JP2877218B2 - 表面処理装置 - Google Patents

表面処理装置

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JP2877218B2
JP2877218B2 JP9366893A JP9366893A JP2877218B2 JP 2877218 B2 JP2877218 B2 JP 2877218B2 JP 9366893 A JP9366893 A JP 9366893A JP 9366893 A JP9366893 A JP 9366893A JP 2877218 B2 JP2877218 B2 JP 2877218B2
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玄一 中西
健史 和田
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は表面処理装置に関する
もので、更に詳細には、例えば磁気ディスク等の被処理
体を無電解メッキ処理する表面処理装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、アルミニウム製の磁気ディスクの
表面に例えばニッケル燐を被覆する場合、図4に示すよ
うに、被処理体であるディスク基板D(以下にディスク
という)を適宜間隔をおいて支持軸1に垂直状に支持
し、この支持軸1を対峙する吊持部材2間に横架させ、
そして、吊持部材2を下降させて処理槽であるメッキ槽
3内のメッキ液4にディスクDを浸漬して、ディスクD
の表面にメッキ処理を施している。このような表面処理
によれば、一度に多数枚のディスクDを同時に表面処理
することができる。なお、この例では中心に穴を有する
ドーナツ状のディスクを対象とする表面処理装置が示さ
れているが、中心に穴を有しないディスクの場合は、デ
ィスクを外接する複数本の支持軸によって支持すること
になる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の表面処理装置においては、支持軸1を対峙する
吊持部材2の対向する取付面に設けられた軸受5にスプ
リング6を介在させて取付けるか、あるいは、吊持部材
2の一方に保持孔を設け、支持軸1の端部を一旦保持孔
に嵌挿した後、支持軸1の他端を軸受5に係合させるな
どの方法で支持軸1を吊持部材2間に横架していた。し
たがって、支持軸1及びディスクDのセットが面倒であ
るという問題があった。また、メッキ処理中にスプリン
グ6や保持孔等にもメッキされるため、繰返して表面処
理を行う間にスプリング6等のメッキ部が剥離して粒子
状不純物(パーティクル)が発生し、この不純物がディ
スクDに付着して化学反応(ケミカルコンタミネーショ
ン)を起こして、磁気ディスクの特性や歩留まりの悪化
を招くという問題もあった。更に、ディスクDがメッキ
液4中に静止されているため、ディスク表面に均一なメ
ッキ膜を迅速に形成することが困難であった。
【0004】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、被処理体のセットが容易で、被処理体の表面に均一
な処理を迅速に施すことができ、かつ被処理体への不純
物等の付着を低減して歩留まりの向上が図れるようにし
た表面処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の表面処理装置は、対峙する吊持部材間に
複数の被処理体を間隔をおいて垂直状に支持した状態
で、処理液内に浸漬することにより、上記被処理体の表
面を処理する表面処理装置を前提とし、上記吊持部材の
対向する面に、円形状の回転保持板を回転可能に設け、
上記回転保持板の中心側に、上記被処理体と外接する第
一支持軸を回転可能に支持すると共に、上記回転保持板
の外周側に、上記被処理体と外接する第二支持軸を着脱
可能に保持する径方向外方に開口した軸受溝を設け、上
記回転保持板の少なくとも下部外周近傍位置に、上記第
二支持軸の落下防止兼用ガイドを配設し、上記回転保持
板の回転中心部に固定車を設けると共に、上記第一支持
軸に上記固定車と接して回転する従動車を設けたことを
特徴とするものである。
【0006】
【作用】上記のように構成されるこの発明の表面処理装
置によれば、回転保持板の軸受溝に第二支持軸を入れる
ことにより第一支持軸との間に被処理体を容易にセッ
トすることができる。第二支持軸は回転保持板の回転に
伴って落下防止兼用ガイドによって回転保持板の回転方
向に案内され、被処理体は固定車と接して回転する従動
車及び第一支持軸を介して自転しつつ公転して処理液中
を移動することにより被処理体の表面に均一な処理が
迅速に施される。
【0007】
【実施例】以下、この発明の一実施例を添付図面に基づ
いて詳述する。ここでは、この発明の表面処理装置をア
ルミニウム製磁気ディスクの無電解メッキ装置に適用し
た場合について説明する。また、従来の表面処理装置と
同じ部分には同一符号を付して説明する。
【0008】図1はこの発明の方面処理装置の第一実施
例の断面図、図2は図1のA−A断面図が示されてい
る。
【0009】この表面処理装置は、図示しない搬送機構
から垂下されて対峙する一対の吊持部材2を有し、両吊
持部材2の対向する面には、円形状の回転保持板7が支
軸8を介して垂直方向に回転可能に取付けられている。
上記支軸8の吊持部材2に嵌合する部分8aは断面矩形
に形成され、固定部材9を介して吊持部材2に固定され
