅ）を用いた
。その結果を次表に示す。 本発明化合物は、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラ
ム陰性菌に対して強い抗菌力を示した。 従って、一般式（Ｉ）の化合物、その無毒性塩及び生理
的に加水分解可能なその無毒性エステルは、抗菌剤とす
ることが可能である。 本発明化合物は当分野で公知の固体又は液体の斌形剤の
担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外部投与に適
した医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤と
しては、注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤、カ
プセル剤、粒剤等の固形剤及び軟膏、半開等の外用剤等
が挙げられる。又、これらの製剤には必要に応じて助剤
、安定剤、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等
の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。 添加剤としては注射用蒸溜水、リンゲル液、グルコース
、蔗糖シロップ、ゼラチン、食用油、カカオ脂、エチレ
ングリコール、蔗糖、とうもろこし澱粉、ステアリン酸
マグネシウム、タルク等が挙げられる。 更には、本発明の化合物は抗菌剤として、ヒトの細菌感
染症の治療に使用することができる。投与量は患者の年
齢、性別等の状態によって異なるが、通常、成人１日当
り２〜２５０ｍ１／Ｋｇの範囲で使用され、１回当り１
〜ｓｏｍｙ ／ Ｉｃ！Ｊで２〜５回に分けて投与する
のが好ましい。 次に実施例及び参考例を挙げて、本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）の製造（八）
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）１．ＯＣＪ
（１，４ミリモル）及びベンズヒドリル １−アミノ−
３−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．５６９ （１，４ミリモル）を塩化メチレン２０
ｍに溶解し、０℃でＮ、Ｎ−ジメチルアニリン０．７７
ｄ （６，３ミリモル）、次にオキシ塩化リン０，１
２ ｄ （１，７ミリモル）を滴下後、３０分撹拌する
。 反応溶液は水、１ト塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水
で順次洗浄する。水層を更に酢酸エチルで抽出し、有機
層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下に溶媒を
留去し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート（シン異性体）を得、Ｍ製することなく
次の反応に用いる。 （Ｂ）上記（Ａ）で１ｑだ化合物をアセトン２０ｍに溶
かし、０℃でヨウ化ナトリウム０．４９ （２，８ミリ
モル）を加え、室温で３０分撹拌する。□反応液を１０
％チオ硫酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで２
回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマ１−グラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキ
サン（１：１）溶出画分を濃縮し、ベンズヒドリル ３
−ヨードメチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メトキ
シエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（
２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） １．０９ ｇ（収率６５％）を得る。 Ｉｎ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３３９０．１７８５．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．４５（６１１，ｍ）、 ３．７５（４１１，ｍ）
、 ４．３５（２１１，ｂｒｓ）、 ５．０５（２１１
，ｂｒｓ）、 ５．２４（４１１，Ｓ）、 ５．２４（
ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．７８（ＩＨ，ｍｌ
。 ６、７５（１１１，ｓ）、 ６．９６（ＩＩＩ、 ｓ）
、 ７．０〜７．８（２８＋１゜ｍ）、８．８０（ｉｌ
ｌ、ｂｒｓ、丁ｒＮＩｌ−）、９、（３３（ｉｌｌ、ｂ
ｒｄ、Ｊ＝８１１Ｚ） （’Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物５００ｍｇ（０，４１
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｄに溶か
し、ピリジン０．０６ ｄ （０，フロミリモル）を加
え、室温で１時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、溶出画分く５％メタノール・塩化メチレン）を１
！縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（
２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ
］−２−（２−トリデルアミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド）−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−
セフェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性
体） ４３０ｍｇ （収率８０％）を泡状物として得
る。 ＮＨＩｔ （０８３０−ｄ６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．５０（６１１，ｍ）、 ３．７５（２１１，ｍ）
、 ５．０３（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２２（４１１
，Ｓ）、 ５．２２（１’ｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ
）、 ５．５９（２１１，ｂｒｓ）、 ５．９０（ｉｌ
ｌ、 ｍ）。 ６．７２（１１１，ｓ）、６．９２（１１１，ｓ）、７
．０〜１゜７（２８＋１゜ｍ）、 ８．１８（２１１，
ｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ａ、 ６２（１１Ｉ、 ｍ）
、 ８．９６（２１１，ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．
８３（ＩＩＩ、 ｂｒｓ）、 ９．６８（ＩＩＬ ｂｒ
ｄ、Ｊ＝８１１７） （Ｄ）上記（Ｃ）で１ｑた化合物０．４３ ｇ（０，３
３ミリモル）を塩化メチレン２，０蔵に溶かし、アニソ
ール０．８ｒｄ、次いで０℃でトリフルオロ酢酸２．０
−を加え、室温にて１時間撹拌する。溶媒を減圧下に留
去し、冷却下にジエチルエーテルを加え沈澱物を濾取す
る。この沈澱物に水を加え、不溶物を濾別後、ＯＤＳカ
ラムクロマトグラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社
）に付し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、
凍結乾燥上で標記化合物４１／ｉｇ（収率２１％）を得
る。 ＭＰ １４０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃｉＡ ： ３４００． １７７
５． １６２ＯＮ１４１ｔ （０８３０−ｄ５ ）
δ：３、４５ （２１１，ｍ）、 ４．９３（２１
１，ｂｒｓ）、 ５．２０（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１
１ｚ）、５．５６（２１１，ｂｒｓ）、６．６４（１１
１，ｓ）、６．７２（１１１゜ｓ）、 ６．７３（２１
１，ｍ）、 ８．２０（２１１，ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１
ｚ）、 ８．６６（ＩＩＩ、 ｍ）、 ９．０４（２１
１，１ａｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ７．２９（２１１
，ｂｒｓ）、９．５８（ＩＩＩ、ｍ） 実施例２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−Ｉｌ？
ｌエフー４−カルホキシレー１−（シン異性体）の製造
（Ａ） ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイ
ミノ）−２−（２−トリアチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸（シン異性体） １．２ｇ（１，８７ミリ
モル）及びベンズヒドリル １−アミノ −３−クロロ
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート０．７７
ｇ（１，８１ミリモル）を塩化メチレン２４ｄに溶か
し、室温にてＮ、Ｎ−ジメチルアニリン１．１ｍ （８
，４ミリモル）、次にオキシ塩化リン０．２１ Ｉｄ（
２，２ミリモル）を滴下し３０分撹拌する。反応溶液は
水、１Ｎ−塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水で順次洗
浄し、水層は更に各々酢酸エチルで抽出する。有Ｂ１層
を合せて、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ＝
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３〜１：１）で精製
し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル−７−（２−（
３，４−シアｕ１−キシベンジルオキシイミノ）−２−
（２−１〜リチルアミノチアゾール−４−イル）アレド
アミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体） ０．２４ ｇ及びその脱アセチル体を１！
７る。脱アセチル体をピリジン２ｄ及び無水酢酸２ｄで
処理後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
ベンズヒドリル ３−／）、ロロメチル−７−［２−（
３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−２−（
２−トリデルアミノデアゾール′−４−イル）アセトア
ミド］−３−ｔ７フエムー４−カルボキシレート（シン
異性体） ０．６４ ｇを得る（甜０．８８ｇ：収率
４５％）。 ＮＯＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２．２４（３Ｈ，ｓ）、２．２６（３１１，ｓ）、３．
６０（２Ｎ、ｍ）、４．４１（２１１，ｂｒｓ）、 ５
．１０（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２０（Ｉｌｌ、 ｄ
、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．８２（ｉｌｌ、 ｍ）、
６．７１（ＩＨ，ｓ）、 ６．９３（ＩＩＩ、Ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．８２（１１１，
ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）。 ９、７２（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（Ｂ）上記
（八）で得た化合物を０．８８９ （０，８５ミリモル
）をアセトン１８成に溶かし、０℃でヨウ化ナトリウム
０．２５９ （１，７ミリモル）を加え、室温にて３０
分撹拌する。反応液を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液
中に注ぎ、酢酸エチルで３回抽出し、有ｔａＳを飽和食
塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に溶媒を留去して、ベンズヒドリル ３−ヨー
ドメチル−７−［３，４−ジアセトキシベンジルオキシ
イミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド］−３−セフェム−４−カルボキシ
レート（シン異性体） ０．８８ ｇ（収率９２％）
を泡状物として得る。 Ｎ）ＩＲ（ＤＨ３Ｏ−６６） δ ：２、２８（６１
１，ｓ）、 ３．７（２１１，ｍ）、 ４．３３（２１
１，ｍ）、 ５．１３（２１１，ｂｒｓ）、５．２５（
ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．７６（１１１，ｍ）
。 ６、７６（ＩＩＩ、 ｓ）、 ６．９６（ＩＩＩ、 ｓ
）、 ７．０〜７．９（２８１１゜ｍ）、 ８．８３（
ＩＩＩ、 ｔａｒｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．７（Ｉ
ＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８（Ｃ）上記（Ｂ）テ得た化合
物０．８８ ｇ（０，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド９戒に溶かし、ピリジン０．２ｄ （２
，５ミリモル）を加え、至濡にて４時間放置する。減圧
下に溶媒を留去し、１ｑられる残渣をシリカゲルカラム
クロマ１〜グラフイーで精製し、溶出画分（５％メタノ
ール・塩化メチレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ？
−［２−（３，４−ジアセトキシペンシルオキシイミノ
）−２−（２−一トリチルアミノチアゾールー４−イル
）アセトアミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３
−セフェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異
性体）５００ＩＩｔｇ（収率４９％）の泡状物を得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２、２６（３Ｎ、 ８７．２．３０（３１１，Ｓ）、
３．５２（２１１，ｍ）、 ５゜２２（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．２９（１１１，ｄ、 Ｊ＝５ｔｌｚ）、 ５
．５８（２１１，ｂｒｓ）、５．９２（ＩＨ，ｍ）、６
．７６（１１１，ｓ）、６．９３（ＩＩＩ、ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．２０（２１１，
ｂｒｄ、Ｊ＝６１１２）。 ８、６８（Ｉｌｌ、 ｍ） 、 ８．９６（２１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．９０（１１１゜ｂｒ
ｓ、Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．７４（１１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝８１１ｚ、−ＣＯＮＩＩ−）（Ｄ）上記（Ｃ）で得
た化合物０．５ｇ（０，４１ミリモル）を塩化メチレン
２．５ｍＱに溶かし、アニソール０．５ｍを加え、０℃
に冷却し、１−リフルオロ酢酸２，５ｄを加える。室温
にて１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去して得られる残
渣に０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱を濾
取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別復、ＯＤＳカラムク
ロマトグラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社）に付
し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、凍結乾
燥して標記化合物１０７ｍｇ（収率３９％）を１りる。 ）ＩＰ １６０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃｔＨ： ３４２０．１７６５．１
６６５．１６２ＯＮ１イＲ（１）ｌイ５Ｏ−ｄ６ ）
δ ：２、２６（６ｔｌ、 ｓ）、 ３．４２（２１
１，ｂｒｓ）、 ５．１０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、２０（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．３
５ （ＩＨ，ｍ）、 ５．６５ （ＩＩＩ、 ｍ）、
５．７０（ｉｌｌ、 ｓ）、 ６．６９（１１１，ｓ）
、 ７．２０（３１１，ｍ）。 ８゜１３（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ａ、
５８（ｉｌｌ、 ｍ）、 ９．４８（２１１゜ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１２） 実施例３ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）７０ド
アミド］−３−（３−アミノ−１−ピリジニオ）メチル
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチルづ−（２−［
３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
オキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド）−３−Ｌ＝フェムー４−ノ
コルポキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）を加え
、室温にて２時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフイーで精
製し、溶出画分く２％メタノール・塩化メチレン）を濃
縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２
−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド）−３−（３−ｈリチルアミノ −１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・ヨ
ード塩（シン異性体）１．３５ｇ（収率１００％）の泡
状物として得る。 ＮＮＲ（０８３０−６６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．５２（６１１，ｍ）、３．８０（４１１，ｍ）、 ５
．２０（２１１，ｍ）、 ５．３６（４１１，ｂｒｓ）
、 ５．４０（２１１，ｍ）、５．９５（ＩＩＩ、ｍ）
、６．７８（１１１，ｓ）、６．８８（ＩＩＩ。 ｓ）、７．０〜７．７（２８１１，ｍ）、８．４Ｇ（１
１１，ｂｒｓ）。 ８、８２（ｉｌｌ、 ｂｒｓ）、 ９．６２（ｉｌｌ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化
合物を１．３５ ｇ（０，８７ミリモル）を塩化メチレ
ン５．０Ｉｎ１に溶かし、アニソール１．Ｏ蔵を加え、
０℃に冷却し］ヘリフルオロ酢Ｒ５，Ｏｒｄを加える。 室温にて１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去して得られ
る残渣に０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱
を濾取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別後ＯＤＳカラムクロ
マ１−グラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ社）にイ
；Ｊし、溶出画分（２０％メタノール・水）を濃縮、凍
結乾燥し、標記化合物を含む△ ・Δ （３：２＞の混
合物４５ｒｎｇを得る。 ＨＰ １７０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃｉＡ ： ３３４０．３２００．
１７６０．１６２ＯＮＩＩＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６） δ
：３．５０（２１１，ｍ）、４．９６（２１１，ｂｒ
ｓ）、５．０６（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２
〜５．４（２１１’、ｍ）、５．６８（ｉｌｌ、ｍ）、
０．７１（１１１，ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍ）、
７．２１（２１１，ｂｒｓ、−旧（２）。 ７゜６４（３１１，ｍ）、 ８．２２（１１１，ｂｒｓ
