JPS639919A - 磁石の製造方法 - Google Patents
磁石の製造方法Info
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- JPS639919A JPS639919A JP15445786A JP15445786A JPS639919A JP S639919 A JPS639919 A JP S639919A JP 15445786 A JP15445786 A JP 15445786A JP 15445786 A JP15445786 A JP 15445786A JP S639919 A JPS639919 A JP S639919A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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- H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、Ｎｄ−Ｆｅ系をはじめとする希を類鉄系磁
石の表面処理方法に関するものである。
石の表面処理方法に関するものである。
（発明の概要）
この発明は、Ｎｄ −Ｆｅ系をはじめとする希土類鉄系
磁石の表面上に金属チタンまたはチタン系化合物皮膜を
形成する際、イオンプレーティング法、スパッタリング
法、真空蒸着法等の物１！！蒸着法（Ｐ Ｖ Ｄ ：
Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ
）により行い、密着性に優れかつ、耐食性、耐薬品性
に優れた磁石を製造できる方法を提供することを目的と
している。
磁石の表面上に金属チタンまたはチタン系化合物皮膜を
形成する際、イオンプレーティング法、スパッタリング
法、真空蒸着法等の物１！！蒸着法（Ｐ Ｖ Ｄ ：
Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ
）により行い、密着性に優れかつ、耐食性、耐薬品性
に優れた磁石を製造できる方法を提供することを目的と
している。
（従来の技術）
従来、希土類磁石として、５ｌ−Ｃｏ系磁石が広く用い
られていたが、ｇ！Ｊ造コスト、磁気特性等の点で優れ
ているＮｄ −Ｆｅ系をはじめとする希土類鉄系磁石を
用いる気運がある。
られていたが、ｇ！Ｊ造コスト、磁気特性等の点で優れ
ているＮｄ −Ｆｅ系をはじめとする希土類鉄系磁石を
用いる気運がある。
しかし、希土類鉄系磁石はＳｎｉ −Ｃｏ系磁石に比べ
耐食性、耐薬品性という点で劣゛す、変色、清等の欠陥
を生じるため使用範囲が限定されており、何らかの表面
処理を施す必要性があった。
耐食性、耐薬品性という点で劣゛す、変色、清等の欠陥
を生じるため使用範囲が限定されており、何らかの表面
処理を施す必要性があった。
（発明が解決しようとする問題点）
希土類鉄系磁石に表面処理を施す場合、磁石自身の持つ
耐薬品性が弱いため、酸、アルカリ等の薬液を使用する
と処理工程中において表面や…石内部に存在する空孔や
空隙が侵されてしまい、良い湿式表面処理がなかった。
耐薬品性が弱いため、酸、アルカリ等の薬液を使用する
と処理工程中において表面や…石内部に存在する空孔や
空隙が侵されてしまい、良い湿式表面処理がなかった。
また酸やアルカリ等の薬液を用いない樹脂のコーティン
グ等による保護も考えられているが、霞械的な強度に乏
しいため、後加工や耐久性という点で問題があった。
グ等による保護も考えられているが、霞械的な強度に乏
しいため、後加工や耐久性という点で問題があった。
（問題点を解決するための手段）
上記の問題点を解決するため、鉄系材料に対し密着力が
強く、かつ耐食性、耐薬品性にすぐれたチタン、窒化チ
タン、炭化チタン、酸化チタン等の金属チタンまたはチ
タン系化合物皮膜をイオンプレーティング、スパッタリ
ング、真空蒸着等の物理蒸着法により形成する。
強く、かつ耐食性、耐薬品性にすぐれたチタン、窒化チ
タン、炭化チタン、酸化チタン等の金属チタンまたはチ
タン系化合物皮膜をイオンプレーティング、スパッタリ
ング、真空蒸着等の物理蒸着法により形成する。
（作用）
チタン系物質のコーティング法としては、ＰＶＤ法の他
、塩化チタンを用いる化学蒸着法（ＣＶ□ ； Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ）が
ある。しかし、優者のＣＶＤ法ではハロゲン化合物を用
いるため処理物である磁石が侵されるという欠点がある
。一方、ＰＶＤ法では、処理物である磁石をアルコール
、トリクロールエチレン等の有機溶剤によりＩＩＲＩＦ
ｆした後、処理装賀内でイオンボンバードとよばれる表
面エツチングによる清浄化が可能であるため、酸やアル
カリ溶液による前処理を必要としなくてすみ、薬液によ
