JP6925783B2 - パターン描画装置及びパターン描画方法 - Google Patents

Description

本発明は、ワークテーブル上に載置されたワークとなる基板上の感光材料に光学ヘッドからレーザを照射して配線パターンなどを描画するパターン描画装置及びパターン描画方法に関するものである。

この種のパターン描画装置においては、通常、構成要素間の位置関係が、実際の描画段階においては設計値と異なってしまうことを考慮し、その位置ずれを事前に検出し、描画位置を補正することが行われている。
例えば、特許文献１には、基板上に形成された位置調整のための基準となるアライメントマーク（以下、ＡＭと呼ぶ）を読取るためのＡＭ用カメラと位置ずれ検出用の校正パターン間の位置ずれ及び光学ヘッドのパルス光と校正パターン間の位置ずれをそれぞれ検出することにより、設計値に対するＡＭ用カメラと光学ヘッド間の位置ずれを検出するようにしたパターン描画装置が開示されている。
位置ずれ検出動作は、実際に描画する動作に近い状態で行われるのが望ましく、そうでないと、この検出時期の違いでさえも位置ずれが発生する。具体的には、ワークテーブルの光学ヘッドに対する相対移動動作とレーザ照射系における照射タイミングとの時間的なずれが位置ずれとなって表れる。より高精度のパターン描画が要求される場合、この位置ずれが無視できなくなるが、特許文献１での位置ずれ検出方式においては、このような問題について全く考慮されていない。

特開2008-65034号公報

そこで、本発明は、ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと光学ヘッド間の相対移動量を制御するパターン描画方式において、設計値に対する位置ずれを高精度に検出できるようにすることを目的とするものである。

本願において開示される発明のうち、代表的なパターン描画装置は、光学ヘッドを有し、ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと前記光学ヘッド間の相対移動量を制御し、前記光学ヘッドにより前記ワークにパターンを描画するようにしたパターン描画装置において、前記アライメントマークを読取る第一の撮像部であって位置ずれ検出用の第一のパターンの画像を読取るものと、前記第一パターンの画像を読取る第二の撮像部であって前記テーブルと前記光学ヘッド間の相対移動を行いながら前記光学ヘッドからの照射光により描画した位置ずれ検出用の第二のパターンの画像を読取るものと、前記第一撮像部の読取画像に基づいて当該第一撮像部の視野中心と前記第一パターンの中心との間の第一の座標差を求める位置ずれ検出部であって前記第二撮像部の読取画像に基づいて前記第一パターンの中心と前記第二パターンの特定位置との間の第二の座標差を求めるものとを備えることを特徴とする。

また、本願において開示される発明のうち、代表的なパターン描画方法は、ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと光学ヘッド間の相対移動量を制御し、前記光学ヘッドにより前記ワークにパターンを描画するようにしたパターン描画方法において、前記アライメントマークを読取る第一の撮像部により位置ずれ検出用の第一のパターンの画像を読取ることにより当該第一撮像部の視野中心と前記第一パターンの中心との間の第一の座標差を求める第一の工程と、前記テーブルと前記光学ヘッド間の相対移動を行いながら前記光学ヘッドからの照射光により位置ずれ検出用の第二のパターンを描画する第二の行程と、前記第一パターンと前記第二パターンの画像を読取る第二の撮像部の読取画像に基づいて前記第一パターンの中心と前記第二パターンの特定位置との間の第二の座標差を求める第三の行程とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと光学ヘッド間の相対移動量を制御するパターン描画方式において、設計値に対する位置ずれを高精度に検出できるようになる。