）、 ９．５０（ＩＩＩ、 ｍ、 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例４ ３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）メチル−７
−（２（２−アミノチアゾール−４−イル）τ２−（３
，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミ
ド］−３−セフェム−４−カルホキシレー＋−＜シン異
性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］アレドアミド］−３−セフェム−４−
カルボキシレート４．０ｇ（３，３ミリモル）を塩化”
メチレン８０ｔｄに溶かし、０℃に冷却する。次にｍ−
クロロ過安患香酸（８０％含有） ０．７０ ｇ（３
，３ミリモル）を加え、１５分撹拌する。反応溶液に１
０％ヂオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、次
に１０％重曹水で洗浄する。水層を塩化エチレンで抽出
し、先の有償層と合せ、無水ｉａ酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に溶媒を留去し、残漬をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄してベンズヒドリル３−ヨードメチル−７−（
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド１−３−セフェム−４
−カルボキシレート １−オキサイド）−３−セフェム
−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性体
） ３．９５ ｇ（収率９７％）を得る。 Ｉｎ （ＫＢｒ ） ｃｉｄ ： ３３７０．１７９８
．１７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ）
δ ：３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１
，ｓ）、 ３．４６（６１１，ｍ）、 ３．７６（４１
１，ｍ）、４．４２（２１１，ｍ）、５．０５（３１１
，ｍ）、５．２３（４１１゜ｂｒｓ）、 ５．８７（１
１１，ｄｄ、 Ｊ＝５．８１１ｚ）、 ６．８０（１１
１，ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．７３（ＩＩＩ、
ｂｒｓ）、８．９８（ＩＩＩ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物１．０ｇ（０，８１ミリ
モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０−に溶かし
、３−トリチルアミノピリジン０．５ｇ（１，５ミリモ
ル）を加え、室温にて１時間放置する。減圧下に溶媒を
留去し、得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、溶出画分く５％メタノール・塩化メチ
レン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（２−（３，
４−ジ（２−メ１−キシエ１−キシメＩ−キシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−（３−トリチルア
ミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート ード塩（シン異性体） １．１７ ！？ （収率９３
％）の泡状物として得る。 ＮＯＲ（０８３０−ｄｅ ）δ： ３、１９（３１１，ｓ）、 ３．２１（３Ｎ、 ｓ）、
３．４０（２１１，ｂｒｓ）。 ３、４４（４１１，ｍ）、 ３．７２（４１１，ｍ）、
５．０８（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２０（４
１１，ｓ）、５．２３（２１１゜ｍ）、６．００（Ｉｌ
ｌ、 ｍ）、 ６．８１ （１１ｉ、 ｓ）、 ６．８
８（ＩＩＩ、 ｓ）。 ７．０〜７．８（３２１１，ｍ）、８．４０（１１１，
ｂｒｓ、ＴｒＨｌｌ−）。 ８、７３（ｉｌｌ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩＩ−）、 ９
．１６（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ。 −−ＣＯＮＩＩ−） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物１．２７ ｇ（０，８１
ミリモル）をアセトン２５ｍに溶かし、ヨウ化カリウム
０．５４９ （３，２ミリモル）を加え、次いで０℃で
アセチルクロライド０．１２ ｍ ＜ １．６ミリモ
ル）を滴下後、１時間撹拌する。反応溶液を１０％メオ
重亜流酸ソーダ水に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。 有ｇ１層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬を再び同様の操
作を繰り返し、ベンズヒドリル７−（２−［３，４−ジ
（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ］−２−（２−一トリチルアミノチアゾールー４−イ
ル）アセトアミド）−３−［３−（Ｎ−１−リチル）ア
セトアミド−１−ピリジニ第１メチルー３−セフェム−
４−カルボキシレート・ヨードＪＭ （シン異性体）
１．５６９を泡状物として得、精製することなく次の
反応に用いる。 （１５）上記（Ｃ）で得た化合物１．２９ （０，７５
ミリモル）を塩化メチレン５．０ｍＱに溶かし、アニソ
ール１．０−を加え、０℃に冷Ｕ】下し１−リフルオロ
酢酸５． Ｏｒｄ、を加える。室温にて１時間撹拌し、
溶媒を減圧下に留去して得られる残漬に０℃にてジエチ
ルエーテルを加え生成する沈澱を濾取する。 この沈澱を水に溶かし不溶物を濾別後、００８カラムク
ロマ１へグラフィー＜ ＬＣ−３Ｏｒｂ ：ケムコ礼）
に付し、溶出画分（３０％メタノール・水）を濃縮、凍
結乾燥して標記化合物５５ｍｙ＜収率１２％）を得る。 ＵＰ １５５℃（分解） ＩＩＩ（にＢｒ ） ｃｉｔＩ ： ３３３０．１７６
８．１６６２．１６０８ＮＯＲ（ＤＨ５Ｏ−ｄｅ ）δ
： ２．０９（３）１． ｓ）、 ３．６０（２１ｍ）、
４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（Ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、’ ５．
４０（１１１，ｍ）、 ５．６０（１１１，ｍ）、 ５
．７２（Ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．６０（ｌｔｌ、 ｓ）
、 ６．６２（１１Ｉ、 Ｓ）。 ６．８９（２１１，ｍ）、８．０２（１１１，ｍ）、８
．５５（１１１，ｍ）、８．９２（１１１，ｍ）、 ９
．４８（１１１，ｂｒｓ）、 ７．１０（２１１，ｂｒ
ｓ、 −Ｎｌ２）、 ９．５０（１１１，ｍ、 −ＣＯ
ＮＩＩ−）実施例５ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−（カルボキシレート−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・
モノナ１ヘリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１−アミド）−３−Ｌ−フエムー４
−カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と
３−ベンズヒドリルオキシカルボニルピリジン０．２５
ｇ（０，８γミリモル）から、実施例３（八）と同様
の方法によりベンズヒドリル ３−（３−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニル−１−ピリジニオ）メチル−７−（
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル） ）
−２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ】アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性体）０．
１８ｇ（収率６３％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄｅ）δ： ３．２２（６１１，ｓ）、３．４０＜６１１．ｍ）、３
．７２（４１１，ｍ）、５．０２（３１１，ｍ）、５．
２２（４１１，、ｂｒｓ）、５．７４（２１１，ｍ）、
５．９０（ＩＨ，ｍ）、６．７３（１１１，ｓ）、７．
００（１１１，ｓ）、 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ
）、８．３０（１１Ｉ、ｍ）、８．８０（１１１，ｍ）
、９．１８（１＋＋、ｍ）、９．６２（１１１，ｂｒｓ
）（Ｂ）上記（八）で得た化合物０．７８７（０，５２
ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化
合物１０１０１ｌ （収率３２％）を（ｑる。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｎ （にＢｒ）ｃＭ： ３４００．１７６８．１６４
０．１６１０旧４１ （ＤＨ３Ｏ−６６）δ； ３．４Ｇ（２１１，ｂｒｓ）、４．８８（２１１，ｂｒ
ｓ）、５．０３（１Ｎ、ｄ。 Ｊ＝４１１ｚ）、 ５．２０（Ｉｌｌ、 ｍ）、 ５．
６２（１１１，ｄｄ、 Ｊ＝４及び８１１Ｚ）、 ５．
７０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．５８（ｉｌｌ、 Ｓ）、
６．６６（Ｉｌｌ、 Ｓ）。 ６、７２（ＩＩＩ、 ｍ）、 ７．１２（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ８．０４（ＩＩＩ、 ｄｄ、 Ｊ＝６及び６１
１ｚ）、８．７２（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、
９．２８（ＩＩＩ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．６０（１１１，ｍ）
実施例６ ７−［２−（２−アミノチアゾルー４−イル）−２−（
３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ１−
アミド］−３−（４−カルボキシレート−１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・モ
ノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）と４−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニルピリジン０．２３ （Ｊ
（Ｏ，ａＯミリモル）から実施例３（＾）と同様の方法
によりベンズヒドリル ３−（４−ベンズヒドリルオキ
シカルボニル−１−ピリジニオ）−７−（２−［３，４
−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシ
イミノ］−２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−
イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・ヨード塩（シン異性体）６９５ｍｇ（収率５６
％）を泡状物として得る。 ＮＮＲ（ＤＨＳＯ−ｃｌ ６ ン δ ：３、２２（３
１１，Ｓ）、 ３．２４（３１１，Ｓ）、 ３．４５（
６１１，ｍ）、 ３．７２（４１１，ｍ）、５．０３（
２１１，ｂｒｓｌ、５．２０（４１１，ｂｒｓ）、５．
２０（ｉｌｌ、 ｄ 、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ｓ、 ６
９（２１１，ｂｒｓ） 、 ５．８８（１１１’、 ｍ
）。 ６．７３（１１１，ｓ）、６．９１（ｉｌｌ、ｓ）、７
．０〜７．８（２８１１，ｍ）、 ａ、 ７０（２１１
，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１８（２１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８０（ｉｌｌ、 ｂｒ
ｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．６４（ｉｌｌ、 ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＩＩ−） （Ｂ）上記（Ａ）で１すた化合物０．４３ ｇ（０，３
３ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記
化合物４ｉｉｙ（収率２２％）を１ｑる。 ＭＰ １６５℃ （分解） ［Ｒ（ＫＢｒ）ｃＭ： ３４００． １γ７０． １
６２ＯＮＨＲ（叶５Ｏ−ｄ６）δ： ３．８８（２１１，ｍ）、４．９０（２１１，ｂｒｓ）
、５．０４（ｌｔｌ、ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ５．２２
（１１１，ｍ）、 ５．６０（ＩＩＩ、 ｍ）、 ５．
７５（Ｉｌｌ、 ｍ）。 ６、６０（ｉｌｌ、 ｓ）、 ６．６８（ＩＩＩ、 ｓ
）、 ６．７３（２１１，ｍ）、 ８．２０（２１１，
ｄ 、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２８ （２１１，ｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、 ７．１８（２１１゜ｂｒｓ、−Ｎ
１１２）、９．５４（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝８１１ｚ、
−ＣＯＮＩＩ−）実施例７ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アレド
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−１−リヂルアミノチアゾ
ールー４−イル）アセトアミド）−３−ｔ７フエムー４
−カルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−カルバモイルピリジン０．１０ ｇ（０，８２ミリモ
ル）がら実施例３（八）と同様の方法によりベンズヒド
リル ３−（４−カルバモイル− −７−（２−［３．４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（２− トリデル
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セ
フェム−４−カルボキシレート・ヨード塩（シン異性体
）０、７０ （ｊ （収率６４％）を泡状物として得る
。 ＮＭＲ （ＤＨＳＯ−ｄ＄ ）δ： ３、２０（３１１， ｓ）、 ３． ２２（３１１，
ｓ）、 ３． ３８（２１１， ｓ）、 ３．４８（４
１１， ｆｉｌ）、 ３． ７６（４１１， ｍ）、
５． ０３（２１１， ｂｒｓ）、 ｓ． ２２（４１
１， ｂｒｓ）、 ５．３０（ｉｌｌ， ｂｒｄ， Ｊ
＝６１１ｚ）、 ５．６８（２１１， ｍ）、５．９０
（ＩＩＩ，ｄｄ，Ｊ＝６及び８１１ｚ）、 ６． ７４
（ＩＩＩ， ｓ）。 ６、９２（１１１， ｓ）、７．０ 〜７．７（２８１
１，ｍ）、７．８０（１１１。 ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、８．４５（Ｈｌ，ｂｒｄ，Ｊ
＝６１１ｚ）、８．６８（ＩＩＩ。 ｂｒｓ， ＴｒＮＨ−）、 ８． ７８（ｉｌｌ， ｂ
ｒｄ，−ＣＯＮＩＩ−）、 ９、１２（１１１， ｂｒ
ｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ９． ６８（１１１， ｂｒ
ｄ， −Ｃｕｌｌ−）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０
．７０ ｇ（ ０．５２ミリモル）を実施例３（Ｂ）と
同様の方法により標記化合物８４ｍｇ（収率２６％）を
得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｌｌ （にＢｒ）ｃｆｆｌ ： ３３９０． １
７７９． １６８ＯＮＨＲ−（ＯＨ３Ｏ−１６）δ： ３、５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．０４（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、５
．２０（ＩＩＩ、ｍ）、５．６５（ｉｌｌ、ｍ）、５．
７５（１１１，ｍ）。 ６．６６（１１１，ｓ）、６．６８（ＩＩＩ、ｓ）、Ｇ
、７０（２１１，ｍ）、 ８．４５（２１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．５８（２１１，１ａｒｄ、
Ｊ＝（３１１ｚ）。 ７．１３（２１１，ｂｒｓ、−Ｎ１１２）、９．４９（
ＩＩＩ、ｍ、−ＣＯＮＩＩ−）実施例８ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・
モノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシ上１〜キシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−ｔフ↓ムー４−
カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−ピリジルメタンスルホン酸ナトリウム０．３１ Ｌｊ
（１，６４ミリモル）から実施例３（八）と同様の方法
によりベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２−
メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド）−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）７１ｈ＋ｇ（収率６８％）を泡状物とし
て１ｑる。 ＮＨＲ（ＯＨ８Ｏ−ｄ６）δ： ３．２０（３１Ｌｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３．
５２（６１１，ｍ）、３．７６（４１１，ｍ）、 ４．
１２（２１１，ｂｒｓ）、 ５．０３（３１１，ｍ）、
５．２２（４１１，ｂｒｓ）、５．３〜５．６（２１
１，ｍ）、５．９２（ｉｌｌ、ｍ）。 ６．７２（ＩＨ，ｓ）、６．９３（１１１，ｓ）、７．
０〜７．７（２８ｔｌ、ｍ）、 ７．９８（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．０６（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１Ｚ） 、 ８．７８（２１１，ｂｒｄ
、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．８５（１１１，ＬｔｒＳ
。 ＴｒＮＩｌ−）、 ９．７０（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ
＝８１１Ｚ、 −ＣＯＮｆｌ−）（Ｂ）上記（八）で得
た化合物０．７１ ’；Ｊ （０，５（３ミリモル）を
実施例３（Ｂ）と同様の方法により標配化合物を含む△
・Δ （３：２）の混合物２１５ｒｒｔｇ（収率５８
％）を得る。 ）ＩＰ １８０℃ （分解） （Ｒ（ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００．１７６３．１６
３８．１６１ＯＮ）ＩＲ（ＯＨ５Ｏ−ｄ６ ）δ： ３、６０（２１１，ｍ）、 ４．１２（２１１，ｂｒｓ
）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜５．
７（２１１，ｍ）。 ５．６９（ｌｉｔ、ｍ）、６．６６（１１１，ｓ）、６
．７２（３１１，ｍ）、７．１６（２１１，ｂｒｓ、−
ＮＩ１２ ）、８．００（２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１
Ｚ）。 ８．９２（２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．２２
（ｉｌｌ、ｂｒｄ、Ｊ＝６１１Ｚ）。 ９、５０（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −Ｃ
ＯＮＩＩ−）実施例９ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４＝ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネー１−エチルー１
−ピリジニ第１メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（八）
ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）とテトラブチル
アンモニウム ２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸
塩０．３５９ （０，８２ミリモル）から実施例３（Ａ
）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−［３
，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオ
キシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−［４−（２−スルホネ
ートエチル−１−ピリジニ第１メチルー３−セフェム−
４−カルボキシレート（シン異性体） ２９３．７１
ｇ（収率２８％）を泡状物として得る。 Ｎｕｌｌ （ＯＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２、８６（２１１，ｍ）、 ３．２０（３Ｈ，ｓ）、
３．２０（２１１，ｍｌ、 ３．２３（３１１，ｓ）、
３．５６（６１１，ｍ）、３．乃（４１１，ｍ）、５．
０５（２１１゜ｂｒｓ）、 ５．２６（ＩＩＩ、 ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．２６（４１１，３）、 ５．
５５（２１１，ｂｒｓ）、 ５．８８（１１Ｉ、 ｍ、
−ＣＯＮＩＩ−）、 ６．７８（１１１，ｓ）。 ６．８３（１１１，ｓ）、７．０〜７．８（２８１１，
ｍ）、７．９５（２１１゜ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、
８．７０（ＩＩＩ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩｌ−）、
８．７８（１１１゜ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
６５（１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）（Ｂ）上記（八）
ｒｔ９た化合物０．２９ ｇ（０，２３ミリモル）を実
施例３（６）と同様の方法により標配化合物を含む△
・△ （１：１）の混合物７２ｍｇ（収率４６％）を得
る。 ト（Ｐ１７０℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）Ｃｉｉ： ３４１０．１７６０．１６３
５．１６２０８８＋１ （ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３、００（２１１，ｍ） 、 ３．２０（２１１，ｍ）
、 ３．６＜２８． ｍ）、 ４．９８［２Ｈ，ｂｒｓ
）、５．０２（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜
５．５（２１１，ｍ）、５．８０（ｉｌｌ、ｍ）、６．
６１（１１１，Ｓ）、 ６．７５（３１１゜ｍ）、７ｉ
７（２１１，、ｂｒｓ、−Ｎｌｌ ）、８．０６（２
１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８８（Ｉｌｌ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝（３１１ｚ）、 ９．２０（ＩＩＩ、
ｂｒｄ。 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．７８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ
＝６１１ｚ、 Ｃ０ＮＩＩ−）実施例１０ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネートエチル）−１
−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（Ａ）
ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−γ−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミンチアゾール−４
−イル）アセトアミド１）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート １−オキサイド１．２ｇ（０，９１ミリモ
ル）と２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸カリウム
０．４２ ｇ（１８，７ミリモル）から実施例４（８）
と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−［３゜
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリデルアミンチアゾール−４
−イル）アセトアミド）−３−［４−［２−スルボネー
ｌへエチル）−１−ピリジニオ］−メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性
体）１１０＃Ｉ！ｉＦ（収率５６％）を泡状物として得
る。 ＮＨｒｔ （０８３０−１６）δ： ２、９０（２１１，ｍ）、 ３．２０（２１１，ｍ）、
３．２０（３１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）、
３．３５（２１１，ｍ）、３．５０（４１１，１Ｔｌ）
、３．７５（２１１゜ｍ）、 ５．０６（２１（、、ｂ
ｒｓ）、 ５． ｔｏ（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ−５１１ｚ
）。 ５、２０（４１１，ｓ）、 ５．４８（２１１，ｂｒｓ
）、 ６．００（２１１，ｄｄ、 Ｊ＝５．６１１ｚ）
、６．８０（ｉｌｌ、ｓ）、６．９５（１１１，ｓ）、
７．０ 〜γ、７（２８１１，ｍ）、 ８．０６（２１
１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．７２（２１１ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 、 ８．７３（１１１，ｂｒ
ｓ、 Ｔｒｉｌｌ−）、 ９．２０（Ｉｌｌｂｒｄ、
Ｊ−６Ｈｚ、 −ＣＯＮｉ−）（Ｂ）上記（八）で得た
化合物０．７１ ｇ（０，５５ミリモル）をヨウ化カリ
ウム０．３６９ （２，２ミリモル）及びアセチルクロ
ライド０．０７８ｍ （１，１ミリモル）を用い、実施
例４（Ｃ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（
２−（３，４−ジ（２−メトキシエｉ・キシメ１−キシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミン
チアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−［４−（
２−スルホネートエチル）−１−ピリジニ第１メヂルー
３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
８００ｍ！？を泡状物として（’Ｊ、Ｙｎ製すること
なく次の反応に用いる。 （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８０ ｇ（０，５５
ミリモル）を実施例４（Ｄ）と同様の方法により標記化
合物１８７＋＋！Ｆ（収率５０％）を得る。 ＭＰ １５０℃ （分解） 、 Ｉｎ （ＫＢｒ）ｃｊＩ： ３４００． １７
７５． １６２０、ＮＨＲ（叶５Ｏ−ｄ６ ）δ： ２．９６（２Ｎ、ｌ１ｌ）、３．１８（２Ｎ、 ｍ）、
３．３８（２Ｎ、 ｂｒｓ）。 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）、５．０２（１１１，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、５．１０（ＩＨ，ｍ）、５．６０
（ｉｌｌ、ｂｒｓ）、５．７０（ｉｌｌ、ｍ）、、６．
６９（１８，ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍ）、８．０
２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ） 。 ９．００（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
１８（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）７、１８（２
１１，ｂｒｓ−Ｍｌ−１２）、 ９．５２（ＩＨ，ｂｒ
′ｄ、 Ｊ＝６１１Ｚ。 −ＣＯＮＩＩ−） 実施例１１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシル〜１
〜（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノデアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）及び２，
３−シクロペンテノピリジン０．１１ｎ１（０，８５ミ
リモル）から実施例３（Ａ）と同様、の方法によりベン
ズヒドリル ３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピ
リジニオ）メチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メト
キシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−
（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセ１〜
アミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート・ヨー
ド塩（シン異性体） ０．９０ ｍＦＩ （収率８２
％）を泡状物として得る。 Ｎ）唱Ｒ（ＤｔｌＳＯ−ｄ６）δ： ２、２０（２１１，ｍ）、 ３．２０（４１１，ｍ）、
３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，ｓ）
、 ３．５０（２１１，ｍ）、 ３．５０（４１１，ｍ
）、 ３．７８（４１１゜ｍ）、５．０４（２１１，ｂ
ｒｓ）、５．２０（２１１，ｂｒｓ）、５．２８（ＩＩ
Ｉ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝５ｔｌｚ）、 ５．５０（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ５．９２（ＩＩＩ、 ｄｄ、 Ｊ＝５及び６１
１ｚ）、 ６．７５（Ｉｌｌ、 ｓ）、 ７．００（ｉ
ｌｌ、 ｓ）、 ７゜０〜７．８（２８１１，ｍ）、７
．８８（１１１，ｂｒｔ、Ｊ＝６１１ｚ）、８．４０（
ｉｌｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝６ｉ１ｚ）、８．６２（１１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝６１１ｚ）、８．８０（ｉｌｌ。 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩｌ−）、 ９．６８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（
八）で得た化合物０．９０ ｇ（０，ロアミリモル）を
実施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化合物１０２ｍ
ｇ（収率２５％）を１ｑる。 ＭＰ １６５℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｊｆ： ３４００．１７７０．１６１
８ＮＭＲ（０８３０−ｄ５ ）δ： ２、２０（２１１，ｍ）、 ３．１６（４１１，ｍ）、
３．５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒ
ｓ）、 ５．００（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）、
５．３８（２１１，ｍ）。 ５．６０（１１１，ｍ）、６．６０（ｉｌｌ、ｓ）、６
．６４（１１１，ｓ）、６．７２（２Ｈ，ｍ）、７．２
０（２１１，ｂｒｓ、 −ＮＩ＋２ ）、７．８２（１
ｔｌ。 ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．２８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１０（ｉｌｌ。 ｂｒｔｉ、 Ｊ＝ｅ）ｌｚ）、 ９．５０（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈ７，−ＣＯＮＩＩ−）参考例１ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒドの製造 ３．４−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．９ｇ（５０
ミリモル）を塩化メチレン１４０ｄ１．：溶解し、ジイ
ソプロピルエチルアミン２６．１ｍ （１５０ミリモル
）を加え、０℃で２−メトキシエトキシメチルクロライ
ド１７ｒｒｄｌ （１５０ミリモル）を滴下する。反応
溶液を０℃で１時間撹拌した後、水５０ｍｆ！、０．５
Ｎ水酸化す１〜リウム水溶液５０ｄ及び飽和食塩水で順
次洗浄する。有Ｉｊ１層を無水硫酸ナトリウムで脱水し
た後、減圧下に溶媒を留去し標記化合物１５．７ｇ（収
率１００％）を１りる。 ＮＯＲ（ＣＤＣＩａ ）δ： ３．４０（６１１，ｓ
）、３．６０（４１１，ｍ）、３．８９（４１１，ｍ）
、 ５．３９（２１１，Ｓ）、 ５．４２（２１１゜Ｓ
）、 ７．３０（Ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝７１１ｚ）、
７．５５（ｉｌｌ。 ｄｄ、Ｊ＝１及び７＋１２）、７．７０（Ｉｌｌ、ｄ、
Ｊ＝Ｉ１１ｚ）、 ９．８６（ＩＩＩ、ｓ）参考例２ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
アルコールの製造 ３．４−ジ（２−メ１〜キシエＩ・キシメトキシ）ベン
ズアルデヒド１５．７ｇ（５０ミリモル）をメタノール
３００ｄに溶解し、冷却下に水素化ホウ素ナトリウム１
．８９９ （５０ミリモル）を数回に分けて加えた復、
３０分間撹拌する。反応溶液に酢酸２．８６蔵を加え１
０分間撹拌後、減圧下に溶媒を留去する。 残渣を酢酸エチル３００ｄに溶解し抽出液を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸す１〜リウムで脱水し、溶媒を留去
して標記化合物１５．０ｇ（収率９４．８％）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣＩａ ） δ： ３．５（１１
１，Ｓ）、３．３５（６＋１．Ｓ）。 ３．５５（４１１，ｍ）、 ３．８５（４１１，ｍ）、
４．５５（２１１，ｓ）、 ５．２６（４１１，ｓ）
、６．９（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝１及び７＋１２）、 ７
．１３（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）、 ７．６（ＩＩ
Ｉ、ｄ、Ｊ＝１１１ｚ）参考例３ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシベンジルク
ロライドの製造 ３、４−ジ（２−メ１へキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルアルコール１２．９ｇ（４０．８ミリモル）及びピリ
ジン１６．１ｇ（ ２０３．７ミリモル）に塩化メチレ
ン２３０ｍｌを加え、水冷下に塩化チオニル５．８ｄ（
８１．６ミリモル）を含む塩化メチレン溶液８０ｍを滴
下し、２時間撹拌する。反応溶液を水、飽和重曹水、及
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
脱水する。減圧下に溶媒を留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）に
付し、標記化合物１１．５ｇ（収率８３．４％）を得る
。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＨ８Ｏ−ｄｒ、 ） δ ： ３
．３（６１１，ｓ）、３．５（４１１，ｍ）。 ３、８（４１１，ｍ）、 ４．７３（２１１，Ｓ）、
５．３（４１１，ｓ）、 ７．１〜ｙ、２（３１１，ｍ
） 参考例４ エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリチ
ルアミンチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異
性体）の製造 エチル ２−ヒドロキシイミノ −２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異性
体） ５２ｇ（０，１１モル）を１１．Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド５２０ｄに溶かし、５０％油性水素化ナトリ
ウム５．４ｇ（０，１１モル）を０℃で加える。１５分
撹拌後、ヨウ化ナトリウム１８．８ｇ（０，１２モル）
を加え、次いで３．４−ジ（２−メトキシエトキシメト
キシ）ベンジルクロライド４？Ｆ （０，１２モル）を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｄに溶かした溶液
を加える。１０℃に昇温し、１時間撹拌後、減圧下に溶
媒を留去し、得られる残渣を酢酸エチルに溶かす。この
溶液を水、及び飽和食塩水で順次洗浄し、水層をさらに
酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせて無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝３＋１）で精製して標記化合物５８ｇ（収率６
９％）を油状物として得る。 ＩＲ：（にＢｒ ） ｃＭ ： ２９３０．１７４０．
１５１５８８１１ （ＤＨ８Ｏ−ｄ６）δ： １．
１（３１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．２２３．４６（
４１１，ｍ）、３．７２（４Ｈ，ｍ）４、０（２１１，
Ｑ、 Ｊ＝７１１ｚ） 、 ５．０（２１１゜１１ｒｓ
）、５．２１（４１１，ｂｒｓ）、６．９（ｉｌｌ、Ｓ
）、 ７．０〜７．５（１８１１゜ｍ）、 ８．７５（
ｉｌｌ、 ｂｒｓ）参考例５ ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］ −２−（２−１−リチルアミ
ノチアゾールー４−イル）酢酸及びそのナトリウム塩（
シン異性体）の製造 エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエ］・キシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
チルアミノデアゾール−４−イル）酢酸エステル３６．
０ｇ（４７，３ミリモル）をエタノール１２０成に懸濁
し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２８．４ｄ（５６，８
ミリモル）を加え、１時間加熱、還流、撹拌する。反応
液を放冷し減圧下に溶媒を留去する。沈澱物をｎ−へキ
リ゛ンで洗浄し、乾燥して標記化合物のす１〜リウム塩
２９．６ｇ（収率８５％）を得る。 ＩＲ： （ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３４２０
． １６１０． １５４０． １４１ＯＮｕｌｌ
（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ： ３．２２（３１
１，ｓ）、３．２４（３１１，ｓ）。 ３、４５（４１１，ｍ）、 ３．７４（４１１，ｍｌ。 ４．９（２１Ｌｂｒｓ）、５．２０（４１１゜ｂｒｓ）
、６．５６．、（ｉｌｌ、ｓ）、 ６．９〜７．６（１
８１１，ｍ）、８．６２（Ｉｌｌ、ｂｒｓ）上記母液を
減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（１０％メタノール・塩化メチレン）に付し、標
記化合物の遊離酸５，３ｑ（収率１５．．６％）を得る
。 参考例６ ３．４−ジアセＩ−キシベンジルアルコールの製造３．
４−ジアセトキシベンズアルデヒド２．０ｇ（９，０ミ
リモル）をテトラヒドロフラン４０Ｉｒｄｌと水４ｄの
混合溶液に溶かし、０℃に冷却する。５０％油性水素化
ホウ素ナトリウム０．３４ ｇ（９，０ミリモル）を加
え、１０分間撹拌俊、酢酸０．６ｄ （１０ミリモル）
を滴下し反応を止める。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢
酸エチルで３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して、粗標記化合
物２．０ｇ（収率９９％）の油状物を得、精製すること
なく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．２７（６１１，
ｓ）、４．５３（２１１，ｓ）。 ７．２（３１１，ｍ） 参考例７ ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイドの製造３．４
−ジアセトキシベンジルアルコール２．０ｇ（０，８９
ミリモル）を塩化メチレン４０フ溶かし０℃に冷却する
