JP3801418B2 - 表面処理方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、易酸化性蒸着材料であるアルミニウムを希土類永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、例えば、酸化によって劣化しやすい性質を持つ希土類永久磁石などは、その表面にアルミニウム被膜などを蒸着形成して酸化による劣化を防止するようにしていた。このような表面処理方法のためには、例えば、図3に示すような表面処理装置が用いられている。
図3は、具体的には希土類永久磁石表面にアルミニウム蒸着被膜を形成するための装置を示すもので、図略の真空排気系に連なる処理室(真空槽)1内の下部には、蒸着材料であるアルミニウム10を蒸発させる溶融蒸発部であるハース(蒸着材料を溶解するための容器)2が、支持テーブル3上に立設されたハース支持台4上に1個または複数個配設されている。また、処理室1内の上方には網状部材で形成された籠状の被処理物保持部5が回転軸6を中心に回転自在に2個並設されている。
そして、この装置によれば、前記被処理物保持部5内に被処理物として希土類系永久磁石30が収容され、この被処理物保持部5、5を回転させながら、図略の加熱手段によって所定温度に加熱された前記ハース2からアルミニウム10を蒸発させ、被処理物保持部5、5内の希土類系永久磁石30の表面にアルミニウム蒸着被膜を形成するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような表面処理装置を使用して処理室内の酸素分圧が高い状態で蒸着処理を行った場合、溶融蒸発部から蒸発したアルミニウムが、被処理物に到達するまでの間に室内に存在する酸素によって酸化してしまい、優れた膜質のアルミニウム被膜を形成することができないという問題や、溶融蒸発部内のアルミニウム溶湯の表面に酸化アルミニウムの被膜が形成されてしまい蒸着材料であるアルミニウムが十分に蒸発されないという問題があった。また、これらの問題を解消するために、酸素分圧を低くすることを目的として真空度を上げようとすると、長時間の真空排気を行う必要がある。従って、例えば、全体の処理時間が2.5時間に対して、10−4Pa以下の真空度を得るために1時間を要するというように、生産性が劣るという問題があった。
そこで本発明は、高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、易酸化性蒸着材料であるアルミニウムを希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題点を解決するために鋭意検討の結果、処理室内における溶融蒸発部と被処理物の近傍を、水素によって蒸着を制御するガス雰囲気にした状態で前記蒸着材料を蒸発させると、高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりしなくても、極めて安定に蒸着処理を行うことができることを知見した。
【0005】
本発明は、上記の知見に基づきなされたものであり、本発明の表面処理方法は、請求項1記載の通り、易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜としてのアルミニウム蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、蒸着制御ガスとしての水素を含有するワイヤー状蒸着材料としてのアルミニウムワイヤーを溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、10−3Pa以上の酸素分圧下にある処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給し、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素/酸素モル比を10〜250の範囲とした状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。
また、請求項2記載の表面処理方法は、請求項1記載の表面処理方法において、アルミニウムワイヤーの水素含有量が0.5ppm〜11ppmであることを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の表面処理方法において表面処理の対象となる被処理物は、特に限定されるものではなく、蒸着処理によって蒸着被膜の形成が可能なものであればどのようなものでも構わない。しかしながら、本発明の表面処理方法によれば、蒸着処理を行う前工程である真空排気に長時間を要することがないため、連続的に大量処理することが要求される製品、例えば、電子部品材料などに用いられる希土類系永久磁石の表面処理に特に好適である。
【0007】
本発明の表面処理方法は、例えば、真空蒸着法のように蒸着材料を単に加熱によって蒸発させて被膜を形成する方法にも適用することができるし、例えば、イオンプレーティング法のように蒸発したものをイオン化させて被膜を形成する方法にも適用することができる。
【0008】
本発明の表面処理方法において使用される易酸化性蒸着材料は、微量の酸素の存在でも直ちに酸化してしまうアルミニウムである
