JPS62270589A - 新規セフアロスポリン誘導体 - Google Patents

新規セフアロスポリン誘導体

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JPS62270589A
JPS62270589A JP61112598A JP11259886A JPS62270589A JP S62270589 A JPS62270589 A JP S62270589A JP 61112598 A JP61112598 A JP 61112598A JP 11259886 A JP11259886 A JP 11259886A JP S62270589 A JPS62270589 A JP S62270589A
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JP
Japan
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hydrogen atom
formula
general formula
different
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Application number
JP61112598A
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English (en)
Inventor
Susumu Nakagawa
晋 中川
Koji Yamada
耕司 山田
Takashi Mitomo
三友 隆司
Ryosuke Ushijima
牛嶋 良輔
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MSD KK
Original Assignee
Banyu Phamaceutical Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規なセファロスポリン誘導体、その製法及び
該化合物を有効成分とする抗菌剤に関するものである。
従来技術 従来、セファロスポリン核の7位側鎖に2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−置換オギシイミノアセ
]・アミド基を有する化合物は極めて多く合成され、そ
れらの記載された公開技術としては、例えば特開昭52
−102293号、同52−116492号、同53−
137988号、同54−9296号、同54−154
786号、同54−157596号、同55−1549
80@、同56−86187号、同57−59895号
、同57−99592号、同57−192394号及び
同58−174387号公報などが挙げられ、ダラム陽
性菌及びシュードモナス エルギノーサ(Pseudo
monas aeruginosa)を含むセファロス
ポリン耐性のダラム陰性菌に対しても活性を示し、優れ
た抗菌力と幅広い抗菌スペクトルを有することが示唆さ
れている。
発明が解決しようとする問題点 3−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の治療に広く使
用され有用性の高い薬剤である。
しかしながら、近年、感染症の起炎筒として耐性のダラ
ム陽性菌及び耐性のブドウ糖非醗酵ダラム陰性桿菌の分
離頻度が増加の傾向にあり、これらの菌に対する抗菌力
の増強が望まれている。
問題を解決するための手段 本発明は優れた抗菌力を有する新規なセファロスポリン
誘導体を提供することを目的とし、セフェム核の3位に
置換ピリジニオメチル基を、7位に2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−(α−力ルボキシー置換ベ
ンジルオキシイミノ)アセトアミド基を有する新規なセ
ファロスポリン誘導体について鋭意研究した結果、本発
明化合物はダラム陰性菌及びダラム陽性菌に対して強い
抗菌力を有することを見出だし本発明を完成した。
即ち、セフェム核の3位に置換ピリジニオメチル基を、
7位に2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(α−カルボキシ−置換ベンジルオキシイミノ)アセト
アミド基を有する本発明化合物は文献未記載の新規化合
物であり、感受性・耐性のグラム陽性菌及びダラム陰性
菌に対して、強い抗菌力を有すること、及びβ −ラク
タマーゼに対する安定性に優れていることを見出だし本
発明を完成した。
■ 本発明は、一般式(1) (式中、R1及びR−は同−又は異なって、水素原子、
カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有していて
もよい、低級アルキル基又はアミン基、若しくは隣接し
たR 及びR2が互いに結合して5員環乃至6員環を形
成してもよい、R3及び Rは同−又は異なって水素原
子、水酸基又はアセトキシ基を示す)で表される化合物
、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能なその無毒性
エステル、その製法、及び該化合物を有効成分として含
有する抗菌剤に関する。
次に本明りIl書に記載された記号及び用語について説
明する。
低級アルキル基とは、炭素数1・−〇の直鎖状又は分岐
状のアルキル基を意味する。
R1及びR2が低級アルキル基又はアミン基の場合、夫
々、置換基を有することができる。その置換基として、
例えば、水酸基、アミノ基、炭素数1〜4のアシル基、
カルボキシル基、カルバモイル基、スルホ基、ハロゲン
原子等を挙げることができる。
炭素数1〜4のアシル基とは、ホルミル基、アセチル基
、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等を意
味する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等
を意味する。
一般式(III)で表される置換基を有していてもよい
ピリジン誘導体としては、例えば、ピリジン、2.3−
シクロペンテノピリジン、3,4−シクロペンテノピリ
ジン、2.3−シクロヘキセノピリジン、3,4−シク
ロヘキセノピリジン、3−アミノピリジン、3−ホルム
アミノピリジン、3−アセ1〜アミノピリジン、2−ヒ
ドロキシメチルピリジン、3−ヒドロキシメチルピリジ
ン、4−ヒドロキシメチルピリジン、3−(2−ヒドロ
キシエヂル)ピリジン、4−(2−ヒドロキシエチル)
ピリジン、3−カルボキシピリジン、4−カルボキシピ
リジン、3−カルボキシメチルピリジンキシエチル)ピ
リジン、4−(2−カルボキシエチルピリジン、3−力
ルバモイルピリジン、4−カルバモイルピリジン、3−
カルバモイルメチルピリジン、4−カルバモイルメチル
ピリジン イルエチル)ピリジン、4−(2−カルバモイルエチル
)ピリジン、4−スルボメヂルピリジン、4−(2−ス
ルホエチル)ピリジン、3−フルオロメチルビリジン、
3−クロロメチルピリジン、3−ブロモメチルピリジン
、4−フルオロメチルピリジン、4−クロロメチルピリ
ジン、4−ブロモメチルピリジン等が挙げられ、これら
のアミノ基、水酸基、カルボキシル基、カルバモイル基
、スルホ基は保護されていてもよい。
R3及びR4は、その置換基として、同−又は異なって
、水素原子、水酸基又はアセトキシ基を意味する。その
ようなα−カルボキシ−c3,4−ジ置換)ベンジル基
としては、例えば、α−カルボキシベンジル基、α−カ
ルボキシ−3−ヒドロキシベンジル基、α−カルボキシ
−4−ヒドロキシベンジル基、α−カルボキシ−3,4
−ジヒドロキシベンジル基、α−カルボキシ−3−アセ