。三臭化リン０．２８ ｄ （０，３ミリモル）を加え
１５分撹拌する。反応液を水中に注ぎ、塩化メチレンで
３回抽出し、有ＩＮ層を合せ１０％重曽水で洗浄する。 この水層を酢酸エチル３回抽出し有機層を合せて無水硫
酸す１−リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、粗標
記化合物１．３７ ｇ（収率５３％）を油状物として得
る。精製することなく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（ＤＨ５Ｏ−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、４．７２（２１１，ｓ）。 ７．２〜７．５（３１１，ｍ） 参考例８ Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミドの製造 ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイド１．３７ ｇ
（４，７７ミリモル）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド
０．７８ ｇ（４，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチル
ボルムアミド１３ｄに溶かし、室温にてトリエチルアミ
ン０．６６蛇（４，７７ミリモル）を加え、３０分撹拌
する。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで３回抽
出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧下に溶媒を留去する。残漬をピリジン２厩に溶かし
、無水酢酸２ｄを加え、室温にて１時間放置づる。減圧
下に溶媒を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３）にて精
製し、標記化合物０．ｅａ ｇ（収率４２％）を油状物
として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄｉ） ）δ： ２．３（（３１
１，ｓ）、５．２（２１１，ｓ）。 １．３〜７．６（３１１，ｍ）、７．８（４１１，Ｓ） 参考例９ ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
（シン異性体）の製造 Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミド０．６８ ｇ（２，０ミリモル）を塩化メチレン１
４ｄ溶かし、０℃で８０％泡水ヒドラジン０．１４ｄ（
２，４ミリモル）を含むメタノール溶液３ｄを加え、３
０分間撹拌する。沈澱物を濾別した後、減圧下に濾液を
澹縮し、再び沈澱物を濾別し沈澱物を、酢酸エチルで洗
浄する。濾液は無水ｆａ酸ナトリウムで乾燥後、減圧上
濃縮し、残渣をメタノール６ｒｎＩｌに溶かし、次の反
応に用いる。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−オキソ酢酸０．６５９ （１，５７ミリ
モル）をメタノール６ＩｒｔＩｌに溶かし、先に調製し
たヒドロキシルアミン溶液に加え、３０分間撹拌する。 減圧下に溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶かし、有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去して粗標記化合物１．２ｇ（収率９４％）を泡状物と
して得る。 ＮＩＩＲ（ロＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ： ２．３
（ｅｌｌ、ｓ）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３１１，ｍ）、 ７．８５（４１１，
Ｓ） 発明の効果 本発明化合物は文獣未記載の新規化合物であり、特に感
受性耐性のグラム陰性菌及びグラム陰性菌に対して強く
抗菌力を有するため、抗菌剤どして期待されるものであ
る。 特許出願人 萬有製薬株式会社 手続補正書（自発） １．事件の表示 昭和６０年特許願第２９３４６７号
２、発明の名称 ３、補正をする者 Ｓ、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄、及
び「発明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 別紙訂正明細書のとおり訂正明細
轡 １、発明の名称 新規セファロスポリン誘導体 ２、特許請求の範囲 （１）一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ル。 （２）一般式（ＩＩ［） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又゛はカルボキシル保護基、Ｒ４は水素原子又は
アミン保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱離基、ＹはＳ又
はＳＯを示す）で表される化合物又はその塩に、保護さ
れた置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応させて
、 一般式（ＩＦ） （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＹは前記の意味を有し、
Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基、
ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要す
れば還元及び／又は保護基を除去することを特徴とする （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルの製法。 （３）一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保￥！１基、
ＹはＳ又は５Ｏ１Ｑ′は保護された置換基を有してもよ
いピリジニオ基、Ｘθは陰イオンを示す）で表される化
合物又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素
原子又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミン保
護基を示す）で表されるカルボン酸又はその反応性誘導
体によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、Ｑ′及びｘＯは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要すれば還元
及び／又は保護基を除去することを特徴とする 一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルの製法。 （４）一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ルを有効成分として含有する抗菌剤。 （５）ＱのＭ換基として、アミン基、アセトアミド基、
カルボキシル基、カルバモイル基、スルホメチル基、ス
ルホエチル基およびシクロペンテノ基の群より選ばれる
置換基を少なくとち１ｆ［！ｉｔ有する特許請求の範囲
第１項記載の化合物。 （Ｇ） Ｒ’は水素原子、Ｑは１−ピリジニオ基である
特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （７） Ｒ＋は水素原子、Ｑは３−アミノ−１−ピリジ
ニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （８） Ｒ１は水素原子、Ｑは３−アセトアミド−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （９） Ｒ’は水素原子、Ｑは３−カルボキシ−１−ピ
リジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１０）Ｒ１は水素原子、Ｑは４−カルボキシ−１−ピ
リジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１１）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−カルバモイル−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （１２）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−スルホメチル−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 （１３）Ｒ’は水素原子、Ｑは４−（２−スルホエチル
）−１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載
の化合物。 （１・４）Ｒ１は水素原子、Ｑは２，３−シクロペンテ
ノ −１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 （１５）Ｉ’（１はアセデル基、Ｑは１−ピリジニオ基
である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、発明の詳細な説明 Ｌｌ直立皿旦史１ 本発明は新規なセファ０スポリン誘導体、その製法及び
該化合物を有効成分として含有する抗菌剤に関するもの
である。 従来技術 従来、セファロスポリン核の７位側鎖に２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル） −２−＠換オキシイミノ
アセトアミド基を、３位にアンモニオメチル基を合せ持
つ化合物は極めで多く合成され、それらの記載された公
開技術としては、例えば特開昭５４−１５４７８６号、
同５５− ５９１９６号、同５７．−１９２３９４号、
同５８−１７４３８７号、同５８−１９８４９０号、同
５９−２１９２９２号及び同６０−９７９８３号公報な
どが挙げられ、ダラム陽性菌及びシュードモナス エル
ギノーザ（Ｉ’ｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｌＪ（Ｊ
ｉｎＯ３ａ）を含むセファ０スポリン耐性のダラム陰性
菌に対しても活性を示し、優れた抗菌力と幅広い抗菌ス
ペクトルを有することが示唆されている。 発明が解決しようとする問題点 β−ラクタム抗生物質は、細菌のみに選択ｍ性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。 しかしながら、近年、耐性のダラム陽性菌及び耐性のブ
ドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向に
あり、これらの菌に対する抗菌力の増強が望まれている
。 肌逆Ｊ」口紅り杢Ｊ」し欠玉退 本発明は優れた抗菌力を有する新規なセファロスポリン
誘導体を提供することを目的とし、３位に＠換基を有し
てもよいピリジニオ基を、７位に２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（３，４−ジヒドロキシベン
ジルオキシイミノ）アセ１〜アミド基もしくは２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３，４−ジア
セトキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド基を有す
る新規なセファ０スポリン誘導体について鋭意研究した
結果、ダラム陰性菌及びグラム陽性菌に対して強い抗菌
力を右することを見出し本発明を完成した。 作 用 本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｒ１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基を
有してもよいピリジニオ基を示す）０表される化合物、
その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な無毒性エステ
ル、その製法及び該化合物を有効成分として含有する抗
菌剤に関する。 次に本明細角に記載された各種記号、用語について説明
する。 一般式（Ｉ）の化合物の置換基Ｑの置換基としては、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アミン基、カルボキシ
ル基、カルバモイル基、アセチル基、低級アルコキシ基
、ヒドロキシ低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、スルホ低級アルキル基、シ
クロペンテノ基等を挙げることができる。特に、水酸基
、アミノ基、カルボキシル デル基、メ１ヘキシ基、アセトアミド基、スルホエチル
基、スルホエチル基、シクロペンテノ基等が好ましい。 ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。又、低級アルキル基とは、炭
素数１〜５個の直鎖又は分岐した炭素鎖を示す。置換位
置は特に限定されないが、基Ｑの特に好ましい例として
は、１−ピリジニオ基、３−アミノ ー１−ピリジニオ
基、３−アセトアミド−１−ピリジニオ基、３−カルボ
キシ−１−ピリジニオ基、４−カルボキシ−１−ピリジ
ニオ基、４−カルバモイル−１−ピリジニオ基、４−ス
ルホメチル−１−ピリジニオ基、４−（２−スルホエチ
ル）−１−ピリジニオ基、又は、２．３−シクロペンテ
ノ −１−ピリジニオ基等が挙げられる。 又、一般にオキシイミノ基における配置はシン異性体及
びアンチ異性体が存在するが、本発明は、シン異性体及
びアンチ異性体の何れをも包含する。特にシン異性体が
優れた抗菌活性を有する。 本発明の化合物としては、例えば以下に示ず化合物が挙
げられる。 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミドＪ−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ−１−ピリジニオ）メチル
−３−セフ１ム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３． ４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）ア
セ１−アミド］−３−（３−アセトアミド−１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（
３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−カルボキシ−１−ピリジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミドｌ−３−（４−カルボキシ−１−ピリジニオ）メ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレート ７−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（３．４
−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］
−３−（４−スルホメチル−１−ピリジニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート７−［２−（２−
アミノデアゾール−４−イル）−２−（３．４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３４４
−（２−スルホエチル）−１−ピリジニオ］メチルー３
ーセフェム−４−カルホキシレー１−７−［２−（２−
アミノデアゾール−４−イル）−２−（３．４−ジヒド
ロキシベンジルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（
２．３−シクロペンテノ−１−ピリジニオ）メチル−３
−セフェム−４−カルボキシレーｈ一般式（Ｉ）の化合
物は常法により、その無毒性塩又は生理的に加水分解可
能な無毒性エステルとすることができる。 一般式（Ｉ）の化合物の無毒性塩としては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、例えばナトリウム、カリ、
ラム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム等の金
属塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力
イン等の有機アミン塩、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸
、過塩素酸等の無機酸塩、酢酸、乳酸、プロピオン酸、
マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸
等の有瀘酸塩、メタンスルホン酸、イセチオン酸、ロー
トルエンスルホン酸等のスルボン酸塩、グルタミン酸、
アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のアミノ酸塩等
が挙げられる。 又、一般式（Ｉ）の無毒性エステルとしては、セフェム
核３位のカルボキシル基における医薬上許容される慣用
的なものを意味し、例えばアセ１へキシメチル基、ピバ
ロイルオキシメチル基等のアルカノイルオキシメチル ニルオキシ）エチル基等のアルコキシカルボニルオキシ
アルキル基、フタリジル基、５−メチル−２−オキソ−
１．３−ジオキソ−ルー４−イルメチル基等の５−＠換
−２−オキソ ー１．３−ジオキソ−ルー４−イルメチ
ル基等が挙げられる。 次に本発明化合物の製造方法について説明する。 一般式（Ｉ）の化合物は、以下に示り゛製造法Ａ．Ｂい
ずれの方法でも製造することができる。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ） （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ３は水
素原子又はカルボキシル保護基、Ｒ４は水素原子又はア
ミン保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱難基、ＹはＳ又は
Ｓ○を示す）で表される化合物又はその塩に、保護され
た置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応させて、 一般式（ＩＦ） （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＹは前記の意味を有し、
Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピリジニオ基、
ｘＯは陰イオンを示す）で表される化合物となし、要す
れば還元及び／又は保護基を除去することにより、本発
明化合物（Ｉ）を製造することができる。 一般式（Ｉ［Ｉ）のＸは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲ
ン原子、又はアセトキシ基、トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ｐ−トル
エンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、特に臭素、
ヨウ素等のハロゲン原子及びアセトキシ基が好適である
。 本反応の３位置換反応に用いるピリジン誘導体としては
、ピリジン、３−アミノ−ピリジン、３−アセトアミド
ピリジン、３−カルボキシピリジン、４−カルボキシピ
リジン、４−カルバモイルピリジン４−スルホメチルピ
リジン、４−（２−スルホエチル）ピリジン、２．３−
シクロペンテノピリジン等が挙げられる。尚、これらの
アミン基、カルボキシル基、及びスルホ基は保護されて
いてもよい。 製造法Ｂ 一般式（Ｖ） （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピ
リジニア１基、ＸＯは陰イオンを示す）で表される化合
物又はその塩を、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ２は水素原
子又は水酸基の保護基、Ｒ４は水素原子又はアミノ保護
基を示す）で表されるカルボン酸又はその反応性誘導体
によりアシル化して、 （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、Ｑ−及びＸＯは前記の
意味を有する）で表される化合物となし、要すれば還元
及び／又は保護基を除去することにより、本発明化合物
（Ｉ）を製造することができる。 尚、前記一般式におけるカルボキシル基、アミノ基及び
水酸基の保護基としては、β−ラクタム合成の分野で通
常使用されている保護基を適宜選択して使用することが
できる。 カルボキシル基の保護基としては、［−ブチル基、２，
２．２−トリクロロエチル基、アセトキシエチル基、プ
ロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基
、１−アセトキシエチル基、１−プロピオニルオキシエ
チル基、１−＜エトキシカルボニルオキシ）エチル基、
フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシメチル基、３
，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベンジル基、