【0009】
本発明の意図するところは、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に存在する酸素による悪影響をいかに抑制して、溶融蒸発部から蒸発した易酸化性蒸着材料を被処理物に到達させ、また、溶融蒸発部内の蒸着材料溶湯の表面に酸化物被膜を形成させずに、優れた膜質の蒸着被膜を被処理物表面に形成するかということにある。従って、酸素の存在による悪影響を抑制するためには、蒸着制御ガスの供給は、処理室内の溶融蒸発部と被処理物の近傍、即ち、溶融蒸発部と被処理物間の空間に行われればよい。しかしながら、蒸着制御ガスの供給は、上記領域のみに行わなければならないということではなく、室内全体に供給してもよいことはいうまでもない。
【0010】
本発明における蒸着制御ガスとは、当該ガスを供給することで、当該ガスを供給しない場合と比較して蒸着結果を改善する作用を有するガスを意味し、具体的には、酸素との反応性を有する還元性ガスであり取り扱いの容易水素である
【0011】
処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給する方法としては、蒸着制御ガスである水素を含有するワイヤー状蒸着材料を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給する方法を採用する。この方法によれば、所望する領域に効率よく蒸着制御ガスを供給することができる。
【0012】
以下、上記の表面処理方法を実施するための表面処理装置について、図面に基づき説明する。なお、以下の説明は、易酸化性蒸着材料として水素を含有するアルミニウムワイヤーを使用し、被処理物として希土類系永久磁石の表面処理を行う場合についてのものである。
図1および図2は、好適な表面処理装置の一実施の形態を示すものである。図略の真空排気系に連なる処理室(真空槽)1内の下部には、蒸着材料であるアルミニウム10を蒸発させる溶融蒸発部であるハース(蒸着材料を溶解するための容器)2が、支持テーブル3上に立設されたハース支持台4上に複数個配設されている。また、処理室1内の上方には網状部材で形成された籠状の被処理物保持部5が回転軸6を中心に回転自在に2個並設されている。
そして、この装置によれば、前記被処理物保持部5内に被処理物として希土類系永久磁石30が収容され、この被処理物保持部5、5を回転させながら、図略の加熱手段によって所定温度に加熱された前記ハース2からアルミニウム10を蒸発させ、被処理物保持部5、5内の希土類系永久磁石30の表面にアルミニウム蒸着被膜を形成するようにしている。
【0013】
以上の構成は、従来の表面処理装置と特にその構成を異にするものではないが、本発明の装置では、更に、支持テーブル3の下方内部に、蒸着材料である水素を所定量含有するアルミニウムワイヤー11が繰り出しリール20に回巻保持されている。前記繰り出しリール20への前記アルミニウムワイヤー11の回巻方向を水平方向としているのは、ワイヤーの送り方向、即ち、鉛直方向と直交させることによって、送り出されるワイヤーがねじれたりぶれたりすることを防止するためである。前記アルミニウムワイヤー11の先端は、ハース2の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チューブ21によってハース2の上方に案内されている。該保護チューブ21の一部には切り欠き窓22が設けられており、この切り欠き窓22に対応して設けられた一対の繰り出しギヤー23、23によって、前記アルミニウムワイヤー11をハース2内に所定の繰り出し速度で送り出し自在としている。
【0014】
かくして、前記ハース2を所定温度に加熱して、前記繰り出しリール20から前記アルミニウムワイヤー11をハース2に向かって連続的に送り出すことによって、ハース2内に送り込まれたアルミニウムワイヤー11がハース2内で溶融した際に、アルミニウムワイヤー11から所定量の水素が放出され、処理室1内における少なくとも溶融蒸発部であるハース2と被処理物である希土類系永久磁石30の近傍、即ち、ハースと希土類系永久磁石間の空間において水素雰囲気を生成させた状態で前記蒸着材料であるアルミニウムを蒸発させることが可能となるものである。
【0015】
この時、アルミニウムワイヤーに含有される水素量および/またはアルミニウムワイヤーの繰り出し速度を調整することで、酸素の存在による悪影響を抑制するための必要量の水素を供給することができ、前記処理室1内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素/酸素モル比を所望の値に調節することが可能となる。
【0016】
例えば、従来の方法では処理室内の酸素の存在量が多すぎて蒸着処理が困難であるような10−3Pa以上の酸素分圧下であっても、上記モル比が10〜250の範囲となるように、望ましくは20〜150の範囲となるように水素を供給した状態でアルミニウムの蒸発を行えば、安定した蒸着が可能となり、優れた膜質のアルミニウム被膜を被処理物表面に形成することができる。なお、前記モル比が10未満であると、水素の存在量が少なすぎて溶融蒸発部内の蒸着材料溶湯の表面に酸化物被膜が形成されて蒸着ができなくなるおそれがあり、また、250を超えると、溶融蒸発部内の蒸着材料溶湯の表面において、アルミニウムワイヤーに含まれていた水素がボイリングして溶融した蒸着材料が飛び散る現象(スプラッシュ)が生じたり、処理室内の全圧の上昇に起因して真空度が低下し、蒸着材料が蒸発しにくくなったり、被処理物が希土類系永久磁石の場合は、磁石が水素吸蔵を起こして磁気特性が劣化するおそれがある。