トキシベンジル基、α −カルボキシ−4−アセトキシ
ベンジル基、α−カルボキシ−3.4−ジヒドロキシベ
ンジル基等が挙げられる。
 13 一 本発明化合物(I)には一般式 (但し、式中、※は炭素原子が不斉炭素原子であること
を意味し、R 及びR は前記の意味を有する)で表さ
れるα−カルボキシ−置換ベンジル基か不斉炭素原子を
有するため2個の光学異性体が存在するが、本発明は本
発明化合物(1)の光学異性体及びラセミ体のいずれも
包含する。
又、一般式(1)のオキシイミノ基における部分構造は
シン異性体(Z配位)及びアンチ異性体(E配位)が存
在し、一般にシン異性体(Z配位)が優れた抗菌活性を
示し、本明細書においてオキシイミノ基はすべてシン異
性体(Z配位)である。
E/Z命名法はジャーナル オブ ジ アメリカン ケ
ミカル ソサエティ(journal Or目1e A
merican Chemical Society)
第90巻、 509頁 (1968年)、に記述される
一般式(1)の化合物は常法により、その無毒性塩又は
生理的に加水分解可能なその無毒性エステルとすること
ができる。
一般式(11の化合物の無毒性塩どしては医薬上許容さ
れる慣用的なものを意味し、例えば、ナトリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム等の金
属塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力
イン等の有機アミン塩、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸
、過塩素酸等の無機酸塩、酢酸、乳酸、プロピオン酸、
?レイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸
等の有機酸塩、メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−
1〜ルエンスルホン酸等のスルホン酸塩、グルタミン酸
、アスパラギン酸、リジン、アルギニン等のアミノ酸塩
等が挙げられる。
一般式(■)の無毒性エステルとしては、そのカルボキ
シル基における医薬上許容される慣用的なものを意味し
、例えばアセトキシメチル基、ピバロイルオキシメチル
基等のアルカノイルオキシメチル基、1−(工i−キシ
カルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシア
ルキル基、フタリジル基、5−メチル−2−オキソ ー
1.3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基等の5装置
1!il!−2−オキソ−1、3−ジオキソ−ルー4−
イル−メチル基等が挙けられる。
次の本発明化合物の製造方法について説明する。
42式(1)の化合物は、以下に示す製造法A及び製造
法Bいずれかの方法で製造することができる。
製造法A 一般式(m (式中、R5及びR6は同−又は異なって、水素原子又
は保護されていてもよい水酸基、R は水素原子又はア
ミン保護基、R 及びR は水素原子又はカルボキシル
保護基、Xは脱離基、YはS又はSOを示す)で表され
る化合物、又はその塩に、一般式<III) (R10及びR11は同−又は異なって、水素原子、カ
ルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有していても
よい、低級アルキル基又はアミン基、若しくは隣接した
RIO及びR11が互いに結合して5乃至6員環を形成
してもよい、を示す。但し、R10及びR11は保護さ
れていてもよい置換基を示す)で表される化合物、又は
その塩を反応させて、一般式(11) %式% R 及びYは前2の意味を有し、XOは陰イオンを示す
)で表される化合物となし、要すれば還元及び/′又は
保護基を除去することにより、本発明化合物(1)を製
造することができる。
一般式(mのXは脱離基を表し、具体的には、例えば、
塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、又はアセトキシ
基、カルバモイルオキシフルオロメタンスルホニルオキ
シ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等が禁げられ、
特に塩素原子、臭素1京子、ヨウ素原子、アセトキシ基
が好ましい。
製造法B 一般式(vr) (式中、R は水素原子又はカルボキシル保r1基、R
10及びR11は同−又は異なって、水素原子、カルボ
キシル基、カルバモイル基、置換基を有していてもよい
、低級アルキル基又はアミン基、若しくは隣接したRl
o及びR11が互いに結合して5乃至6員環を形成して
もよい、× は陰イオン、YはS又はSOを示す。但し
、R10及びR11は保護されていてもよい置換基を示
す)で表される化合物、又はその塩を一般式(V) (式中、R5及びR6は同−又は異なって、水素原子、
又は保護されてもよい水酸基、R1は水素原子又はアミ
ノ保護基、Rは水素原子又はカルボキシル保護基を示す
)で表されるカルボン酸、又はその反応性誘導体により
アシル化して、一般式(N) (式中、R、R、R、R、R、R、 X○及び)lは前記の意味を有する)で表される化合物
となし、要すれば還元及び、/又は保護基を除去するこ
とにより、本発明化合物(1)を製造することができる
更には、本発明化合物のα−カルボキシ−置換ベンジル
オキシイミノ基において、そのフェニル核の置換基が水
酸基である化合物、Hpち、α−カルボキシ−3−ヒド
ロキシベンジルオキシイミノ基、α−カルボキシ−4−
ヒドロキシベンジルオキシイミノ基、及びα−カルホキ
シー3,4−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ基を有
する化合物を適当な条件下に選択的にアセチル化するこ
とにより、モノアセトキシ体及びジアセトキシ体、即ち
、α−カルボキシ−3−アセ]・キシベンジルオキシイ
ミノ基、α−カルボキシ−4−アセトキシベンジルオキ
シイミノ基及びα−カルボキシ−3,4−ジアセトキシ
ベンジルオキシイミノ基を有する本発明化合物を製造す
ることも可能である。
次に本発明化合物(I)の製造法A及び製造法Bを説明
する。
製造法A 一般式(II)の化合物は一般式(■ν)の化合物と置
換ピリジン誘導体(III)を塩化メチレン、クロロホ
ルム、エーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒド
ロフラン、アセl−ニトリル、N、N−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド等の有機溶媒中又はこ
れらの混合溶媒中で製造することができる。
又、置換ピリジン誘導体(III>は、塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩、硝ii!塩、ギ酸塩、酢酸塩等の酸付
加塩を用いてもよい。この場合、反応は中和量のトリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N、N−ジ
メチルアニリン、N−メチルモルホリン等の脱酸剤の存
在下で行う。又、要すれば置換ピリジン誘導体(III
)はN、0−ビスi〜リメチルシリルアセトアミド等の
シリル化剤でシリル化して使用することもできる。
反応は一般式(IV)の化合物1モルに対して、置換ピ
リジン誘導体(III)を1〜2モル使用し、反応温度
及び反応時間は0〜40℃で、0.5〜5時間である。
又、一般式(IV)のXがアセトキシ体である化合物と
置換ピリジン誘導体(III)との反応は、水、リン酸
