JP3192642B2 - 表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法 - Google Patents
表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面処理方法に関
するもので、例えば、酸化し易い希土類磁石等の燒結体
の表面に対してアルミ、亜鉛、錫などの金属や、窒化チ
タンなどの金属窒化物の蒸着膜を形成して希土類磁石等
の燒結体に耐酸化性を持たせるなどする為の表面処理方
法に関する。更に詳しくは、例えば、リング状等の内径
部を備える形状の希土類磁石燒結体等の大量被処理物を
一括して均一に表面処理可能な表面処理方法と、その方
法に用いるのに好適な表面処理用支持部材、表面処理用
ホルダーに関する。
するもので、例えば、酸化し易い希土類磁石等の燒結体
の表面に対してアルミ、亜鉛、錫などの金属や、窒化チ
タンなどの金属窒化物の蒸着膜を形成して希土類磁石等
の燒結体に耐酸化性を持たせるなどする為の表面処理方
法に関する。更に詳しくは、例えば、リング状等の内径
部を備える形状の希土類磁石燒結体等の大量被処理物を
一括して均一に表面処理可能な表面処理方法と、その方
法に用いるのに好適な表面処理用支持部材、表面処理用
ホルダーに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、希土類磁石の表面処理方
法として、図１１に示すような真空蒸着装置１２０を用
い、アルミ蒸着を施していた。図１２１は真空処理室を
示し、真空ポンプ１２２を介して内部を所定の真空度に
保てるようになっている。真空処理室１２１内部では蒸
発源のアルミ１２３が蒸発源ホルダー１２４内でヒータ
１２５により加熱されている。また、被処理物の希土類
磁石製品１３０は籠状の容器１２６内に収容され、容器
１２６を回転させながら蒸着することにより、被処理物
の希土類磁石製品１３０に均一な蒸着を施せるようにな
っている。
法として、図１１に示すような真空蒸着装置１２０を用
い、アルミ蒸着を施していた。図１２１は真空処理室を
示し、真空ポンプ１２２を介して内部を所定の真空度に
保てるようになっている。真空処理室１２１内部では蒸
発源のアルミ１２３が蒸発源ホルダー１２４内でヒータ
１２５により加熱されている。また、被処理物の希土類
磁石製品１３０は籠状の容器１２６内に収容され、容器
１２６を回転させながら蒸着することにより、被処理物
の希土類磁石製品１３０に均一な蒸着を施せるようにな
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の表面処理方法では、被処理物に対しては、確かに、
略均一な蒸着処理を行えるものの、被処理物が籠状容器
内において重なり合っているため、幾らかの蒸着ムラが
生じることが避けられず、更なる、均一な表面処理を行
える表面処理方法の提案が望まれている。また、例え
ば、加工処理後のＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系等の希土類磁石製品
の多くは直方体であり、硬い上に鋭利な角を有している
ため、前記蒸着処理時に互いの角がぶつか合うことによ
って、表面の蒸着層が剥げたり、また、酷い場合には製
品の角が欠けたりして、製品の歩留まりが悪いという問
題があった。特に、大型の製品の場合には、重量が重く
なり衝突エネルギーが大きく、歩留まりが極端に悪化す
るという問題があった。また、リング状等の内径部を備
える形状の被処理物の場合には、内径側が他の被処理物
によって塞がれてしまい内部に均一な表面処理をうまく
施せないという不都合を有していた。そこで、本発明は
かかる従来技術の欠点を克服し、リング状等の内径部を
備える被処理物に対しても、複数個の被処理物を一括し
てしかも均一に表面処理できる表面処理方法を提案する
ことを目的とする。
来の表面処理方法では、被処理物に対しては、確かに、
略均一な蒸着処理を行えるものの、被処理物が籠状容器
内において重なり合っているため、幾らかの蒸着ムラが
生じることが避けられず、更なる、均一な表面処理を行
える表面処理方法の提案が望まれている。また、例え
ば、加工処理後のＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系等の希土類磁石製品
の多くは直方体であり、硬い上に鋭利な角を有している
ため、前記蒸着処理時に互いの角がぶつか合うことによ
って、表面の蒸着層が剥げたり、また、酷い場合には製
品の角が欠けたりして、製品の歩留まりが悪いという問
題があった。特に、大型の製品の場合には、重量が重く
なり衝突エネルギーが大きく、歩留まりが極端に悪化す
るという問題があった。また、リング状等の内径部を備
える形状の被処理物の場合には、内径側が他の被処理物
によって塞がれてしまい内部に均一な表面処理をうまく
施せないという不都合を有していた。そこで、本発明は
かかる従来技術の欠点を克服し、リング状等の内径部を
備える被処理物に対しても、複数個の被処理物を一括し
てしかも均一に表面処理できる表面処理方法を提案する
ことを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討の
結果、被処理物を各それぞれ離間状態にしつつこれらを
自転運動させ、公転運動させ、或いは、自転運動させつ
つ公転運動させながら蒸着処理などの表面処理を施すこ
とにより、前記要望を満たす表面処理を行えることを知
見した。本発明はかかる知見に基づきなされたもので、
本発明の支持部材は前記表面処理を行うのに好適なもの
であって、請求項１記載の通り、内径部を備えた複数個
の被処理物を支持する表面処理用支持部材であって、長
手方向に沿って折り畳み開閉自在の板状部材で構成さ
れ、これら板状部材は折り開き状態において前記被処理
物の内径に対応する長さの複数個の狭幅部を形成できる
ようにしたことを特徴とする。また、請求項２記載の表
面処理用支持部材は、請求項１記載の表面処理用支持部
材において、前記板状部材は蝶板によって折り畳み開閉
自在としたことを特徴とする。また、請求項３記載の表
面処理用ホルダーは、線状部材を隙間を存して巻回して
筒状体本体を形成し、該筒状体本体の両端に渦巻き線状
面を備えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体
内に被処理物を収容自在としたことを特徴とする。ま
た、請求項４記載の表面処理用ホルダーは、請求項３記
載の表面処理用ホルダーにおいて、前記筒状体は円筒体
であることを特徴とする。また、請求項５記載の表面処
理用ホルダーは、請求項３または４記載の表面処理用ホ
ルダーにおいて、前記筒状体の筒側面を形成する線状部
材に絡み防止用スプリング部材を巻回させたことを特徴
とする。また、請求項６記載の表面処理用ホルダーは、
請求項３乃至５の何れかに記載の表面処理用ホルダーに
おいて、前記筒状体の筒側面両端近傍の線状部材を密に
巻回したことを特徴とする。また、請求項７記載の表面
処理用ホルダーは、請求項３乃至６の何れかに記載の表
面処理用ホルダーにおいて、前記筒状体の渦巻き線状面
の線状部材の中心部において密に巻回したことを特徴と
する。また、請求項８記載の表面処理用ホルダーは、請
求項３乃至７のの何れかに記載の表面処理用ホルダーに
おいて、前記線状部材はステンレス鋼で構成されている
ことを特徴とする。また、本発明の表面処理方法は、請
求項９記載の通り、内径部を備えた複数個の被処理物の
表面処理方法であって、処理室内において、前記被処理
物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離
間状態で自転運動させながら表面処理することを特徴と
する。また、請求項１０記載の表面処理方法は、内径部
を備えた複数個の被処理物の表面処理方法であって、処
理室内において、前記被処理物を前記内径を垂直方向に
配向させた状態で、互いに離間状態で公転運動させなが
ら表面処理することを特徴とする。また、請求項１１記
載の表面処理方法は、内径部を備えた複数個の被処理物
の表面処理方法であって、処理室内において、前記被処
理物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに
離間状態で自転運動と共に公転運動させながら表面処理
することを特徴とする。また、請求項１２記載の表面処
理方法は、請求項９記載の表面処理方法において、前記
自転運動は、自転駆動される表面処理用支持部材で被処
理物を支持することにより与えるものであることを特徴
とする。また、請求項１３記載の表面処理方法は、請求
項１０記載の表面処理方法において、前記公転運動は、
公転駆動される表面処理用支持部材で被処理物を支持す
ることにより与えるものであることを特徴とする。ま
た、請求項１４記載の表面処理方法は、請求項１１記載
の表面処理方法において、前記自転運動と共になされる
公転運動は、自転駆動と共に公転駆動される表面処理用
支持部材で被処理物を支持することにより与えるもので
