JP6241632B2 - 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
ΔL2=ΔYo×(1+cosθ)+ΔZo×sinθ …(2)
従って、式(1)、(2)からΔZo及びΔYoは次式(3)、(4)で求められる。
ΔYo=(ΔL1+ΔL2)/{2(1+cosθ)} …(4)
Δθy≒(ΔZoL−ΔZoR)/D …(6)
従って、主制御装置20は、上記式(3)〜式(6)を用いることで、Z干渉計43A、43Bの計測結果に基づいて、ウエハステージWSTの4自由度の変位ΔZo、ΔYo、Δθz、Δθyを算出することができる。
=2KVycos[(θ1−θ0)/2]cosθ
+2KVzcos[(θ1−θ0)/2]sinθ …(7)
ここで、θ=π/2−(θ1+θ0)/2なので、上式を変形して、次式(8)を得る。
2πfD=KVy(sinθ1+sinθ0)+KVz(cosθ1+cosθ0)…(8)
ここで、入射角θ0と散乱角θ1には次式の関係(回折条件)が成立する。
ただし、λは光の波長、pは回折格子のピッチ、nは回折次数である。なお、回折次数nは、散乱角(回折角)−θ0の零次回折光を基準にして、+Y方向に散乱(発生)される回折光に対して正、−Y方向に発生される回折光に対し負となる。式(9)に式(10)を代入すると、位相シフトφは、次式(11)のように書き換えられる。
上式(11)より明らかなように、反射面DSが停止していれば、すなわちΔY=ΔZ=0ならば、位相シフトφも零となる。
ただし、回折条件を、次式(13)で与えた。
一方、光束LB2は角度θb0で反射型回折格子RGに入射し、nb次回折光が角度θb1で発生される。この回折光が、反射鏡R2bによって反射され、同じ光路を辿って反射鏡R1bに戻るとする。光束LB2が被る全位相シフトは、式(12)と同様に、次式(14)のように求められる。
ただし、回折条件を、次式(15)で与えた。
+2KΔZf(θa0,θa1,θb0,θb1)+φ0 …(16)
ここで、反射鏡R1a,R1b,R2a,R2bの配置と回折条件(13)、(15)とから定まる幾何学的因子を、次式(17)のように表記した。
=cosθb1+cosθb0−cosθa1−cosθa0 …(17)
また、上式(16)において、その他の要因(例えば、変位ΔL,ΔY,ΔZの基準位置の定義など)より定まる定位相項をφ0と表記した。
その場合、式(16)の右辺第3項の括弧内は零になり、同時にnb=−na(=n)を満たすので、次式(19)が得られる。
上式(19)より、位相差φsymは光の波長λに依存しないことがわかる。そして、干渉光の強度Iは、変位ΔYが計測単位(計測ピッチとも呼ぶ)p/4n増加あるいは減少する毎に、強弱を繰り返すことがわかる。そこで、予め定められた基準位置からの変位ΔYに伴う干渉光の強度の強弱の回数を計測する。そして、その計数値(カウント値)cΔYを用いることにより、変位ΔYの計測値CΔYが、次式(20)より算出される。
上式(21)において、定位相項φ0を位相オフセット(ただし、0≦φ0<2πと定義する)とし、変位ΔYの基準位置での位相φsym(ΔY=0)を保持することとする。
Δx=g(z,θy,θz)=θy(z−c)+θz(z−d) ……(23)
上式(22)において、aは、図12のグラフの、各直線が交わる点のZ座標であり、bは、Yエンコーダの補正情報の取得のためにヨーイング量を変化させた場合の図12と同様のグラフの、各直線が交わる点のZ座標である。また、上式(23)において、cは、Xエンコーダの補正情報の取得のためにローリング量を変化させた場合の図12と同様のグラフの、各直線が交わる点のZ座標であり、dは、Xエンコーダの補正情報の取得のためにヨーイング量を変化させた場合の図12と同様のグラフの、各直線が交わる点のZ座標である。
hC=(yC1−yC0)/φ ……(25)
hD=(xD1−xD0)/φ ……(27)
上式(24)、(25)からわかるように、ウエハステージWSTのピッチング量をφxとすると、ウエハステージWSTのピッチングに伴う、Yエンコーダ70A,70Cのアッベ誤差ΔAA、ΔACは、次式(28)、(29)で表せる。
ΔAC=hC・φx ……(29)
上式(26)、(27)からわかるように、ウエハステージWSTのローリング量をφyとすると、ウエハステージWSTのローリングに伴う、Xエンコーダ70B,70Dのアッベ誤差ΔAB、ΔADは、次式(30)、(31)で表せる。
ΔAD=hD・φy ……(31)
CY=r’・ey’ …(35b)
ここで、ex’,ey’は、ウエハステージWSTにのった相対座標系(X’,Y’,θz’)におけるX’,Y’単位ベクトルで、基準座標系(X,Y,θz)におけるX,Y単位ベクトルex,eyと、次式(36)の関係がある。
CY=−(p−X)sinθz+(q−Y)cosθz ……(37b)
C2=−(p2−X)sinθz+(q2−Y)cosθz ……(38b)
C3= (p3−X)cosθz+(q3−Y)sinθz ……(38c)
上式(39)において、p4,q4は、エンコーダEnc4の計測点のX座標値、Y座標値である。エンコーダEnc4のY座標値q4として前述のヘッド位置のキャリブレーションの際に取得した位置情報が、エンコーダEnc4のX座標値p4としては、設計上の位置情報が、メモリ34内からそれぞれ読み出されて用いられる。