綴衝液、アセトン、アセI−二トリル、メタノール、エ
タノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド等の溶
媒又はこれらの混合溶媒中で行うことができる。反応は
中性付近で行うことが好ましく、反応温度は室温から9
0℃で、反応時間は1〜10時間である。又、本反応は
、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、チ
オシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等のヂオ
シアン酸塩又は]・リメチルベンジルアンモニウムブロ
マイド等の第4級アンモニウム塩存在下で行うことによ
り促進される。
基YがSoであるアンモニオ化合物(TI)はジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー(Journa
l of’ Organic ctlemistry 
) 35%、2430頁(1974年)等に記載の方法
より、スルホキザイド基を還元することができる。例え
ば、基YがSOであるアンモニオ化合物(II)は三塩
化リン又はアセチルクロライド・ヨウ化すl〜シリウム
により還元できることが例示できる。即ち、基YがSO
であるアンモニオ化合物をN、N−ジメチルホルムアミ
ド溶媒中、−40へ・0°Cで三塩化リンを1〜5時間
反応させることにより還元することができる。反応は基
YがSOである化合物(II)1モルに対して、三塩化
リン2〜6モル使用する。あるいは、基YがSOである
アンモニオ化合物(II)をアセ1〜ン溶媒中、ヨウ化
す]−リウム又はヨウ化カリウムの存在下、−40〜0
°Cでアセチルクロライドを滴下し、1〜5時間反応さ
せることによっても還元することができる。反応は基Y
がSoである化合物(II)1モルに対してヨウ化物3
.5〜10モル及びアセチルクロライド145〜5モル
使用する。
本発明化合物(I)は、要すれば基YがSである一般式
(II)の化合物から保護基を除去することにより製造
することができる。
前記一般式におけるノ〕ルボキシル基、アミン基及び水
酸基の保護、及びその除去方法は、β −ラクタム合成
の分野で通常使用されている保Imを適宜選択して使用
することができる。保護基の導入及び除去方法、は、例
えば、ワイレイ(Wiley)社より1981年に発行
された、ティ ダブリュー グリーン(T、 W、 G
reene)箸のプロテクティブ グループス イン 
オーガニック シンセシス(Protective G
roups in Orga+1ic 5ynthes
is)、プレヌムブレス(Plenum Press)
社より1973年に発行された、ジエイ エフ ダブリ
ュー マコミイ−(J、F、W、HcOmie)著のプ
ロテクティブ グループス インオーガニック ケミス
トリーン in 0r(IaniCChemistry)等に記載
されている。
カルボキシル保litとしては、tert−ブチル基、
2.2.2−1〜リクロロエチル基、アセ1〜キシメチ
ル基、プロピオニルオキシメチル メチル基、1−アセ]・キシエチル基、1−プロピオニ
ルオキシエチル基、1−(エトキシカルボニルオキシ)
エチル基、フタリジル基、ベンジル基、4−メトキシベ
ンジル基、3.4−ラメ1−キシベンジル基、4−二I
・ロベンジル基、ベンズヒドリル基、ビス(4−メ]・
キシフェニル)メチル基、5−メチル−2−オキソ−1
.3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基、トリメチル
シリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等が挙げ
られ、特にベンズヒドリル基、tert−ブチル基、シ
リル基等が好ましい。
アミノ保護基としては、l・リチル基、ホルミル基、ク
ロロアセチル基、1〜リフルオロアセデル基、tert
−ブトキシカルボニル基、1〜リメチルシリル基、te
rt−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
水酸基の保護基としては、2−メトキシエトキシメチル
基、メlーキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラ
ヒドロピラニル基、フェナシル基、イソブロビル基、t
 e l’ t−ブチル基、ベンジル基、4−二1〜ロ
ベンジJV/基、アセチル基、2,2.2−1,リクロ
ロ工1ーキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル
基、アセトナイド、トリメチルシリル基、1erドブチ
ルジメチルシリル基等が挙げられる。
保護基の除去方法は、その保護基の種類に応じて、常用
の方法を適宜選択して行うことができる。
例えば、トリデル基、ホルミル基、tert−ブトキシ
カルボニル基、ベンズヒドリル基、tert−ブチル基
、2−メトキシエトキシメチル基等の保護基の除去は塩
酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸.p
−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有(幾酸等ででき
、特にトリフルオロ酢酸が好ましい。酸として1〜リフ
ルオロ酢酸を使用する場合には、アニソールを添加する
ことにより反応は促進され、副反応も抑制される。
又、反応は水、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、ベンゼン等の反応に関与しない溶媒中、あるいは
これらの混合溶媒中で行うことができる。
反応温度及び反応時間は化合物(II)及び本発明化合
物(1)の化学的性質、保護基の種類に応じて適宜選択
し、特に氷冷ないしは加温程度の緩和な条件で行うのが
好ましい。
製造法Aの原料化合物(IV)は以下のようにして製造
することができる。
基YがSである一般式けV)の化合物は、ベンズヒドリ
ル7β −アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−
4−カルホキシレー1〜(例えば、特開昭50−760
89号、同56−86187号公報により合成)、7β
−アミノセファロスポラン酸又はそのエステルに一般式
(V)のカルボン酸又はその反応性誘導体(例えば、酸
ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル等)を反応
させて製造することができる。
基YがSOである一般式(mの化合物は、基)lがSで
ある一般式(mの化合物を塩化メチレン、塩化エチレン
、クロロホルム等の反応に関与しない有放溶媒中、氷冷
下に等モルのm−クロロ過安息香酸で酸化して製造する
ことができる。
lXがヨウ素原子である(IV)の化合物は、基Xが塩
素原子である一般式(IV)の化合物をアセ1〜ン、N
、N−ジメチルボルムアミド等の溶媒中、水冷又は室温
でヨウ化す]ヘリウム等のヨウ化物と反応させて製造す
ることができ、単離もしくは単111!ずにそのまま次
の反応に用いてもよい。
又、一般式(v)の2−(2−置換アミノチアゾール−
4−イル)−2−置換オキシイミノ酢酸は特開昭55−
149289号公報等の方法に準じて製造することがで
きる。
製造法B 一般式(II)の化合物は、一般式(\lI)の化合物
を水、アセ(・ン、ジオキサン、アセ1〜ニトリル、テ
トラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、塩化
エチレン、ベンゼン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキサイド等の反応に悪影響