あることを特徴とする。また、請求項１５記載の表面処
理方法は、複数個の被処理物の表面処理方法であって、
処理室内において、前記被処理物を互いに離間状態で自
転運動させながら表面処理する表面処理方法において、
請求項３乃至８の何れかに記載の各ホルダー内に各被処
理物を収容し、該ホルダーを回動可能な多孔性籠状回動
部材内で自転させることを特徴とする また、請求項１６
記載の表面処理方法は、複数個の被処理物の表面処理方
法であって、処理室内において、自転駆動される請求項
１記載の表面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互
いに離間状態で自転運動させながら表面処理することを
特徴とする。 また、請求項１７記載の表面処理方法は、
複数個の被処理物の表面処理方法であって、処理室内に
おいて、公転駆動される請求項１記載の表面処理用支持
部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で公転運動
させながら表面処理することを特徴とする。また、本発
明の表面処理方法は、請求項１８記載の通り、複数個の
被処理物の表面処理方法であって、処理室内において、
自転駆動されると共に公転駆動される請求項１記載の表
面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状
態で自転運動と共に公転運動させながら表面処理するこ
とを特徴とする。また、請求項１９記載の表面処理方法
は、複数個の被処理物の表面処理方法であって、処理室
内において、自転駆動される表面処理用支持部材を用
い、前記被処理物を互いに離間状態で自転運動させなが
ら表面処理する表面処理方法において、前記表面処理用
支持部材として、多数の籠状区画室を備えた長手方向に
沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処
理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を収容した状
態で処理することを特徴とする。また、請求項２０記載
の表面処理方法は、複数個の被処理物の表面処理方法で
あって、処理室内において、公転駆動される表面処理用
支持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で公転
運動させながら表面処理する表面処理方法において、前
記表面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備え
た長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成
された表面処理用支持部材を用い、各区画 室に被処理物
を収容した状態で処理することを特徴とする。また、請
求項２１記載の表面処理方法は、複数個の被処理物の表
面処理方法であって、処理室内において、自転駆動され
ると共に公転駆動される表面処理用支持部材を用い、前
記被処理物を互いに離間状態で自転運動と共に公転運動
させながら表面処理する表面処理方法において、前記表
面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備えた長
手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成され
た表面処理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を収
容した状態で処理することを特徴とする。また、請求項
２２記載の表面処理装置は、請求項９乃至２１の何れか
に記載の表面処理装置において、前記表面処理装置は蒸
着装置であることを特徴とする。
結果、被処理物を各それぞれ離間状態にしつつこれらを
自転運動させ、公転運動させ、或いは、自転運動させつ
つ公転運動させながら蒸着処理などの表面処理を施すこ
とにより、前記要望を満たす表面処理を行えることを知
見した。本発明はかかる知見に基づきなされたもので、
本発明の支持部材は前記表面処理を行うのに好適なもの
であって、請求項１記載の通り、内径部を備えた複数個
の被処理物を支持する表面処理用支持部材であって、長
手方向に沿って折り畳み開閉自在の板状部材で構成さ
れ、これら板状部材は折り開き状態において前記被処理
物の内径に対応する長さの複数個の狭幅部を形成できる
ようにしたことを特徴とする。また、請求項２記載の表
面処理用支持部材は、請求項１記載の表面処理用支持部
材において、前記板状部材は蝶板によって折り畳み開閉
自在としたことを特徴とする。また、請求項３記載の表
面処理用ホルダーは、線状部材を隙間を存して巻回して
筒状体本体を形成し、該筒状体本体の両端に渦巻き線状
面を備えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体
内に被処理物を収容自在としたことを特徴とする。ま
た、請求項４記載の表面処理用ホルダーは、請求項３記
載の表面処理用ホルダーにおいて、前記筒状体は円筒体
であることを特徴とする。また、請求項５記載の表面処
理用ホルダーは、請求項３または４記載の表面処理用ホ
ルダーにおいて、前記筒状体の筒側面を形成する線状部
材に絡み防止用スプリング部材を巻回させたことを特徴
とする。また、請求項６記載の表面処理用ホルダーは、
請求項３乃至５の何れかに記載の表面処理用ホルダーに
おいて、前記筒状体の筒側面両端近傍の線状部材を密に
巻回したことを特徴とする。また、請求項７記載の表面
処理用ホルダーは、請求項３乃至６の何れかに記載の表
面処理用ホルダーにおいて、前記筒状体の渦巻き線状面
の線状部材の中心部において密に巻回したことを特徴と
する。また、請求項８記載の表面処理用ホルダーは、請
求項３乃至７のの何れかに記載の表面処理用ホルダーに
おいて、前記線状部材はステンレス鋼で構成されている
ことを特徴とする。また、本発明の表面処理方法は、請
求項９記載の通り、内径部を備えた複数個の被処理物の
表面処理方法であって、処理室内において、前記被処理
物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離
間状態で自転運動させながら表面処理することを特徴と
する。また、請求項１０記載の表面処理方法は、内径部
を備えた複数個の被処理物の表面処理方法であって、処
理室内において、前記被処理物を前記内径を垂直方向に
配向させた状態で、互いに離間状態で公転運動させなが
ら表面処理することを特徴とする。また、請求項１１記
載の表面処理方法は、内径部を備えた複数個の被処理物
の表面処理方法であって、処理室内において、前記被処
理物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに
離間状態で自転運動と共に公転運動させながら表面処理
することを特徴とする。また、請求項１２記載の表面処
理方法は、請求項９記載の表面処理方法において、前記
自転運動は、自転駆動される表面処理用支持部材で被処
理物を支持することにより与えるものであることを特徴
とする。また、請求項１３記載の表面処理方法は、請求
項１０記載の表面処理方法において、前記公転運動は、
公転駆動される表面処理用支持部材で被処理物を支持す
ることにより与えるものであることを特徴とする。ま
た、請求項１４記載の表面処理方法は、請求項１１記載
の表面処理方法において、前記自転運動と共になされる
公転運動は、自転駆動と共に公転駆動される表面処理用
支持部材で被処理物を支持することにより与えるもので
あることを特徴とする。また、請求項１５記載の表面処
理方法は、複数個の被処理物の表面処理方法であって、
処理室内において、前記被処理物を互いに離間状態で自
転運動させながら表面処理する表面処理方法において、
請求項３乃至８の何れかに記載の各ホルダー内に各被処
理物を収容し、該ホルダーを回動可能な多孔性籠状回動
部材内で自転させることを特徴とする また、請求項１６
記載の表面処理方法は、複数個の被処理物の表面処理方
法であって、処理室内において、自転駆動される請求項
１記載の表面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互
いに離間状態で自転運動させながら表面処理することを
特徴とする。 また、請求項１７記載の表面処理方法は、
複数個の被処理物の表面処理方法であって、処理室内に
おいて、公転駆動される請求項１記載の表面処理用支持
部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で公転運動
させながら表面処理することを特徴とする。また、本発
明の表面処理方法は、請求項１８記載の通り、複数個の
被処理物の表面処理方法であって、処理室内において、
自転駆動されると共に公転駆動される請求項１記載の表
面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状
態で自転運動と共に公転運動させながら表面処理するこ
とを特徴とする。また、請求項１９記載の表面処理方法
