JP6588636B2 - 偏光独立メトロロジシステム - Google Patents
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Description
この出願は、2015年10月27日に出願された米国仮特許出願第62/247,116号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
本開示は、例えばリソグラフィ装置に用いられるメトロロジシステムに関する。
図1Aおよび図1Bは、本発明の実施形態を実装することのできる、リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’をそれぞれ模式的に示す図である。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’はそれぞれ以下の、放射ビームB(例えば深紫外放射または極端紫外放射)を調整する照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク、レチクル、または動的パターニングデバイス)MAを支持するよう構成されるとともに、パターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第1ポジショナPMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、基板(例えば、レジストでコーティングされたウェーハ)Wを保持するよう構成されるとともに、基板を正確に位置決めするよう構成された第2ポジショナPWに接続されている基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、を備える。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’は、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば一つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システムPSも備える。リソグラフィ装置100では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSが反射型である。リソグラフィ装置100’では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSが透過型である。
図3に示すリソグラフィセル300は、たまにリソセルまたはクラスタとも称される。リソグラフィ装置100または100’は、リソグラフィセル300の一部を形成してよい。リソグラフィセル300は、基板上での露光前および露光後プロセスを実行するための装置も含んでよい。従来、これらは、レジスト層を堆積させるスピンコート装置SC、露光されたレジストを現像する現像装置DE、冷却プレートCH、およびベークプレートBKを含む。基板ハンドラまたはロボットROは、基板を入力/出力ポートI/O1,I/O2から取り出し、異なるプロセス装置間で基板を移動させ、リソグラフィ装置のローディングベイLBに基板を運ぶ。これらの装置(しばしば集合的にトラックと称される)は、トラック制御ユニットTCUの制御下にあり、TCU自体は監視制御システムSCSにより制御され、SCSはリソグラフィ制御ユニットLACUを介してリソグラフィ装置も制御する。したがって、異なる装置がスループットおよびプロセス効率を最大化させるように動作しうる。
図4は、実施形態に係る、リソグラフィ装置100または100’の一部として実装可能なメトロロジシステム400の断面図を模式的に示す。この実施形態の例では、メトロロジシステム400は、パターニングデバイス(例えばパターニングデバイスMA)に対して基板(例えば基板W)を整列させるよう構成される。メトロロジシステム400はさらに、基板上のアライメントマークの位置を検出し、アライメントマークの検出位置を用いてリソグラフィ装置100または100’のパターニングデバイスまたは他の構成要素に対して基板を整列させるよう構成される。そのような基板のアライメントにより、確実に基板上に1つ以上のパターンの露光を正確に行うことができる。
図5〜図8は、種々の実施形態に係る、光の異なる偏光状態を時間領域で分離する光学メトロロジシステムを示す。メトロロジシステムは、(例えば、基板上のフィーチャのx−y位置を測定する)アライメントシステムであってよい。このシステムでは、基板の表面に実質的に垂直な方向に光が基板に向かって方向づけられ、回折光が集められる。別の実施例では、光が基板表面上に斜めに方向づけられ、回折光が集められる。また、メトロロジシステムは、(例えば、基板上のフィーチャまたは基板表面のz位置を測定する)高さセンサであってもよい。高さセンサとして用いられるとき、メトロロジシステムは、基板の表面上に斜めに入射する光を使用し、回折光ではなく、反射光を集める。