を与えない溶媒中、又はこれらの混合溶媒中で、一般式
い1)のカルボン酸又はその反応性誘導体く例えば、酸
ハロゲン化物、混合酸無水物、活性エステル等)を反応
させて製造することができる。
反応は一般式(Vl)の化合物1モルに対して、一般式
Hのカルボン酸又はその反応性誘導体1〜1.5モル使
用し、反応温度は一40〜40°Cである。
一般式(V)の反応性誘導体として、酸ハロゲン化物を
使用する場合、トリエチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤の
存在下に行うのが好ましい。酸ハロゲン化物形成反応は
、カルボン酸(V)1モルに対して、塩化チオニル、三
塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、
オキザリルクロライド、ホスゲン等のハロゲン化剤を1
〜10モル、好ましくは1〜1.5モル使用し、反応温
度は一40〜100℃、好ましくは一20〜20℃で、
反応時間は数時間で完結する。
混合酸無水物形成反応は、カルボン酸(V)1モルに対
して、1〜リエチルアミン、N−メチルモルホリン、N
、N−ジメチルアニリン、ピリジン等の弱酸剤を1〜1
.2モルの存在下、メチルクロロホルメート、エチルク
ロロホルメート、イソブチルクロロホルメート等のクロ
ル炭酸エステルを1〜1.2モル使用し、反応温度は一
40〜20℃、好ましくは一20〜5°Cで、反応時間
は10〜60分間である。
活性エステル形成反応は、カルボン酸(V)1モルに対
して、N−ヒドロキシ化合物(例えば、N−ヒドロキシ
コハク酸イミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等
)又はフェノール化合物(例えば、4−二トロフェノー
ル、2.4−ジニ1〜ロフェノール、トリクロロフェノ
ール等)を1〜1.2モル及びN。
N−ジシクロへキシルカルボジイミドを1〜1.4モル
使用し、反応温度は一10〜50℃で反応時間は0.5
〜2時間である。
又、アシル化反応において、一般式(’J”)のカルボ
ン酸を遊離酸の形で使用する場合、N、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、オキシ
塩化リン、N、N−ジメチルホルムアミド・オキシ塩化
リン付加物等の縮合剤の存在下でも、一般式(II)の
化合物を製造することができる。一般式(II)から本
発明化合物(1)の製造は、前記製造法Aに準じて行う
ことができる。
製造法Bの原料化合物(vr)は、アカデミツクプレス
(八cademic Press)社より1972年に
発行されたFIVnn(フリン)著のセファロスポリン
 アンドペニシリン(Cephalosporin a
nd Pen1cillin) 151〜171頁及び
675頁、特開昭54−154786号公報、ジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー<JO−urn
al of organic C11emiSjrC1
1e巻、500頁(1967年)等に記載の方法に準じ
て製造することかできる。
例えば、7β −アシルアミノ −3−ハロメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート誘導体く特開昭58
−72590、同58−154588号公報等により合
成)又は7β −アシルアミノセファ0スボラン酸誘導
体に、置換ピリジン誘導体(III)を反応させて、一
般式(式中、R9は水素原子又はカルボキシル保護基、
R10及びR11は同−又は異なって、水素原子、カル
ボキシル基、カルバモイル基、置換基を有していてもよ
い、低級アルキル基又はアミン基、若しくは、隣接した
R10及びR11が互いに結合して5乃至6員環を形成
してもよい、R12は水素原子又はアシル基、YはS又
はso、xOは陰イオンを示す。但し、R10及びR1
1は保護されていてもよい置換基を示す)で表される化
合物とし、次いで脱アシル化することにより製造するこ
とができる。
脱アシル化反応は既に当分界では公知であり、例えば五
塩化リン等によるイミノクOル化、次いでメタノール等
によるイミノエーテル化及び加水分解からなる方法、又
はアシラーゼによる方法等がある。アシル基としては、
例えばフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ア
ミノアジピル基等が挙げられる。
本発明化合物(1)は、セフェム核の7位の側鎖のα−
カルボキシ躍換ベンジル部分に不斉炭素原子を有する為
、2種類の光学異性体が存在する。
ラセミ体の化合物(I\り及び(ν)を原料として用い
る場合、本発明化合物(I)及びその前駆体(II)は
、逆相カラムクロマトグラフィー、シリカゲルカラムク
ロマドグラフイーあるいは通常用いられる光学分割方法
により、夫々光学異性体に分離することができる。
又、光学活性な化合物(IV)及び(V)を原料として
用いる場合、ラセミ化することなく、本発明化合物(I
)及びその前駆体(II)の光学活性体を得ることがで
きる。
次に本発明化合物の種/ンの細菌に対する試験管内抗菌
活性を下記の寒天平板希釈法により測定しI;。ミュー
ラー ヒントン ブロス(HUeller Hi−nt
on brotbJ中で一夜培養した各試験菌株の一白
金耳(接種菌量: 106CFU、’ml>をミュラー
ビン1〜ン アガー(HHager)に接種した。この
培地には抗菌剤が各濃度で含まれており、37℃で16
時間培養した後、最小発育阻止濃度(MIC:μgl’
ml)を測定した。比較化合物としてセフオタキシム(
Cefotax ime)及びセフタジブイム(Cef
tazi−dime)を用いた。その結果を下記表に示
す。
本発明化合物は感受性・耐性のダラム陽性菌及びダラム
陰性菌に対して強い抗菌力を示し、特に緑膿菌を含む耐
性のダラム陰性菌に対して優れた抗菌力を示した。
従って、一般式(1)の化合物、その無毒性塩及び生理
的に加水分解可能な無毒性エステルは抗菌剤として有用
である。
本発明化合物は当分野で公知の固体又は液体の賦形剤の
担体ど混合し、非経口投与、経口投与又は外部投与に適
した医薬製剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては、注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤
、錠剤、カプセル剤、粒剤等の固形剤及び軟膏、坐剤等
の外用剤等が挙げられる。
又、これらの製剤には必要に応じて助剤、安定剤、湿潤
剤、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等の通常使用され
る添加剤が含まれていてもよい。
添加剤としては、注射用蒸溜水、リンゲル液、グルコー
ス、しよ糖シロップ、ゼラチン、食用油、カカオ脂、エ
チレングリコール、しょ糖、とうちろこし澱粉、ステア
リン酸マグネシウム、タルク等が挙げられる。
更には、本発明の化合物は抗菌剤として、ヒトの細菌感
染症の治療に使用することができる。投与量は患者の年
齢、性別等の状態によって異なるが、通常1日当り1〜
100m(1/k(+の範囲で使用され、1日当り5〜
30mg/koで2〜4回に分けて投与するのが好まし
い。
次に実施例及び参考例を挙げて本発明を更に説明するが
、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1 7β−C2−<2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−[(DL)−α−カルポキシレー1〜−3,4−ジヒ