ベンズヒドリル基、ビス（４−メトキシフェニル）メチ
ル基、５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ル
ー４−イル−メチル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基等が挙げられ、特にベンズヒドリル
基、ドブチル基、シリル基等が好適である。 アミン基の保護基としては、トリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、１−リフルオロアセデル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル基、トリメチルシリル基、（−ブチル
ジメチルシリル基等が挙げられる。 水酸基の保護基としては、２−メトキシエトキシメチル
基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラヒ
ドロピラニル基、フェナシル基、イソプロピル基、ｔ−
ブチル基、ベンジル基、４−二１へロベンジル基、アセ
チル基、２，２．２−１〜リクロロエトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、アセトナイド、トリ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げ
られる。 次に本発明化合物＜Ｉ）の！！！ｊ造法Ａ及び製造法Ｂ
を詳説する。 製造法Ａ 一般式（ＩＩＩ）のＸがハロゲン原子である化合物とピ
リジン誘導体との反応は、塩化メチレン、クロロホルム
、エーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルボルムアミド
、ジメチルスルホキサイド等の有機溶媒中又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。又、本反応に用いるピ
リジン誘導体は、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸
塩、酢酸塩等の無機酸塩又は有機酸塩を用いてもよい。 この場合、反応は中和量のトリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−
メチルモルホリン等の脱酸剤の存在下に行う。又、本反
応に用いるピリジン誘導体はＮ、Ｏ−ビス（トリメチル
シリル）アセ［〜アミド等のシリル化剤でシリル化して
使用することもできる。 反応は一般式（［［）の化合物１モルに対して、ピリジ
ン誘導体を１〜２モル使用し、反応温度及び反応時間は
０〜４０℃、０．５〜５時間である。 又、一般式（Ｉ［［）のＸがアセトキシ基である化合物
とピリジン誘導体との反応は、水、リン酸緩衝液、アセ
トン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルボキサイド等の溶媒又はこれらの
混合溶媒中で行うことができる。反応は中性付近で行う
ことが好ましく、反応温度は室温から９０℃で、反応時
間は１〜１０時間である。又、本反応は、ヨウ化ナトリ
ウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、チオシアン酸ナト
リウム、チオシアン酸カリウム等のチオシアン酸塩の存
在下で行うことにより促進される。 基ＹがＳＯであるアンモニオ化合物（ｎ）はジャーナル
オブ オーガニック ケミス１〜り一（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ ０ｒａａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ） ３
５巻、２４３０頁（１９７４年）等に記載の方法により
、スルホキサイド基を還元することができる。即ち基Ｙ
がＳＯであるアンモニオ化合物（Ｉ［）はアセトン溶媒
中、ヨウ化ナトリウム又はヨウ化カリウムの存在下、−
４０〜０℃で、アセチルクロライドを滴下し、１〜２時
間反応させることにより還元されることがその一例とし
て示すことができる。反応は基ＹがＳＯである化合物（
■）１モルに対して、ヨウ化物３．５〜１０モル及びア
セチルクロライド１．５〜５モル使用する。 更に、本発明化合物（Ｉ）は、要すれば基ＹがＳである
一般式（ＩＩ）の化合物から保ｉｌを除去することによ
り製造することができる。 保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、プロ
テクティブ グループス イン オーガニック シンセ
シス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎＯｒ
ｇａｎｉｃ ５ｙｎｔｈｅｓｉｓ） １９８１年などに
記載の常用の方法を適宜選択して行うことができる。例
えば、トリチル基、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニ
ル基、ベンズヒドリル基、（−ブチル基、２−メ１〜キ
シ工トキシメヂル基等の保護基の除去は塩酸、ギ酸、ト
リフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸等の無機酸又は有機酸等で出来、特にトリフル
オロ酢酸が好適である。 尚、酸としてトリフルオロ酢酸を使用する場合には、ア
ニソールを添加することにより反応は促進される。 又、反応は水、塩化メチレン、クロロボルム、塩化エチ
レン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒中、或いはこ
れらの混合溶媒中で行うことができる。 反応温度及び反応時間は化合物（ｎ）及び本発明化合物
（Ｉ）の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択し
、特に氷冷乃至は加温程度の緩和な条件で行うのが好ま
しい。 尚、製造法Ａの原料化合物（１）は以下のようにして製
造することができる。 基ＹがＳである一般式（Ｉ［［）の化合物は、ベンズヒ
ドリル １−アミノ −３−クロロメチル−３−セフェ
ム−４−ノＪルポキシレート、７−アミツセフアロスボ
ラン酸、又はそのエステルに一般式 （Ｖ）のカルボン
酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン化物、混
合酸無水物、活性エステル等）を反応させて製造するこ
とができる。ベンズヒドリル ７−アミノ −３−クロ
ロメチル−３−ｔ？フエムー４−カルボキシレートは、
例えば特開昭５０−７６０８９号、同５６−８６１８７
号公報記載の方法により製造することができる。 ＮＹがＳＯである一般式（Ｉ［）の化合物は、基ＹがＳ
である一般式（ＩＩＩ）の化合物を塩化メチレン、塩化
エチレン、クロロホルム等の反応に関与しない溶媒中、
氷冷下に等モルのｍ−クロロ過安息香酸で酸化して製造
することができる。 基Ｘがヨウ素原子である（ＩＩＩ）の化合物は、基Ｘが
塩素原子である一般式（Ｉ［［）の化合物をアセトン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、水冷又は室
温でヨウ化ナトリウム等のヨウ化物と反応さけて製造す
ることができ、Ｍｉ 阿［もしくは、単Ｎ１せずにその
まま次の反応に用いでもよい。 製造法Ｂ 一般式（ＩＩ）の化合物は一般式（Ｖ）の化合物を水、
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、
ベンゼン、酢酸［チル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ジメヂルスル小キケイド等の反応に悪影響を与えない
溶媒中、又はこれらの混合溶媒中で、一般式（ＩＶ）の
カルボン酸又はその反応性誘導体（例えば、酸ハロゲン
化物、混合酸無水物、活性エステル等）と反応させて製
造することができる。 反応は一般式（Ｖ）の化合物１モルに対し、一般式（Ｉ
Ｖ）の反応性誘導体１〜１．５モルを使用し、反応温度
は一４０〜４０℃である。 一般式＜ＩＶ）の反応性誘導体として、酸ハロゲン化物
を使用する場合、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホ
リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤
の存在下に行うのが好ましい。 酸ハロゲン化物形成反応は、カルボン酸（ＩＶ）１モル
に対し、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、五塩
化リン、オキシ塩化リン、オキザリルクロライド、ホス
ゲン等のハロゲン化剤を１〜１０モル好ましくは１〜１
．５モル使用し、反応温度は一４０〜１００℃、好まし
くは一２０〜２０℃で、反応時間は数時間で完結する。 混合酸無水物形成反応は、カルボン酸（ＩＶ）１モルに
対し、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤１〜１．２
モルの存在下、メチルクロロポルメート、エチルクロロ
ポルメート、イソブチルクＥ１ロホルメート等のクロル
炭酸エステル１〜１．２モル使用し、反応温度は一４０
〜２０℃、好ましくは一２０〜５°Ｃで、反応時間は１
０〜６０分間である。 活性エステル形成反応は、カルボン酸（［Ｖ）１モルに
対し、Ｎ−ヒドロキシ化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシ
コハク酸イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等
）又はフ丁ノール化合物（例えば、４−ニトロフェノー
ル、２．４−ジニトロフェノール、２．４．５−トリク
ロロフェノール等）１〜１．２モル及びＮ、Ｎ−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドを１〜１．４モル使用し、反
応温度は一１０〜５０℃で、反応時間は３０〜１２０分
間である。 又、アシル化反応において、一般式（ＩＬ）のカルボン
酸を遊離酸の形で使用する場合、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、オキシ塩
化リン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド・オキシ塩化リ
ン付加物等の縮合剤の存在下でも、一般式（ＩＩ）の化
合物を製造することができる。一般式（ＩＩ）から本発
明化合物（Ｉ）の製造は前記製造法Ａに同じである。 尚、製造法Ｂの原料化合物（Ｖ）は、フラン（Ｆ ｌ
ｙｎｎ ）著のセファロスポリン アンド ペニシリン
、アカデミツク プレス（Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｎ
ｓ ａｎｄ Ｐｅｎ１ｃｉｌｌｉｎｓ、Ａｃａｄｅｍｉ
ｃ ＰＲＥＳＳ） １５１〜１７１頁、１９７２年等に
記載の方法により製造づることがぐきる。例えば、１−
アシルアミノ −３−へロメチルー３−セフェムー４−
カルボキシート誘導体（特開昭５８−７２５９０号、同
５８−１５４５８８号公報等）又は７−アシルアミノセ
ファロスポランｌ Ｌｉ導体に、ピリジン誘導体を反応
させて、 一般式 （式中、Ｒ３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙは
Ｓ又はＳｏ、Ｑ−は保護された置換基を有してもよいピ
リジニオ基、ＸＯは陰イオン、ａｃｙ ｌ −はアシル
基を示す）で表される化合物とし、次いで脱アシル化す
ることにより製造することができる。 脱アシル化反応は既に当分野では公知であり、例えば、
五塩化リン等によるイミノクロル化、次いでメタノール
等によるイミノエーテル化及び加水分解からなる方法又
はアシラーゼによる方法笠がある。 アシル基としては、例えばフェニルアセチル基、フェノ
キシアセチル基、アミノアジピル基笠が挙げられる。 次に本発明化合物の種々の細菌に対する試験管内抗菌活
性を下記の寒天平板希釈法により測定した。 ミコーラー ピン１〜ン ブロス（Ｍｕｅｌｌｃｒ Ｈ
ｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で一夜培養した各試験菌株
の一白金耳（接種菌量： １０６ＣＦＵ／戒）をミュー
ラー ヒントン アガー（）Ｉｕｅｌｌｅｒ １ｌｉｎ
ｔｏｎ ａｏａｒ ）に接種した。この培地には抗菌剤
が各濃度で含まれており、３７℃で１６時間培養した後
、最小光育阻止濃度（［Ｃ：埒／Ｉｎｌ＞を測定した。 比較化合物としてセフｔタキシム（Ｃｅｆｏｔａｘｉｍ
ｅ）を用いた。その結果を次表に示す。 本発明化合物は、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラ
ム陰性菌に対して強い抗菌力を示した。 従って、一般式（Ｉ）の化合物、その無ｍ性塩及び生理
的に加水分解可能な無毒性エステルは、抗菌剤とするこ
とが可能である。 本発明化合物は当分野で公知の固体又は液体の賦形剤の
担体と混合し、非経口投与、経口投与又は外部投与に適
した医薬製剤の形で使用づることができる。医薬製剤と
しては、注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、錠剤、カ
プセル剤、粒剤等の固形剤及び軟膏、半開等の外用剤等
が挙げられる。又、これらの製剤には必要に応じて助剤
、安定剤、湿潤剤、乳化剤、吸収促進剤、界面′活性剤
等の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。 添加剤としては注射用蒸溜水、リンゲル液、グルコース
、蔗糖シロップ、ゼラチン、食用油、カッＪオ脂、エチ
レングリコール、蔗糖、とうもろこし澱粉、ステアリン
酸マグネシウム、タルク等が挙げられる。 □ 更には、本発明の化合物は抗菌剤として、ヒトの細菌感
染症の治療に使用することがＣきる。、投与量は患者の
年齢、性別等の状態によって異なるが、通常、１日当り
１〜１００ｍ’ｊ／に９の範囲で使用され、１回当り５
〜３０ｍｇ／Ｋｇで２〜４回に分けて投与するのが好ま
しい。 次に実施例及び参考例を挙げて、本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ ７−ｆ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アレ１
ヘアミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）の製造（＾
） ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）１０ｇ（１
，４ミリモル）及びベンズヒドリル ７−アミノ −３
−クロロメチル−３−セフェム−４−カルホキシレー１
〜０．５６ ｇ（１，４ミリモル）を塩化メチレン２０
−に溶解し、０℃でＮ、Ｎ−ジメチルアニリン０．７７
ｒｄ、（６，３ミリモル）、次にオキシ塩化リン０１
２ｄ（１，７ミリモル）を滴下後、３０分間撹拌する。 反応溶液を水、１Ｎ−塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩
水で順次洗浄する。水層を更に酢酸二「チルで抽出し、
右１Ｍ層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下に
溶媒を留去し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル７−
（２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメ１へキシ
）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−１−ジチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）を得、精製す
ることなく次の反応に用いる。 （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物をアセトン２０ｄに溶か
し、０℃でヨウ化ナトリウムｏ、４９ （２，８ミリモ
ル）を加え、室温で３０分間撹拌する。反応液を１０％
チオ硫酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで２回
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水６Ｍ酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラ１１りロマトグラフィーに付し、目的物を含
む溶出画分（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）を濃縮し
、ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−［３
，４−ジ（２−メトキシエトキシン１−キシ）ベンジル
オキシイミノｌ−２−（２−１−ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１〜アミド）−３−セフェム−４−
カルボキシレート（シン異性体）１．０９ｇ（収率６５
％）を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３３９０．１７８５．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３．２０（３Ｈ，Ｓ）、３．２２（３＋１．Ｓ）、３．
４５（６Ｈ，ｍ）、 ３．７５（４１１，ｍ）、４゜３
５（２１１，ｂｒｓ）、５．０５（２１１，ｂｒｓ）、
５．２４（４１１，Ｓ）、 ５．２４（１１１，ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．７８（１１１，ｍ）。 ６、７５（１１１，Ｓ）、 ６．９６（１１１，Ｓ）、
７．０〜７．８（２８１１゜ｍ）、 ８．８０（１１
１，ｂｒｓ、 ＴｒＮＨ−）、 ９．６３（１１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物５０ｈ＋ｙ （０，４１
ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５７！に溶
かし、ピリジン０．０６ ｄ （０，フロミリモル）を
加え、室温で１時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、
１ｑられる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール・塩
化メチレン）を濃縮しで、ベンズヒドリル ７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシニ「トキシン１〜キシ）ベ
ンジルオキシイミノ］−２−（２−トリデルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド）−３−（１−ピリジ
ニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート〜
・ヨウ化物（シン異性体） ４３０ｍ’ｊ （収率８
０％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ’） δ ：３．２０（
３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３．５０（６
１１，ｍ）、３．７５（２１１，ｍｌ、５．０３（２１
１，ｂｒｓ）、５．２２（／ＩＨ，Ｓ）、５．２２（１
１Ｉ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．５９（２１１，ｂｒｓ
）、５．９０（１１Ｉ、ｍ）。 ６、７２（１１１，ｓ）、 ６．９２（ｉｌｌ、 ｓ）
、 ７．０〜７．７（２８１１゜ｍ）、８．１８（２１
１，ｔ、Ｊ＝６１１Ｚ）、８．６２（１１１，ｍ）、８
．９６（２１１，ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．８３（
ＩＨ，ｂｒｓ）、 ９．６８（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、Ｊ＝
８１１ｚ） （０）上記（Ｃ）で得た化合物０．４３９ （０，３３
ミリモル）を塩化メチレン２．０蔵に溶かし、アニソー
ル０．８ｄ、次いで０℃で１−リフルオロ酢酸２．０−
を加え、室温にて１時間撹拌する。溶媒を減圧下に留去
し、冷ＮＪ下にジエチルエーテルを加え沈澱物を濾取す
る。この沈澱物に水を加え、不溶物を濾別後、ＯＤＳカ
ラムクロア１〜グラフィー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケムコ
社）に付し、目的物を含む溶出画分（３０％メタノール
・水）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物４１ｍｇ（収率
２１％）を得る。 ＨＰ １４０℃（分解） ＩＲ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３４００．１７７５．１
６２ＯＮＭＲ（Ｄ）ＩｓＯ−ｄｓ ） δ：３．４
５（２１１，ｍ）、４．９３（２Ｈ，ｂｒｓ）、５．２
０（ｌｉｔ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、 ５．５６（２ｔｌ
、 ｂｒｓ）、 ６．６４（１１１，ｓ）、 ６．７２
（１１１゜ｓ）、６．７３（２１１，ｍ）、８．２０（
２１１，ｂｒｔ、Ｊ＝６１１ｚ）、８．６６（１Ｎ、
