CN100359042C - 用于气相沉积设备中的制品支架 - Google Patents
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Abstract
对一系列制品进行表面处理的方法，在一处理室中对所述制品的表面进行处理。所述制品的支承装置可以由各包括许多隔间的顶笼和底笼构成，所述底笼和底笼可在长度方向上开闭。所述支承装置可由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成，展开时可形成一系列狭部，其长度对应于待处理制品的内径。一种表面处理设备，其包括一个在于处理室中的处理材料源，旋转支承所述制品的支承装置的旋转装置使所述制品绕其自身的轴线、或公共旋转轴线、或两者旋转的情况下，进行均一的表面处理。
Description
本申请是1999年9月29日提交的名称为“表面处理支承装置、表面处理支架、表面处理方法，以及表面处理设备”的发明专利申请No.99120530.8的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种表面处理方法，尤其是一种用来在烧制品表面形成一层沉积金属膜的表面处理方法，所述金属比如是铝、锌和锡，所述金属膜或者是金属氮化物膜，比如氮化钛，所述烧制品例如是易被氧化的稀土金属基磁体或类似物质。通过在所述烧制品上形成所述膜，确保所述烧制品比如稀土金属基磁体具有抗氧化性。
更为具体地，本发明涉及一种表面处理方法，这种方法能够一起对大量的制品进行集中均一的表面处理，所述制品比如是烧制品，例如稀土金属基磁体，其形状具有一内径部分，比如是环形的或类似形状，本发明还涉及适用于所述方法的表面处理支承装置、表面处理支架及表面处理设备。
背景技术
例如，在通常的稀土金属基磁体表面处理方法中，如图11所示的真空气相沉积设备120用来进行铝的气相沉积。在图11中，标号121所指为一真空处理室，其可以通过一真空泵122维持于一预定的真空度。在该真空处理室121中，作为蒸发源的铝123装在一蒸发源支架124中由一加热器125加热。作为被处理制品的稀土金属基磁体物件130装在一笼状的容器126中。在旋转容器126的同时进行铝的气相沉积，从而在作为被处理制品的所述稀土金属基磁体物件130上均匀地镀上铝层。
在上述传统的表面处理方法中，当然可以实现基本上均一的气相沉积，但因为所述制品是一个叠一个地堆在茏状容器中，不可避免地会产生一些不均一的沉积，因此，希望提供一种表面处理方法，由之可进行更为均一的表面处理。许多稀土金属基磁体物件例如Nd-Fe-B基磁体物件，在经过加工处理之后，常呈长方体状，坚硬且具锐利的棱角。因此存在下述问题：在气相沉积处理过程中，所述棱角相互碰撞，从而使沉积在表面上的薄膜被剥落，在严重的情况下产品的棱角会破损，从而导致合格率降低。尤其在物件尺寸大的情况下，问题在于，由于物件重量大，因而撞击能量大，从而导致合格率极大地降低。在制品具有内径部分且为比如环形或类似形状的情况下，所述方法的缺陷在于，制品内径侧会被其他的制品遮挡住，因此使得不能顺利地实现对内径侧内壁的均一表面处理。
发明内容
因此，本发明的目的是提供一种表面处理方法，此方法可克服传统方法所具有的问题和缺点，可以对大量的具内径部分且为环形或类似形状的制品批量进行均一的表面处理。
本发明的发明人发现，合乎上述要求的对制品的表面处理比如气相沉积可以在这样的状态下进行：制品被相互隔开，使之绕各自的轴旋转，或使之绕一个公共旋转轴旋转，或使之同时绕一公共旋转轴和各自的轴旋转。
为了达到上述目的，按照本发明的特征及其第一方面，提供一种表面处理支承装置，可支承一系列制品，其包括一个顶笼和底笼，它们包括许多隔间，可在长度方向上开闭。
由于上述特征，所述表面处理支承装置由一个顶笼和底笼构成，它们包括许多隔间，可在长度方向上开闭。因此，通过开闭上述顶笼和底笼，制品可被间隔地置入所述笼状的隔间中，再从所述笼状隔间中取出。