ドロキシベンジルオキシイミノ1アセトアミド)−3−
(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルホ
キシレー1〜・ナトリウム塩(シン異性体)の製造 (a) 2−[(DL)−α −ベンズヒドリルオキシ
カルボニル−3,4−ジ(2−メトキシエトキシメトキ
シ)ベンジルオキシイミノ]−2−(2−1〜リチルア
ミノチアゾ一ルー4−イル)酢酸(シン異性体)  4
.87(+(5,19ミリモル)及びベンズヒドリル7
β −アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−
カルホキシレー1〜2.34(](5,64ミ!J モ
ル) ヲ塩化メチレン9oII11ニ溶解し、0℃でN
、N−ジメチルアニリン3.2m1(25,4ミリモル
)及びオキシ塩化リン0.63m l (6,77ミリ
モル)を滴下し、1時間撹拌する。反応液をN−塩酸中
に注ぎ、塩化メチレンで抽出した後、有機層をN−水酸
化すトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄する。抽出液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留
去して、ベンズヒドリル7β−(2−[(叶)−α−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−3,4−ジ(2−メト
キシエトキシメトキシ)ベンジルオキシイミノ]−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセ1〜
アミド)−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カル
ボキシ1ノート(シン異性体)を得、精製することなく
次の反応に用いる。
N M R(DH3O−66)δ:  3.20(3H
,s)、3.21(3H。
s)、 3.40(OH,m)、 3.68(4tl、
 m)、 4.42 (2H,m)、 5.15(2N
、m)、5.25(2N、m)、5.66(1N、br
 s)、6.74(IH。
3)、6.82(1H,S)、6.95(Ill、 S
)、 7.0−7.8(3811,111)fb)上記
反応(a)で1qた残漬をアセ1〜ン14011+1に
溶解し、ヨウ化す1〜リウム1.68o(112ミリモ
ル)を加え、空温で30分間攪拌する。反応液を10%
ヂオ硫酸すトリウム水)容液中に注き゛、酢酸エチルで
抽出し有機層を飽和食塩水で洗浄する。抽出液は無水硫
酸すトリウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、残
渣をジイソプロピルエーテルで洗浄して、粗ベンズヒド
リル7β−(2−[(OL)−α −ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−3,4−ジ(2−メトキシエトキシメ
トキシ)ベンジルオキシイミノ]−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセ(ヘアミド)−3−
ヨード′メチル−3−セフェム−4−カルボキシレー1
〜(シン異姓体)740り[上記反応(a)からの収率
100%]を得る。
\〜IR(DH3O−d6) (1:3.20(3H,
S)、3.21(3H,s)3.42(611,m)、
3.70(411,l1l)、4.40(2H,Ti1
1.5.18(3H、nl)、5.26(2t1.m)
、5.70(IH,t+r s)、5.72(IH,m
16.78C1t1.s)、682(11br s)、
6.94(廿1:+rs)、7.00−7.80 (3
8H,m)、8.85(IH,l]I’ s)、9.6
2(1N。
m)         33 − (・3)上記反応(1))で得た化合物1.30(1(
0,96ミリモル)をN、N−ジメチルホルムアミド1
3m1に溶解し、ピリジン0.43[111(5,06
ミリモル)を加え、!温にて6時間放置する。
減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲjしカラムクロ
マトグラフィーに付し、溶出画分(2%メタノール・塩
化メチレン)を濃縮して、ベンズヒドリル7、’342
−[(DL)−α−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
3,4−ジ(2−メi・キシエトキシメトキシベンジル
オキシイミノ]−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセ1〜アミド)−3−(1−ピリジニオ
メチル)−3−セフェム−4−カルホキシレーI・・ヨ
ード塩(シン異性体) 678ff[+(収率49.2
%)を泡状物として得る。
Nへ、4R (叶SO−  d 6 )  δ :3.
 17(3tイ, S)、 3. 20(3N, S!
、3.40(6H,m) 3.70(4H.m)、5.
OO−5.90(4.H.Ill!6、 70−7. 
80(31N, m)、 8. 10(2H. m)、
 8. 58(IH, m)。
8、 88(2H, n+) (d)上記反応(C)で得た化合物678mo(0. 
47ミIJ −Eル)を塩化メチレン3.5mlとアニ
ソール0.7mlに溶解し、水冷下にトリフルオロ酸p
2 3.511i1を加え、1時間撹拌する。減圧下に
溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え、沈澱物を濾取し
、乾燥する。この沈澱物を水に懸濁し、飽和重曹水でp
t16.5に調整した後、ODSカラムクロマトグラフ
ィー(LC−S。
lb)に付し、5%メタノール・水で溶出し、濃縮、凍
結乾燥して、標記化合物155nlO(収率50%)を
得る。
\4 P :150’C(分解) I R (KBr) Cm−’:3410,1765.
161ON M R ( CF 3 COOH )δ:
2.85(1N,nl)、3.30(18.11)5、
00(IH,nl)、5.03(IN,111)、5.
23−5.72(3H,Ill)6、35−6.8Of
3tl,DI)、6.90(0.5H,S )、6.9
2(0.5H。
s)、7.60(2t(、m)、8.05(IH,m)
8.42(2H.nl)実施例2 7β−f’)−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−[(DL)−〇 −カルホキシレー1〜ペンジルオ
キシイミノコアセI〜アミド)−3−(1−ピリジニオ
メチル)−3−セフェム−4−カルホキシレー1へ・す
トリウム塩(シン異性体)の製造 ベンズヒドリル7β−(2−[(01)−α −ペンズ
ヒドリルオキシ力ルポニルベンジルオキシイミノ二−2
−(2−1−リチルアミノチアゾールー4ーイル)アセ
トアミド)−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルホキシレー1〜(シン異性体> 540ma(0. 
4フロミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド10
mlに溶解し、ヨウ化すトリウム359mgを加え、5
0分間撹拌する。反応液にピリジン0. 046m l
 (0. 57ミリモル)を加え、実施例1の(C)及
び(d)と同様の操作を行い、標記化合物1 1 0m
a (収率37.2%)を得る。
MP:150℃(分解) I R (KBr) Cm−1:3400. 1770
, 1610, 1540. 1390\M R (D
, 0)cy :3.35(2t(、br s)、5.