本発明における位置ずれ検出を説明するための図である。 本発明の一実施例におけるパターン描画装置の概略平面図である。 本発明の一実施例における光学ヘッド用カメラ台の上部の構造を説明するための図である。 本発明の一実施例における校正パターンを示す図である。 本発明の一実施例におけるパターン描画装置の制御系を説明するためのブロック図である。 本発明の一実施例におけるＡＭ用カメラの読取画像を説明するための図である。 本発明の一実施例における光学ヘッド用カメラの読取画像を説明するための図である。 本発明の一実施例における位置ずれ検出用描画パターンを示す図である。 本発明の一実施例における図７とは別の時点での光学ヘッド用カメラの読取画像を説明するための図である。 本発明の一実施例における動作を説明するためのフローチャートである。 本発明における校正パターンの他の例を示す図である。 本発明における位置ずれ検出用描画パターンの他の例を示す図である。 図１２に示した位置ずれ検出用描画パターンを使用した場合での図９に相当する光学ヘッド用カメラの読取画像を説明するための図である。

以下、本発明の実施の形態について図１〜８を用いて説明する。
図２は、本発明の一実施例となるパターン描画装置の概略平面図である。図２において、１はパターン描画を行うべきワークとなる基板で、Ｘ方向とＹ方向に移動可能なワークテーブル２の上に載置される。ワークテーブル２の上には、光学ヘッド用カメラ３と光学部４が搭載される光学ヘッド用カメラ台５が取付けられており、ワークテーブル２のＸ方向への移動により、コ字状のゲート７の下を通過できるようになっている。
ゲート７の手前側には、光学ヘッドを複数個含む光学ヘッドユニット８が取付けられており、光学ヘッドユニット８に対して相対移動する基板１にレーザ光を照射して所望のパターンの描画を行うようになっている。この光学ヘッドユニット８には基板１に形成されたＡＭ９を読取るための同軸照明型のＡＭ用カメラ１０が取付用部材１１を介して取付けられている。
光学ヘッドユニット８の各光学ヘッドは、可動マイクロミラーがマトリクス状に配置されたディジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）を使用したものであり、各可動マイクロミラーの傾きを制御手段からのオン、オフ信号により制御するようになっているものである。このような光学ヘッドは、例えば特開2009-80324号公報で知られているものである。

図３は、光学ヘッド用カメラ台５の上部の構造を説明するための図である。図３において、光学ヘッド用カメラ台５上に搭載される光学部４の最上部には、校正パターン２１が形成された校正パターン形成板２２が配置される。校正パターン形成板２２は透光性の平板部材であり、校正パターン２１は、図４に示すように、円形の透過部２３を中央部に残した四角形の遮光部２４で構成される。この校正パターン２１においては、透過部２３の中心を校正パターン２１の中心として扱う。校正パターン形成板２２の下には、透過部２３を通過した光を反射する反射鏡２５を保持する台座２６と、校正パターン形成板２２を台座２６に対して所定の間隔を設けて取付ける筒状のスペーサ２７が配置される。光学ヘッド用カメラ３は反射鏡２５からの光を受光する位置に配置されている。
なお、透過部２３の大きさであるが、遮光部２４に対して相対的に相当小さいものであるが、図３と４では、判りやすくするために大きめに描いてある。

図５は、パターン描画装置の制御系を説明するためのブロック図である。図５において、４１は光学ヘッド用カメラ３の読取り動作を制御する光学ヘッド用カメラ制御部、４２はＡＭ用カメラ１０の読取り動作を制御するＡＭ用カメラ制御部、４３はワークテーブル２のＸ方向とＹ方向への移動を制御するワークテーブル駆動制御部、４４は光学ヘッドユニット８の各光学ヘッドの動作を制御するための光学ヘッド制御部で、光学ヘッドのＤＭＤ内にある各可動マイクロミラーの傾きを制御するオン、オフ信号を発生するものである。４５は装置全体の動作を制御する全体制御部である。

全体制御部４５には、描画すべきパターンの画像情報を記憶手段に記憶し、ワークテーブル駆動制御部４３と光学ヘッド制御部４４とを制御して、基板１に所望のパターンを描画するように制御する描画制御部４６と、本発明に従って位置ずれを検出する位置ずれ検出部４７が設けられる。
全体制御部４５は例えばプログラム制御の処理装置によって実現され、全体制御部４５の外側に設けられている機能要素のうちの光学ヘッド用カメラ３及びＡＭ用カメラ１０を除いて、一部または全部は全体制御部４５の内部で実行されるようにしてもよい。
なお、図５においては、各構成要素や接続線は、主に本実施例を説明するために必要と考えられるものを示してあり、パターン描画装置として必要な全てを示している訳ではない。