可以适当地选择每个笼子的形状、网眼尺寸等特征，使得可以形成足够尺寸的空隙，以确保表面处理材料可以根据制品的尺寸和形状充分而均一地接触所述制品。
根据本发明第二方面的特征，提供一种用来支承一系列各具有一内径部分的制品的表面处理支承装置，它包括可在长度方向上开闭折合的板状部件，所述板状部件可形成一系列狭部，后者的长度在打开状态下对应于制品的内径。
根据本发明的第三个方面的特征，除了第二方面的特征外，所述板状部件可借助于一合页开闭折合。
由于上述特征，所述表面处理支承装置由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成，使之在打开状态下可形成一系列狭部，后者各具有相应于制品内径的长度。因此，在所述板状部件的折合状态下，制品可以分别放置到所述狭部，然后通过将所述板状部件展开而被有间隔地支承在所述狭部。在完成表面处理之后，通过再次折合所述板状部件，所述制品可以轻易地从所述支承装置上取下。
尤其是，通过确保所述板状部件能够借助于所述合页而开闭折合，可以轻易地将制品装到所述支承装置上和从上面取下来。
可以如此选择每一狭部的形状、尺寸等特征，使得所述制品可以相应于自身的尺寸和形状而保持相互隔离的状态。
根据本发明第四方面的特征，提供一种用于在气相沉积设备中保持用于气相沉积的制品的制品支架，包括，一个管状的主体，所述主体的内直径尺寸构成适合保持所述制品，所述主体由连续绕制的丝状物制成，所述连续绕制的丝状物在相对的两端具有螺旋形卷绕的线圈并形成了末端封闭部分，以防止制品从其中取出，和一个在所述末端封闭部分之间延伸的中间部分，所述中间部分中具有以相互间隔的关系设置的线圈，从而限定了使保持在所述制品支架中的制品暴露出来以从支架外侧进行表面处理的空间。
按照本发明的第五方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述管状结构是一种圆柱形结构。
按照本发明的第六方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，在所述丝状物的构成所述管状结构之侧面的部分上绕制一种防缠结弹簧。
按照本发明的第七方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述丝状物在所述管状结构侧面相对的两端附近密集绕制。
按照本发明的第八方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述主体的所述末端部分由螺旋形线圈封闭，所述螺旋形线圈在所述末端部分的中央区域包括更加紧密的卷绕的线圈。
按照本发明的第九方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述丝状物是由不锈钢制成的。
在所述表面处理支架中，所述丝状物按这样的间距绕制，使得其形成弹簧状的管状结构，并在该管状结构的两端形成螺旋线状的端面，从而使得制品可以被容纳在该管状结构中。从而可以通过所述丝状物所形成的间隙进行均一的表面处理，比如铝的气相沉积。另外，即使所述支架相互碰撞，在支架中的制品也不会相互碰撞。而且，由于所述支架具有的弹性，支架中的制品也不会受到大的震动，因而不会产生被处理表面的剥落、产品的破损或者类似情况。可以通过由所述丝状物形成的间隙，利用支架的弹性向其中置入或从中取出制品，从而不需要设置专门的入口和出口。
所述丝状物的直径、绕制圈数和节距可以合适地选择，考虑到要形成足够尺寸的间距以使之具有适当的弹性，同时要考虑到表面处理材料能够充分而均一地接触被处理制品。
如果所述支架是管状的，其形状不受具体限制，可以是椭圆形的。但是，如果考虑到支架要易于旋转，并考虑到处理材料的均匀沉积，所述支架最好是圆柱形的。
另外，通过在形成管状结构之侧面的丝状物上绕制防缠结弹簧，可以防止构成支架的丝状物插入丝状物间形成的间隙中，从而防止了构成支架的丝状物相互缠结。