C3= (p3−X)cosθz+(q3−Y)sinθz …(38c)
C4= (p4−X)cosθz+(q4−Y)sinθz …(38d)
なお、4つめのエンコーダがYヘッドの場合には、理論式(38d)の代わりに次の理論式(38e)を用いた連立方程式(38b)(38c)(38e)を用いれば良い。
本実施形態では、ウエハステージWSTの3自由度(X,Y,θz)方向の位置座標を計測するために、常時、エンコーダシステム70A〜70Dを構成するXエンコーダ(ヘッド)及びYエンコーダ(ヘッド)の内、少なくとも1つのXヘッドと少なくとも2つのYヘッドを含む少なくとも3つのヘッドを使用している。そのため、ウエハステージWSTの移動に伴って使用するヘッドを切り換える際には、切り換えの前後でステージ位置の計測結果を連続につなぐために、3つのヘッドの組み合わせから別の3つのヘッドの組み合わせへと切り換える方式を採用している。この方式を、第1方式と呼ぶことにする。
CY4=−(p4−X)sinθz+(q4−Y)cosθz ……(39b)
ここで、(p3,q3),(p4,q4)はYヘッド643,644のX,Y設置位置(より正確には計測点のX,Y位置)である。簡単のため、Yヘッド643,644のY設置位置は等しい(q3=q4)と仮定する。この仮定の下、上式(39a)(39b)より、次式(40)が得られる。
従って、後に停止される第1ヘッド643の計測値を上式(40)の右辺のCY3に代入して、左辺のCY4を求めることにより、新たに使用する第2ヘッド644の計測値を予測することができる。
ここで、(pA,qA)はYヘッド64AのX,Y設置位置(より正確には計測点のX,Y位置)である。簡単のため、Yヘッド64AのY設置位置qAは、Yヘッド643,644のY設置位置q3,q4と等しい(qA=q3=q4)と仮定する。
ただし、定数c=(p3−p4)/(qA−q3)と置いた。従って、Yヘッド643,64Aの計測値のそれぞれを上式(41)の右辺のCY3,CYAに代入して左辺のCY4を求めることにより、新たに使用するYヘッド644の計測値を予測することができる。
Claims (45)
- 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系を支持するフレーム部材と、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に設けられ、前記投影光学系の光軸と直交する所定面内の第1方向に関して互いに位置が異なる複数の検出領域でそれぞれ前記基板のマークを検出可能なマーク検出系と、
前記マーク検出系によって検出可能なマークを有する基準部材と、
前記投影光学系の上方に配置され、前記照明光で照明されるマスクを保持する第1ステージと、
前記第1ステージを駆動する第1モータを有する第1駆動系と、
前記第1ステージの位置情報を計測する第1計測システムと、
前記投影光学系の複数の光学素子のうち、最も像面側に配置され、かつ前記照明光が通過する射出面が液体と接するレンズを囲むように設けられ、前記投影光学系の下に液体で液浸領域を形成するノズル部材と、
前記投影光学系及び前記マーク検出系の下方に配置され、前記基板を保持する第2ステージと、
前記第2ステージを駆動する第2モータを有する第2駆動系と、
前記第2ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記第2ステージの上方で前記投影光学系に対して前記ノズル部材の外側に配置されるように前記フレーム部材に設けられ、前記ヘッドを介して前記格子部の反射型格子に計測ビームを照射し、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記第2ステージの位置情報を計測する第2計測システムと、
前記第1、第2計測システムの計測情報に基づいて前記第1、第2駆動系をそれぞれ制御する制御装置と、を備え、
前記マーク検出系によって液体を介さず前記マークが検出されるとともに、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板が露光され、前記マーク検出系による前記マークの検出動作と、前記基板の露光動作でそれぞれ、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測され、
前記制御装置は、前記複数の検出領域の相対位置情報を取得するために、前記複数の検出領域でそれぞれ前記基準部材のマークが検出されるように前記マーク検出系の下方に前記基準部材を配置し、前記検出動作において、前記所定面内で前記第1方向と直交する第2方向に関して互いに位置が異なる前記基板の複数のマークを、前記複数の検出領域の少なくとも一部で検出するために、前記複数の検出領域に対して前記基板が前記第2方向に相対移動されるように前記第2駆動系を制御し、前記露光動作において、前記複数の検出領域の相対位置情報と前記マーク検出系の検出情報に基づいて前記基板のアライメントが行われるとともに、前記照明光に対して前記マスクと前記基板をそれぞれ相対移動する前記基板の走査露光が行われるように前記第1、第2駆動系を制御し、