【0017】
本発明者らの検討によれば、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間を上記の水素/酸素モル比とするには、ワイヤー径が1mm〜2mmで水素含有量が0.5ppm〜11ppmのアルミニウムワイヤーを使用し、1g/min〜10g/minの繰り出し速度で溶融蒸発部内にこのアルミニウムワイヤーを送り込むことが望ましい。
【0018】
以上の条件において、蒸着処理を行うことによって、蒸着被膜中の水素含有量が1ppm〜20ppm、とりわけ、2ppm〜15ppmの優れた膜質の被膜を被処理物表面に形成することができる。
【0019】
処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給する方法として、蒸着制御ガスを含有するワイヤー状蒸着材料を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、前記蒸着材料から蒸着制御ガスを発生させて供給する方法に対して、蒸着制御ガスを処理室外部から導入することによって供給する方法を組み合わせてもよい
【0020】
蒸着制御ガスを外部から導入することによって供給する方法は、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間にのみ蒸着制御ガスが供給されるようにしてもよいし、室内全体に蒸着制御ガスが供給されるようにしてもよい。この方法を組み合わせた場合でも、例えば、従来の方法では処理室内の酸素の存在量が多すぎて蒸着処理が困難であるような10−3Pa以上の酸素分圧下であっても、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素/酸素モル比が10〜250の範囲となるように、望ましくは20〜150の範囲となるように水素を供給した状態でアルミニウムの蒸発を行えば、安定した蒸着が可能となり、優れた膜質のアルミニウム被膜を被処理物表面に形成することができる。
【0021】
蒸着制御ガスを外部から導入することによって供給する方法、処理室内への蒸着制御ガスの導入量でその供給量を簡易に制御することができる点において都合がよい
【0022】
被処理物としてR−Fe−B系永久磁石などの希土類系永久磁石を選択し、この表面にアルミニウム蒸着被膜を形成すれば、希土類系永久磁石を優れた膜質の被膜で密着被覆することができる。従って、耐食性に優れた希土類永久磁石を簡易かつ確実に製造することができる。また、本方法によって得られる、例えば、アルミニウム被膜を有する希土類永久磁石には、更なる耐食性の向上のため、クロム酸処理やショットピーニング等の公知の処理を施すことができる。
【0023】
【実施例】
次に、具体的な実施例を説明する。
実施例A(実施例1〜6と比較例1、2)
公知の鋳造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行い、17Nd−1Pr−75Fe−7B組成の23mm×10mm×6mm寸法の磁石体試験片を得た。
図1および図2に示した表面処理装置(内容積2.2m3)の処理室(真空槽)内に前記磁石体試験片を挿入した後、真空槽内の全圧が1.0×10-1Paになるまで真空排気を行った。この時の四重極質量分析計(QIG−066:アネルバ社製)で測定した真空槽の酸素分圧と、真空槽内の溶融蒸発部と被処理物間の空間体積を0.1m3、蒸着時の溶融蒸発部と被処理物間の空間の平均温度を200℃として算出した、この空間に存在する酸素分子数を表1に示す。
なお、酸素分圧は、真空槽外壁と接続した差動排気システムによって全圧を1.0×10-4Paに減圧した場所に四重極質量分析計を設置し、後述する、磁石体試験片表面の清浄化を目的とする表面スパッタ時の四重極質量分析計での全圧測定値を1.0Paにするように換算して求めた。
その後、真空槽内にArガスを全圧が1.0Paになるように導入し、表面スパッタによって磁石体試験片表面を清浄化した後、電圧1.5kVを印加し、アルミニウムワイヤーを加熱して溶融し、蒸発させ、イオン化させてイオンプレーティングを行い、磁石体試験片に20分で20μmのアルミニウム被膜を形成する試験を行った。
なお、アルミニウムワイヤーは、表1中に実施例1〜6と比較例1、2として記載の通り、水素含有量の異なるものを使用し、蒸着の可否の検討を行った(いずれのワイヤーもワイヤー径は1.6mm)。
アルミニウムワイヤーは、繰り出し速度を3g/minとし、真空槽内の通電加熱した6個のハースのそれぞれに連続的に送り込まれるようにした。
本実施例1〜6と比較例1、2について、アルミニウムワイヤー中の水素含有量から算出した1分間あたりの発生水素量、上記の酸素分子数とこの1分間あたりの発生水素量から算出した、溶融蒸発部と被処理物間の空間における1分間あたりに発生する水素/酸素モル比の値を表1に示す。また、上記の酸素分圧と同じ方法で換算して求めた蒸着時の水素分圧を表1に示す。