类似地，通过在管状结构侧面两端部附近密集绕制所述丝状物，或者在所述管状结构的相对的螺旋线状端面处的丝状物的中央部分密集绕制，也可以防止构成支架的丝状物插入丝状物间形成的间隙中，从而防止了构成支架的丝状物相互缠结。这确保了可以实现均一的表面处理，比如铝的气相沉积。
通过利用不锈钢制造所述丝状物，例如，可以用酸洗掉沉积在所述丝状物上的铝或类似金属。另外，不锈钢与铁不一样，即使在高温下进行气相沉积，也不会有损于其弹性。
这样，如果将由稀土金属基磁体组成的制品放在具有上述设置的表面处理支架中进行表面处理比如铝的气相沉积，就可以透过所述由丝状物形成的间隙而实现均一的表面处理，而且不会发生被处理表面的剥落、产品的破损及类似情况，从而实现极高的合格率。
根据本发明第十方面的特征，提供一种对一系列制品进行表面处理的方法，它包括这样的步骤：在一处理室中对制品进行表面处理，同时在相互间留有间距的状态下使制品绕自身的轴线旋转。
按照本发明的第十一方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第十二方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，所述制品绕其各自的轴线的旋转是在所述制品被一支承装置支承的情况下进行的，所述支承装置绕其自身的轴线旋转。
按照本发明的第十三方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第十四方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第十五方面的特征，除了所述第十四方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第十六方面的特征，除了所述第十二方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第十七方面的特征，除了所述第十六方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第十八方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，每一制品被置放在一个相应的按照第四方面的特征所述的支架中，且所述支架在一个有孔的笼状旋转装置中绕支架自身的轴线旋转。
按照本发明的第十九方面的特征，除了所述第十八方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第二十方面的特征，提供一种对一系列制品进行表面处理的方法，它包括这样的步骤：对制品进行表面处理，同时在相互间留有间距的状态下使制品绕一个公共旋转轴线旋转。
按照本发明的第二十一方面的特征，除了所述第二十方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第二十二方面的特征，除了所述第二十方面的特征之外，所述制品绕其各自的轴线的旋转是在所述制品被一支承装置支承的情况下进行的，所述支承装置绕一个旋转轴线旋转。
按照本发明的第二十三方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第二十四方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第二十五方面的特征，除了所述第二十四方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第二十六方面的特征，除了所述第二十二方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第二十七方面的特征，除了所述第二十六方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第二十八方面的特征，提供一种对一系列制品进行表面处理的方法，它包括这样的步骤：对制品进行表面处理，同时在相互间留有间距的状态下使制品绕各自的轴线及一个公共旋转轴线旋转。