前記第2ステージの移動によって、前記第2計測システムで前記位置情報の計測に用いられる前記複数のヘッドの1つが前記複数のヘッドと異なる別のヘッドに切り換えられ、
前記切換前に用いられる前記複数のヘッドによって計測される位置情報に基づいて、前記切換後に前記別のヘッドを使って前記第2ステージの移動を制御するための補正情報が取得される露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記第2ステージの移動によって、前記格子部と対向する前記ヘッドが3つのヘッドと4つのヘッドとの一方から他方に変更される露光装置。 - 請求項1又は2に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記複数の検出領域によって前記マークの互いに異なる部分がそれぞれ同時に検出可能となるように前記マークが形成される露光装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系および前記マーク検出系の下方に配置され、前記基準部材を有する、前記第2ステージと異なるステージを、さらに備え、
前記異なるステージには、前記第2計測システムの一部を構成し、前記所定面内の移動に伴い、前記投影光学系に対して前記ノズル部材の外側に配置されるように前記フレーム部材に設けられた前記格子部に対向可能な前記ヘッドとは別のヘッド、又は前記所定面内の移動に伴い、前記投影光学系に対して前記ノズル部材の外側に配置されるように前記フレーム部材に設けられた前記ヘッドに対向可能な前記格子部とは別の格子部が、設けられ、
前記複数の検出領域でそれぞれ前記基準部材のマークが検出されるように前記第2駆動系によって前記異なるステージが移動され、前記第2計測システムによって前記異なるステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、少なくとも前記第1方向に関して前記複数の検出領域の間隔又は相対位置関係が可変である露光装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記第2方向に関して前記複数の検出領域の間隔又は相対位置関係が可変である露光装置。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記複数の検出領域の一部が移動可能であり、前記複数の検出領域の間隔又は相対位置関係が変更されるように、前記複数の検出領域のうち残りの検出領域に対して前記一部の検出領域が相対移動される露光装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記複数の検出領域にそれぞれ検出光を照射する複数の光学系と、前記複数の検出領域の間隔又は相対位置関係が変更されるように前記複数の光学系の一部を移動する駆動部とを有する露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置において、
前記マーク検出系は、前記駆動部によって移動される前記光学系の位置情報を計測するセンサを有する露光装置。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の検出領域に対して前記基板を前記第2方向に相対移動する前記検出動作において、前記第2方向に関して互いに異なる位置で、前記マークの検出に用いられる前記検出領域の数が異なる露光装置。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数の検出領域に対して前記基板を前記第2方向に相対移動する前記検出動作において、前記第2方向に関して互いに異なる位置で、前記マーク検出系によって検出される前記マークの数が異なる露光装置。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第2ステージはその上面に基準マークを有し、
前記制御装置は、前記マーク検出系による前記基準マークの検出動作において、前記複数の検出領域の1つに前記基準マークが配置されるように前記第2駆動系を制御し、
前記アライメントにおいて前記基準マークの検出情報が用いられ、前記基準マークの検出動作において、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項12に記載の露光装置において、
前記第2ステージはその上面にスリットパターンを有し、
前記投影光学系を介して投影される像を、前記スリットパターンを介して検出する空間像検出部を、さらに備え、
前記制御装置は、前記像の検出動作において、前記像が前記スリットパターン上に投影されるように前記第2駆動系を制御し、
前記アライメントにおいて前記像の検出情報が用いられ、前記像の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項13に記載の露光装置において、
前記第2ステージはその上面の凹部内に配置され、前記基板を保持するホルダを有し、