は、複数個の被処理物の表面処理方法であって、処理室
内において、自転駆動される表面処理用支持部材を用
い、前記被処理物を互いに離間状態で自転運動させなが
ら表面処理する表面処理方法において、前記表面処理用
支持部材として、多数の籠状区画室を備えた長手方向に
沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処
理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を収容した状
態で処理することを特徴とする。また、請求項２０記載
の表面処理方法は、複数個の被処理物の表面処理方法で
あって、処理室内において、公転駆動される表面処理用
支持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で公転
運動させながら表面処理する表面処理方法において、前
記表面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備え
た長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成
された表面処理用支持部材を用い、各区画 室に被処理物
を収容した状態で処理することを特徴とする。また、請
求項２１記載の表面処理方法は、複数個の被処理物の表
面処理方法であって、処理室内において、自転駆動され
ると共に公転駆動される表面処理用支持部材を用い、前
記被処理物を互いに離間状態で自転運動と共に公転運動
させながら表面処理する表面処理方法において、前記表
面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備えた長
手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成され
た表面処理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を収
容した状態で処理することを特徴とする。また、請求項
２２記載の表面処理装置は、請求項９乃至２１の何れか
に記載の表面処理装置において、前記表面処理装置は蒸
着装置であることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】複数個の被処理物を支持する表面
処理用支持部材を、多数の籠状区画室を備えた長手方向
に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成することに
より、上下の籠部の開閉により、被処理物をその籠状区
画室内に互いに離間状態で、容易に収容し、また、取り
出し自在となる。尚、前記各籠部の形状、網目の大きさ
等は、被処理物の大きさや形状に合わせ、被処理物に表
面処理材が十分かつ均一に到達することが可能な程度の
隙間の形成を行えるよう、適宜選択すればよい。このよ
うな表面処理用支持部材を用いて、各区画室内に被処理
物を収容して、被処理物を各それぞれ離間状態にしつつ
これらを自転運動させ、公転運動させ、或いは、自転運
動させつつ公転運動させながら蒸着処理などの表面処理
を施すことができる。
処理用支持部材を、多数の籠状区画室を備えた長手方向
に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成することに
より、上下の籠部の開閉により、被処理物をその籠状区
画室内に互いに離間状態で、容易に収容し、また、取り
出し自在となる。尚、前記各籠部の形状、網目の大きさ
等は、被処理物の大きさや形状に合わせ、被処理物に表
面処理材が十分かつ均一に到達することが可能な程度の
隙間の形成を行えるよう、適宜選択すればよい。このよ
うな表面処理用支持部材を用いて、各区画室内に被処理
物を収容して、被処理物を各それぞれ離間状態にしつつ
これらを自転運動させ、公転運動させ、或いは、自転運
動させつつ公転運動させながら蒸着処理などの表面処理
を施すことができる。
【０００６】内径部を備えた複数個の被処理物を支持す
る表面処理用支持部材を、長手方向に沿って折り畳み開
閉自在の板状部材で構成し、これら板状部材を折り開き
状態において前記内径部を備えた被処理物の内径に対応
する長さの複数個の狭幅部を形成できるようにすること
により、これら板状部材の折り畳み状態で、各被処理物
を各狭幅部にセットして、その後、板状部材を開くこと
により、各狭幅部によって、被処理物を離間状態で支持
できる。また、表面処理後は、板状部材を再度、折り畳
むことによって、支持部材から被処理物を簡単に取り出
せる。特に、前記板状部材を蝶板、特に、ばね付き蝶板
によって折り畳み開閉自在とすることにより、被処理物
の取付け、取り外しが容易となる。尚、前記各狭幅部の
形状、寸法等は、被処理物の大きさや形状に合わせ、離
間状態が保てるよう、適宜選択すればよい。
る表面処理用支持部材を、長手方向に沿って折り畳み開
閉自在の板状部材で構成し、これら板状部材を折り開き
状態において前記内径部を備えた被処理物の内径に対応
する長さの複数個の狭幅部を形成できるようにすること
により、これら板状部材の折り畳み状態で、各被処理物
を各狭幅部にセットして、その後、板状部材を開くこと
により、各狭幅部によって、被処理物を離間状態で支持
できる。また、表面処理後は、板状部材を再度、折り畳
むことによって、支持部材から被処理物を簡単に取り出
せる。特に、前記板状部材を蝶板、特に、ばね付き蝶板
によって折り畳み開閉自在とすることにより、被処理物
の取付け、取り外しが容易となる。尚、前記各狭幅部の
形状、寸法等は、被処理物の大きさや形状に合わせ、離
間状態が保てるよう、適宜選択すればよい。
【０００７】線状部材を隙間を存して巻回して筒状体本
体を形成し、この筒状体本体の両端に渦巻き線状面を備
えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体内に被
処理物を収容自在とした表面処理用ホルダーによれば、
線状部材の隙間から従来と同様にアルミ蒸着等の均一な
表面処理が行える。また、ホルダー同士がぶつかりあっ
ても内部の被処理物同士がぶつかることはない。しかも
ホルダーの有するバネ性により内部の被処理物自体には
大きな衝撃が加わらず、処理面の剥げや製品の欠け等は
生じない。また、バネ性を利用して線状部材の隙間を介
して、ホルダー内に被処理物を出し入れでき、特別な出
し入れ口を必要としない。前記線状部材の線径、巻回
数、巻回ピッチ等は、被処理物の大きさや形状に合わ
せ、適当なバネ性と、被処理物に表面処理材が十分かつ
均一に到達することが可能な程度の隙間の形成を考慮し
て、適宜選択すればよい。
体を形成し、この筒状体本体の両端に渦巻き線状面を備
えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体内に被
処理物を収容自在とした表面処理用ホルダーによれば、
線状部材の隙間から従来と同様にアルミ蒸着等の均一な
表面処理が行える。また、ホルダー同士がぶつかりあっ
ても内部の被処理物同士がぶつかることはない。しかも
ホルダーの有するバネ性により内部の被処理物自体には
大きな衝撃が加わらず、処理面の剥げや製品の欠け等は
生じない。また、バネ性を利用して線状部材の隙間を介
して、ホルダー内に被処理物を出し入れでき、特別な出
し入れ口を必要としない。前記線状部材の線径、巻回
数、巻回ピッチ等は、被処理物の大きさや形状に合わ
せ、適当なバネ性と、被処理物に表面処理材が十分かつ
均一に到達することが可能な程度の隙間の形成を考慮し
て、適宜選択すればよい。
【０００８】また、前記ホルダーは、筒状であれば楕円
形状等、特にその形状は限定されないが、容器内で回転
しやすく、均一に蒸着させることを考慮すると、円筒体
であることが好ましい。
形状等、特にその形状は限定されないが、容器内で回転
しやすく、均一に蒸着させることを考慮すると、円筒体
であることが好ましい。
【０００９】また、前記筒状体の筒側面を形成する線状
部材に絡み防止用バネ状部材を巻回させることにより、
ホルダーを構成する線状部材同士が互いの隙間に入り込
むことを防止でき、ホルダーを構成する線状部材同士の
絡まりが防止される。このことは、前記筒状体の側面両
端近傍の線状部材を密に巻回すること、或いは、前記筒
状体の両渦巻線状面の線状部材を中心部において密に巻
回することによっても、前記と同様、ホルダー内を構成
する線状部材同士が互いの隙間に入り込むことを阻止で
き、ホルダーを構成する線状部材同士の絡まりが防止さ
れる。この事により均一な蒸着等の表面処理が可能とな
る。また、前記線状部材をステンレス鋼で構成すること
により、線状部材に付着する例えばアルミ等を酸で洗い
落とすことができる。また、鉄と異なり、高温下で行わ
れる蒸着処理によってもバネ性が損なわれない。
部材に絡み防止用バネ状部材を巻回させることにより、
ホルダーを構成する線状部材同士が互いの隙間に入り込
むことを防止でき、ホルダーを構成する線状部材同士の
絡まりが防止される。このことは、前記筒状体の側面両