按照本发明的第二十九方面的特征，除了所述第二十八方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第三十方面的特征，除了所述第二十八方面的特征之外，所述制品绕所述公共旋转轴线的旋转是在所述制品被一支承装置支承的情况下进行的，所述制品还绕其自身的轴线旋转，所述支承装置绕一个公共旋转轴线及其自身的轴线旋转。
按照本发明的第三十一方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第三十二方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，使用前述第一方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第三十三方面的特征，除了所述第三十二方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
按照本发明的第三十四方面的特征，除了所述第三十方面的特征之外，使用前述第二方面特征所用的支承装置。
按照本发明的第三十五方面的特征，除了所述第三十四方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的气相沉积。
在上述的对一系列制品进行表面处理的方法中，对制品的表面处理在所述处理室中进行，所述制品相互间隔；在对制品进行表面处理的同时，使制品绕各自的轴线旋转，或绕公共旋转轴线旋转，或同时绕各自的轴线和公共旋转轴线旋转。因此，制品的所有表面可以同时受到均一的处理。
这样，通过对相互间隔的制品进行均一的表面处理，即使在硬而易碎的烧制品表面，也可以均一地沉积一层软的金属膜比如铝、锡和锌，或者硬的金属氮化物，比如氮化钛。
通过用所述绕其自身的轴线或公共旋转轴线，或者绕其自身的轴线及公共旋转轴线旋转的支承装置支承所述制品，可以可靠地实现所述制品绕其自身的轴线，或者绕所述公共旋转轴线，或者绕其自身的轴线及所述公共旋转轴线的旋转。
在这种情形下，通过使用本发明的前述特征所述的表面处理支承装置，所述制品能够相隔一定间距绕其自身的轴线，或者绕所述公共旋转轴线，或者绕其自身的轴线及所述公共旋转轴线旋转。如果使用由具有笼状隔间的顶笼和底笼构成，所述顶笼和底笼可在长度方向上开闭的表面处理支承装置，则无论制品的形状如何，尤其，即使制品是大尺寸的，都可以对之进行表面处理。
另外，通过使用由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成的表面处理支承装置(所述板状部件在展开状态下形成长度对应于具有内径部分的制品之内径的狭部系列)，具有内径部分且为盘形或类似形状的制品能够绕其自身的轴线，或者绕所述公共旋转轴线，或者绕其自身的轴线及所述公共旋转轴线旋转，同时可靠地保持相互间隔的状态。具体地，当所述制品按照上述方式在其内径部分被支承时，所述制品可以沿着长度方向相对于处理材料源比如一气相沉积源垂直取向。而且，除了制品内径部分的支承点之外，处理材料到达制品表面的过程不可能受到阻碍，因而可以实现非常有效的表面处理。因此，可以在短时间内完成真空沉积，在温度升高之前表面处理就可以完成。例如，Nd-Fe-B稀土金属基烧制磁体物件的表面处理，可以在不损害磁性的不高于400℃的温度下以非常高的效率一次完成。所述内径部分的支承是点接触的，可以适当地移动所述接触点，从而使整个内径部分都受到表面处理。
另外，在所述情况下，如果气相沉积是在这样的条件下进行的-负极与所述支承装置相连，制品绝缘放置，所述气相沉积源与正极相连-则可以对内径侧表面进行均一的表面处理。最好，所述负极可以通过绕制品自身的轴线旋转制品的装置连接到所述制品，因为，在要用氩气进行表面清洗处理时，负极应连接到所述制品。
所述制品绕自身的轴的旋转也可以用不使用所述支承装置的方法实现，例如，可以将所述制品置于所述表面处理支架中，然后在一有孔的笼状旋转装置中使所述支架绕其自身的轴线旋转。