このパターン描画装置においては、実際に基板１に所望のパターンを描画する場合は、全体制御部４５の制御の下で以下のように動作する。
図２において、ワークテーブル２をＸ方向及びまたはＹ方向に移動させ、基板１に形成されたＡＭ９をＡＭ用カメラ１０で読取れるよう位置合わせする。その後、読取ったＡＭ９の検出位置を基準にして、位置情報を含む描画情報に従ってワークテーブル２をＸ方向及びまたはＹ方向へ移動させながら、光学ヘッドユニット８の光学ヘッドからの照射光を基板１に照射し、所望のパターンを描画する。

また、位置ずれ検出動作を行う場合は、全体制御部４５の制御の下で以下のように動作する。図１０はこの位置ずれ検出動作のフローチャートを示す。
図２及び図３において、先ず後述する位置情報Ａに基づき、ワークテーブル２をＸ方向及びＹ方向に移動させることにより、光学部４上の校正パターン２１をＡＭ用カメラ１０で読取れるよう位置合わせし（図１０のフローチャートのステップ８１、以下ステップ番号・・・とだけ記載する）、その後、ＡＭ用カメラ１０で校正パターン２１を読取る（ステップ８２）。

図６は、この時のＡＭ用カメラ１０の読取画像を説明するための図である。図６において、５１は校正パターン、５２は校正パターン５１の透過部、５４はＡＭ用カメラ１０の視野、５５は視野５４の中心、５６は透過部５２の中心である。校正パターン５１は透過部５２だけが薄暗くなっており、その周辺は明るくなっている。
図５における位置ずれ検出部４７は、ＡＭ用カメラ１０の読取画像に基づき、透過部５２の例えば面積中心を求める方法によりその中心５６を求め、ＡＭ用カメラ１０の視野５４の中心５５との座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）（ΔＸ１はＸ方向の座標差、ΔＹ１はＹ方向の座標差であり、以下同様に表記する）を求める（ステップ８３）。なお、この場合の中心５５は、ＡＭ用カメラ１０の視野の縦と横のピクセル数のそれぞれ１／２の位置とし、予め求めておくものする。

なお、上記の位置情報Ａとは、設計値に基づいて、ＡＭ用カメラ１０の視野５４の中心５５と校正パターン５１の中心である透過部５２の中心５６が互いに一致するようにする場合の位置情報である。

次に、上記の位置情報Ａに基づいて位置合わせした状態のままで、光学ヘッド用カメラ３で校正パターン２１を読取る（ステップ８４）。
図７は、この時の光学ヘッド用カメラ３の読取画像を説明するための図である。図７において、５１は校正パターン、５２は校正パターン５１の透過部、５６は透過部５２の中心、６２は光学ヘッド用カメラ３の視野、６３は視野６２の中心である。透過部５２は明るく光っており、その周辺は暗くなっている。
図５における位置ずれ検出部４７は、光学ヘッド用カメラ３の読取画像に基づき、透過部５２の中心５６を例えば面積中心を求める方法により求め、光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心６３との座標差（ΔＸ２、ΔＹ２）を求める（ステップ８５）。なお、この場合の視野６２の中心６３は、光学ヘッド用カメラ３の視野の縦と横のピクセル数のそれぞれ１／２の位置とし、予め求めておくものする。

次に、後述する方法により、図８に示すような円形のパターン（以下、位置ずれ検出用描画パターンと呼ぶ）３１を光学ヘッド用カメラ３の視野の中に描画させながら、その画像を光学ヘッド用カメラ３で読取る（ステップ８６）。なお、図８において網目を入れた部分が描画領域である。
図９は、この時の光学ヘッド用カメラ３の読取画像を説明するための図である。図９において、６５は描画された位置ずれ検出用描画パターンであり、この位置ずれ検出用描画パターン６５は明るくなっている。一方、校正パターン５１は透過部５２を含めて図示してあるが、暗くなっており、認識はできない。６２は光学ヘッド用カメラ３の視野、６３は視野６２の中心である。