ｍ）、 ９．０４（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）
、 ７．２９（２１１，ｂｒｓ）、９．５８（ｉｌｌ、
ｍ） 実施例２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルポキシレー１−（シン異性体）の製造（Ａ
） ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ
）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
酢酸（シン異性体） １．２！７ （１，８７ミリモ
ル）及びベンズヒドリル ７−アミノ −３−クロロメ
チル−３−セフェム−４−カルボキシレート０．７７
ｆｆ （１，８７ミリモル）を塩化メチレン２ｈｔｆ２
に溶ｈＸシ、室温にてＮ、Ｎ−ジメチルアニリン１．１
ｄ （８，４ミリモル）、次にオキシ塩化リン０．２１
ｄ （２，２ミリモル）を滴下し３０分間撹拌する。 反応溶液を水、１ト塩酸、１０％重曹水及び飽和食塩水
で順次洗浄し、水層を更に各々酢酸エチルで抽出する。 有機層を合せて、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３〜１：１）
で精製し、ベンズヒドリル ３−クロロメチル−７−１
’２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）
−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシレート（
シン異性体） ０．２４ ｇ及びその脱アセチル体を
得る。脱アセデル体をピリジン２ｍｌ及び無水酢酸２厩
で処理後、前記同様にシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、ベンズヒドリル３−クロロメチル−７−［
２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセ
トアミド］−３−ｔ？フエムー４−カルボキシレート（
シン異性体） ０．６４９を得る（計０．８８ ｃｉ
：収率４５％）。 ＮＭＩｔ （Ｄ）１３０−ｄｓ ） δ ：２．
２４（３１１，ｓ）、２．２６（３１１，ｓ）、３．ｆ
３０（２ｆｔ、ｍ）、４．４１（２１１，ｂｒｓ＞、
５．１０（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２０（７Ｈ，ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、５．８２（１１１，ｍ）、−６，７
１（１１１，ｓ）、６．９３（Ｉｌｌ、ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．８２（Ｉｔｌ、
ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）。 ９、７２（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝８ｔｌｚ）（８）上
記（八）で１７だ化合物０．８８ ｇ（０，８５ミリモ
ル）をアセｉ〜ン１８成に溶かし、Ｏ′Ｃでヨウ化ナト
リウム０．２５ ’；Ｊ （１，７ミリモル）を加え、
Ｖ温にて３０分間撹拌する。反応液を１０％チオ硫酸ナ
トリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで３回抽出し、有
機層を飽和食塩水で洗浄する。有１Ｍ層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して、ベンズヒド
リル ３−ヨードメチル−７−ｒ２−（３，４−ジアセ
トキシベンジルオキシイミノ）−２−（２−ドリチルア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−ｔ？
フコムー４−カルボキシル−１へ（シン異性体） ０
．８８ ｇ（収率９２％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−６６） δ ： ２、２８（６１１，ｓ）、 ３．７（２１１，ｍ）、
４．３３（２１１，ｍｌ、 ５．１３（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．２５（１１１，ｄ、 Ｊ＝５１１Ｚ）、 ５
．７６（１１１，ｍｌ。 ６、７６（ＩＩＩ、 ｓ）、６．９６（１１Ｉ、 ｓ）
、 ７．０〜７．９（２８１１゜ｍ）、８．８３（ＩＩ
Ｉ、ｂｒｓ、丁ｒＮＨ−）、９．７（０１，ｂｒｄ、Ｊ
＝８（Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８８ ！Ｊ（０
，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｄ
に溶かし、ピリジン０．２ｍ （２，５ミリモル）を加
え、室温にて４時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ１−グラフィー
で精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール・塩
化メチレン）を濃縮しＣ、ベンズヒドリル ７−［２−
（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−２−
（２−−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−（１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体） ５０ｈ＋ｙ （収率４９％）の泡状物を得る。 Ｎ旧 （Ｄ）ＩｓＯ−ｄ６ ） δ ：２．２６（
３１１，ｓ）、２．３０（３１！、ｓ）、３．５２（２
１１，ｍ）、５．２２（２１１，ｂｒｓ）、 ５．２９
（ｉｌｌ、 ｄ、 、Ｉ’５１１Ｚ）、 ５．５８（２
ｔ（、ｂｒｓ）、５．９２（１１１，ｍ）、６．７６（
ｉｌｌ、ｓ）、６．９３（１１１，ｓ）。 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．２０（２１１，
ｂｒｄ、Ｊ＝６Ｈ２）。 ８．６８（１１１，ｍ）、８．９６（２１１，ｂｒｄ、
Ｊ＝Ｇｔｌｚ）、８．９０（ｉｌｌ。 ｂｒｓ、ＴｒＮＩＩ−）、 ９．７４（１１１，ｂｒ
ｄ、Ｊ＝８１１ｚ、−ＣＯＮＩＩ−）（ＤＪ上記（Ｃ）
で１９だ化合物０．５４７ （０，４１ミリモル）をｊ
ｎ化メチレン２．５ｄに溶かし、アニソール０．５ｔｔ
ｄｌを加え、０℃に冷却し、１−リフルオＩコ酢酸２．
５ｍｌを加える。室温にて１時間攬拝し、溶媒を減圧下
に留去して得られる残渣にＯ′Ｇにでジエチルエーテル
を加え生成する沈澱物を濾取する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、００５カラム
クロマトグラフイー（ＬＣ−３ｏｒｂ ：ケム＝１社）
に（＝Ｊし、目的物を含む溶出画分く３０％メタノール
・水）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物１０７ｍｇ（収
率３９％）を得る。 ）ＩＰ １６０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ ） ｃｒｉ ： ３４２０． １７６
５． １６６５． １６２ＯＮＨＲ（Ｄ）１３０−ｄ６
）δ： ２．２６（６１１，Ｓ）、 ３．４２（２Ｈ，ｂｒｓ）
、 ５．１０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．２０（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．３５（１
１，ｍ）、５．６５（１１１，ｍ）、 ５．７０（ＩＨ
，Ｓ）、 ６．６９（ｌｔｌ、 ｓ）、 ７．２０（３
Ｈ，ｍ）。 ８、１３（２１１，ｂｒｃｊ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８
．５８（１１１，ｍ）、 ９．４８（２１１゜ｂｒｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ） 実施例３ ７−ｒ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−アミノ −１−ピリジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミンデアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｚ （０，８２ミリモル）をＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｄに溶かし、３−トリチ
ルアミノピリジンｏ、ｉｇ（０，８２ミリモル）を加え
、室温にて２時間放置する。減圧下に溶媒を留去し、得
られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物を含む溶出画分（２％メタノール・塩化メ
チレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（２−［３
，４−ジ２−（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミンデアゾー
ル−４−イル）アセ１〜アミド）−３−（３−トリチル
アミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェム−４
−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体） １．
３５９ （収率１００％）を泡状物としで得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３Ｎ、ｓ）、３．
５２（６ｆｌ、ｍ）、３．８０（４１１，ｍ）、５．２
０（２１１，ｍ）、５．３６（４１１，ｂｒｓ）、５．
４０（２ｔｌ、ｍ）、５．９５（１１１，ｍ）、６．７
８（ｉｌｌ、ｓ）、６．８８（１ｔｌ。 ｓ）、７．０〜７．７（２８１，ｍ）、８．４６（１ｔ
（、ｂｒｓ）。 ８、８２（ｉｌｌ、 ｂｒｓ）、 ９．６２（ＩＩＩ、
ｂｒｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）（Ｂ）上記（＾）で得た化合
物１．３５ ｙ （０，８７ミリモル）を塩化メチレン
５．０ｄに溶かし、アニソール１．０ｄを加え、０℃に
冷却しトリフルオロ酢酸５． （７を加える。室温にて
１時間撹拌し、溶媒を減圧下に留去しＣ得られる残渣に
０℃にてジエチルエーテルを加え生成する沈澱物を辺数
する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィ＝（ＬＣ−３Ｏｒｂ ：ケムコ礼）に
付し、目的物を含む溶出画分（２０％メタノール・水）
を濃縮、凍結乾燥し、標記化合物を含む△２ ・△”
（３：２）の混合物４５ｍ９Ｉを得る。 ＨＩ’ １７０℃（分解） Ｉｎ （ＫＢｒ ） ｃＭ ： ３３４０．３２００．
１７６０．１６２ＯＮ）ＩＲ（Ｄ）４３０−ｄ６ ）δ
： ３．５０（２１１，ｍ）、４．９６（２１１，ｂｒｓ）
、５．０６（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．２〜５．
４（２１１，ｍ）、５．６８（ＩＮ、ｍ）、６．７１（
ＩＩＩ、 ｓ）、 ６．７５（３１１，ｍｌ、 ７．２
１（２１１，ｂｒｓ、−Ｎｌ１２）。 ７．６４（３１１，ｍ）、 ８．２２（１１１，ｂｒｓ
）、 ９．５０（１１１，ｍ、 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例４ ３−（３−アセトアミド−１−ピリジニオ）メチル−７
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（
３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセトア
ミド１−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ１アセトアミド］−３−セフェム−４−
カルボキシレート４．０９ （３，３ミリモル）を塩化
メチレン８０−に溶かし、０℃に冷却する。次にｍ−ク
ロロ過安＠香酸（８０％含有） ０．７０９（３，３
ミリモル）を加え、１５分間撹拌する。反応溶液に１０
％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、次に
１０％重曹水で洗浄する。水層を塩化メチレンで抽出し
、先の有感層と合せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで
洗浄してベンズヒドリル３−ヨードメチル−７−（２７
［３，４−ジ（２−メ１〜キシ二ｒ１〜キシメトキシ）
ベンジルオキシイミノ］−２−（２−１−リチルアミノ
チアゾールー４−イル）アセ１〜アミド）−３−セフ１
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド（シン異性
体） ３．９５ ｇ（収率９７％）を得る。 ＩＲ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３３７０．１７９８．１
７２２．１６８２ＮＨＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： ３．２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．４６（６１１，ｍ）、３．７６（４Ｈ，ｍ）、４．４
２（２Ｈ，ｍ）、５．０５（３Ｈ，ｍ）、５．２３（４
Ｎ。 ｂｒｓ）、５．８７（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝５及び８１１
ｚ）、 ６．８０（ＩＩＩ、ｓ）、 ７．０〜７．８（
２８１１，ｍ）、８．′７３（１１１Ｊｒｓ）。 ８、９８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ）（８）
上記（＾）で得た化合物１．Ｏび（０，８１ミリモル）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｒｄ！に溶かし、
３−トリチルアミノピリジンｏ、５ｇ（１，５ミリモル
）を加え、空温にて１時間放置する。減圧下に溶媒を留
去し、得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、目的物を含む溶出画分（５％メタノール
・塩化メチレン）を濃縮して、ベンズヒドリル ７−（
２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ１−２＝（２−１〜リチルアミノチ
アゾール−４−イル）アセ１〜アミド］−３−（３−ト
リチルアミノ −１−ピリジニオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート １−オキサイド・ヨウ化物
（シン異性体）１．１７４７（収率９３％）を泡状物と
しで得る。 ｔ４ＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３、１９（３１１，ｓ）、 ３．２−１ （３１１，ｓ
）、 ３．４０（２１１，ｂｒｓ）。 ３．４４（４１１，ｍ）、３．７２（４１１，ｍ）、５
．０８（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ−ｓｌｌｚ）、 ５．２
０（４１１，Ｓ）、 ５．２３（２ｔｌ。 ｍ）、 ６．００（ＩＩＩ、 ｍ）、 ６．８１ （１
１１，ｓ）、 ６．８８（ｉｌｌ、 ｓ）。 ７．０〜７．８（３２Ｈ，ｍ）、８．４０（ＩＨ，ｂｒ
ｓ、丁ｒＮＨ−）。 ８、７３（ＩＩＩ、 ｂｒｓ、 ＴｒＮＩＩ−）、 ９
．１６（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝８１１ｚ。 −ＣＯＮｉ−） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物１．２１グ（０，８１ミ
リモル）をアセトン２５ｄに溶かし、ヨウ化カリウｌｘ
Ｏ，５４９（３，２ミリモル）を加え、次いで０℃で
アセチルクロライド０．１２ ｄ （１，６ミリモル）
を滴下後、１時間撹拌する。反応溶液を１０％メタ重亜
流酸ソーダ水に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す］・リウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去する。残渣を再び同様の反応及
び操作を繰り返し、ベンズヒドリル ７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−（２−トリチルアミノデアゾール−４
−イル）アセ１−アミド）−３−［３−（Ｎ−１−リチ
ル）アセトアミド−１−ピリジニオ］メチルー３−セフ
ェム−４−カルボキシレート・ヨウ化物（シン異性体＞
１．５６ ｇを泡状物として１！？、精製すること
なく次の反応に用いる。 （Ｄ）上記（Ｃ）で得た化合物１．２ｇ（０，７５ミリ
モル）を塩化メチレン５．０Ｉｎ１１．：溶かし、アニ
ソール１．Ｏｄを加え、０℃に冷却下しトリフルオロ酢
酸５．ＯＩｄを加える。゛室温にて１時１！！撹拌し、
溶媒を減圧下に留去して得られる残渣に０℃にてジエヂ
ルエーテルを加え生成する沈澱物を濾取する。 この沈澱物を水に溶かし不溶物を濾別後、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィー（ＬＣ−３Ｏｒｂ 、：ケムコ社）
に付し、目的物を含む溶出画分（３０％メタノール・水
）を濃縮、凍結乾燥して標記化合物５５ｍｇ（収率１２
％）を得る。ＨＰ １５５℃（分解）ｒＲ（にａｒ
）ｃｉＡ ： ３３３０．．１７６８．１６６２．１６
０８Ｎ）Ｉｆｆ （ＤＨ３Ｏ−ｄ６ ） δ ：
２、０９（３１１，ｓ）、 ３．６０（２Ｈ，ｍ）、
４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５．０８（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．４０（１
１１，ｍ）、５．６０（１Ｎ、ｍ）、５．７２（ｌｔｌ
、ｍ）、６．６０（ＩＨ，ｓ）、６．６２（１１１，ｓ
）。 ６．６９（２１１，ｍ）、７．１６（２１１，ｂｒｓ、
−Ｎｆ１２）。 ８．０２（ｉｌｌ、ｍ）、８．５５（ＩＩＩ、ｍ）、８
．９２（Ｉｆｆ、ｍ）。 ９、４８（１１１，ｂｒｓ）、 ９．５０（１１１，ｍ
、 −ＣＯＮｔｌ−）実施例５ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，Ｉｔ−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（３−ノノルポキシレート−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
ナトリ１クムＪｐ （シン異性体）の製造（Ａ）ベンズ
ヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−１３，４−ジ
（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト １．０ｇ（０，８２ミリモル）と３−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルピリジン０．２５ ｑ＜ ０．８７
ミリモル）から、実施例３（八）と同様の方法によりベ
ンズヒドリル ３−（３−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル−１−ピリジニオ）メチル−７−（２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−［３，４−ジ
（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベンジルオキシイミ
ノ１アセトアミド）−３−セフェ・ムー４−カルボキシ
レート・ヨウ化物（シン異性体） ０．７８ｇ（収率
６３％）を泡状物として得る。 Ｎｔ（Ｉｔ （Ｄ）１３０−ｄ６）δ：３．２２（６
１１，ｓ）、３．４０（ｆ３１１．ｍ）、３．７２（４
Ｈ，ｍ）、５．０２（３１１，ｍ）、５．２２ （４１
１，ｂｒｓ）、５．７４（２１１，ｍ）、５４）０（Ｉ
ｌｌ、ｍ）、６．７３（ＩＮ、ｓ）、７．００（１１１
，ｓ）、 ７．０〜７．８（２８１１，ｍ）、８．３
０（１１１，ｍ）、 ８．８０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ９
．１８（ＩＩＩ、Ｉｌｌ、９．（３２（ｉｌｌ、ｂｒｓ
）（Ｂ）上記（八）でキ程だ化合物０．７８ ｑ （０
，５２ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により
標記化合物１０４ｍｙ（収率３２％）を得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） ｒＲ（ＫＢｒ）ｃＩｌｌ： ３４００． １７８８．
１６４０． １６１ＯＮ１４ｆｔ （叶５ｏ−ｄ５
）δ：３、４０（２１１，ｂｒｓ）、 ４．８８（２
ｔｌ、 ｂｒｓ）、 ５．０３（１Ｈ，ｄ。 Ｊ＝４１１ｚ）、 ５．２０（ＩＨ，ｍ）、 ５．６２
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４及び８ｔｌｚ）、 ５．７０（
ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．５８（ＩＨ，ｓ）、 ６．６６
（１８，ｓ）。 θ、７２（１）ｆ、ｍ）、 ７．１８（２１１，ｂｒｓ
）、８．０４（１１１，ｄｄ、Ｊ＝６及び引１ｚ）、
８．７２（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２
８（ｉｌｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．６０（１１１，ｍ）実施
例６ ７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルボキシレート−１−ピリジニ
オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート・モ
ノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７、−（２
−［３，４−ジ（２−メトキシ１トキシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルホキシレー１〜１．０ｓ （０，８２ミリモル）と
４−ベンズヒドリルオキシカルボニルピリジン （ ０．８０ミリモル）から実施例３（Ａ）と同様の方
法によりベンズヒドリル ３−（４−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−１−ピリジニオ）−７−（２−（３．
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオ
キシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート・ヨウ化物（シン異性体） ６９５Ｒ＋ｇ
（収率５６％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ （ＯＨ３０−６６ ）δ： ３、２２（３ｔｌ，ｓ）、３、２４（３日，ｓ）、３．
４５（６１１，ｍ）、３．７２（４１１，ｍ）、５．０
３（２１１， ｂｒｓ）、５．２０（４１１，ｂｒｓ）
、５．２（）（ＩＨ，ｄ，Ｊ−５Ｈｚ）、５．６９（２
Ｈ，ｂｒｓ）、５．８８（１ｔｌ，ｍ）。 ６、７３（１１１，ｓ）、６．９１（１ｔｌ，ｓ）、７
．０ 〜７．８（２８１１，ｍ）、 ａ． ７０（２Ｈ
， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ９． １８（２１１，
ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、８．８０（１１１，ｂｒ
ｓ，ＴｒＮｌｌ−）、９．６４（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ， −ＣＯＮｔ（−） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０．４３ ｙ （ ０．
３３ミリモル）を実施例３（Ｂ）と同様の方法により標
記化合物４１ｍｙ（収率２２％）を得る。 ＨＰ １６５℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）ＣＩＩｔ： ３４００， １７７０．
１６２ＯＮ）Ｉｎ （Ｄ）１３０−６６ ）δ：３
、 ６８（２Ｈ， ｍ）、 ４． ９０（２１１， ｂ
ｒｓ）、 ５． ０４（ＩＨ， ｄ， Ｊ＝６１１ｚ）
、５．２２（ｉｌｌ， ｍ）、 ５．６０（１１１，
ｍ）、 ５． ７５（１１１， ｍ）。 ６、 ６０（ＩＨ， ｓ）、 ６． ６８（１１１，
ｓ）、 ６． ７３（２１１， ｍ）。 ７、１８（２１１，ｂｒｓ，−Ｎｌ１２）、 ８。２０
（２１１， ｄ， Ｊ＝６ｔｌｚ）。 ９、２８（２＋１，ｄ，Ｊ＝６１１２）。 ９、 ５４ （１１１ 、 ｂｒｄ 、 Ｊ＝８１１ｚ
， −ＣＯＮＩＩ− ）実施例７ ７−ｒ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３．４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（４−カルバモイル−１−ピリジニオ）
メチル−３−セフＴムー４ーカルボキシレー］・（シン
異性体）の製造 （八）ベンズヒドリル ３−ヨートメデル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ１−２−（２− トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルホキシレーｔ− １．０ｇ（ ０．８２ミリモル）
と４−カルバモイルピリジン０．１０ ９ （ ０．８
２ミリモル）から実施例３（八）と同様の方法によりベ
ンズヒドリル ３−（４−カルバモイル−１−ピリジニ
オ）メチル−７−（２−［３．４−ジ（２−メトキシエ
トキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
）−３−ｔフエムー４−カルボキシレート・ヨウ化物（
シン異性体）０、７０ ｇ（収率６４％）を泡状物とし
て得る。 ＮＨＲ （ＤＨＳＯ−６６）δ： ３、２０（３１１，ｓ）、３．２２（３Ｎ，ｓ）、３．
３８（２Ｎ， ｓ）、３． ４８（４１１， ｍ）、
３． ７６（４１１， ｍ）、 ５． ０３（２１１，
ｂｒｓ）、 ５． ２２（４１１， ｂｒｓ）、 ５
． ３０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．
０８（２Ｈ， ｍ）、５．９０（１１１，ｄｄ，Ｊ＝
６及び８１１ｚ）、６．７４（１ｔｌ，ｓ）。 ６、９２（ＩＩＩ，ｓ）、７．０ 〜７．７（２８ｔｌ
，ｍ）、７．８０（１１１。 ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ８． ４５（ｉｌｌ，
ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）、 ８． ６８（ＩＩＩ。 ｂｒｓ， ＴｒＮｆｌ−）、 ８． ７８（ＩＨ， ｂ
ｒｄ， Ｊ＝６１１Ｚ，−ＣＯＮＨ−）。 ９、１２（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、９．６８
（１ｔｌ，ｂｒｄ，−ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（Ａ）
で得た化合物０．７０ ｇ（ ０．５２ミリモル）を実
施例３（Ｂ）と同様の方法により標記化合物８４■（収
率２６％）を得る。 ＭＰ １６０℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）Ｃｆｆｌ： ３３９０．１７７９．１
６８０ＨＨＲ（Ｄ）１３０−ｄ６）δ： ３、５０（２１１，ｍ）、 ４．９０（２１１，ｂｒｓ
）、 ５．０４（ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５
．２０（ＩＩＩ、 ｍ）、 ５．６５（ＩＨ，ｍ）、
５．７５（ＩＨ，ｍ）。 ６、６６（１１１，ｓ）、 ６．６８（ＩＩＩ、 ｓ）
、 ６．７０（２１１，ｍ）。 ７．１３（２１１，ｂｒｓ、−Ｎ１１２）、８．４５（
２１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、５８（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ９．４
９（１１１，ｍ、 −ＣＯＮＩＩ−）実施例８ ７−ｒ２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−＋４−スルホネートメチル−１−ピリジ
ニＡ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレーＩ−
・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造 （Ａ）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセ１−アミド）−３−セフェム−４−
カルボキシレート １．０ｇ（０，８２ミリモル）と４
−ピリジルメタンスルホン酸ナトリウム０．３１ ｑ
（１，０４ミリモル）から実施例３（Ａ）と同様の方法
によりベンズヒドリル ７−（２−［３，４−ジ（２−
メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキシイミノ］−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド）−３−（４−スルホネートメチル−１−ピリ
ジニオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
異性体）７１０ｍｇ（収率６８％）を泡状物として１り
る。 ＮＨＲ （叶Ｓｏ−ｄ６）δ： ３、２０（３１１，ｓ）、３．２２（３１１，ｓ）、３
．５２（６１１，ｍ）、３．７６（４１１， ｍ）、
４． １２ （２１１， ｂｒｓ）、 ｓ． ０３（３
Ｈ， ｍ）、 ５． ２２（４１１，ｂｒｓ）、５．３
〜５．６（２１１，ｍ）、５．９２（１１１，ｍ）。 ６、７２（１１１，ｓ）、６．９３（ｉｌｌ，ｓ）、７
．０ 〜７．７（２８ｔｌ，ｍ）、 ７． ９８（１１
１， ｂｒｄ， Ｊ＝６１１ｚ）、 ８． ０６（ｉｌ
ｌ， ｂｒｄ， Ｊ＝６ｔｌｚ）、 ８． ７８（２Ｈ
， ｂｒｄ， Ｊ＝６Ｈｚ） 、 ８．８５（ＩＩＩ，
ｂｒｓ。 ＴｒＮＨ−）、 ９． ７０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ
＝８ｔｌｚ， −ＣＯＮＩＩ−）（Ｂ）上記（八）で得
た化合物０．７１ ｇ（ ０．５６ミリモル）を実施例
３（Ｂ）と同様の方法により標配化合物を含む△ ・△
（３：２）の混合物２１５ｍｇ（収率５８％）を得る
。 ＋（Ｐ １８０℃ （分解） ＩＩＩ （ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００， １７６３
． １８３８． １６１ＯＮＯＲ （ ０８３０−ｄ
６）δ： ３、ｆ３０（２１１，ｍ）、４．１２（２１１，ｂｒｓ
）、４．９０（２１１，ｂｒｓ）。 ５、０８（ＩＩＩ，ｄ，Ｊ＝５ｔｌｚ）、５．２ 〜５
．７（２ｔｌｍ）。 ５、 ６９（１１Ｉ， ｍ）、 ６． ６６（ＩＨ，
ｓ）、 ６． ７２（３１１， ｍ）、 ７． １６（
２１１，ｂｒｓ，−Ｎ１１２）、８．００（２１１，ｂ
ｒｄ，Ｊ＝６１１Ｚ）。 ８、９２（２１１，ｂｒｄ，Ｊ＝Ｇ１１ｚ）、９．２２
（１１１，ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、 ５０（ＩＩＩ， ｂｒｄ， Ｊ＝６１１Ｚ， −
ＣＯＮＨ−）実施例９ ７−１２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３． ４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）７
０ドアミド］−３−［４−＋２−スルホネートコニチル
）−１−ピリジニ第１メチルー３ーセフェム−４−カル
ボキシレート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造
（Ａ．）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２
−〔３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベン
ジルオキシイミノ］−２−（２− トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４
−カルボキシレート１．０ｇ（ ０．８２ミリモル）と
テトラブチルアンモニウム ２−（４−ピリジル）エタ
ンスルホン酸塩０、３５ ｇ（ ０．８２ミリモル）か
ら実施例３（八）と同様の方法によりベンズヒドリル
７−（２−（３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキ
シ）ベンジルオキシイミノ１−２−（２− トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３−［４
−（２−スルホネートエチル）−１−ビリジニ第１メチ
ルー３ーセフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）２９３ｍｙ（収率２８％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ （ ＤＨＳＯ−ｄ６）δ： ２、８６（２１１， ｍ）、 ３．２０（３１１， ｓ
）、 ３．２０（２Ｈ，ｍ）、 ３．２３（３１１，ｓ
）、３．５６（６１１，ｍ）、３．７５（４１１，ｍ）
、５．０５（２１１。 ｂｒｓ）、 ５．２６（１１， ｄ，Ｊ＝５１１ｚ）、
５．２６（４１１， ｓ）、 ５．５５（２ｔｌ，
ｂｒｓ）、 ５． ８８（１１１， ｍ，−ＣＯＮＨ−
）、 ６． ７８（１１１， ｓ）。 ６、８３（ＩＨ，Ｓ）、７．Ｑ〜７．８（２８１（、ｍ
）、 ７．９５（２＋１。 ｂｒｄ，Ｊ＝６１１ｚ）、８．７０（ｌｌｔ，ｂｒｓ，
ＴｒＮＩ！−）、８．７８（１１１。 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、９．６５（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）（Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物０．２９ ｑ
（０，２３ミリモル）を実施例３（８）と同様の方法
により標記化合物を含むΔ２・△３ （１：１）の混合
物７２ｍｙ （収Ｘ？４６％）を得る。 ）ＩＰ １７０℃ （分解） １１（（にＢｒ）ｃｆｆｌ ： ３４１０． １７６
０． １６３５． １６２ＯＮＭＲ（ＤＨ３Ｏ−６６）
δ ： ３．００（２１１，ｍ）、 ３．２０（２１１，ｍ）、
３．６（２１，ｍ）、 ４．９６（２１１，ｂｒｓ）、
５．０２（１１１，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．２〜ｓ、
５（２１１，ｍ）、５．８０（１１１，ｍ）、６．６７
（１１１，ｓ）、６．７５（３１１゜ｍ）、７．１７（
２１１，、ｂｒｓ、−ＮＩＩ２ ）、８．０６（２１
１，ｂｒｄ、Ｊ−６１１ｚ）、 ８．８８（１１１，ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．２０（ＩＩＩ、 ｂｒ
ｄ。 Ｊ＝６Ｈ２）、 ９．７８（ｉｌｌ、 ｂｒｄ、 Ｊ＝
６Ｈｚ、 −ｃｏＮ＋＋−）実施例１０ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−［４−（２−スルホネートエチル）−１
−ピリジニ第１メチル−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・モノナトリウム塩（シン異性体）の製造（＾）
ベンズヒドリル ３−ヨートメデル−７−（２−［３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジルオキ
シイミノ］−２−＜２− トリチルアミンチアゾール−
４−イル）アセ］・アミド）−３−セフ１ムー４−力ル
ポキシレート １−オキサイド１．２Ｕ （０，９７ミ
リモル）と２−（４−ピリジル）エタンスルホン酸カリ
ウム０．４２ ｇ （１，８７ミリモル）から実施例４
ＣＢ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−
１３゜４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−［４−（２−スル
ホネートエチル）−１−ピリジニオ］−メチル−３−セ
フェム−４−力ルポキシレート １−オキサイド（シン
異性体〉 ７１０■（収率５６％）を泡状物として得る
。 ＮＭＲ（ＯＨ３０−ｄ６）δ： ２、９０（２１１，ｍ）、 ３．２０（２ｔ（、ｍ）、
３．２０（３１１，ｓ）、 ３．２２（３１１，Ｓ）
、 ３．３５（２１１，ｍ）、 ３．５０（４１１，ｍ
）、 ３．７５ （２１１゜ｍ）、 ５．０６ （２Ｎ
、 ｂｒｓ）、 ５．１０（ｉｆｔ、 ｄ、 Ｊ＝５Ｈ
ｚ）。 ５．２０（４１１，ｓ）、５．４８（２ｔｌ、ｂｒｓ）
、６．００（２１１，ｄｄ、Ｊ＝５及び６１（ｚ）、
６．８０（ＩＩ（、ｓ）、 ６．９５ （ｔｌ（、ｓ）
。 ７．０〜７．７（２８１１，ｍ）、８．０６（２１１，
ｂｒｄ、、Ｉ＝６１１ｚ）。 ８、７２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）、 ８．７
３（１１１，ｂｒｓ、 ＴｒＮＨ−）。 ９、２０（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯ
Ｎｌｌ−）（８）上記（ＡＪで得た化合物０．７１ ’
；ｉ （０，５５ミリモル）、ヨウ化カリ１クム０．３
６ ！７ （２，２ミリモル）及びアセチルクロライド
０．０７８ｄ （１，１ミリモル）を用い、実施例４（
Ｃ）と同様の方法によりベンズヒドリル ７−（２−（
３，４−ジ（２−メ１〜キシＴＩ・キシン１〜キシ）ベ
ンジルオキシイミノｌ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセ１−アミド）−３−［４−（２
−スルホネートよチル）−１−ピリジニ第１メチルー３
−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
８（）Ｏｍｙを泡状物として得、精製することなく次の
反応に用いる。 （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物０．８０９ ＜ ０．５
５ミリモル）を実施例４（Ｏ）と同様の方法により標記
化合物１８７＃ （収率５０％）を得る。 ＭＰ ７５０℃ （分解） Ｉｎ （ＫＢｒ）ｃｆｆｌ： ３４００． １７７５
． １６２ＯＮＨＲ（０８３０−ｄ６ ） δ：２
、９６（２１１，ｍ）、 ３．１８（２１１，ｍ）、
３．３８（２１１，ｂｒｓ）。 ４．９０（２１１，ｂｒｓ）、５．０２（１ｆｔ、ｂｒ
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、５．１０（？ｆｌ、 ｍ）、 ５．
６０（１１Ｉ、 ｂｒｓ）、 ５．７０（ＩＩＩ、 ｍ
）、 ６．６９（１）ｌ、 ｓ）、 ６．７５（３Ｈ，
ｍ）、 ７．１８（２ｔ（、ｂｒｓ、 −Ｎ）−１２）
。 ８．０２（２１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．
００（ＩＩＩ、 ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）。 ９、１８（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．５２
（１１１，ｂｒｄ、 Ｊ＝ＧＨｚ。 −ＣＯＮｌｌ−） 実施例１１ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（３，４−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ）アセト
アミド］−３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリ
ジニア１１メチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）の製造 （＾）ベンズヒドリル ３−ヨードメチル−７−（２−
［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジ
ルオキシイミノ］−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ルー４−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート１．０ｇ（０，８２ミリモル）及び２，
３−シクロペンテノピリジン０．１ｄ （０，８５ミリ
モル）から実施例３（＾）と同様の方法によりベンズヒ
ト 。 リル ３−（２，３−シクロペンテノ −１−ピリジニ
オ）メチル−７−（２−［３，４−ジ（２−メトキシ」
ニドキシメトキシ）ベンジルオキシイミノＪ−２−（２
−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセトアミド
）−３−ｔフエムー４− ｊｙルポキシレー１−・ヨウ
化物（シン異性体）０．９０５Ｆ（収率８２％）を泡状
物として得る。 Ｎ）（Ｒ（ＤＨ３Ｏ−ｄ（、）δ： ２．２０（２１１，ｍ）、３．２０（４１，ｍ）、３．
２０（３Ｎ、ｓ）、３．２２（３ｆｔ、 ｓ）、 ３．
５０（２１１，ｍ）、 ３．５０（４Ｎ、 ｍ）、 ３
．７８（４ｔｌｍ）、５．０４（２１１，ｂｒｓ）、５
．２０（２１１，ｂｒｓ）、５．２８（ｌｔｌ。 ｂｒｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、５．５０（２ｔｌ、ｂｒｓ）
、５．９２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５及び８１１ｚ）、６．
７５（１１１，ｓ）、７．００（ＩＩＩ、ｓ）、７．０
〜７．８（２８１１，ｍ）、７．８８（ＩＨ，ｂｒｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４０（１１１゜ｂｒｄ、Ｊ＝６ｔｌ
ｚ）、８．６２（１１１，ｂｒｄ、Ｊ＝６ｆｌｚ）、８
．８０（１１１゜ｂｒｓ、 ＴｒＮｔ（−）、 ９．６