端近傍の線状部材を密に巻回すること、或いは、前記筒
状体の両渦巻線状面の線状部材を中心部において密に巻
回することによっても、前記と同様、ホルダー内を構成
する線状部材同士が互いの隙間に入り込むことを阻止で
き、ホルダーを構成する線状部材同士の絡まりが防止さ
れる。この事により均一な蒸着等の表面処理が可能とな
る。また、前記線状部材をステンレス鋼で構成すること
により、線状部材に付着する例えばアルミ等を酸で洗い
落とすことができる。また、鉄と異なり、高温下で行わ
れる蒸着処理によってもバネ性が損なわれない。
【００１０】このように、前記構成の表面処理用ホルダ
ー内に希土類磁石からなる被処理物を収容した状態でア
ルミ蒸着等の表面処理を行えば、線状部材の隙間を介し
て、今まで通りの均一な表面処理を行え、しかも処理面
の剥げや、製品の欠け等が生ぜず、歩留まりに優れる。
ー内に希土類磁石からなる被処理物を収容した状態でア
ルミ蒸着等の表面処理を行えば、線状部材の隙間を介し
て、今まで通りの均一な表面処理を行え、しかも処理面
の剥げや、製品の欠け等が生ぜず、歩留まりに優れる。
【００１１】また、内径部を備えた複数個の被処理物の
表面処理方法において、処理室内において、前記被処理
物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離
間状態で自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運動
させながら表面処理することにより、同時に複数個の被
処理物の全表面に対して均一な表面処理を施せる。この
ような離間状態での表面処理により、硬くて脆い燒結体
に対しても、アルミ、亜鉛、錫の柔らかい金属被膜や、
窒化チタンのような硬い金属窒化物の蒸着等による均一
な表面処理を行える。
表面処理方法において、処理室内において、前記被処理
物を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離
間状態で自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運動
させながら表面処理することにより、同時に複数個の被
処理物の全表面に対して均一な表面処理を施せる。この
ような離間状態での表面処理により、硬くて脆い燒結体
に対しても、アルミ、亜鉛、錫の柔らかい金属被膜や、
窒化チタンのような硬い金属窒化物の蒸着等による均一
な表面処理を行える。
【００１２】前記被処理物を前記内径を垂直方向に配向
させた状態で、互いに離間状態で自転運動、公転運動、
或いは、自転・公転運動させるには、自転駆動、公転駆
動、或いは、自転・公転駆動される表面処理用支持部材
で被処理物を支持することによりこれら運動を確実に被
処理物に与えることができる。
させた状態で、互いに離間状態で自転運動、公転運動、
或いは、自転・公転運動させるには、自転駆動、公転駆
動、或いは、自転・公転駆動される表面処理用支持部材
で被処理物を支持することによりこれら運動を確実に被
処理物に与えることができる。
【００１３】この場合、前述の本発明における表面処理
用支持部材を用いることにより、前記被処理物を互いに
離間状態で自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運
動させることができる。多数の籠状区画室を備えた長手
方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成した表
面処理用支持部材を用いる場合には、被処理物の形状は
問われず、特に、大型の被処理物であっても、処理可能
である。
用支持部材を用いることにより、前記被処理物を互いに
離間状態で自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運
動させることができる。多数の籠状区画室を備えた長手
方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成した表
面処理用支持部材を用いる場合には、被処理物の形状は
問われず、特に、大型の被処理物であっても、処理可能
である。
【００１４】また、長手方向に沿って折り畳み開閉自在
の板状部材で構成し、これら板状部材を折り開き状態に
おいて内径部を備えた被処理物の内径に対応する長さの
複数個の狭幅部を形成できるようにした表面処理用支持
部材を用いることにより、円盤状等の内径部を備える被
処理物を確実に離間状態に保ちつつ前記自転運動、公転
運動、或いは、自転・公転運動を与えることができる。
特に、このような、内径支持の場合には、被処理物を蒸
着源等の処理材源に対して長手方向を垂直配向させるこ
とができ、しかも被処理物は内径での支持個所以外の表
面は処理材の到達を遮るものがなく、非常に効率のよい
表面処理を行える。従って、短時間での蒸着が可能とな
って、高温化する前に表面処理を終えることができる。
例えば、Ｎｄ―Ｆｅ―Ｂ系の希土類磁石燒結体に対して
も、磁気特性の劣化を生じさせない４００℃以下での表
面処理を１回で行え、非常に効率のよい表面処理が行え
る。また、内径支持も点接触となり、この点接触部も適
宜移動して内径全体に対して表面処理されることにな
る。しかも、この場合、前記支持部材に陰極側を接続
し、かつ、被処理物に対しては絶縁状態とすると共に、
蒸着源を陽極側に接続した状態で蒸着を行なうようにす
れば、内径側にも均一な表面処理を行える。また、前記
被処理物に対して自転手段を介して陰極側を接続自在と
しておくことにより、アルゴンガス等で表面浄化処理を
行う際に接続できて便利である。
の板状部材で構成し、これら板状部材を折り開き状態に
おいて内径部を備えた被処理物の内径に対応する長さの
複数個の狭幅部を形成できるようにした表面処理用支持
部材を用いることにより、円盤状等の内径部を備える被
処理物を確実に離間状態に保ちつつ前記自転運動、公転
運動、或いは、自転・公転運動を与えることができる。
特に、このような、内径支持の場合には、被処理物を蒸
着源等の処理材源に対して長手方向を垂直配向させるこ
とができ、しかも被処理物は内径での支持個所以外の表
面は処理材の到達を遮るものがなく、非常に効率のよい
表面処理を行える。従って、短時間での蒸着が可能とな
って、高温化する前に表面処理を終えることができる。
例えば、Ｎｄ―Ｆｅ―Ｂ系の希土類磁石燒結体に対して
も、磁気特性の劣化を生じさせない４００℃以下での表
面処理を１回で行え、非常に効率のよい表面処理が行え
る。また、内径支持も点接触となり、この点接触部も適
宜移動して内径全体に対して表面処理されることにな
る。しかも、この場合、前記支持部材に陰極側を接続
し、かつ、被処理物に対しては絶縁状態とすると共に、
蒸着源を陽極側に接続した状態で蒸着を行なうようにす
れば、内径側にも均一な表面処理を行える。また、前記
被処理物に対して自転手段を介して陰極側を接続自在と
しておくことにより、アルゴンガス等で表面浄化処理を
行う際に接続できて便利である。
【００１５】また、前記被処理物に自転運動を与えるに
は、前記支持部材による方法以外にも、例えば、前記各
表面処理用ホルダー内に各被処理物を収容し、該ホルダ
ーを回動可能な多孔性籠状回動部材内で自転させること
によっても行える。
は、前記支持部材による方法以外にも、例えば、前記各
表面処理用ホルダー内に各被処理物を収容し、該ホルダ
ーを回動可能な多孔性籠状回動部材内で自転させること
によっても行える。
【００１６】前記、表面処理としては、気相成長法によ
り、成膜を行うものに適用可能であり、金属、非金属無
機物、有機化合物等、任意のものを表面処理するのに適
している。表面処理方法としては、真空蒸着法、イオン
スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着重合
法のような表面処理に適用できる。
り、成膜を行うものに適用可能であり、金属、非金属無
機物、有機化合物等、任意のものを表面処理するのに適
している。表面処理方法としては、真空蒸着法、イオン
スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着重合
法のような表面処理に適用できる。
【００１７】本発明を実施するための表面処理装置は、
処理室内に処理材源を備え、この処理材源から発生され
る処理材を被処理物に到達させて表面処理するための表
面処理装置において、被処理物を支持する支持部材を自
転運動自在とする自転手段、公転運動自在とする公転手
段、或いは、自転・公転運動自在とする自転・公転手段
を備えるものである。この表面処理装置においては、処
理室内において、複数個の被処理物を互いに離間状態で
自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運動させなが
ら表面処理することができ、被処理物を同時に且つ均一
に表面処理できる。
処理室内に処理材源を備え、この処理材源から発生され
る処理材を被処理物に到達させて表面処理するための表
面処理装置において、被処理物を支持する支持部材を自