所述表面处理适用于通过气相沉积工艺形成镀膜，适于沉积金属、非金属非有机物质及有机化合物等。所述表面处理可应用于真空沉积工艺、离子溅镀工艺、电离镀膜工艺及气相沉积聚合作用等等。
根据本发明第三十六方面的特征，提供一种表面处理设备，该设备包括一个在一处理室中的处理材料源，从所述处理材料源释放出的处理材料可被送出，抵达制品而完成表面处理，所述表面处理设备还包括一个旋转装置，用来使一支承所述制品的支承装置绕其自身的轴线旋转。
按照本发明的第三十七方面的特征，除了所述第三十六方面的特征之外，所述表面处理设备是一种气相沉积设备。
根据本发明第三十八方面的特征，提供一种表面处理设备，该设备包括一个在一处理室中的处理材料源，从所述处理材料源释放出的处理材料可被送出，抵达制品而完成表面处理，所述表面处理设备还包括一个旋转装置，用来使一支承所述制品的支承装置绕一旋转轴线旋转。
按照本发明的第三十九方面的特征，除了所述第三十八方面的特征之外，所述表面处理设备是一种气相沉积设备。
根据本发明第四十方面的特征，提供一种表面处理设备，该设备包括一个在一处理室中的处理材料源，从所述处理材料源释放出的处理材料可被送出，抵达制品而完成表面处理，所述表面处理设备还包括一个旋转装置，用来使一支承所述制品的支承装置绕其自身的轴线及一旋转轴线旋转。
按照本发明的第四十一方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述表面处理设备是一种气相沉积设备。
按照本发明的第四十二方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述设备还包括至少两个旋转盘，在所述旋转盘上，在圆周方向上设置用于支承所述制品的支承装置的接纳部件，使得所述支承装置可以通过所述接纳部件被支承在至少两个旋转盘之间，从而，通过所述接纳部件的旋转，所述支承装置可以绕其自身的轴线旋转，通过所述旋转盘的旋转，所述支承装置可以绕一公共旋转轴线旋转。
按照本发明的第四十三方面的特征，除了所述第四十二方面的特征之外，所述表面处理设备是一种气相沉积设备。
按照本发明的第四十四方面的特征，除了所述第四十方面的特征之外，所述设备还包括一个用来向所述支承装置传送由一驱动轴提供的用来旋转所述支承装置的驱动力的装置，所述驱动力用来使所述支承装置绕其自身的轴线旋转。
按照本发明的第四十五方面的特征，除了所述第四十四方面的特征之外，所述表面处理设备是一种气相沉积设备。
上述表面处理设备包括使支承所述制品的支承装置绕其自身的轴线旋转的装置，使支承所述制品的支承装置绕所述旋转轴线旋转的装置，或者使支承所述制品的支承装置绕其自身的轴线及所述旋转轴线旋转的装置。因此，将所述表面处理支承装置置入所述处理室中安放起来，可使所述制品相互间隔地绕其自身的轴线，或绕所述旋转轴线，或者绕其自身的轴线及所述旋转轴线旋转，从而实现对大量制品的同时、均一的表面处理。
在所述表面处理设备中，所述支承装置可以通过所述接纳部件支承于至少两个旋转盘之间，在所述旋转盘上，在圆周方向上设置有用来支承所述制品的接纳部件。另外，在所述表面处理设备中，通过所述接纳部件的旋转，所述支承装置可以绕其自身的轴线旋转，通过所述旋转盘的旋转，所述支承装置可以绕所述轴线旋转。因此，简单地利用普通的气相沉积设备，使制品相互间隔地绕其自身的轴线旋转，或绕所述旋转轴线旋转，或绕其自身的轴线及所述旋转轴线旋转，即可实现大量制品的表面处理。
所述表面处理设备可应用于气相生长工艺镀膜，更具体地，这样的设备例如有真空气相沉积设备、离子溅镀设备、电离镀膜设备，以及气相沉积聚合作用设备。
在下文结合附图对优选实施例所作的说明中，可以看出本发明的上述及其他的目的、特征和优点。
附图说明
图1是本发明的一种表面处理支承装置的一个实施例的立体视图；
图2A和图2B是本发明的一种表面处理支承装置的实施例在装卸制品时的前视图和侧视图；
图3A和图3B是本发明的前述表面处理支承装置的实施例在支承制品时的前视图和侧视图；
图4是前述实施例被安装到一个旋转装置上后的前视图；
图5是本发明的一种表面处理支架的一个实施例的前视图；