試験の結果と、実施例1〜6で得られたAl被膜中の水素量をグロー放電発光分析(GDS)(GDLS−5017:島津製作所社製)で測定した測定値を表1に示す。
【0024】
【表1】
Figure 0003801418
【0025】
表1から明らかなように、実施例1〜6では磁石体試験片に対してアルミニウムを問題なく蒸着させることができた。特に、実施例2〜5では良好な蒸着ができた。これに対し、比較例1では残留酸素に対する発生水素量が十分でなかったため、アルミニウム溶湯表面に酸化被膜が形成されてしまい、蒸着ができなかった。また、比較例2では、発生水素量が多すぎたため、アルミニウム溶湯のボイリングが生じ、安定な蒸着ができず、しかも、磁石体試験片の水素吸蔵による磁気特性の劣化が見られた。
【0026】
次に、実施例2の条件において得られたアルミニウム被膜を有する磁石体試験片について、温度80℃×相対湿度90%の高温高湿下での500時間の耐食性試験を行ったところ、試験前の(BH)maxが243kJ/m3、試験後の(BH)maxが233kJ/m3であり、磁気特性の劣化率は5%以下で、磁石体試験片からの発錆などは観察されず、優れた耐食性を有していることがわかった。
【0027】
【発明の効果】
以上説明した通り、本発明によれば、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスとしての水素を供給した状態で易酸化性蒸着材料としてのアルミニウムを蒸発させることによって、高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりしなくても、安定にアルミニウム蒸着被膜を所望の被処理物表面に形成することができる。そして、本発明の表面処理方法を採用すれば、極めて酸化しやすい希土類系永久磁石に対し、それが有する高い磁気特性を損なうことなく耐食性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の表面処理方法を実施するための表面処理装置の一実施の形態の模式的正面図
【図2】 同要部の模式的拡大斜視図
【図3】 従来から使用されている表面処理装置の模式的正面図
【符号の説明】
1 処理室
2 ハース
3 支持テーブル
4 ハース支持台
5 被処理物保持部
6 回転軸
10 アルミニウム
11 アルミニウムワイヤー
20 繰り出しリール
21 保護チューブ
22 切り欠き窓
23 繰り出しギヤー
30 希土類系永久磁石

Claims (2)

  1. 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜としてのアルミニウム蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、蒸着制御ガスとしての水素を含有するワイヤー状蒸着材料としてのアルミニウムワイヤーを溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、10−3Pa以上の酸素分圧下にある処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給し、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素/酸素モル比を10〜250の範囲とした状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする表面処理方法。
  2. アルミニウムワイヤーの水素含有量が0.5ppm〜11ppmであることを特徴とする請求項1記載の表面処理方法。
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1299570B1 (en) * 2000-07-10 2013-02-27 Hitachi Metals, Ltd. Method of inhibiting production of projections in metal deposited film
EP1172177B1 (en) * 2000-07-13 2004-10-20 Neomax Co., Ltd. Dry surface treating apparatus and dry surface treating method using the same apparatus
JP4691833B2 (ja) * 2001-06-07 2011-06-01 日立金属株式会社 金属蒸着被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
JP4729815B2 (ja) * 2001-07-13 2011-07-20 日立金属株式会社 蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法
CN100514513C (zh) * 2004-02-26 2009-07-15 住友电气工业株式会社 软磁材料和压粉磁芯及其制备方法