図５における位置ずれ検出部４７は、光学ヘッド用カメラ３の読取画像に基づき、位置ずれ検出用描画パターン６５の中心６６を例えば面積中心を求める方法により検出し、光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心６３との座標差（ΔＸ３、ΔＹ３）を求める（ステップ８７）。なお、この場合の視野６２の中心６３は、光学ヘッド用カメラ３の視野の縦と横のピクセル数のそれぞれ１／２の位置とし、予め求めておくものする。

なお、図８に示す位置ずれ検出用描画パターン３１の描画は以下のように行う。
設計値に基づいて、光学ヘッド用カメラ３の視野の中に、通常の描画動作と同様に、ワークテーブル２を移動させながら、光学ヘッドユニット８に含まれる複数の光学ヘッドのうちの描画位置の基準になるものとして設計してある光学ヘッド、例えば光学ヘッドユニット８のＹ方向で見て端側にある光学ヘッド（以下、基準光学ヘッドと呼ぶ）におけるＤＭＤ内の選択された可動マイクロミラーを動作させて描画する。この場合、位置ずれ検出用描画パターン３１の中心が光学ヘッド用カメラ３の視野の中心と一致するように描画する。

これは、例えば、先ず描画制御部４６内にある記憶手段に位置ずれ検出用描画パターン３１の画像情報を、その中心を特定位置として予め決めてから書込んでおく。描画制御部４６は、この記憶手段内の画像情報を、その中心が光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心と一致するよう、通常の描画動作で行うのと同様にして、記憶手段における座標系からワークテーブル２における座標系へ展開する。
なお、この場合、設計値に対して大きな位置ずれがあっても、図９において、位置ずれ検出用描画パターン６５が光学ヘッド用カメラ３の視野の中から外れないよう、余裕があるように、位置ずれ検出用描画パターン３１や光学ヘッド用カメラ３の視野の大きさを設定しておく必要がある。

最後に、図５における位置ずれ検出部４７は、求めた各座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）、（ΔＸ２、ΔＹ２）及び（ΔＸ３、ΔＹ３）を合算し、この合計の座標差（ΔＸＡ、ΔＹＡ）を補正値として記憶しておく（ステップ８８）。各座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）、（ΔＸ２、ΔＹ２）、（ΔＸ３、ΔＹ３）及び（ΔＸＡ、ΔＹＡ）の相互の関係は、図１に示すとおりである。
位置情報を含む描画情報を与えて基板１に所望のパターンを実際に描画する場合、ＡＭ用カメラ１０でのＡＭ検出位置を基準にするが、図１は、所望のパターンを実際に描画する場合においては、設計値に基づき定まる位置と実際に描画される位置とは、（ΔＸＡ、ΔＹＡ）の位置ずれが発生してしまうことを示している。

説明を基板１に所望のパターンを実際に描画する場合に戻すと、図５における全体制御部４７の描画制御部４６は、ＡＭ９の検出位置を基準にして、位置情報を含む描画情報に従ってワークテーブル２のＸ方向とＹ方向への移動を制御する。この際、位置ずれ検出部４７に補正値として記憶しておいた座標差（ΔＸＡ、ΔＹＡ）でワークテーブル２の移動の目標位置を補正する。これにより、本来の位置に所望のパターンを描画することができる。

以上の実施例によれば、位置ずれ検出動作時において、光学ヘッドには実際に描画する態様で位置ずれ検出用描画パターンを描画させ、この位置ずれ検出用描画パターンの読取画像で位置ずれ検出を行うので、ワークテーブル２の光学ヘッドに対する相対移動動作とレーザ照射系における照射タイミングとの時間的なずれに基づく位置ずれも含めて検出でき、設計値に対する位置ずれ検出精度を向上させることができる。
さらに、図８に示す位置ずれ検出用描画パターン３１の大きさ（直径）は必要に応じて調整できるので、その読取画像から特定位置としての中心が検出しやすくなり、この観点からも位置ずれ検出精度を向上させることができる。