転運動自在とする自転手段、公転運動自在とする公転手
段、或いは、自転・公転運動自在とする自転・公転手段
を備えるものである。この表面処理装置においては、処
理室内において、複数個の被処理物を互いに離間状態で
自転運動、公転運動、或いは、自転・公転運動させなが
ら表面処理することができ、被処理物を同時に且つ均一
に表面処理できる。
【００１８】前記表面処理装置は、被処理物を支持する
支持部材の受部を円周方向に沿って配設した少なくとも
２枚の回転板間に前記受部を介して前記支持部材を支持
可能にする。また、前記表面処理装置は、前記受部の回
転によって支持部材を自転自在とすると共に前記回転板
の回転によって前記支持部材を公転自在とする。従っ
て、従来の真空蒸着装置を利用して、簡単に複数個の被
処理物を互いに離間状態で自転運動、公転運動、或い
は、自転・公転運動させながら表面処理することができ
る表面処理装置に構成できる。尚、前記表面処理装置
は、気相成長法により成膜を行うものに適用可能であ
り、具体的には、真空蒸着装置、イオンスパッタリング
装置、イオンプレーティング装置、蒸着重合装置が挙げ
られる。
支持部材の受部を円周方向に沿って配設した少なくとも
２枚の回転板間に前記受部を介して前記支持部材を支持
可能にする。また、前記表面処理装置は、前記受部の回
転によって支持部材を自転自在とすると共に前記回転板
の回転によって前記支持部材を公転自在とする。従っ
て、従来の真空蒸着装置を利用して、簡単に複数個の被
処理物を互いに離間状態で自転運動、公転運動、或い
は、自転・公転運動させながら表面処理することができ
る表面処理装置に構成できる。尚、前記表面処理装置
は、気相成長法により成膜を行うものに適用可能であ
り、具体的には、真空蒸着装置、イオンスパッタリング
装置、イオンプレーティング装置、蒸着重合装置が挙げ
られる。
【００１９】
【実施例】次ぎに、添付図面に従って、本発明の実施例
につき説明する。 （開閉自在の上下籠部で構成される表面処理用支持部材
を用いた表面処理の実施例における表面処理用支持部
材） 図１は、多数の籠状区画室を備えた長手方向に沿って開
閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処理用支持
部材の一例を示すものである。表面処理用支持部材１０
を構成する上籠部１ａと下籠部１ｂは、蝶板２を介して
開閉自在の対称体に構成され、それぞれ、５ｍｍメッシ
ュで太さ１ｍｍのステンレス鋼製の網状体で形成されて
いる。図示の例では１５個の籠状区画室３に区画形成さ
れて、各籠状区画室３内に被処理物Ｗａを収容自在とな
っている。尚、図中４は、後記する受部に接続するため
の接続片を示し、孔５を介して螺子止め自在となってい
る。尚、表面処理時には、上籠部１ａと下籠部１ｂは図
略のクリップで止められる。
につき説明する。 （開閉自在の上下籠部で構成される表面処理用支持部材
を用いた表面処理の実施例における表面処理用支持部
材） 図１は、多数の籠状区画室を備えた長手方向に沿って開
閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処理用支持
部材の一例を示すものである。表面処理用支持部材１０
を構成する上籠部１ａと下籠部１ｂは、蝶板２を介して
開閉自在の対称体に構成され、それぞれ、５ｍｍメッシ
ュで太さ１ｍｍのステンレス鋼製の網状体で形成されて
いる。図示の例では１５個の籠状区画室３に区画形成さ
れて、各籠状区画室３内に被処理物Ｗａを収容自在とな
っている。尚、図中４は、後記する受部に接続するため
の接続片を示し、孔５を介して螺子止め自在となってい
る。尚、表面処理時には、上籠部１ａと下籠部１ｂは図
略のクリップで止められる。
【００２０】（折り畳み開閉自在の板状部材で構成され
る表面処理用支持部材の実施例） 本実施例の表面処理用支持部材は、内径部を備えた複数
個の被処理物を支持するのに好適なものである。本発明
表面処理用支持部材の一実施例を示す図２乃至図３にお
いて、図中２０で示される支持部材は、長手方向に沿っ
て折り畳み開閉自在の板状部材で構成されている。これ
ら板状部材は折り開き状態において内径部を備えた被処
理物の内径に対応する長さの複数個の狭幅部を形成でき
る。
る表面処理用支持部材の実施例） 本実施例の表面処理用支持部材は、内径部を備えた複数
個の被処理物を支持するのに好適なものである。本発明
表面処理用支持部材の一実施例を示す図２乃至図３にお
いて、図中２０で示される支持部材は、長手方向に沿っ
て折り畳み開閉自在の板状部材で構成されている。これ
ら板状部材は折り開き状態において内径部を備えた被処
理物の内径に対応する長さの複数個の狭幅部を形成でき
る。
【００２１】ステンレス鋼製の板材で形成される２枚の
板状部材６，６はバネ付き蝶板７を介して開閉自在の対
称体に構成され、バネ付き蝶板７の弾発力によって常時
は折り畳み状態とされている。各板状部材６にはその外
側縁に沿って等間隔で溝部８が形成され、これら板状部
材６，６を開くことによって各対向する溝部８によって
内径部を備えた被処理物Ｗａの内径Ｌに対応する長さの
複数個の狭幅部９を形成できるように構成されている。
尚、図中、４ａは後記する受部への取付け溝を示し、こ
の溝４ａを利用して受部に螺子止め自在となっている。
かくして、前記板状部材６，６を図２（ａ），（ｂ）に
示すように折り畳んだ状態で、内径部を備えた被処理物
Ｗｂを取付け、或いは、取り外すことができる。また、
前記板状部材６，６を図３（ａ），（ｂ）に示すように
開いた状態にして前記被処理物Ｗｂをその内径部におい
て、支持できる。尚、この時、前記被処理物Ｗｂが内径
支持された状態で幾らか回転して、支持接点を変えられ
るように、前記狭幅部９の長さを前記内径Ｌよりも若干
短めとするのが好ましい。図４は、上記支持部材２０を
後記する回転ユニット５０の受部に支持した状態を示す
もので、支持部材２０の両端部を受部に載置して、前記
溝４ａを利用して螺子止め固定されている。
板状部材６，６はバネ付き蝶板７を介して開閉自在の対
称体に構成され、バネ付き蝶板７の弾発力によって常時
は折り畳み状態とされている。各板状部材６にはその外
側縁に沿って等間隔で溝部８が形成され、これら板状部
材６，６を開くことによって各対向する溝部８によって
内径部を備えた被処理物Ｗａの内径Ｌに対応する長さの
複数個の狭幅部９を形成できるように構成されている。
尚、図中、４ａは後記する受部への取付け溝を示し、こ
の溝４ａを利用して受部に螺子止め自在となっている。
かくして、前記板状部材６，６を図２（ａ），（ｂ）に
示すように折り畳んだ状態で、内径部を備えた被処理物
Ｗｂを取付け、或いは、取り外すことができる。また、
前記板状部材６，６を図３（ａ），（ｂ）に示すように
開いた状態にして前記被処理物Ｗｂをその内径部におい
て、支持できる。尚、この時、前記被処理物Ｗｂが内径
支持された状態で幾らか回転して、支持接点を変えられ
るように、前記狭幅部９の長さを前記内径Ｌよりも若干
短めとするのが好ましい。図４は、上記支持部材２０を
後記する回転ユニット５０の受部に支持した状態を示す
もので、支持部材２０の両端部を受部に載置して、前記
溝４ａを利用して螺子止め固定されている。
【００２２】（表面処理用ホルダーの実施例） 図５乃至図６は、本発明の表面処理用ホルダーの一実施
例を示すもので、図中３０で示される表面処理用ホルダ
ーは、線径１．６ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）
からなる線状部材１１を用い、これを間隙を存するよう
に左巻きに巻回し、両端部には４巻きほど巻回させた渦
巻き線状面１２，１２を形成すると共に、これら渦巻き
線状面１２，１２間に８．２ｍｍのピッチ間隔で巻回し
てスプリング状の筒状体１３に形成されている。尚、前
記渦巻き線状面１２の中心部には線状部材１１を密に巻
回した部分１２ａが形成されている。
例を示すもので、図中３０で示される表面処理用ホルダ
ーは、線径１．６ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）
からなる線状部材１１を用い、これを間隙を存するよう
に左巻きに巻回し、両端部には４巻きほど巻回させた渦
巻き線状面１２，１２を形成すると共に、これら渦巻き
線状面１２，１２間に８．２ｍｍのピッチ間隔で巻回し
てスプリング状の筒状体１３に形成されている。尚、前
記渦巻き線状面１２の中心部には線状部材１１を密に巻
回した部分１２ａが形成されている。
【００２３】また、本実施例では、前記スプリング状の
筒状体１３の両端部は間隙を存せずに４巻きほど密に巻
回した部分１３ａとして形成されている。
筒状体１３の両端部は間隙を存せずに４巻きほど密に巻
回した部分１３ａとして形成されている。
【００２４】基本的には、線状部材１１は間隙を存して
巻回されているため、その間隙からアルミ蒸着等の表面
処理を行えるもので、また、前記密に巻回した部分１２
ａ，１３ａによってホルダー３０，３０同士が衝突した
際の絡みを防止するものである。本実施例では、更に、