８（ＩＨ，ｂｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮｔｌ−
）（Ｂ）上記（八）で得た化合物０．９０９ （０，ロ
アミリモル）を用い、実施例３（Ｂ）と同様の方法によ
り標記化合物１０２ｍｇ（収率２５％）を得る。 ）ＩＰ １６５℃ （分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｉｉｉ： ３４００．１７７０．１６
１８ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−６６）δ： ２、２０（２＋１． ｍ）、 ３．１６（４１１，ｍ）
、 ３．５０（２１ｉ、 ｍ）、、 ４．９０（２１１
，ｂｒｓ）、 ５．００（ｉｌｌ、 ｄ、 Ｊ＝５１１
ｚ）、 ５．３８（２Ｈ，ｍｌ。 ５、６０（ｉｌｌ、 ｍ）、 ６．６０（１１１，ｓ）
、 ６．６４（１１１，ｓ）、 ６．７２（２０，ｍ）
、、 ７．２０（２Ｈ，ｂｒｓ、 −Ｎ１１２ ）、７
．８２（ＩＨ。 ｂｒｔ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ８．２８（１１１，ｂｒ
ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ）、 ９．１０（ｉｆｆ。 ｂｒｄ、 Ｊ＝６ｔｌｚ） 、 ９．５０（ＩＩ、 ｂ
ｒｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 −ＣＯＮＨ−）参考例１ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒドの製造 ３．４−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．９ｇ（５０
ミリモル）を塩化メチレン１４０ｄ ｌ、：溶解し、ジ
イソプロピルエチルアミン２６．１１ｎｆ！（１５０ミ
リモル）を加え、０℃で２−メトキシエトキシメチルク
ロライド１７Ｉｄ（１５０ミリモル）を滴下する。反応
溶液を０℃で１時間撹拌した後、水５０７．０．５Ｎ水
酸化ナトリウム水溶液５０ｄ及び飽和食塩水で順次洗浄
する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した後、減圧
下に溶媒を留去し標記化合物１５．７！？（収率１００
％）を得る。 ｔ４ＨＩｌ （ＣＤＣｌ２ ）δ： ３．４０（６＋
１．Ｓ）、３．６０（４１１，ｍ）、３．８９、（４Ｈ
，ｍ）、５．３９（２Ｈ，ｓ）、５．４２（２１１゜ｓ
）、 ７．３０（Ｉｌｌ、 ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）、 ７
゜５５（ｉｌｌ。 ｄｄ、Ｊ＝１及び７Ｈｚ）、 ７．７０（１Ｎ、 ｄ、
Ｊ＝１１１ｚ）、 ９．８６（ｉｌｌ、ｓ）参考例２ ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル
アルコールの製造 ３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンズア
ルデヒド１５．７９ （５０ミリモル）をメタノール３
００ｄに溶解し、冷却下に水素化ホウ素ナトリウム１．
８９ ｇ（５０ミリモル）を数回に分けて加えた後、３
０分間撹拌する。反応溶液に酢酸２．８６ｄを加え１０
分間撹拌後、減圧下に溶媒を留去する。 残漬を酢酸エチル３００ｍに溶解し抽出液を飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を留去し
て標記化合物１５．０ｇ（収率９４．８％）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ１ａ ） δ： ３．３５（６
１１，ｓ）、３．５０（ｉｌｌ、ｓ）。 ３．５５（４１１，ｍ）、３．８５（４Ｈ，ｍ）、４．
５５（２１１，ｓ）、５．２６（４１１，ｓ）、６．９
（ＩＩＩ、ｄｄ、Ｊ＝１及び７１１ｚ）、 ７．１３（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７ｔｌｚ）、 ７．６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
１ｔｌｚ）参考例３ ３．４−ジ（２−メトキシ１１〜キシメ１〜キシ）ベン
ジルクロライドの製造 ３．４−ジ（２−メ１〜キシコニトキシメ１−キシ）ベ
ンジルアルコール１２．９ｙ （４０，８ミリモル）及
びピリジン１６．１Ｓ？ （２０３，７ミリモル）に塩
化メチレン２３（７を加え、水冷下に塩化チオニル５．
８戒（８１，６ミリモル）を含む塩化メチレン溶液８０
ｍ１を滴下し、２時間撹拌する。反応溶液を水、飽和重
曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで脱水する。減圧下に溶媒を留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサジ＝１
：１）に付し、標記化合物１１．５７（収率８４．３％
）を得る。 Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ３．３（ｅｌｌ
、ｓ）、３．５（４１１，ｍ）。 ３．８（４１１，ｍ）、４．７３（２Ｎ、Ｓ）、５．３
（４１１，Ｓ）、７．１〜７．２（３１１，ｍ） 参考例４ エチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシニ［トキシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
デルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン
異性体）の製造 エチル ２−ヒドロキシイミノ −２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル（シン異性
体） ５２ｇ（０，１１モル）をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５２０ｄに溶かし、５０％油性水素化すトリウ
ム５．４！？ （０，１１モル）を０℃で加える。１５
分間撹拌後、ヨウ化ナトリウム１８．８ｇ（０゜１２モ
ル）を加え、次いで３．４−ジ（２−メトキシエトキシ
メトキシ）ベンジルクロライド４２ｇ（０，１２モル）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｄに溶かした溶
液を加える。７０℃に昇温し、１時間撹拌後、減圧下に
溶媒を留去し、′得られる残渣を酢酸エチルに溶かす。 どの溶液を水、及び飽和食塩水で順次洗浄し、水層をさ
らに酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせて無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残漬を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル二〇
−ヘキサン＝３：１）で精製して標記化合物５８ｇ（収
率６９％）を油状物として得る。 ＩＲ： （ＫＢｒ ） ｃｉＡ ： ２９３０．１７４
０．１５１５ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： １１（
３８，ｔ、Ｊ＝７）ｆｚ）、３．２２（６１１，ｓ）
、 ３．４６（４Ｈ，ｍ）、 ３．７２（４Ｎ、 ｎ＋
）４．０（２Ｈ，ｑ、Ｊ−７１１ｚ）、５．０（２Ｈ，
ｂｒｓ）。 ５．２１（４Ｎ、ｂｒｓ）、６．９（ＩＨ，ｓ）。 ７．０〜７．５（１８１１，ｍ）、８．７５（ＩＨ，ｂ
ｒｓ）参考例５ ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベ
ンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸及びそのナトリウム塩（シ
ン異性体）の製造 コニチル ２−［３，４−ジ（２−メトキシエトキシメ
トキシ）ベンジルオキシイミノ］ −２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エステル３６．
０９（４７，３ミリモル）をエタノール７２０ｍに懸濁
し、２Ｎ水酸化すＩ・リウム水溶液２８．４ｄ （５６
，８ミリモル）を加え、１時間煮沸還流する。反応液を
放冷し減圧下に溶媒を留去する。沈澱物をｎ−ヘキナン
で洗浄し、乾燥して標記化合物のす１−リウム塩２９．
６ ｑ（収率８５％）を得る。 １１ｔ（にＢｒ ） ｃＭ ： ３４２０．１６１０．
１５４０．１４１ＯＮ）ＩＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ：
３．２２（３１１，ｓ）、３．２４（３ｔｌ、ｓ）。 ３．４５（４ｔｌ、ｍ）、３．７４（４１１，ｍ）。 ４．９（２１１，ｂｒｓ）、５．２０（４１１゜ｂｒｓ
）、６．５６．（ｌｔｌ、ｓ）、 ６．９〜７．６（１
８Ｈ，ｍ）、８．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）上記母液を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（１０％メタノール・塩化メチレン）に付し、標記化
合物の遊離ｉ１５．３ｇ（収率１５．６％）を得る。 参考例６ ３．４−ジアセトキシベンジルアルコールの製造３．４
−ジアセトキシベンズアルデヒド２．０ｇ（９，０ミリ
モル）をテトラヒドロワラ１ン４０ｄと水４ＩｎＩｌの
混合溶液に溶かし、０℃に冷却する。水素化ホウ素ナト
リウム０．３４９ （９，０ミリモル）を加え、１０分
間撹拌後、酢酸０．６ｍ （１０ミリモル）を滴下し反
応を止める。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで
３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧下に溶媒を留去して、粗標記化合物２．０９
（収率９９％）の油状物を骨、精製することなく次の
反応に用いる。 ＮＨＲ（０ｆ（Ｓｏ −ｄ６）δ： ２．２７（６ｆ
（、ｓ）、４．５３（２Ｎ、ｓ）。 ７．２（３Ｈ，ｍ） 参考例７ ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイドの製造３．４
−ジアセトキシベンジルアルコール２．０ｇ（０，８９
ミリモル）を塩化メチレン４０ｒｄ、溶かし０℃に冷却
する。三臭化リン０．２８ ｍ （０，３ミリモル）を
加え１５分間撹拌する。反応液を水中に注ぎ、塩化メチ
レンで３回抽出し、有ＩＩを合！１０％重費水で洗浄す
る。この水層を酢酸エチルで３回抽出し有機層を合仕て
無水ｆｉｔ！［１ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を
留去し、租標記化合物１．３７ ｇ（収率５３％）を油
状物として得る。精製することなく次の反応に用いる。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、４．７２（２１１，ｓ）。 ７．２〜７．５ （３＋１． ｍ） 参考例８ Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミドの製造 ３．４−ジアセトキシベンジルブロマイド１．３７ ｑ
（４，７７ミリモル）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド
０．７８９ （４，７８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１３ｒｄに溶かし、室温にてトリエチルア
ミン０．６６７ （４，７７ミリモル）を加え、３０分
間撹拌する。反応液を１０％重曹水に注ぎ酢酸エチルで
３回抽出する。有機層を合せ、無水硫酸ナトリＣクムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をとリジン２ｄ
に溶かし、無水酢酸２蔵を加え、空温にて１時間放置す
る。減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル二〇−ヘキサン＝１：３
）にて精製し、標記化合物０．６８ ｇ（収率４２％）
を油状物として得る。 ＮＨＲ（０８３０−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３Ｎ、 ｍ）、 ７．８５（４Ｈ，Ｓ
） 参考例９ ２−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシイミノ）−
２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）酢−
酸（シン異性体）の製造 Ｎ−（３，４−ジアセトキシベンジルオキシ）フタルイ
ミド０．６８ ｇ（２，０ミリモル）を塩化メチレン１
４ｍ溶かし、０℃で８０％抱水ヒドラジン０．１４ｄ（
２，４ミリモル）、を含むメタノール溶液３−を加え、
３０分間撹拌する。沈澱物を濾別した後、減圧下に濾液
を濃縮し、再び沈澱物を濾別し沈澱物を、酢酸エチルで
洗浄する。濾液は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上
濃縮し、残渣をメタノール６ｒｄに溶かし、次の反応に
用いる。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−オキソ酢酸０．６５ ｇ （１，５７ミリモ
ル）をメタノール１６ｄに溶かし、先に調製した０−（
３，４−ジアセトキシベンジル）ヒドロキシルアミンの
メタノール溶液に加え、３０分間撹拌する。減圧下に溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶かし、１Ｎ塩酸及び
飽和食塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下に溶媒を留去して粗標記化合物１，２ｇ
（収率９４％）を泡状物として得る。 ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ： ２．３（６１１，ｓ
）、５．２（２１１，ｓ）。 ７．３〜７．６（３Ｈ，ｍ）、７．８５（４１１，ｓ） １匪立鬼】 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、特に感
受性及び耐性のグラム陰性菌及びグラム陰性菌に対して
強く抗菌力を有するため、抗菌剤として期待されるもの
である。
Claims (15)
- （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基
を有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物
、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性
エステル。 - （２）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ＾３
は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｒ＾４は水素原子
又はアミノ保護基、Ｘはハロゲン原子又は脱離基、Ｙは
Ｓ又はＳＯを示す）で表される化合物又はその塩に、保
護された置換基を有してもよいピリジン誘導体を反応さ
せて、 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＹは前記の意味を
有し、Ｑ′は保護された置換基を有してもよいピリジニ
オ基、Ｘ＾■は陰イオンを示す）で表される化合物とな
し、要すれば還元及び／又は保護基を除去すること特徴
とする 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基
を有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物
、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性
エステルの製法。 - （３）一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＾３は水素原子又はカルボキシル保護基、Ｙ
はＳ又はＳＯ、Ｑ′は保護された置換基を有してもよい
ピリジニオ基、Ｘ＾■は陰イオンを示す）で表される化
合物又はその塩を、一般式（IV）▲数式、化学式、表等
があります▼（IV） （式中、Ｒ＾２は水素原子又は水酸基の保護基、Ｒ＾４
は水素原子又はアミノ保護基を示す）で表されるカルボ
ン酸又はその反応性誘導体によりアシル化して、 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｙ、Ｑ′及びＸ＾■
は前記の意味を有する）で表される化合物となし、要す
れば還元及び／又は保護基を除去すること特徴とする 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基
を有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物
、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性
エステルの製法。 - （４）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子又はアセチル基、Ｑは置換基
を有してもよいピリジニオ基を示す）で表される化合物
、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性
エステルを有効成分として含有する抗菌剤。 - （５）Ｑの置換基として、アミノ基、アセチルアミノ基
、カルボキシル基、カルバモイル基、スルホメチル基、
スルホエチル基およびシクロペンテノ基の群より選ばれ
る置換基を少なくとも１個有する特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 - （６）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは１−ピリジニオ基である
特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （７）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは３−アミノ−１−ピリジ
ニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （８）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは３−アセトアミド−１−
ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 - （９）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは３−カルボキシ−１−ピ
リジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （１０）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは３−カルボキシド−１
−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - （１１）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは４−カルバモイル−１
−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - （１２）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは４−スルホメチル−１
−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - （１３）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは４−（２−スルホメチ
ル）−１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 - （１４）Ｒ＾１は水素原子、Ｑは２，３−シクロペンテ
ノ−１−ピリジニオ基である特許請求の範囲第１項記載
の化合物。 - （１５）Ｒ＾１はアセチル基、Ｑは１−ピリジニオ基で
ある特許請求の範囲第１項記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60293467A JPS62158290A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60293467A JPS62158290A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62158290A true JPS62158290A (ja) | 1987-07-14 |
Family
ID=17795122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60293467A Pending JPS62158290A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62158290A (ja) |
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