前記基準マークおよび前記スリットパターンは、前記凹部と異なる前記上面の開口内に配置される計測部材に設けられる露光装置。 - 請求項13又は14に記載の露光装置において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に設けられ、前記所定面と直交する第3方向に関する前記基板の位置情報を検出する検出装置を、さらに備え、
前記制御装置は、前記第3方向に関して互いに異なる位置でそれぞれ、前記スリットパターンを介して前記像が検出されるように前記第2駆動系を制御し、
前記像の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第3方向に関する前記第2ステージの位置情報が計測され、前記検出装置の検出情報に基づいて前記投影光学系を介して投影されるパターン像と前記基板との相対位置関係を調整する前記基板のフォーカス・レベリング制御において、前記像の検出情報が用いられる露光装置。 - 請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に設けられ、前記所定面と直交する第3方向に関する前記基板の位置情報を検出する検出装置を、さらに備え、
前記検出装置による前記基板の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項15又は16に記載の露光装置において、
前記マーク検出系および前記検出装置は、前記検出装置による前記基板の検出動作の少なくとも一部が、前記マーク検出系による前記マークの検出動作と並行して実行されるように、前記投影光学系に対して前記第2方向の一側に離れて配置される露光装置。 - 請求項15〜17のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第2ステージはその上面に計測部材が設けられ、
前記制御装置は、前記検出装置によって前記計測部材が検出されるように前記第2駆動系を制御し、
前記露光動作において前記計測部材の検出情報が用いられ、前記計測部材の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第3方向に関する前記第2ステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項1〜18のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2計測システムはそれぞれエンコーダシステムを有し、
前記第2計測システムは、前記第1、第2方向と、前記所定面と直交する第3方向を含む6自由度方向に関する前記第2ステージの位置情報を計測する露光装置。 - 請求項19に記載の露光装置において、
前記第2計測システムは、前記格子部と対向する前記複数のヘッドがそれぞれ、前記所定面と平行な方向および前記所定面と直交する方向の2方向に関して前記第2ステージの位置情報を計測可能である露光装置。 - 請求項1〜20のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記反射型格子が2次元格子であり、かつ前記所定面とほぼ平行となるように配置され、
前記第2ステージは、前記ヘッドが設けられるとともに、前記格子部の下方で移動される露光装置。 - 請求項1〜21のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記切換前、前記格子部と対向する3つの前記ヘッドによって前記第2ステージの位置情報が計測され、
前記切換後、前記3つのヘッドのうち前記1つのヘッドを除く2つのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む3つのヘッドによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光装置。 - 請求項22に記載の露光装置において、
前記格子部は、それぞれ前記反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
前記ヘッドの切換は、前記切換前に用いられる3つのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む4つのヘッドがそれぞれ前記4つのスケール部材と対向している間に行われる露光装置。 - 請求項1〜23のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第2ステージの移動によって、前記反射型格子と対向する前記複数のヘッドの個数が変化する露光装置。 - 請求項24に記載の露光装置において、
前記格子部は、それぞれ前記反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