02(IH,br s)5、25(2H,br s)、
5.66(IH.d,J=4Hz)、 5.75(IH
d,J =4Hz)、6.78(0.5H 、s)、6
.80(0.5H.s)。
7、18(5ft.m)、 7.45(2H,m)、8
.10(2H,m)、8.50(IH.m) 実施例3 7 、3−(’l−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−r(DL)−α−カルホキシレー1〜 −3,
4−ジヒドロキシベンジルオキシイミノ1アセトアミド
E3−(9.3−シクロペンテノ −1−ピリジニオメ
チル)−3−セフェム−4−カルホキシレー]・・すI
・リウム塩(シン異性体)の製造 ベンズヒドリル7B −(2−[(OL)−α−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル−3.4−ジ(2−メ1〜キ
シエトキシメトキシ)ベンジルオキシイミノ>2−<2
−+ーリチルアミノチアゾールー4ーイル)アセトアミ
ド)−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体) 700mg(0.49ミリモ
ル)及び2。
3−シクロペンテノピリジン0.21ml(1.80ミ
リモル)を甲いて、実施例1の(C)及び(d)と同様
の操作を行い、標記化合物58m(] (収率174%
)を得る。
\4P:180℃(分解) I R (KBr) cnl−1:3430. 177
0. 1’i20\〜’I R (D20)σ:2.0
0(2H,m)、2.70 −3.30(6H,m)4
、70−5.80(5H.m)、6.40−6.80(
3N,m)、6.90(IH。
br s)、 7.30(I H,m)、7.80(I
H,m)、8.00(IH,ml実施例4 7.342−(2−アミノチアゾール−4〜イル)−2
−(α −カルホキシレー1−−3.4−ジヒドロキシ
ベンジルオキシイミノ)アセi・アミド]−3−(4−
カルバモイル−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム
−4−力ルボキシレート・す]・リウム塩(ジアステレ
オマーA及びB、シン異性体)の製造 ベンズヒドリル7β−(2−[(1)い−α −ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル−3,4−ジ(2−メトキシ
エトキシメトキシ リチルアミノチアゾール−4−イル)アセ1ヘアミド)
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体) 700mcl(0.49ミリモル
)及び4−カルバモイルピリジン210mg (1 、
 72ミリモル)を用いて実施例1の(C)及び(d)
と同様の操作を行い、ODSカラムクロマ1〜グラフィ
ーにおいて、ジアステレオマ=Aを水、ジアステレオマ
ーBを5%アセトニトリル・水で溶出して、それぞれ6
7mg(収率33%)及び88mg (収率35.2%
)を得る。
高速液体クロマトグラフィー分析 カラム:ODS口’MC−PACに 八H−312) 
  6x T50111nl移動相, 30%Me01
1−0.001)I Phosphate buffe
r(1)H  3.0) 流速:1m1.−’min 検出゛υV 2541[m ジアステレオマー、へ;3.2分 ジアステレオマーB:3.6分 ジアステレオマーA MP:144℃(分解) I R (KBI’) Cnl” :33CiO. 1
770. 1630\MR (CF,lCoo旧σ:2
.85(IN,m)、 3.32 (18。
m)、4.85 (IH.d,J=5Hz)、5.02
(IH,m)、5.33(IH。
s)、5.60(IH.111)、5.65(IH.m
l.6.56(3H,m)、6.86< IH.s)、
7.44(2tl,m)、8.08(2H,dl=7t
(z)、8、60(2H, d. J=7Hz) ジアステレオマーB MP:155℃(分解) I R (KBr) CI!+’ :3430, 17
70. 1620\〜1R (CF,ICOO旧σ:2
.86(IH.m)、 3.30 (IH。
m)、4.80  (IH.d.J=5Hz)、5.0
0(IH.mi.5.35(1N 、3)、5.60(
1N,m)、5.62(IH.m)、6.52(3H,
m)、6、 90(IH, s) 実施例5 7;3−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(α−カルボキシレート−3.4−ジヒドロキシベ
ンジルオキシイミノ)アセトアミド]−3−<4−カル
ホキシレー1−ー1ーピリジニオメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート・ジナトリウム塩(ジアステ
レオマーA及びB、シン異性体)の製造ベンズヒドリル
7B −(2−[(OL)−α−ベンズごドリルオキシ
カルボニル−3,4−ジ(2−メトキシエトキシメトキ
シ)ベンジルオキシイミノ2 −2−<2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)アセ1〜アミド)−3−ヨ
ードメチル−3−セフェム−4−カルホキシレー(−(
シン異性体) 700m(](0.49ミリモル)及び
イソニコチン酸ベンズヒドリル500m(1(1.73
ミリモル)を用いて実施例1の(C)及び(d)と同様
の操作を行い、ODSカラムクロマI−グラフィーにお
いて、ジアステレオマーAを水、ジアステレオマーBを
5%アセトニトリル・水で溶出して、それぞれ79「;
g(収率22.7%)及び31mll (収率8.5%
)を得る、高速液体クロマlルブラフィー分析 カラム:ODS(YHC−PACK AH−312) 
 6x 150111111移動相:30%HeOll
−0.OOIH pHosphate tJuffer
(pH3.0) 流速:1ml/min 検出:UV 254nm ジアステレオマーA:3.2分 ジアステレオマーB“3.5分 ジアステレオマー、へ \4P:160℃(分解) I R (KBr ) Cm−’:3340, 177
0. 1630\\A R ( CF.、COO旧σ:
2.90(1t1. ml. 3. 35t111す1
)、4.86  (ill,d,J=5Hz)、5.0
5(IH.m)、5.06(1tl,s)、 5. 7
0(IH. ml. 5. 72(IH, ml, 6
. 62(3H. m)。
6、88(IH.S)、 8.26(2H,d,J=6
Hz)、 8.75(2H,dJ・6Hz) ジアステレオマーB \4P:170℃(分解) I R (KBr) Clll−’:3420, 17
70. 1620\ M R(CF、、  C00N>
  (7:2.99(1N、l1l)、  3.30 
 (IH。
l1l)、4.82 (1f(、d、J=5Hz)、5
.00(IH,m)、5.36(IH。
S)、 5.58(IH,m)、 5.70(IH,1
11)、 6.54(3H,m)。
6.88(IH,s)、  8.16(2N、d、J=
6Hz)、8.65(2H,dJ=6Hz) 実施例6 75−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(α −カルホキシレーh  −3,4−ジヒドロキ
シベンジルオキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−
スルホネートメチル−1−ピリジニオメチル)−3−セ
フェム−4−カルボキシレート・ジナトリウム塩(レア
ステレオマ−A及びB、シン異性体)の製造(a)ヘン
スL: h”) )Li 7;3−(2−[(Dlj−
α−ペン:7:ヒドリルオキシカルボニルー3.4−ジ
〈2−メ1〜キシ工]−キシメi・キシ)ペンジルオキ
シイミノニ、、、2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート−1−オキサイド(シ
ン異性体) 500mg(326ミリモル)をN、N−
ジメチルホルムアミド5mlに溶解し、4−ピリジルメ
タンスルホン酸カリウム塩780nIO(3,26ミリ
モル)を加え、字部にて5時間放置する。減圧下に溶媒
を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、溶出画分(20%メタノール・塩化メチレン)を
濃縮して、ベンズヒドリル7β−(2−[(DL)−α
 −ベンズヒドリルオキシカルボニル−3,4−ジ(2
−メ]〜キシエ1ヘギシメ1−キシ)ベンジルオキシイ
ミノ: −2−(21−リチルアミノチアゾールー4−
イル)アセトアミド)−3−(4−スルホネートメヂル
ー1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボ
キシレート −1−オキサイド(シン異性体> 467
mg(収率88.9%)を泡状物として得る。
\〜IR(DMSO−d6)δ:3.16(3H,S)
、 3.18(3H,S)S、42f6H,m)、3.