前記スプリング条の筒状体１３の線状部材１１に絡み防
止用にスプリング１４が巻回されている。
巻回されているため、その間隙からアルミ蒸着等の表面
処理を行えるもので、また、前記密に巻回した部分１２
ａ，１３ａによってホルダー３０，３０同士が衝突した
際の絡みを防止するものである。本実施例では、更に、
前記スプリング条の筒状体１３の線状部材１１に絡み防
止用にスプリング１４が巻回されている。
【００２５】前記実施例では、比較的長手の筒状体に構
成したが、図７に示す変形例のように、短手の筒状体に
形成してもよく、線状部材を適宜巻回して被処理物の形
状に合わせ任意の大きさ、形状のホルダーに形成でき
る。このホルダーは、処理物を収納した後、籠状容器内
で自転されながら表面処理が行われる。
成したが、図７に示す変形例のように、短手の筒状体に
形成してもよく、線状部材を適宜巻回して被処理物の形
状に合わせ任意の大きさ、形状のホルダーに形成でき
る。このホルダーは、処理物を収納した後、籠状容器内
で自転されながら表面処理が行われる。
【００２６】（本発明の表面処理に用いる表面処理装置
の一例） 図８乃至図１０は本発明の表面処理装置の一実施例を示
すもので、図示の表面処理装置はアルミ蒸着装置に構成
されている。図８を参照して、図略の真空排気系に連な
る真空処理室４０の下部には、蒸着材料であるアルミニ
ウム４１を蒸発させる溶融蒸発部であるボート４２が、
支持テーブル４３上に立設されたボート支持台４４上に
複数個配設されている。また、支持テーブル４３の下方
内部に蒸着材料であるアルミニウムワイヤー４５が繰り
出しリール４６に巻回保持され、連続的に供給されるよ
うになっている。アルミニウムワイヤー４５の先端はボ
ート４２の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チュー
ブ４７によって案内されている。前記保護チューブ４７
の一部に設けられた切り欠き窓４８に対応して設けられ
た繰り出しギヤー４９，４９がアルミニウムワイヤー４
５に直接接触して繰り出すことにより、ボート４２内に
アルミニウムが補給されるようになっている。尚、図
中、矢印で示すように、公転と自転の方向は互いに逆方
向となるように設定される。
の一例） 図８乃至図１０は本発明の表面処理装置の一実施例を示
すもので、図示の表面処理装置はアルミ蒸着装置に構成
されている。図８を参照して、図略の真空排気系に連な
る真空処理室４０の下部には、蒸着材料であるアルミニ
ウム４１を蒸発させる溶融蒸発部であるボート４２が、
支持テーブル４３上に立設されたボート支持台４４上に
複数個配設されている。また、支持テーブル４３の下方
内部に蒸着材料であるアルミニウムワイヤー４５が繰り
出しリール４６に巻回保持され、連続的に供給されるよ
うになっている。アルミニウムワイヤー４５の先端はボ
ート４２の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チュー
ブ４７によって案内されている。前記保護チューブ４７
の一部に設けられた切り欠き窓４８に対応して設けられ
た繰り出しギヤー４９，４９がアルミニウムワイヤー４
５に直接接触して繰り出すことにより、ボート４２内に
アルミニウムが補給されるようになっている。尚、図
中、矢印で示すように、公転と自転の方向は互いに逆方
向となるように設定される。
【００２７】また、前記真空処理室４０内には、被処理
物を支持する支持部材を自転運動と共に公転運動自在と
する自転・公転手段を構成する回転ユニット５０，５０
が２個配置されている。これら回転ユニット５０，５０
は、架台５０ａ上に設けられる回転ユニット支持台５０
ｂによってそれぞれ支持されており、回転ユニット支持
台５０ｂに備えられたローラー５０ｃによって、駆動力
に応じて回転自在となっている。尚、図中、矢印で示す
ように、公転と自転の方向は互いに逆方向となるように
設定される。
物を支持する支持部材を自転運動と共に公転運動自在と
する自転・公転手段を構成する回転ユニット５０，５０
が２個配置されている。これら回転ユニット５０，５０
は、架台５０ａ上に設けられる回転ユニット支持台５０
ｂによってそれぞれ支持されており、回転ユニット支持
台５０ｂに備えられたローラー５０ｃによって、駆動力
に応じて回転自在となっている。尚、図中、矢印で示す
ように、公転と自転の方向は互いに逆方向となるように
設定される。
【００２８】図９を参照して、前記各回転ユニット５０
を構成する、左端に配置される公転駆動円板ユニット５
１は、狭幅の間隙を存して対向配置された２枚の円板５
２，５３を有している。図中左側のリング状の円板５２
には、その内周に沿ってスプロケットギヤ５４に歯合す
る公転用スプロケットチェーン５５が設けられている。
駆動モータ５６に連結される前記スプロケットギヤ５４
の回転を公転用スプロケットチェーン５５に伝達するこ
とによって回転ユニット５０は公転する。
を構成する、左端に配置される公転駆動円板ユニット５
１は、狭幅の間隙を存して対向配置された２枚の円板５
２，５３を有している。図中左側のリング状の円板５２
には、その内周に沿ってスプロケットギヤ５４に歯合す
る公転用スプロケットチェーン５５が設けられている。
駆動モータ５６に連結される前記スプロケットギヤ５４
の回転を公転用スプロケットチェーン５５に伝達するこ
とによって回転ユニット５０は公転する。
【００２９】図９、図１０を参照して、中央に配置され
る自転駆動円板ユニット６１は、２枚の円板６２，６２
でスプロケットチェーン６３を備えるリング状の円板６
４を挟み込むように構成されている。また、右端の従動
円板ユニット７１は一枚の円板７２で構成され、これら
３個の円板ユニット５１，６１，７１は回転シャフト８
０で連結され、前記公転駆動円板ユニット５１の駆動に
伴ってこれに同期して回転するように構成されている。
尚、前記自転用スプロケットチェーン６３を備えるリン
グ状円板６４は固定アーム６５によって支持され、回転
不能に固定され、これを挟む円板６２，６２の回転とは
非連結状態にされている。また、左右の円板ユニット５
１，７１にはベアリング８１を介して回転自在の受部８
２が円周方向に沿って設けられ、また、中央の自転駆動
円板ユニット６１には左右の円板６２，６２の外面側に
突出させて同時にベアリング８１を介して回転する受部
８２が設けられている。これら受部８２を連結するシャ
フト６６の中心部に前記自転用スプロケットチェーン６
３に歯合するスプロケットギア８３を設け、２つの円板
６２，６２の回転に伴って各受部８２が自転するように
構成されている。
る自転駆動円板ユニット６１は、２枚の円板６２，６２
でスプロケットチェーン６３を備えるリング状の円板６
４を挟み込むように構成されている。また、右端の従動
円板ユニット７１は一枚の円板７２で構成され、これら
３個の円板ユニット５１，６１，７１は回転シャフト８
０で連結され、前記公転駆動円板ユニット５１の駆動に
伴ってこれに同期して回転するように構成されている。
尚、前記自転用スプロケットチェーン６３を備えるリン
グ状円板６４は固定アーム６５によって支持され、回転
不能に固定され、これを挟む円板６２，６２の回転とは
非連結状態にされている。また、左右の円板ユニット５
１，７１にはベアリング８１を介して回転自在の受部８
２が円周方向に沿って設けられ、また、中央の自転駆動
円板ユニット６１には左右の円板６２，６２の外面側に
突出させて同時にベアリング８１を介して回転する受部
８２が設けられている。これら受部８２を連結するシャ
フト６６の中心部に前記自転用スプロケットチェーン６
３に歯合するスプロケットギア８３を設け、２つの円板
６２，６２の回転に伴って各受部８２が自転するように
構成されている。
【００３０】かくして、前記受部８２，８２間に表面処
理用支持部材を挟持させ、前記駆動モータ５６に通電す
れば、公転駆動円板ユニット５１の回転に伴って、自転
駆動円板ユニット６１の２つの円板６２，６２と従動円
板ユニット７１も回転し、これら表面処理用支持部材は
公転運動する。また、自転駆動円板ユニット６１の２つ
の円板６２，６２が回転することにより、自転用スプロ
ケットチェーン６３に歯合するスプロケットギヤ８３が
回転する結果、受部８２が回転する。しかして、挟持さ
れる表面処理用支持部材を介して左右の円板ユニット５
１，７１に設けられた受部８２も自由に回転することに
なり、かくして、各支持部材は自転運動することにな
る。尚、前記のように、駆動モータ５６の駆動によって
支持部材の公転運動と自転運動が可能となるため真空処
理室４０内へは前記駆動モータ５６の駆動軸５６ａのみ
挿通させればよいので、真空処理室内の真空度が高度に
保たれ、真空引きの時間を短縮することができる。
理用支持部材を挟持させ、前記駆動モータ５６に通電す
れば、公転駆動円板ユニット５１の回転に伴って、自転
駆動円板ユニット６１の２つの円板６２，６２と従動円
板ユニット７１も回転し、これら表面処理用支持部材は
公転運動する。また、自転駆動円板ユニット６１の２つ
の円板６２，６２が回転することにより、自転用スプロ