図9は、実施形態に係る、リソグラフィ装置100または100'の一部として実装可能な別のメトロロジシステム900の概略図を示す。メトロロジシステム900は、時間領域ではなく、瞳面内で空間的に異なる偏光モードを分離するという点で、図5〜図8に示されている実施形態と異なる。図4に示されるのと同様に、基板420の表面からの屈折光が生成され、基板420に向けられる。明確にするために、照明システム412およびリフレクタ414は、図6には示されていない。メトロロジシステム900の様々な要素間の破線の光学経路は、光を案内するのを助けるレンズやミラーなどの自由空間光学部品を含むことができる。光はまた、1つ以上の光ファイバを使用して光学経路に沿って導かれてもよい。
図10は、実施形態に係る、メトロロジシステムを用いて基板上のターゲットの位置、または基板表面の高さを計測するためのフローチャート1000を示す。単に説明のために、図10に示すステップは、図4−図8に示す動作環境を参照して説明されている。しかしながら、フローチャート1000は、これらの実施形態に限定されない。ステップは異なる順序で行うことが可能であり、特定のアプリケーションによって行われるものではないことを理解されたい。
本明細書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、リソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD)、薄膜磁気ヘッドなどがある。当業者であればこれらの他の適用に際して、本明細書における「ウェーハ」あるいは「ダイ」という用語がそれぞれ「基板」あるいは「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされると理解することができるであろう。基板は露光前または露光後においてトラック(典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置)、メトロロジツール、及び/またはインスペクションツールにより処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ICを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は既に処理されている多数の処理層を含む基板をも意味する。
Claims (16)
- 光を発生させるように構成された放射源と、
前記光の第1偏光モードを前記光の第2偏光モードから時間的に分離するように構成された光変調器と、
前記光を基板に向けて方向づけるように構成されたリフレクタと、
前記基板上のパターンから回折された又は前記基板から反射された光を受け取り、回折又は反射光間の干渉から出力光を生成するように構成された干渉計と、
前記干渉計からの前記出力光を受光するように構成された検出器と、
を備え、前記出力光の前記第1偏光モードおよび前記第2偏光モードが、前記検出器において時間的に分離され、
前記光変調器は、
前記光を前記第1偏光モードを有する第1偏光と前記第2偏光モードを有する第2偏光とに分割するように構成された偏光スプリッタと、
前記第1偏光の群遅延を変化させるように構成された光遅延素子と、
前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとが結合光において時間的に分離されるように、遅延した前記第1偏光と前記第2偏光とを結合するように構成された光カプラと、
を備える、メトロロジシステム。 - 前記光遅延素子は、前記第1偏光の光路長を増加させるように構成された光ファイバを備える、請求項1に記載のメトロロジシステム。
- 前記光遅延素子は、前記第1偏光の光路長を増加させるように構成された複数のミラーを備える、請求項1に記載のメトロロジシステム。
- 前記光変調器は、前記基板上の前記パターンから回折または反射された前記光を受け取り、前記結合光を前記干渉計に送信するように構成されている、請求項1に記載のメトロロジシステム。
- 前記放射源がパルスレーザ光源を備え、前記パルスレーザ光源が、異なる波長を有するパルスを出力するように構成され、前記光変調器が、それらの波長に基づいて前記パルスに異なる変調を適用するように構成されている、請求項1に記載のメトロロジシステム。
- 光を発生させるように構成された放射源と、
前記光の第1偏光モードを前記光の第2偏光モードから時間的に分離するように構成された光変調器と、
前記光を基板に向けて方向づけるように構成されたリフレクタと、
前記基板上のパターンから回折された又は前記基板から反射された光を受け取り、回折又は反射光間の干渉から出力光を生成するように構成された干渉計と、
前記干渉計からの前記出力光を受光するように構成された検出器と、
を備え、前記出力光の前記第1偏光モードおよび前記第2偏光モードが、前記検出器において時間的に分離され、
前記放射源が連続レーザ光源を備える、メトロロジシステム。 - 前記光変調器は、前記連続レーザ光源から連続光を受け取り、前記連続レーザ光源から受け取った前記連続光の前記第1偏光モードを前記連続光の前記第2偏光モードから時間的に分離するように構成される、請求項6に記載のメトロロジシステム。
- 前記光変調器は、信号を前記検出器に送信するようにさらに構成され、前記信号は、前記連続光の前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとの間の時間的分離に関連している、請求項7に記載のメトロロジシステム。
- 前記光変調器は、
前記連続レーザ光源からの連続光を、前記第1偏光モードを有する前記第1偏光と前記第2偏光モードを有する前記第2偏光とに分割するように構成された偏光スプリッタと、