70(4H,m)、4.10(2H,11r  S)。
5、00−5.40(6H,1111,5,50(1t
l、 m)、 5.72(1N、 S)。
G、0O(IH,m)、6.80−7.80 (31H
,m)、8.02(2H,d。
J=6Hz)、8.70(2H,d、J=6Hz!(b
’r上記反応(a)で冑たIL合物4<i7mj) (
0,31ミリモル)をN 、 N−ジメチルホルムアミ
ド4.01111に溶解し、−40’Cで三塩化リン0
.104m1(1,24ミリモル)を加える。反応溶液
を−20〜−40℃で4時間撹拌した後、氷水中に注ぎ
、沈澱物を液収する。この沈澱物を塩化メチレンに溶解
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を
留去して、ベンズヒドリル7β−(2−[(DL)−α
 −ベンズヒドリルオキシカルボニル−3,4−ジ(2
−メトキシエトキシメ1〜キシ)ベンジルオキシイミノ
E −2−(2−1〜リチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセlルアミド)−3−(4−スルホネートメチル
−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)437111(1(収率94
,6%)を得、精製することなく次の反応に用いる。
(C)上記反i (b )で得た化合物437mg (
0,29ミリモル)を実施例1の(d)と同様の操作を
行い、ODSカラムクロマ1へグラフィーにおいて、水
で溶出し、ジアステレオマーA及びBを、それぞれ47
ma (収率21%)及び701I1g(収率31%)
を得る。
高速液体クロマ]・グラフィー分析 カラム:0DS(YHC−PACK A)I−312)
  6x 150mm移動相、30%He0H−0,0
018Phosphate buf’fer(pH3,
0) 流速:1ml/min 検出:UV 254nm ジアステレオマーA:3.O分 ジアステレオマーB:3.2分 ジアステレオマーA MP:150℃(分解) I R(KBr) cm−’ :3430.1770.
1615\M R(CF、1COOtl) a :2.
83(廿、br d、J=18Hz)。
3.23 (IH,br d、J=18Hz)、4.2
8(2H,br s)。
4、80(IH,d、 J=6H2)、 4.90(1
H,m)、 5.33(IH,S)。
5.60(2t1.m)、6.42(2N、m)、6.
63(1f1.11r s)、6.90(IH,s)、
7.72(211,d、J=611z)、8.33(2
H,d、J=6Hz)ジアステレオマ=B MP:160℃(分解) 1R(KBr)cm  :3430,1770.161
5\M R(CF、lCO叶)(1:2.90(IH,
br d、J=18Hz)。
3.20(1N、br d、J=18Hz)、 4.2
9(2H,br s)4、80(IH,d、 J=4H
2)、 4.90(IH,1tl)、 5.36(IH
,S)。
5.58(2H,m)、6.46(2H,nl)、6.
60(IH,br S)。
6.93(IH,s)、7.80(2H,br d、J
=6Hz)、8.38(2H。
br dl=6Hz) 実施例7 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(α−カルボキシレート−3,4−ジヒドロキシベン
ジルオキシイミノ)アセトアミド]−3−[4−(2−
スルホネートエチル)−1−ピリジニオメチル]−3−
セフェム−4−カルボキシレート・ジナトリウム塩(ジ
アステレオマーA及びB、シン異性体)の製造ベンズヒ
ドリル7β−(2−((OL)−α−ベンズヒドリルオ
キシカルボニル−3,4−ジ(2−メトキシエトキシメ
トキシ)ベンジルオキシイミノ] −2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−
ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート−
1−オキサイド(シン異性体> 500mg(3,34
ミリモル)及び2−(4−ピリジル)エタンスホン酸カ
リウム塩340 m(] (1,71ミリモル)を用い
て実施例6の(a) 、(b)及び(C)と同様の操作
を行い、ジアステレオマーA及びBを、それぞれ77m
a (収率28.2%)及び42mg(収率15.9%
)を1qる。
高速液体クロマトグラフィー分析 カラム:ODS(YMC−PACK AH−312) 
 6x 150mm移動相;30%MeOH−0,00
1HPbosphate buyer(pH3,0) 流速:1ml/min 検出:UV 254nm ジアステレオマーA:3.1分 ジアステレオマーB:3.4分 ジアステレオマーA MP:155℃(分解) I R(KBr) Cm−1:3430.1770.1
62ON M R(CF、IC0ON) a :2.8
6(IH,m)、3.18(4H,n+)3、42 (
IH,m)、 4.82 (IH,d、 J=5H2)
、 4.88(IH,m)。
5、33(IH,S)、 5.56(IH,m)、 5
.68(1N、 m) 、 6.58(3H,m)、6
.86(IH,s)、 7.58(2H,d、J=5H
z)、8.23(2H,d、 J=5H2) ジアステレオマーB MP :170℃(分解) I R(KBr) cm−1:3430.1770.1
62ONMR(CF、 CO叶) a :2.70−3
.60(6H,m)、4.80−5.00(2H,m)
、5.38(IH,s)、  5.40−5.80(2
H,m)6、58(3H,l1l)、 6.89(IH
,S)、 7.59(2H,m)、8.20(2H,m
) 実施例8 7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(α−カルボキシレート−3,4−ジヒドロキシベン
ジルオキシイミノ)アセトアミド]−3(3−アミノ−
1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボキ
シレート・ジナトリウム塩(ジアステレオマーA及びB
1シン異性体)の製造 ベンズヒドリル7β−(2−[(DL)−α −ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル−3,4−ジ(2−メトキシ
エトキシメトキシ)ベンジルオキシイミノ] −2−(
2−トリチルアミンチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド)−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルホキ
シレー1〜−1−オキサイド(シン異性体> 7001
11!11(0,48ミリモル)及び3−トリチルアミ
ノピリジン470mg(1,45ミリモル)を用いて実
施例6の(a) 、(b)及び(C)と同様の操作を行
い、ODSカラムクロマトグラフィーにおいて、ジアス
テレオマーAを5%メタノール・水、ジアステレオマー
Bを10%メタノール・水で溶出して、それぞれ44m
g (収率13%)及び54mg(収率16,7%)を
得る。
高速液体クロマトグラフィー分析 カラム:0DS(YHC−PACK AM−312) 
 6x 150mm移動相;30%He叶−〇、001
HPhosphate buffer(pH3,0) 流速:1ml/min 検出;UV 254nm ジアステレオマーA:4.8分 ジアステレオマーB:9.2分 ジアステレオマーA 〜4P:160℃(分解) r R(KBr ) Cm−’ :3430.1770
.161ONM R(CF、 C00N) a :2.
70−3.60(2H,m)、4.80(1N、m)、
4.83(1N、m)、5.38(111,s)、5.