ケットチェーン６３に歯合するスプロケットギヤ８３が
回転する結果、受部８２が回転する。しかして、挟持さ
れる表面処理用支持部材を介して左右の円板ユニット５
１，７１に設けられた受部８２も自由に回転することに
なり、かくして、各支持部材は自転運動することにな
る。尚、前記のように、駆動モータ５６の駆動によって
支持部材の公転運動と自転運動が可能となるため真空処
理室４０内へは前記駆動モータ５６の駆動軸５６ａのみ
挿通させればよいので、真空処理室内の真空度が高度に
保たれ、真空引きの時間を短縮することができる。
【００３１】前記実施例では回転ユニット５０を自転・
公転駆動自在に構成したが、例えば、自転用スプロケッ
トチェーン６３およびスプロケットギヤ８３を除くこと
により、表面処理用支持部材に公転運動のみ与えるよう
に構成できる。また、例えば、公転駆動円板ユニット５
１と、自転駆動円板ユニット６１の２つの円板６２，６
２と、従動円板ユニット７１は固定状態に保ち、スプロ
ケットギヤ８３を備えたリング状円板６４のみを回転さ
せるようにすれば、受部８２のみが回転して表面処理用
支持部材に自転運動のみ与えるように構成できる。
公転駆動自在に構成したが、例えば、自転用スプロケッ
トチェーン６３およびスプロケットギヤ８３を除くこと
により、表面処理用支持部材に公転運動のみ与えるよう
に構成できる。また、例えば、公転駆動円板ユニット５
１と、自転駆動円板ユニット６１の２つの円板６２，６
２と、従動円板ユニット７１は固定状態に保ち、スプロ
ケットギヤ８３を備えたリング状円板６４のみを回転さ
せるようにすれば、受部８２のみが回転して表面処理用
支持部材に自転運動のみ与えるように構成できる。
【００３２】（開閉自在の上下籠部で構成される表面処
理用支持部材を用いた表面処理の実施例） 前記実施例の開閉自在の上下籠部で構成される表面処理
用支持部材を用いアルミ蒸着を試みた。被処理物として
は、３０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの特公昭６１−３４
２４２号公報に示されるようなＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類
磁石を用い、これを前記蒸着装置を利用して、Ａｌ蒸着
を行った。詳細には、先ず、上記支持部材を装置内にセ
ットした後、４×１０−４Ｔｏｒｒまで、真空引きし
た。更に、Ａｒガスを装置内に導入し、支持部材側にー
５００Ｖの電位差を与えて２０分間磁石を表面浄化し
た。次に、ボートに対して、支持部材側にー１００Ｖの
電位差を与えた状態で、ボートを加熱しアルミニウムを
蒸発させて２５分間蒸着処理した。尚、公転は１．２ｒ
ｐｍ、自転は５ｒｐｍであった。この条件で、厚み１０
μｍのアルミ蒸着処理を行ったところ、製品のアルミ蒸
着面の剥げや、製品の欠け等全くない状態で、しかも、
均一にアルミ蒸着されていた。
理用支持部材を用いた表面処理の実施例） 前記実施例の開閉自在の上下籠部で構成される表面処理
用支持部材を用いアルミ蒸着を試みた。被処理物として
は、３０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの特公昭６１−３４
２４２号公報に示されるようなＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類
磁石を用い、これを前記蒸着装置を利用して、Ａｌ蒸着
を行った。詳細には、先ず、上記支持部材を装置内にセ
ットした後、４×１０−４Ｔｏｒｒまで、真空引きし
た。更に、Ａｒガスを装置内に導入し、支持部材側にー
５００Ｖの電位差を与えて２０分間磁石を表面浄化し
た。次に、ボートに対して、支持部材側にー１００Ｖの
電位差を与えた状態で、ボートを加熱しアルミニウムを
蒸発させて２５分間蒸着処理した。尚、公転は１．２ｒ
ｐｍ、自転は５ｒｐｍであった。この条件で、厚み１０
μｍのアルミ蒸着処理を行ったところ、製品のアルミ蒸
着面の剥げや、製品の欠け等全くない状態で、しかも、
均一にアルミ蒸着されていた。
【００３３】（折り畳み開閉自在の板状部材で構成され
る表面処理用支持部材の実施例） 前記実施例の折り畳み開閉自在の板状部材で構成される
表面処理用支持部材を用いアルミ蒸着を試みた。被処理
物としては、外径３９．５ｍｍ×内径２２ｍｍで厚み
０．９ｍｍのリング状のＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類磁石を
用い、これを前記蒸着装置を利用して、蒸着処理時間を
１５分とする以外は上記と同じ条件で、厚み１０μｍの
アルミ蒸着処理を行った。その結果、製品のアルミ蒸着
面の剥げや、製品の欠け等全くない状態で、しかも、均
一にアルミ蒸着されていた。
る表面処理用支持部材の実施例） 前記実施例の折り畳み開閉自在の板状部材で構成される
表面処理用支持部材を用いアルミ蒸着を試みた。被処理
物としては、外径３９．５ｍｍ×内径２２ｍｍで厚み
０．９ｍｍのリング状のＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類磁石を
用い、これを前記蒸着装置を利用して、蒸着処理時間を
１５分とする以外は上記と同じ条件で、厚み１０μｍの
アルミ蒸着処理を行った。その結果、製品のアルミ蒸着
面の剥げや、製品の欠け等全くない状態で、しかも、均
一にアルミ蒸着されていた。
【００３４】（表面処理用ホルダーを用いた表面処理の
実施例） 前記実施例のホルダー（４０ｍｍ×６０ｍｍ）を用いア
ルミ蒸着を試みた。被処理物としては、３０ｍｍ×１０
ｍｍ×５０ｍｍのＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類磁石を用い、
これを上記ホルダーに収容した。図１１に示す蒸着装置
を利用して、籠状の容器にホルダーを収容した後、これ
を１．２ｒｐｍで回転させ、その他の条件は、上下籠部
で構成された表面処理用支持部材を用いた前記実施例と
同じ条件で、厚み１０μｍのアルミ蒸着処理を行った。
その結果、製品のアルミ蒸着面の剥げや、製品の欠け等
全くない状態で、しかも、均一にアルミ蒸着されてい
た。
実施例） 前記実施例のホルダー（４０ｍｍ×６０ｍｍ）を用いア
ルミ蒸着を試みた。被処理物としては、３０ｍｍ×１０
ｍｍ×５０ｍｍのＮｄ−Ｆｅ―Ｂ系希土類磁石を用い、
これを上記ホルダーに収容した。図１１に示す蒸着装置
を利用して、籠状の容器にホルダーを収容した後、これ
を１．２ｒｐｍで回転させ、その他の条件は、上下籠部
で構成された表面処理用支持部材を用いた前記実施例と
同じ条件で、厚み１０μｍのアルミ蒸着処理を行った。
その結果、製品のアルミ蒸着面の剥げや、製品の欠け等
全くない状態で、しかも、均一にアルミ蒸着されてい
た。
【００３５】（比較例） 尚、同じ製品を用い、但し従来と同様に本発明のような
ホルダーを用いることなく、図１１に示す蒸着装置を利
用して、直に籠状の容器内に製品を収容してアルミ蒸着
を実施したところ、均一な蒸着を行えたものの製品のア
ルミ蒸着面に剥げが生じたり、製品に欠けが見られ、歩
留まりは６５％という低い値であった。
ホルダーを用いることなく、図１１に示す蒸着装置を利
用して、直に籠状の容器内に製品を収容してアルミ蒸着
を実施したところ、均一な蒸着を行えたものの製品のア
ルミ蒸着面に剥げが生じたり、製品に欠けが見られ、歩
留まりは６５％という低い値であった。
【００３６】
【発明の効果】このように、本発明によれば、リング
状、筒状などの内径部を備える被処理物に対しても、複
数個の被処理物を一括してしかも均一に表面処理が可能
となる。また、被処理物が硬く脆い、燒結体であって
も、割れや、欠け、或いは、剥がれなどのない、表面処
理を歩留まりよく行うことができる。
状、筒状などの内径部を備える被処理物に対しても、複
数個の被処理物を一括してしかも均一に表面処理が可能
となる。また、被処理物が硬く脆い、燒結体であって
も、割れや、欠け、或いは、剥がれなどのない、表面処
理を歩留まりよく行うことができる。
【図１】 本発明表面処理方法に用いる表面処理用支持
部材の一例の斜視図
部材の一例の斜視図
【図２】（ａ）本発明表面処理用支持部材の一実施例の
被処理物の取付け、取り外し時における正面図、（ｂ）
同側面図
被処理物の取付け、取り外し時における正面図、（ｂ）
同側面図
【図３】（ａ）本発明表面処理用支持部材の一実施例の
被処理物の支持時における正面図、（ｂ）同側面図
被処理物の支持時における正面図、（ｂ）同側面図
【図４】 同実施例の回転ユニットに対する取付け状態
を示す正面図
を示す正面図
【図５】 本発明表面処理用ホルダーの一実施例の正面
図
図
【図６】 同側面図
【図７】 本発明表面処理用ホルダーの他実施例の正面
図
図
【図８】 本発明表面処理方法に用いる表面処理装置の
正面説明線図
正面説明線図
【図９】 同装置の回転ユニットを説明するための斜視
図
図
【図１０】 同自転駆動円板ユニットの拡大斜視図
【図１１】 従来の表面処理装置の説明線図