前記第1偏光に変調を加えるように構成された第1光変調器と、
前記第2偏光に変調を加えるように構成された第2光変調器と、を備え、
前記第1偏光および前記第2偏光が再結合されたときに前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとが時間的に分離されるように、第1の変調と第2の変調が加えられる、請求項6に記載のメトロロジシステム。 - 光を発生させるように構成された放射源と、
前記光を基板に向けて方向付けるように構成されたリフレクタと、
光変調器であって、
前記基板上のパターンから回折された、または前記基板から反射された光を、第1偏光モードを有する第1偏光および第2偏光モードを有する第2偏光に分割するように構成された偏光スプリッタと、
前記第1偏光を受光して前記第1偏光の偏光を回転させる旋光子と、
前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとが瞳面内で空間的に分離されるように、回転された前記第1偏光と前記第2偏光とを結合して結合光を形成するように構成された光カプラと、を備える光変調器と、
前記結合光を受光し、前記結合光の干渉から出力光を生成するように構成された干渉計と、
前記干渉計からの前記出力光を受光するように構成された1つ以上の検出器と、
を備え、前記出力光の前記第1偏光モードおよび前記第2偏光モードは、前記1つ以上の検出器で空間的に分離される、メトロロジシステム。 - 前記出力光を受け取り、前記1つ以上の検出器に光を送信するように構成された1つ以上の瞳分割器をさらに備える、請求項10に記載のメトロロジシステム。
- パターニングデバイスのパターンを照明するように構成された照明システムと、
基板のターゲット部分に前記パターンの像を投影するように構成された投影システムと、
メトロロジシステムであって、
光を発生させるように構成された放射源と、
前記光の第1偏光モードを前記光の第2偏光モードから時間的に分離するように構成された光変調器と、
前記光を前記基板に向けて方向づけるように構成されたリフレクタと、
前記基板上のパターンから回折された又は前記基板から反射された光を受け取り、回折又は反射光間の干渉から出力光を生成するように構成された干渉計と、
前記干渉計からの前記出力光を受光するように構成された検出器と、を備え、前記出力光の前記第1偏光モードおよび前記第2偏光モードが、前記検出器において時間的に分離され、
前記光変調器は、
前記光を前記第1偏光モードを有する第1偏光と前記第2偏光モードを有する第2偏光とに分割するよう構成された偏光スプリッタと、
前記第1偏光の群遅延を変化させるよう構成された光遅延素子と、
前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとが結合光において時間的に分離されるように、遅延された前記第1偏光と前記第2偏光とを結合するように構成された光カプラと、
を備える、メトロロジシステムと、
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記光変調器は、前記基板上の前記パターンから反射された第1の光を受け取り、前記結合光を前記干渉計に送信するように構成される、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスのパターンを照明するように構成された照明システムと、
基板のターゲット部分に前記パターンの像を投影するように構成された投影システムと、
メトロロジシステムであって、
光を発生させるように構成された放射源と、
前記光の第1偏光モードを前記光の第2偏光モードから時間的に分離するように構成された光変調器と、
前記光を前記基板に向けて方向づけるように構成されたリフレクタと、
前記基板上のパターンから回折された又は前記基板から反射された光を受け取り、回折又は反射光間の干渉から出力光を生成するように構成された干渉計と、
前記干渉計からの前記出力光を受光するように構成された検出器と、を備え、前記出力光の前記第1偏光モードおよび前記第2偏光モードが、前記検出器において時間的に分離される、メトロロジシステムと、
を備え、
前記放射源は、連続レーザ光源を備える、リソグラフィ装置。 - 前記光変調器は、前記連続レーザ光源から連続光を受け取り、前記連続レーザ光源から受け取った前記連続光の第1偏光モードを前記連続光の第2偏光モードから時間的に分離するように構成される、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光変調器は、
前記連続レーザ光源からの連続光を、前記第1偏光モードを有する第1偏光と前記第2偏光モードを有する第2の偏光とに分割するように構成された偏光スプリッタと、
前記第1偏光に変調を加えるように構成された第1光変調器と、
前記第2偏光に変調を加えるように構成された第2光変調器と、を備え、
前記第1偏光および前記第2偏光が再結合されたときに前記第1偏光モードと前記第2偏光モードとが時間的に分離されるように、第1の変調と第2の変調が加えられる、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
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