り処理物が侵されることなく、処理、成膜が可能であり
、鉄系材料に対し密着性の優れたチタン系物質をコーテ
ィングすることができる。このようにして製造された磁
石は耐食性、耐薬品性に優れており、上記の問題点を解
決することができるのである。
、塩化チタンを用いる化学蒸着法（ＣＶ□ ； Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ）が
ある。しかし、優者のＣＶＤ法ではハロゲン化合物を用
いるため処理物である磁石が侵されるという欠点がある
。一方、ＰＶＤ法では、処理物である磁石をアルコール
、トリクロールエチレン等の有機溶剤によりＩＩＲＩＦ
ｆした後、処理装賀内でイオンボンバードとよばれる表
面エツチングによる清浄化が可能であるため、酸やアル
カリ溶液による前処理を必要としなくてすみ、薬液によ
り処理物が侵されることなく、処理、成膜が可能であり
、鉄系材料に対し密着性の優れたチタン系物質をコーテ
ィングすることができる。このようにして製造された磁
石は耐食性、耐薬品性に優れており、上記の問題点を解
決することができるのである。
（実施例）
希土類鉄系磁石としてＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の磁石用焼結合
金から成形したブロック状磁石を用い、また、チタン系
物質として三極方式の反応性イオンプレーティング装置
を用いて作られる窒化チタン皮膜の作成方法について実
施例を説明する。
金から成形したブロック状磁石を用い、また、チタン系
物質として三極方式の反応性イオンプレーティング装置
を用いて作られる窒化チタン皮膜の作成方法について実
施例を説明する。
第１図は本発明に使用した三極方式のイオンプレーティ
ング装置の断面図である。
ング装置の断面図である。
まず、真空槽１を１０ ’Ｔｏｒｒ以下まで真空排気後
、１０−２Ｔｏｒｒ台の真空度を保つようにガス導入系
２よりアルゴンガスを導入する。このとき、あらかじめ
トリクロールエチレンにより脱脂洗浄された処理物であ
る磁石ブロック３には−１０００Ｖの直流電圧を印加し
ておく。これにより真空槽１内はアルゴンガスによる放
電が生じ、磁石ブロック表面はアルゴンイオンに５より
スパッタエツチングされ清浄な状態となる。次に再度、
真空槽１内は１０ ’Ｔｏｒｒ以下まで排気し、電子ビ
ーム蒸発装置４により金属チタン５を蒸発する。このと
きイオン化電極６に＋４０Ｖの直流電圧を印加しておく
と、蒸発したチタンが放電する。放電電流を５０Ａに保
つように電子ビーム蒸発装置４の電力をコントロールし
、安定した後、シャッター７を開け、チタンを蒸着（イ
オンプレーティング）する。このとき、処理物である磁
石ブロック３には一２００Ｖの直流電圧を印加し、かつ
全面にコーティングするため取付は治具８を回転させて
おいた。約０．５ＩＩａのチタン皮膜を形成した後、徐
々にガス導入系２より窒素ガスを導入し、真空槽１内の
雰囲気を１ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒになるようにし、−
＋１／２Ｎ２→Ｔｈ Ｎなる反応性イオンプレーティン
グにより窒化チタン被膜を約３ＩＩａ形成した。
、１０−２Ｔｏｒｒ台の真空度を保つようにガス導入系
２よりアルゴンガスを導入する。このとき、あらかじめ
トリクロールエチレンにより脱脂洗浄された処理物であ
る磁石ブロック３には−１０００Ｖの直流電圧を印加し
ておく。これにより真空槽１内はアルゴンガスによる放
電が生じ、磁石ブロック表面はアルゴンイオンに５より
スパッタエツチングされ清浄な状態となる。次に再度、
真空槽１内は１０ ’Ｔｏｒｒ以下まで排気し、電子ビ
ーム蒸発装置４により金属チタン５を蒸発する。このと
きイオン化電極６に＋４０Ｖの直流電圧を印加しておく
と、蒸発したチタンが放電する。放電電流を５０Ａに保
つように電子ビーム蒸発装置４の電力をコントロールし
、安定した後、シャッター７を開け、チタンを蒸着（イ
オンプレーティング）する。このとき、処理物である磁
石ブロック３には一２００Ｖの直流電圧を印加し、かつ
全面にコーティングするため取付は治具８を回転させて
おいた。約０．５ＩＩａのチタン皮膜を形成した後、徐
々にガス導入系２より窒素ガスを導入し、真空槽１内の
雰囲気を１ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒになるようにし、−
＋１／２Ｎ２→Ｔｈ Ｎなる反応性イオンプレーティン
グにより窒化チタン被膜を約３ＩＩａ形成した。
十分冷却した後、処理物である磁石ブロック３を取り出
したところ、全面が黄金色を有しており、ハク・す、フ
クレ等の欠陥などは生じておらず、温度４０℃、湿度９
５％９時間１００時間の恒温恒湿試験によっても何ら変
色、１等の欠陥を生じることがなかった。
したところ、全面が黄金色を有しており、ハク・す、フ