JP4483574B2 (ja) * 2004-12-27 2010-06-16 日立金属株式会社 蒸着被膜形成方法
CN101443862B (zh) 2006-03-31 2011-08-31 日立金属株式会社 稀土类永久磁铁的制造方法
US8375891B2 (en) * 2006-09-11 2013-02-19 Ulvac, Inc. Vacuum vapor processing apparatus
JP2009149916A (ja) * 2006-09-14 2009-07-09 Ulvac Japan Ltd 真空蒸気処理装置
WO2008140054A1 (ja) * 2007-05-09 2008-11-20 Hitachi Metals, Ltd. 表面にアルミニウムまたはその合金の蒸着被膜を有するR-Fe-B系焼結磁石およびその製造方法
JP2009174044A (ja) * 2007-12-27 2009-08-06 Canon Anelva Corp 蒸気供給装置を含む基板処理装置
JP5848239B2 (ja) * 2009-04-30 2016-01-27 ツィンファ ユニバーシティ セラミック表面の金属被覆方法及びセラミックとアルミニウムとの接合方法
JP5423438B2 (ja) * 2010-01-29 2014-02-19 日立金属株式会社 蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法
CN102864432A (zh) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 一种用于钕铁硼铁氧体防腐的处理方法
CN102864431A (zh) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 一种用于钕铁硼铁氧体防腐方法
CN102851646A (zh) * 2012-09-10 2013-01-02 虞雪君 钕铁硼铁氧体表面防腐的处理方法
KR101381676B1 (ko) * 2012-10-25 2014-04-17 주식회사 선익시스템 열증발 증착 장비의 알루미늄 와이어 주입 장치
JP6149455B2 (ja) * 2013-03-27 2017-06-21 日立金属株式会社 抵抗加熱方式によってAlの蒸着被膜を形成する方法、および溶融蒸発部として用いる蒸着用ボート
CN104480440A (zh) 2014-11-05 2015-04-01 烟台首钢磁性材料股份有限公司 小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备
CN104611698B (zh) * 2015-01-17 2017-11-24 浙江和也健康科技有限公司 一种柔性磁条表面处理工艺
CN104651779A (zh) 2015-02-11 2015-05-27 烟台首钢磁性材料股份有限公司 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备及镀膜工艺
WO2017126150A1 (ja) * 2016-01-19 2017-07-27 国立研究開発法人物質・材料研究機構 回転体へのZnOコーティング方法並びにZnOコーティングを有する回転体及びそれを組み込んだベアリング
CN107653440A (zh) * 2017-09-26 2018-02-02 湖北汽车工业学院 一种烧结钕铁硼永磁体表面制备铝或铝锡合金镀层的方法
CN111411325A (zh) * 2019-01-04 2020-07-14 董元 钐铁氮或钕铁氮各向异性粘结磁粉及其制备方法

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3097113A (en) * 1959-11-09 1963-07-09 Stokes F J Corp Vacuum coating apparatus
US3750623A (en) * 1972-02-11 1973-08-07 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge coating apparatus
US3926147A (en) * 1974-11-15 1975-12-16 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge-tumbling vapor deposition apparatus
US4116161A (en) * 1976-11-12 1978-09-26 Mcdonnell Douglas Corporation Dual tumbling barrel plating apparatus
JPS5487683A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Ulvac Corp Metal film depositing apparatus
US4233937A (en) * 1978-07-20 1980-11-18 Mcdonnell Douglas Corporation Vapor deposition coating machine