以上、本発明を一実施例を主体に説明したが、実施例は本発明を理解しやすくするための例であり、実施例における構成要素などを種々置換したり、別の要素を付加することにより、各種の変形が可能であり、本発明は実施例に限定されるものではない。
例えば、以上の実施例においては、先にＡＭ用カメラ１０で校正パターン２１を読取り、次に光学ヘッド用カメラ３で校正パターン２１や位置ずれ検出用描画パターンを読取るようにしたが、この逆でもよい。

また、以上の実施例においては、位置ずれ検出部４７は３つの座標差の合算値となる座標差（ΔＸＡ、ΔＹＡ）を求めて補正値として記憶しているが、位置ずれ検出部４７では各座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）、（ΔＸ２、ΔＹ２）及び（ΔＸ３、ΔＹ３）を求めてそれぞれを記憶しておくだけとし、描画制御部４６が補正の際に前記合算値を求めるようにしてもよい。

また、以上の実施例においては、校正パターン形成板２２に形成する校正パターン２１は、円形の透過部２３を中央部に残した四角形の遮光部２４で構成するようにしたが、光学ヘッド用カメラ３とＡＭ用カメラ１０による校正パターンの読取画像を処理することにより、その中心座標が得られるなら、他の形状であってもよい。例えば、図１１の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように透過部２３と遮光部２４が四角形や円形であってもよい。

また、以上の実施例においては、図９において、位置ずれ検出用描画パターン６５は、その中心６６が光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心と一致するように描画した。
しかしながら、設計値に基づいて、例えば光学ヘッド用カメラ３の視野の中心から（ΔＸｐ、ΔＹｐ）だけずれた位置に位置ずれ検出用描画パターン６５の中心６６が位置するように描画するようにしてもよい。
この場合、上記の方法で検出された座標差（ΔＸＡ、ΔＹＡ）には、上記のずれ（ΔＸｐ、ΔＹｐ）に対応する分も含むので、位置ずれ検出部４７は（ΔＸ１、ΔＹ１）＋（ΔＸ２、ΔＹ２）＋（ΔＸ３、ΔＹ３）−（ΔＸｐ、ΔＹｐ）を計算し、この結果の座標差（ΔＸＢ、ΔＹＢ）を補正値として記憶しておくか、描画制御部４６が補正の際に前記計算を行うようにしてもよい。

また、以上の実施例においては、基準光学ヘッドにおけるＤＭＤ内の選択された可動マイクロミラーを動作させて位置ずれ検出用描画パターンを描画するようにした。しかしながら、基準光学ヘッド以外の光学ヘッド内の可動マイクロミラーの位置は基準光学ヘッドの位置を基準にして認識することができるので、基準光学ヘッド以外の光学ヘッド内の選択した可動マイクロミラーにより位置ずれ検出用描画ターンを描画するようにしてもよい。

また、以上の実施例においては、基準光学ヘッドで描画する位置ずれ検出用描画パターンは円形とした。しかしながら、必ずしも円形である必要はなく、その読取画像を処理することにより位置ずれ検出用描画パターンの特定位置を求めることができるのであれば、他の形状であってもよい。例えば形状を四角形とし、４個の角部分の左下にある角部分を特定位置としてもよい。

また、以上の実施例においては、光学ヘッド用カメラ３の読取画像に基づいて、光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心６３と透過部５２の中心５６との座標差（ΔＸ２、ΔＹ２）及び光学ヘッド用カメラ３の視野６２の中心６３と位置ずれ検出用描画パターン６５の中心６６との間の座標差（ΔＸ３、ΔＹ３）を個別に求めている。
しかしながら、図１に示すように、座標差（ΔＸ２、ΔＹ２）と（ΔＸ３、ΔＹ３）の合算値、すなわち座標差（ΔＸ４、ΔＹ４）を一度に検出することができれば、上記のように座標差（ΔＸ４、ΔＹ４）の成分である座標差（ΔＸ２、ΔＹ２）と（ΔＸ３、ΔＹ３）を個別に求める必要はない。