前記第2計測システムは、前記4つのスケール部材の3つ又は4つとそれぞれ対向する3つ又は4つの前記ヘッドによって前記第2ステージの位置情報を計測可能である露光装置。 - 請求項1〜25のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第2ステージは、前記液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の凹部内に配置されるホルダと、を有し、前記基板の表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持するとともに、前記上面によって、前記基板の表面から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を維持可能である露光装置。 - 請求項1〜26のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ノズル部材は、前記液体の供給口および回収口と、前記レンズの射出面より低く配置される下面と、を有し、前記供給口を介して前記液浸領域に液体を供給するとともに、前記回収口を介して前記液浸領域の液体を回収する露光装置。 - 請求項1〜27のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ノズル部材は、前記フレーム部材、または前記フレーム部材と異なるフレーム部材に設けられる露光装置。 - 請求項1〜28のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記フレーム部材に支持部材を介して吊り下げ支持される露光装置。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜29のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の複数の光学素子のうち、最も像面側に配置され、かつ前記照明光が通過する射出面が液体と接するレンズを囲むように設けられるノズル部材によって、前記投影光学系の下に液体で液浸領域を形成することと、
前記投影光学系から離れて前記投影光学系を支持するフレーム部材に設けられ、前記投影光学系の光軸と直交する所定面内の第1方向に関して互いに位置が異なる複数の検出領域でそれぞれ前記基板のマークを検出可能なマーク検出系の下方に、前記複数の検出領域の相対位置情報を取得するために、前記複数の検出領域でそれぞれ基準部材のマークが検出されるように、前記基準部材を配置することと、
前記所定面内で前記第1方向と交差する第2方向に関して位置が異なる前記基板の複数のマークが前記複数の検出領域の少なくとも一部で検出されるように、前記複数の検出領域に対して前記基板を前記第2方向に相対移動することと、
前記投影光学系の上方に配置され、前記照明光で照明されるマスクを保持する第1ステージの位置情報を第1計測システムで計測することと、
前記投影光学系及び前記マーク検出系の下方に配置され、前記基板を保持する第2ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記第2ステージの上方で前記投影光学系に対して前記ノズル部材の外側に配置されるように前記フレーム部材に設けられ、前記ヘッドを介して前記格子部の反射型格子に計測ビームを照射する第2計測システムの、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記第2ステージの位置情報を計測することと、
前記第1、第2計測システムの計測情報に基づいて前記第1、第2ステージをそれぞれ移動することと、を含み、
前記マーク検出系によって液体を介さず前記マークが検出されるとともに、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板が露光され、前記マーク検出系による前記マークの検出動作と、前記基板の露光動作でそれぞれ、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測され、
前記露光動作において、前記複数の検出領域の相対位置情報と前記マーク検出系の検出情報に基づいて前記基板のアライメントが行われるとともに、前記照明光に対して前記マスクと前記基板をそれぞれ相対移動する前記基板の走査露光が行われるように前記第1、第2ステージが移動され、
前記第2ステージの移動によって、前記第2計測システムで前記位置情報の計測に用いられる前記複数のヘッドの1つが前記複数のヘッドと異なる別のヘッドに切り換えられ、
前記切換前に用いられる前記複数のヘッドによって計測される位置情報に基づいて、前記切換後に前記別のヘッドを使って前記第2ステージの移動を制御するための補正情報が取得される露光方法。 - 請求項31に記載の露光方法において、
前記第2ステージの移動によって、前記格子部と対向する前記ヘッドが3つのヘッドと4つのヘッドとの一方から他方に変更される露光方法。 - 請求項31又は32に記載の露光方法において、
前記基板のマークの配置に応じて、少なくとも前記第1方向に関して前記複数の検出領域の間隔又は相対位置関係が調整される露光方法。 - 請求項31〜33のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数の検出領域に対して前記基板を前記第2方向に相対移動する前記検出動作において、前記第2方向に関して互いに異なる位置で、前記マークの検出に用いられる前記検出領域の数と、前記マーク検出系によって検出される前記マークの数との少なくとも一方が異なる露光方法。 - 請求項31〜34のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記マーク検出系によって前記第2ステージの上面に配置される基準マークを検出するために、前記複数の検出領域の1つに前記基準マークが配置されるように前記第2ステージが移動され、