JPS56137614A (en) * 1980-03-31 1981-10-27 Futaba Corp Manufacture of amorphous silicon coat
JPS5957416A (ja) * 1982-09-27 1984-04-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 化合物半導体層の形成方法
GB8324779D0 (en) * 1982-09-29 1983-10-19 Nat Res Dev Depositing film onto substrate
JPS6092466A (ja) 1983-10-25 1985-05-24 Sumitomo Electric Ind Ltd アルミニウムの蒸着方法
JPS60243843A (ja) * 1984-05-18 1985-12-03 Fujitsu Ltd 光熱磁気記録媒体の製造方法
JPS6154023A (ja) * 1984-08-24 1986-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
CN1007847B (zh) * 1984-12-24 1990-05-02 住友特殊金属株式会社 制造具有改进耐蚀性磁铁的方法
JPS61166115A (ja) * 1985-01-18 1986-07-26 Sumitomo Special Metals Co Ltd 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
JPS61185910A (ja) * 1985-02-13 1986-08-19 Sumitomo Special Metals Co Ltd 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
JPS639919A (ja) * 1986-07-01 1988-01-16 Seiko Instr & Electronics Ltd 磁石の製造方法
JPS63110706A (ja) * 1986-10-29 1988-05-16 Hitachi Metals Ltd 永久磁石およびその製造方法
JPS63190165A (ja) * 1987-02-03 1988-08-05 Seiko Epson Corp 情報記録円板の蒸着装置
CN1015548B (zh) * 1987-07-01 1992-02-19 王�锋 高温高压钻井液助剂的制备方法
KR900000758B1 (ko) * 1987-12-03 1990-02-15 한국기계 연구소 삼극관식 이온 플레이팅장치
US5154978A (en) * 1989-03-22 1992-10-13 Tdk Corporation Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets
JPH04254312A (ja) * 1991-02-06 1992-09-09 Seiko Electronic Components Ltd 希土類磁石の製造方法
JPH06158285A (ja) 1992-11-27 1994-06-07 Kobe Steel Ltd Al系蒸着めっき材の製造方法
JP3129593B2 (ja) * 1994-01-12 2001-01-31 川崎定徳株式会社 希土類・鉄・ボロン系燒結磁石又はボンド磁石の製造法
JPH07272913A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Kawasaki Teitoku Kk 永久磁石原料、その製造法及び永久磁石
FR2721622B1 (fr) * 1994-06-24 1997-11-21 Inst Francais Du Petrole Méthode de passivation de pièces métalliques en super-alliage à base de nickel et de fer.
KR100302929B1 (ko) * 1995-12-25 2001-11-02 오카모토 유지 초고 진공용 영구자석
JP3003608B2 (ja) * 1997-01-23 2000-01-31 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
EP0984460B1 (en) * 1998-08-31 2004-03-17 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Fe-B-R based permanent magnet having corrosion-resistant film, and process for producing the same
JP3192642B2 (ja) * 1998-10-02 2001-07-30 住友特殊金属株式会社 表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法

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