座標差（ΔＸ４、ΔＹ４）は、例えば、以下のようにして一度に求めることが可能である。このための位置ずれ検出用描画パターン３２としては、図１２に示すように、リング状のものを使用する。なお、図１２において網目を入れた部分が描画領域である。

図１３は、図１２の位置ずれ検出用描画パターン３２を使用した場合での前述の図９に相当する光学ヘッド用カメラ３の読取画像を説明するための図である。図１３において、６７は基準光学ヘッドにより描画された位置ずれ検出用描画パターンであり、透過部５２の中で、暗くなっているリングの内側部分６８及び明るくなっている残りの部分は認識できるが、他の部分は暗くなっており、認識はできない。
なお、この場合、設計値に対して大きな位置ずれがあっても、位置ずれ検出用描画パターン６７のリングの内側部分６８が透過部５２からはみ出たり、透過部５２が位置ずれ検出用描画パターン６７のリングの外側部分にはみ出たりしないよう、余裕があるように、位置ずれ検出用描画パターンのリングの内径や外径、透過部の大きさを設定しておく必要がある。

図１２の位置ずれ検出用描画パターン３２を使用した場合、図５における位置ずれ検出部４７は、光学ヘッド用カメラ３の読取画像に基づき、透過部５２の中心５６を例えば面積中心を求める方法により求め、また位置ずれ検出用描画パターン６７のリングの内側部分６８の中心６９を例えば面積中心を求める方法により検出し、両者の座標差（ΔＸ４、ΔＹ４）を求める。なお、位置ずれ検出用描画パターン６７のリングの内側部分６８の中心６９は、位置ずれ検出用描画パターン６７の中心でもある。
そしてこの場合にも、図５における位置ずれ検出部４７は、座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）と（ΔＸ４、ΔＹ４）を合算し、合計の座標差（ΔＸＡ、ΔＹＡ）を補正値として記憶しておくか、位置ずれ検出部４７で各座標差（ΔＸ１、ΔＹ１）、（ΔＸ４、ΔＹ４）を求めてそれぞれを記憶しておくだけとし、描画制御部４６が補正の際に合算するようにしてもよい。

また、以上の実施例においては、光学ヘッドユニット８の各光学ヘッドは、多数の可動マイクロミラーがマトリクス状に配置されたＤＭＤを使用しているが、ＤＭＤと同様の空間光変調素子、例えばグレーチング・ライト・バルブ（ＧＬＶ：登録商標）を使った光学ヘッドでもよい。

また、以上においては、基板１に形成されるＡＭ９を一つだけ説明したが、実際にはＡＭは基板１に複数形成される。例えば、図２においては、もう一つのＡＭ１２を示してあるが、複数のＡＭを検出することによって、基板１の回転方向などのずれを検出することができ、その補正が可能となる。

１：基板 ２：ワークテーブル ３：光学ヘッド用カメラ ４：光学部、
５：光学ヘッド用カメラ台 ８：光学ヘッドユニット ９、１２：ＡＭ、
１０：ＡＭ用カメラ ２１：校正パターン ２２：校正パターン形成板、
２３：透過部 ２４：遮光部 ３１、３２：位置ずれ検出用描画パターン、
４１：光学ヘッド用カメラ制御部 ４２：ＡＭ用カメラ制御部、
４３：ワークテーブル駆動制御部 ４４：光学ヘッド制御部 ４５：全体制御部、
４６：描画制御部 ４７：位置ずれ検出部 ５１：校正パターン ５２：透過部、
５４：ＡＭ用カメラの視野 ５５：ＡＭ用カメラの視野の中心、
５６：校正パターンの中心 ６２：光学ヘッド用カメラの視野
６３：光学ヘッド用カメラの視野の中心 ６５、６７：位置ずれ検出用描画パターン
６６：位置ずれ検出用描画パターンの中心
６９：位置ずれ検出用描画パターンのリングの内側部分の中心