图6是示于图5中的实施例的侧视图；
图7是本发明的一种表面处理支架的另一个实施例的前视图；
图8是本发明的一种表面处理设备的一个实施例的前视图；
图9是示于图8中的设备的一个旋转装置的立体视图；
图10是用来使制品绕其自身的轴旋转的旋转盘装置的放大的立体视图；
图11是一种普通表面处理设备的视图。
具体实施方式
下面结合附图，通过实施例来对本发明进行说明。
I.由可开闭的顶笼和底笼构成的表面处理支承装置的实施例
图1示出了本发明的一种表面处理支承装置的一个实施例，其由各包括一系列笼状隔间的顶笼和底笼构成，所述顶笼和底笼可在长度方向上开闭。
构成所述表面处理支承装置10的顶笼和底笼1a和1b形成可通过一合页2开闭的对称结构，所述顶笼和底笼由不锈钢网构成，网眼尺寸为5mm，网厚1mm。在图示的实施例中，分布有十五个分隔出笼状隔间3，在每个笼状隔间3中可放置一个待加工的制品Wa。在图1中，标号4指示的是一个连接件，用来将所述表面处理支承装置10连接到下面将要描述的接纳部件上。该连接件4可以由一个螺旋穿过孔5的螺纹连接件固定到所述接纳部件上。当进行表面处理时，所述顶笼和底笼1a和1b由一个夹子或若干夹子(图中未示出)扣紧。
II.由可开闭折合的板状部件构成的表面处理支承装置的实施例
这种实施例的表面处理支承装置适合于支承大量具有一内径部分的制品。
在图2和图3中示出了本发明的一种表面处理支承装置的一个实施例，在图2和图3中由标号20指示的支承装置由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成。如此设计所述板状部件，使之在展开状态下可形成一系列狭部，后者的长度对应于具有一内径部分的制品的直径。
该实施例的表面处理支承装置20适合于支承大量的具有一内径部分的制品。
由不锈钢板材制成的所述板状部件6、6被制成可开闭的对称板，其在一弹簧合页7的弹力作用下通常维持于折合状态。
在每一板状部件6上，沿其外侧沿，等距形成一系列槽8，从而在展开所述板状部件6、6时由相对的槽8形成一系列狭部9，每一狭部的长度对应于具有内径部分的制品Wb的内径L。
在图3A中，标号4a指示的是一个安装槽，用来将所述支承部件安装到下文将要描述的接纳部件上。利用该槽4a，所述支承部件可被拧到所述接纳部件上去。
这样，在所述板状部件6、6被折合起来的状态下，如图2A和图2B所示，具有一内径部分的制品Wb可被装上或取下。另外，所述板状部件6、6可以展开，如图3A和图3B所示，此时所述制品Wb就可以在其内径部分受到支承。应当注意，所述狭部9的长度可稍短于所述内径L，以便制品Wb可在被支承状态下进行一定程度的转动，从而改变支承(接触)位置。
图4所示的支承装置20已被固定到了下文将要说明的一个旋转装置50的接纳部件上。所述支承装置20相对的两端被置于所述接纳部件上，然后利用槽4a将所述支承装置20拧到所述接纳部件上。
III.表面处理支架的实施例
图5和图6示出了本发明的一种表面处理支架的实施例。在图5和图6中以标号30指示的所述表面处理支架为弹簧状管状结构，利用直径为1.6mm的不锈钢(SUS304)丝11制成，钢丝11的绕制是逆时针方向，留有间隔，并在相对的两端将钢丝11绕四匝，形成螺旋线状的端面12、12。在所述螺旋线端面12、12之间，以8.2mm的匝距绕制钢丝11。在所述螺旋线端面12的中央，通过紧绕所述钢丝11而形成一个中央部12a。
在该实施例中，所述弹簧状管状部分13相对的两端13a是不留间距地将钢丝11密集绕制四匝形成的。
钢丝11的绕制基本上留有间距，因此，可以透过所述间距进行表面处理，比如铝的气相沉积，而当支架30、30相互碰撞时，由于端部12a和13a是紧密绕制的，不会发生缠结的情况。
在该实施例中，进一步在所述弹簧状管状结构13的钢丝11上绕制防缠结弹簧14。
在上述实施例中，形成的是较长的管状结构，但如图7的变化实施例所示，也可以形成较短的管状结构。而且，钢丝可以绕制任意合适的匝数，以形成适合制品形状的任意尺寸和形状的支架。这种支架的设计使得制品可以被置于其中然后进行表面处理，同时在一笼状容器中绕其自身的轴线被旋转。