前記アライメントにおいて前記基準マークの検出情報が用いられ、前記基準マークの検出動作において、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項35に記載の露光方法において、
前記投影光学系と前記液浸領域の液体を介して投影される像を、前記第2ステージの上面に配置されるスリットパターンを介して検出するために、前記像が前記スリットパターン上に投影されるように前記第2ステージが移動され、
前記アライメントにおいて前記像の検出情報が用いられ、前記像の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項36に記載の露光方法において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に設けられる検出装置によって、前記所定面と直交する第3方向に関する前記基板の位置情報が検出され、
前記第3方向に関して互いに異なる位置でそれぞれ前記スリットパターンを介して前記像が検出されるように前記第2ステージが移動され、
前記像の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第3方向に関する前記第2ステージの位置情報が計測され、前記検出装置の検出情報に基づいて前記投影光学系と前記液浸領域の液体を介して投影されるパターン像と前記基板との相対位置関係を調整する前記基板のフォーカス・レベリング制御において、前記像の検出情報が用いられる露光方法。 - 請求項31〜37のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に設けられる検出装置によって、前記所定面と直交する第3方向に関する前記基板と前記第2ステージの上面に配置される計測部材の位置情報が検出され、
前記露光動作において前記検出装置の検出情報が用いられ、前記検出装置による前記基板と前記計測部材の検出動作において、前記第2計測システムによって前記第3方向に関する前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項31〜38のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2計測システムはそれぞれエンコーダシステムを有し、
前記第2計測システムによって、前記第1、第2方向と、前記所定面と直交する第3方向を含む6自由度方向に関する前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項31〜39のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記切換前、前記格子部と対向する3つの前記ヘッドによって前記第2ステージの位置情報が計測され、
前記切換後、前記3つのヘッドのうち前記1つのヘッドを除く2つのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む3つのヘッドによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項40に記載の露光方法において、
前記格子部は、それぞれ前記反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
前記ヘッドの切換は、前記切換前に用いられる3つのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む4つのヘッドがそれぞれ前記4つのスケール部材と対向している間に行われる露光方法。 - 請求項31〜41のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第2ステージの移動によって、前記反射型格子と対向する前記複数のヘッドの個数が変化する露光方法。 - 請求項42に記載の露光方法において、
前記格子部は、それぞれ前記反射型格子が形成される4つのスケール部材を有し、
前記4つのスケール部材の3つ又は4つとそれぞれ対向する3つ又は4つの前記ヘッドによって前記第2ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項31〜43のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記第2ステージの上面と実質的に同一面となるように前記上面の凹部内で保持され、前記上面によって、前記基板の表面から外れる前記液浸領域の少なくとも一部が維持される露光方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項31〜44のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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