Claims (6)

1. 光学ヘッドを有し、ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと前記光学ヘッド間の相対移動量を制御し、前記光学ヘッドにより前記ワークにパターンを描画するようにしたパターン描画装置において、
   前記アライメントマークと、位置ずれ検出用の第一のパターンの画像と、を読取る第一の撮像部と、
   前記第一パターンの画像と、前記テーブルと前記光学ヘッド間の相対移動を行いながら前記光学ヘッドからの照射光により描画した位置ずれ検出用の第二のパターンの画像と、を読取る第二の撮像部と、
   前記第一撮像部の読取画像に基づいて当該第一撮像部の視野中心と前記第一パターンの中心との間の第一の座標差と、前記第二撮像部の読取画像に基づいて前記第一パターンの中心と前記第二パターンの特定位置との間の第二の座標差と、を求める位置ずれ検出部と、を備え、
   前記第一のパターンは、透過部を中央部に残した遮光部で構成され、
   前記第二のパターンは、リング状のパターンであり、
   前記第二の座標差は、前記第一パターンの中心と前記第二パターンの中心との間の座標差であり、
   前記第二の撮像部による読取画像において、前記第二のパターンの内側部分の画像が暗く認識され、前記第二のパターンの残りの部分の画像が明るく認識されるようになっており、前記第二のパターンの内側部分の画像が前記第一のパターンの前記透過部の画像からはみ出ないように、かつ、前記第一のパターンの前記透過部の画像が前記第二のパターンの外側部分にはみ出ないように、前記第一のパターンの大きさ及び前記第二のパターンの内径及び外径が設定される、パターン描画装置。
2. 前記第一座標差及び第二座標差に基づいて前記アライメントマークの読取り位置を基準にした相対移動量を補正する、請求項１に記載のパターン描画装置。
3. 前記第二パターンは、備えられる複数の光学ヘッドのうちの描画位置の基準となる光学ヘッドにより描画される、請求項１又は２に記載のパターン描画装置。
4. ワークに形成された描画位置の基準となるアライメントマークの読取り位置を基準にして前記ワークが載置されるテーブルと光学ヘッド間の相対移動量を制御し、前記光学ヘッドにより前記ワークにパターンを描画するようにしたパターン描画方法において、
   前記アライメントマークを読取る第一の撮像部により位置ずれ検出用の第一のパターンの画像を読取ることにより当該第一撮像部の視野中心と前記第一パターンの中心との間の第一の座標差を求める第一の工程と、
   前記テーブルと前記光学ヘッド間の相対移動を行いながら前記光学ヘッドからの照射光により位置ずれ検出用の第二のパターンを描画する第二の工程と、
   前記第一パターンと前記第二パターンの画像を読取る第二の撮像部の読取画像に基づいて前記第一パターンの中心と前記第二パターンの特定位置との間の第二の座標差を求める第三の工程と、を備え、
   前記第一のパターンは、透過部を中央部に残した遮光部で構成され、
   前記第二のパターンは、リング状のパターンであり、
   前記第二の座標差は、前記第一パターンの中心と前記第二パターンの中心との間の座標差であり、
   前記第二の撮像部による読取画像において、前記第二のパターンの内側部分の画像が暗く認識され、前記第二のパターンの残りの部分の画像が明るく認識されるようになっており、前記第二のパターンの内側部分の画像が前記第一のパターンの前記透過部の画像からはみ出ないように、かつ、前記第一のパターンの前記透過部の画像が前記第二のパターンの外側部分にはみ出ないように、前記第一のパターンの大きさ及び前記第二のパターンの内径及び外径を設定する、パターン描画方法。
5. 前記第一座標差及び第二座標差に基づいて前記アライメントマークの読取り位置を基準にした相対移動量を補正する第四の工程を備える、請求項４に記載のパターン描画方法。
6. 前記第二パターンを、備えられる複数の光学ヘッドのうちの描画位置の基準となる光学ヘッドにより描画する、請求項４又は５に記載のパターン描画方法。

Images