IV.表面处理设备的实施例
图8到图10示出了一种表面处理设备的一个实施例。所示的表面处理设备为铝的气相沉积设备。
见图8，在一蒸发皿支承座44上设置一系列用作蒸发源42的蒸发皿，每一个都是一个用来气相沉积铝材料的熔融蒸发区。所述蒸发皿支承座44在一真空室40下部的一支承架43上方，所述真空室40与一抽空系统(图中未示出)相连。铝丝45用作气相沉积的材料，其被绕制并保存在所述支承架43下方的进料卷取机46上，可连续馈送。所述铝丝45的前端由一抗热保护管47导引，该保护管朝向所述皿状蒸发源42的内表面。送料齿轮49、49安装在所述保护管47一部分上的一个触窗48处，因而与所述铝线45直接接触以输送之。通过所述送料齿轮的作用，所述铝线45可以被送入所述皿状蒸发源42。如此设定所述制品关于所述旋转轴线及制品自身的轴线的旋转方向，使它们相互间相对旋转，如图8中的箭头所示。
在所述真空处理室40中设置有两个旋转装置50、50，每一旋转装置用来旋转一个制品支承装置，使之绕其自身的轴线及一旋转轴线旋转。所述旋转装置50、50由一支承台50a上的旋转装置支架50b、50b支承，可在安装在所述旋转装置支架50b上的滚轴50c的驱动力的作用下旋转。
见图9，图中是用来绕所述旋转轴线旋转所述制品的一个驱动盘装置51，由该装置构成每一个所述旋转装置50。所述驱动盘装置设置在左侧，包括两个相隔一窄隙相对设置的盘52和53。如图9所示，一旋转扣齿链55沿着左侧环状盘52的内圆周安装在该左侧的环状盘52上，与一链轮54相啮合。这样，通过传递与一驱动马达56相连的所述链轮54的旋转，可绕一旋转轴线旋转所述旋转装置50。
见图9和图10，设置在中央的用来使制品绕其自身的轴线旋转的一个驱动盘装置61的结构是这样的：一个包括一扣齿链63的环状盘64夹在两个盘62、62之间。一从动盘装置71设置在所述旋转装置50的右端，由单个盘72构成。所述三个盘装置51、61和71由一旋转轴80连接起来，在旋转盘装置51的驱动下，所述盘装置61和71与所述驱动盘装置51同步旋转。
包括所述旋转扣齿链63的所述环状盘64由一固定臂65支承并不可旋转地固定，使之不随着盘64两侧的盘62、62的旋转而旋转。
可在轴承81中旋转的接纳部件82安装在左盘装置51和右盘装置71上。在所述中央旋转盘装置61的左右盘62、62的每侧外表面上，同样突出地安装有可在轴承81中同时旋转的接纳部件82。在连接所述接纳部件82的每个轴66的中央部分安装有一个链轮83，其与所述旋转扣齿链63相啮合，以使得每个接纳部件82随着所述两盘62、62的旋转而绕其各自的轴旋转。
这样，如果所述表面处理支承装置被夹持于所述接纳部件82、82之间，并给所述驱动马达56通以电流，则所述旋转盘装置61的两盘62、62及所述从动盘装置71就会随着旋转盘装置51的旋转而旋转，从而使得所述表面处理支承装置绕所述旋转轴线旋转。另外，与所述旋转扣齿链63相啮合的链轮83在所述旋转盘装置61的两盘62、62的旋转作用下而被旋转，因而使得所述接纳部件82被旋转，而所述安装在左右盘装置51和71上的接纳部件82可自由旋转，这样，即可使所述支承装置绕其自身的轴线旋转。
所述支承装置绕所述公共旋转轴线的旋转，以及绕其各自的轴线的旋转，均是由所述驱动马达56的驱动作用实现的，因此，仅所述驱动马达56的驱动轴56a要穿入所述真空处理室40。所以，所述真空处理室中可以维持高真空度，并可以缩短抽空时间。
在上述实施例中，构建了所述旋转装置50，以便所述支承装置可以绕所述公共旋转轴线及其自身的轴线旋转。另外，也可以如此构建所述旋转装置50，使得所述表面处理支承装置仅绕所述公共旋转轴线旋转，例如，可以取消所述旋转扣齿链63和所述链轮83。
再例如，如果所述旋转盘装置51、所述旋转盘装置61的两盘62、62和所述从动盘装置71被维持于固定状态，而仅转动包括所述链轮83的所述环状盘64，则仅有所述接纳部件82被转动，从而可使所述表面处理支承装置仅绕其自身的轴线旋转。