１ａ 上籠部 １ｂ 下籠部 ２ 蝶板 ３ 籠状区画室 ４ 接続片 ４ａ 取付け溝 ５ 孔 ６ 板状部材 ７ バネ付き蝶板 ８ 溝部 ９ 狭幅部 １０ 表面処理用支持部材 ２０ 表面処理用支持部材 １１ 線状部材 １２ 線状面 １２ａ 密に巻回した部分 １３ 筒状体 １３ａ 密に巻回した部分 １４ スプリング ３０ ホルダー ４０ 真空処理室 ４１ アルミニウム ４２ ボート ４３ 支持テーブル ４４ ボート支持台 ４５ アルミニウムワイヤー ４６ 繰り出しリール ４７ 保護チューブ ４８ 切り欠き窓 ４９ 繰り出しギヤー ５０ 回転ユニット ５０ａ 架台 ５０ｂ 回転ユニット支持台 ５０ｃ ローラー ５１ 公転駆動ユニット ５２ 円板 ５３ 円板 ５４ スプロケットギヤ ５５ 自転用スプロケットチェーン ５６ 駆動モータ ５６ａ 駆動軸 ６１ 自転駆動円板ユニット ６２ 円板 ６３ 自転用スプロケットチェーン ６４ リング状円板 ６５ 固定アーム ６６ シャフト ７１ 従動円板ユニット ７２ 円板 ８０ 回転シャフト ８１ ベアリング ８２ 受部 ８３ スプロケットギア １２０ 真空蒸着装置 １２１ 真空処理室 １２２ 真空ポンプ １２３ アルミ １２４ 蒸着源ホルダー １２５ ヒータ １２６ 籠状の容器 １３０ 希土類磁石製品 Ｌ 内径 Ｗａ 被処理物 Ｗｂ 被処理物
フロントページの続き (72)発明者 太田垣 謙 兵庫県養父郡養父町大薮1062番地 近畿 住特電子株式会社内 (56)参考文献 特開 平９−157844（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−145336（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−131363（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−165073（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−123362（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−350135（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56
Claims (22)
- 【請求項１】 内径部を備えた複数個の被処理物を支持
する表面処理用支持部材であって、長手方向に沿って折
り畳み開閉自在の板状部材で構成され、これら板状部材
は折り開き状態において前記被処理物の内径に対応する
長さの複数個の狭幅部を形成できるようにしたことを特
徴とする表面処理用支持部材。 - 【請求項２】 前記板状部材は蝶板によって折り畳み開
閉自在としたことを特徴とする請求項１記載の表面処理
用支持部材。 - 【請求項３】 線状部材を隙間を存して巻回して筒状体
本体を形成し、該筒状体本体の両端に渦巻き線状面を備
えるスプリング状の筒状体に形成し、この筒状体内に被
処理物を収容自在としたことを特徴とする表面処理用ホ
ルダー。 - 【請求項４】 前記筒状体は円筒体であることを特徴と
する請求項３記載の表面処理用ホルダー。 - 【請求項５】 前記筒状体の筒側面を形成する線状部材
に絡み防止用スプリング部材を巻回させたことを特徴と
する請求項３または４記載の表面処理用ホルダー。 - 【請求項６】 前記筒状体の筒側面両端近傍の線状部材
を密に巻回したことを特徴とする請求項３乃至５の何れ
かに記載の表面処理用ホルダー。 - 【請求項７】 前記筒状体の渦巻き線状面の線状部材の
中心部において密に巻回したことを特徴とする請求項３
乃至６の何れかに記載の表面処理用ホルダー。 - 【請求項８】 前記線状部材はステンレス鋼で構成され
ていることを特徴とする請求項３乃至７の何れかに記載
の表面処理用ホルダー。 - 【請求項９】 内径部を備えた複数個の被処理物の表面
処理方法であって、処理室内において、前記被処理物を
前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離間状
態で自転運動させながら表面処理することを特徴とする
表面処理方法。 - 【請求項１０】 内径部を備えた複数個の被処理物の表
面処理方法であって、処理室内において、前記被処理物
を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離間
状態で公転運動させながら表面処理することを特徴とす
る表面処理方法。 - 【請求項１１】 内径部を備えた複数個の被処理物の表
面処理方法であって、処理室内において、前記被処理物
を前記内径を垂直方向に配向させた状態で、互いに離間
状態で自転運動と共に公転運動させながら表面処理する
ことを特徴とする表面処理方法。 - 【請求項１２】 前記自転運動は、自転駆動される表面
処理用支持部材で被処理物を支持することにより与える
ものであることを特徴とする請求項９記載の表面処理方
法。 - 【請求項１３】 前記公転運動は、公転駆動される表面
処理用支持部材で被処理物を支持することにより与える
ものであることを特徴とする請求項１０記載の表面処理
方法。 - 【請求項１４】 前記自転運動と共になされる公転運動
は、自転駆動と共に公転駆動される表面処理用支持部材
で被処理物を支持することにより与えるものであること
を特徴とする請求項１１記載の表面処理方法。 - 【請求項１５】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、前記被処理物を互いに離間状
態で自転運動させながら表面処理する表面処理方法にお
いて、請求項３乃至８の何れかに記載の各ホルダー内に
各被処理物を収容し、該ホルダーを回動可能な多孔性籠
状回動部材内で自転させることを特徴とする表面処理方
法。 - 【請求項１６】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、自転駆動される請求項１記載
の表面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互いに離
間状態で自転運動させながら表面処理することを特徴と
する表面処理方法。 - 【請求項１７】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、公転駆動される請求項１記載
の表面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互いに離
間状態で公転運動させながら表面処理することを特徴と
する表面処理 方法。 - 【請求項１８】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、自転駆動されると共に公転駆
動される請求項１記載の表面処理用支持部材を用い、前
記被処理物を互いに離間状態で自転運動と共に公転運動
させながら表面処理することを特徴とする表面処理方
法。 - 【請求項１９】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、自転駆動される表面処理用支
持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で自転運
動させながら表面処理する表面処理方法において、前記
表面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備えた
長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成さ
れた表面処理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を
収容した状態で処理することを特徴とする表面処理方
法。 - 【請求項２０】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、公転駆動される表面処理用支
持部材を用い、前記被処理物を互いに離間状態で公転運
動させながら表面処理する表面処理方法において、前記
表面処理用支持部材として、多数の籠状区画室を備えた
長手方向に沿って開閉自在の上籠部と下籠部とで構成さ
れた表面処理用支持部材を用い、各区画室に被処理物を
収容した状態で処理することを特徴とする表面処理方
法。 - 【請求項２１】 複数個の被処理物の表面処理方法であ
って、処理室内において、自転駆動されると共に公転駆
動される表面処理用支持部材を用い、前記被処理物を互
いに離間状態で自転運動と共に公転運動させながら表面
処理する表面処理方法において、前記表面処理用支持部
材として、多数の籠状区画室を備えた長手方向に沿って
開閉自在の上籠部と下籠部とで構成された表面処理用支
持部材を用い、各区画室に被処理物を収容した状態で処
理することを特徴とする表面処理方法。 - 【請求項２２】 前記表面処理は燒結体の蒸着処理であ
ることを特徴とする請求項９乃至２１の何れかに記載の
表面処理方法。
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