クレ等の欠陥などは生じておらず、温度４０℃、湿度９
５％９時間１００時間の恒温恒湿試験によっても何ら変
色、１等の欠陥を生じることがなかった。
（発明の効果）
以上、実施例に述べたように本発明によれば、処理物で
ある希土類鉄系磁石の表面に何ら損傷を与えることなく
、密着性にすぐれたチタン系物質のコーティングが可能
であり、これにより得られる磁石は耐食性、耐薬品性に
すぐれたものとなり、その用途を拡大させる効果には絶
大なものがある。
ある希土類鉄系磁石の表面に何ら損傷を与えることなく
、密着性にすぐれたチタン系物質のコーティングが可能
であり、これにより得られる磁石は耐食性、耐薬品性に
すぐれたものとなり、その用途を拡大させる効果には絶
大なものがある。
なお、実施例ではＮｄ−Ｆｅ−３系の希土類鉄系磁石を
用いたが、他の希土類鉄系磁石に対しても本発明を適用
できることはいうまでもない。
用いたが、他の希土類鉄系磁石に対しても本発明を適用
できることはいうまでもない。
またチタン系物質膜として反応性イオンプレーティング
法による窒化チタン皮膜をあげたが、他の方法すなわら
、スパッタリング法や真空蒸着法などでも同様な効果が
期待される。
法による窒化チタン皮膜をあげたが、他の方法すなわら
、スパッタリング法や真空蒸着法などでも同様な効果が
期待される。
第１図は、本発明を行うための反応イオンプレーティン
グ装置の断面図である。 １・・・真空槽 ２・・・ガス導入系 ３・・・磁石ブロック ４・・・電子ビーム蒸発装置 ５・・・金属チタン ６・・・イオン化電極 ７・・・シャッター ８・・・取付は治具 出願人 セイコー電子工業株式会社 斗電子ビーム蒸発装！ 反応性イオンプレーティング法！の断面図第１図
グ装置の断面図である。 １・・・真空槽 ２・・・ガス導入系 ３・・・磁石ブロック ４・・・電子ビーム蒸発装置 ５・・・金属チタン ６・・・イオン化電極 ７・・・シャッター ８・・・取付は治具 出願人 セイコー電子工業株式会社 斗電子ビーム蒸発装！ 反応性イオンプレーティング法！の断面図第１図
Claims (1)
- 希土類鉄系磁石表面上に金属チタンまたはチタン系化合
物皮膜を形成するに当り、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、真空蒸着法等の物理蒸着法を用いるこ
とを特徴とする磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15445786A JPS639919A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15445786A JPS639919A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639919A true JPS639919A (ja) | 1988-01-16 |
Family
ID=15584647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15445786A Pending JPS639919A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS639919A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100607294B1 (ko) * | 1999-05-14 | 2006-07-28 | 가부시키가이샤 네오맥스 | 표면처리방법, 표면처리장치, 증착재료, 및 표면처리된희토류계 영구자석 |
| US7655325B2 (en) | 2005-12-28 | 2010-02-02 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth magnet and method for producing same |
-
1986
- 1986-07-01 JP JP15445786A patent/JPS639919A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100607294B1 (ko) * | 1999-05-14 | 2006-07-28 | 가부시키가이샤 네오맥스 | 표면처리방법, 표면처리장치, 증착재료, 및 표면처리된희토류계 영구자석 |
| US7655325B2 (en) | 2005-12-28 | 2010-02-02 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth magnet and method for producing same |
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