40−5.90(2H,m)、6.50(2H,m)、
6.67(1N、br s)、6.88(IH。
s)、7.28(2H,m)、7.60(IH,m)、
7.80(1tl、m)ジアステレオマーB M P :175℃(分解) I R(KBr)cm−1:3420.1770.16
1ON M R< CF3CO0H) (1:2.70
−3.40(2H,m)、4.78<tH,d、J=5
Hz)、  4.80(1N、m)、5.30(18,
s)、5.40−5.90  (2N、m)、6.46
(2H,m)、6.62(1N、br  s)。
6.93(IH,s)、7.25[2H,m)、  7
.70(111,m)、8.08(IH,m) 実施例9 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(α−カルポキシレー1−−3.4−ジヒドロキシベ
ンジルオキシイミノ)アセトアミドF3−(3−ホルミ
ルアミノ −1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−
4−カルボキシレート・ナトリウム塩(ジアステレオマ
ーA及びB1シン異性体)の製造 ベンズヒドリル7β−(2−[(OL)−α−ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル− キシメトキシ)ベンジルオキシイミノ]−2−(2−ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−
3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルホキシレー
1〜−1−オキサイド(シン異性体) 700mg( 
0.48ミリモル)及び3−ホルミルアミノピリジン1
77mg(1445ミリモル)を用いて実施例6の(a
) 、(b)及び(C)と同様の操作を行い、ODSカ
ラムクロマトグラフィーにおいて、ジアステレオマーA
を5%メタノール・水、ジアステレオマーBを10%メ
タノール・水で溶出して、それぞれ49mg(収率14
. s%)及び53mo (収率15.4%)を得る。
高速液体クロマトグラフィー分析 カラム:ODS(YHC−PACK AH−312) 
 6x 150mm移動相:30%He叶−0.001
)I Phosphate buffer(pH 3.
0) 流速:1ml/ll+in 検出:UV 254nm ジアステレオマーA :4.6分 ジアステレオマーB:8.2分 ジアステレオマーA 〜/IP:165℃(分解) I R (KBr) Clll−’ :3430, 1
770. 161ON M R ( CF, COO旧
a :2.90(1N,br d,J=18Hz)。
3、32(IH,br d,J=18Hz)、4.86
(1N,d,J=5Hz)4、97(IH,m)、5.
35(IH,S)、5.50− 5.80(2H,m)
6、48(2H,m)、6.66(1N,br s)、
6.87(1N,s)、7.60(IH,dd,J=6
及び10Hz)、 7. 90−8. 30(3N, 
m) 。
9、30(IH, br, s) ジアステレオマーB M p :160℃(分解) I R (KBr) cm’:3440. 1770.
 161ON M R (CF3CO0H)σ:2.9
0(18,n+)、 3.30(IH,m)、4.82
(1H,d,J=5Hz)、4.98(IH,m)、 
5.34(IH,s)、5.50−5.80(2N,m
)、 6.48(2H,m)、6.62(IH,brs
)、 6. 90(IH, s)、 7. 60(IH
, m)、 7. 90−8. 40(3H, m)、
9.25(IH,br s) 及1と1里 本発明化合物は文献末記載の新規化合物であり、特に感
受性・耐性のダラム陽性菌及びダラム陰性菌に対して優
れた抗菌力を有し、特に緑膿菌を含む耐性のダラム陰性
菌に対して強い抗菌力を有すること及びβーラクタマー
ゼに対する安定性に優れているため、抗菌剤として有効
である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
    子、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有して
    いてもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若しくは隣
    接したR^1及びR^2が互いに結合して5乃至6員環
    を形成してもよい、R^3及びR^4は同一又は異なっ
    て、水素原子、水酸基又はアセトキシ基を示す)で表さ
    れる化合物、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な
    その無毒性エステル。
  2. (2)一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5及びR^6は同一又は異なって、水素原
    子又は保護されていてもよい水酸基、R^7は水素原子
    又はアミノ保護基、Xは脱離基、R^8及びR^9は水
    素原子又はカルボキシル保護基、YはS又はSOを示す
    )で表される化合物、又はその塩に、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1^0及びR^1^1は同一又は異なって
    、水素原子、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基
    を有していてもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若
    しくは隣接したR^^1^0及びR^^1^1が互いに
    結合して5乃至6員環を形成してもよい、を示す。但し
    、R^^1^0及びR^^1^1は保護されていてもよ
    い置換基を示す)で表される化合物、又はその塩を反応
    させて、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R
    ^1^0、R^1^1及びYは前記の意味を有し、X^
    ■は陰イオンを示す)で表される化合物となし、要すれ
    ば還元及び/又は保護基を除去することを特徴とする一
    般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
    子、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有して
    いてもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若しくは隣
    接したR^1及びR^2が互いに結合して5乃至6員環
    を形成してもよい、R^3及びR^4は同一又は異なっ
    て、水素原子、水酸基又はアセトキシ基を示す)で表さ
    れる化合物、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な
    無毒性エステルの製法。
  3. (3)一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^9は水素原子又はカルボキシル保護基、R
    ^1^0及びR^1^1は同一又は異なって、水素原子
    、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有してい
    てもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若しくは隣接
    したR^1^0及びR^1^1が互いに結合して5乃至
    6員環を形成してもよい、X^■は陰イオン、YはS又
    はSOを示す、但し、R^1^0及びR^1^1は同一
    又は異なって、保護されていてもよい置換基を示す)で
    表される化合物又はその塩を、一般式(V)▲数式、化
    学式、表等があります▼ (式中、R^5及びR^6は同一又は異なって、水素原
    子又は保護されていてもよい水酸基、R^7は水素原子
    又はアミノ保護基を示す、R^8及びR^9は水素原子
    又はカルボキシル保護基)で表されるカルボン酸、又は
    その反応性誘導体によりアシル化して、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R
    ^1^0X^■及びYは前記の意味を有する)で表され
    る化合物となし、要すれば還元及び/又は保護基を除去
    することを特徴とする一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
    子、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有して
    いてもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若しくは隣
    接したR^1及びR^2が互いに結合して5乃至6員環
    を形成してもよい、R^3及びR^4は同一又は異なっ
    て、水素原子、水酸基又はアセトキシ基を示す)で表さ
    れる化合物、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能な
    その無毒性エステルの製法。
  4. (4)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
    子、カルボキシル基、カルバモイル基、置換基を有して
    いてもよい、低級アルキル基又はアミノ基、若しくは隣
    接したR^1及びR^2が互いに結合して、5乃至6員
    環を形成してもよい、R^3及びR^4は同一又は異な
    って、水素原子、水酸基又はアセトキシ基を示す)で表
    される化合物、その無毒性塩又は生理的に加水分解可能
    なその無毒性エステルを有効成分として含有する抗菌剤
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