V.利用由可开闭的顶笼和底笼构成的表面处理支承装置进行表面处理的实施例
在上述实施例中，利用由所述可开闭的顶笼和底笼构成的所述表面处理支承装置进行了铝的气相沉积。
在美国专利第4 770 723号中所描述的尺寸为30mm×10mm×50mm的Nd-Fe-B稀土金属基磁体在此用作被处理的制品，利用前述气相沉积设备对之进行了铝的气相沉积。更为具体地，所述支承装置被置入所述设备中，然后将所述设备抽空到4×10-4乇。然后，向该设备中注入氩气(Ar)，并向所述支承装置施加-500V的电压，将所述磁体的表面清洗20分钟。然后，向所述支承装置施加-100V的电压，在所述制品上进行25分钟的气相沉积，形成厚10μm的铝膜，其间，加热所述蒸发皿以使铝汽化。在此，所述制品绕所述公共旋转轴线的转速为1.2转/分，所述制品绕其自身的轴线的转速为5转/分。在这样的条件下，气相沉积10μm厚的铝。结果，铝被均一地沉积到制品上，沉积在产品上的铝膜不会剥落，也不会导致产品的破损。
VI.利用由可开闭折合的板状部件构成的表面处理支承装置进行表面处理的实施例
在上述实施例中，利用由所述可开闭折合的板状部件构成的所述表面处理支承装置进行了铝的气相沉积。
在美国专利第4 770 723号中所描述的外径为39.5mm、内径为22mm、厚0.9mm的环状Nd-Fe-B稀土金属基磁体在此用作被处理的制品，利用前述气相沉积设备在同样的条件下对之气相沉积了10μm厚的铝膜，但气相沉积时间设定为15分钟。结果，铝被均一地沉积到制品上，沉积在产品上的铝膜不会剥落，也不会导致产品的破损。
VII.利用表面处理支架进行表面处理的实施例
在上述实施例中，利用所述支架(40×60mm)进行了铝的气相沉积。
在美国专利第4 770 723号中所描述的尺寸为30×10×50mm的Nd-Fe-B稀土金属基磁体在此用作被处理的制品，利用示于图11的气相沉积设备，在与前述利用由顶笼和底笼构成表面处理支承装置进行表面处理的实施例同样的条件下，对之气相沉积了10μm厚的铝膜，但所述笼状容器的转速为1.2转/分。结果，铝被均一地沉积到制品上，沉积在产品上的铝膜不会剥落，也不会导致产品的破损。
比较实施例
按照现有技术，将同样的制品置入所述笼状容器中，使之接受铝的气相沉积，而不使用本发明中的所述支架，结果是，铝在制品上的沉积虽然均一，但在制品的铝沉积表面上产生了一些疤痕，并出现了产品的破损现象，这导致产品合格率低至65％。
Claims (6)
1.一种用于在气相沉积设备中保持用于气相沉积的制品的制品支架，包括，一个管状的主体，所述主体的内直径尺寸构成适合保持所述制品，所述主体由连续绕制的丝状物制成，所述连续绕制的丝状物在相对的两端具有螺旋形卷绕的线圈并形成了末端封闭部分，以防止制品从其中取出，和一个在所述末端封闭部分之间延伸的中间部分，所述中间部分中具有以相互间隔的关系设置的线圈，从而限定了使保持在所述制品支架中的制品暴露出来以从支架外侧进行表面处理的空间。
2.如权利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主体总体是圆柱形的。
3.如权利要求1所述的制品支架，包括防止所述线圈与另一个制品支架的线圈缠结的装置，所述主体的所述中间部分包括围绕所述主体的线圈缠绕的小直径螺旋弹簧。
4.如权利要求1所述的制品支架，其特征在于，包括防止所述线圈与另一个制品支架的线圈缠结的装置，从而使得与每个相对端部相邻的所述主体的中间部分由许多相互之间没有间隙的许多线圈构成。
5.如权利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主体的所述末端部分由螺旋形线圈封闭，所述螺旋形线圈在所述末端部分的中央区域包括更加紧密的卷绕的线圈。
6.如权利要求1所述的制品支架，其特征在于，所述主体由不锈钢丝制成。
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