ている。なお、支軸8をその矩形部分8aの角部が下方
に向くように取付ければ、メッキ槽3から引き上げる際
のメッキ液の液切れを良好にすることができる。回転保
持板7の中心部には上記支軸8に滑り軸受10を介して
回転可能に嵌合する中心孔11が形成され、回転保持板
7の外周部には歯部12が設けられている。上記回転保
持板7を回転駆動するために、上記吊持部材2には上記
回転保持板7の歯部12と噛合する伝達歯車13が軸1
4を介して回転可能に取付けられ、この伝達歯車13に
は駆動モータ15の駆動軸16に装着した駆動歯車17
が噛合されている。
【0010】上記対向する回転保持板7間に被処理体で
ある中心に穴を有しない複数枚のディスクDを間隔をお
いて回転可能に支持するために、回転保持板7間には
その中心側の例えば同心円上に位置してディスクDと外
接する第一支持軸18と、外周側に位置してディスクD
と外接する第二支軸19とが横架されて回転可能に支持
されている。この場合、第一支持軸18は回転保持板7
の周方向に所定間隔で複数本(実施例では4本)配置さ
れ、第二支持軸19は隣り合う第一支持軸18の中間に
位置するように回転保持板7の周方向に所定間隔で複数
本(図示例では4本)配置されており、隣り合う2本の
第一支持軸18とその中間に位置する1本の第二支持軸
19とによりディスクDが回転可能に支持されている。
これら第一及び第二支持軸18,19には軸方向に適宜
間隔で複数枚のディスクDを垂直状に配列するための環
状溝20が形成されている。
【0011】また、ディスクDのセットを容易にするた
めに、両回転保持板7の対向する面の外周側には第二支
持軸19の端部を着脱可能に保持するための径方向外方
に開口した軸受溝21が設けられている。なお、実施例
では軸受溝21を有する軸受片22を回転保持板7の内
面に取付けて構成されているが、回転保持板7の内面に
周方向に沿った外周面を有する凸状部を形成し、この凸
状部に軸受溝21を形成するようにしてもよい。
【0012】上記回転保持板7の外周近傍には軸受溝2
1からの上記第二支持軸19の落下を防止するための環
状の脱落防止兼用ガイド23が軸受溝21の外側を囲繞
するように配設され、このガイド23には斜め上方から
軸受溝21に対して第二支持軸19を出し入れするため
の出入口24が形成されている。このガイド23は吊持
部材2に固定ピン25をもって固定されている。なお、
ガイド23は少なくとも回転保持板7の下方部に配置さ
れていればよく、その場合には回転保持板7の上方部広
範囲で軸受溝21に対する第支持軸19の出入れが可
能となる。また、上記斜め上方に開口する出入口24は
ガイド23の反対側にも形成してもよく、その場合一方
を入口とし、他方を出口としてもよい。
【0013】一方、上記回転保持板7の回転中心部には
固定車26が設けられ、上記第一支持軸18には上記固
定車26と接して回転する従動車27が設けられてい
る。この場合、固定車26として上記一方の支軸8の内
端部には固定歯車が一体形成され、従動車27として第
一支持軸18には固定歯車と噛合する従動歯車が装着さ
れている。したがって、回転保持板7が回転すると、
二支持軸19がガイド23によって案内されつつ回転す
ると共に、従動歯車27が固定歯車26の外周を転動し
て第一支持軸18が回転し、これら第一支持軸18と第
二支持軸19の回転がディスクDに伝達され、ディスク
Dが自転しつつ公転することになる。なお、固定車26
及び従動車27は必ずしも歯車である必要はなく、例え
ば摩擦車であってもよい。
【0014】次に、以上のように構成された表面処理装
置の動作態様について説明する。まず、回転保持板7上
の軸受溝21をガイド23の出入口24に位置させて隣
り合う第一支持軸18上にディスクDを並べて載置し、
支持軸19をガイド23の出入口24から上記軸受
溝21に落し込むように入れる。回転保持板7を所定角
度(90°)回転しては上記のようにディスクDと第二
支持軸19のセットを行う。
【0015】このようにしてディスクDをセットしたも
のを図示しない搬送機構によって洗浄槽あるいは所定の
薬品槽に浸漬して前処理を行った後、メッキ槽3の上方
へ移動する。そして、吊持部材2を下降させてディスク
Dをメッキ槽3内のメッキ液4中に浸漬した後、駆動モ
ータ15を駆動すると、その回転が伝達歯車13を介し
て回転保持板7に伝達され、回転保持板7が垂直方向に
回転する。この回転保持板7の回転に伴って第二支持軸
19がガイド23によって案内されつつ回転する一方、
固定歯車26上を転動する従動歯車27を介して第一支
持軸18が回転し、これら第一支持軸18及び第二支持
軸19の回転によりディスクDが回転する。したがっ
て、ディスクDは自転しつつ公転してメッキ液4中を移
動するので、ディスクDの表面に均一な膜厚のメッキを
迅速に施すことができる。なお、ディスクDの公転中、
ディスクDが第一支持軸18の下方に位置したときには
第一支持軸18とディスクDとの間に隙間が生じてディ
スクDが一時的に自転し難くなるが、処理上問題はな
い。
【0016】このようにして、メッキ処理が行われた
後、吊持部材2がメッキ槽3から引き上げられ、次の処
理工程へ搬送される。なおこの際、吊持部材2の下端面
に設けられた傾斜面2aによってメッキ槽3から吊持部
材が引き上げられるときのメッキ液の液切れを良好にす
ることができる。そして、最終処理が施された後、上述
した手順とは逆の手順で第二支持軸19及びディスクD
が取外される。
【0017】図3はこの発明の第二実施例を示してい
る。この第二実施例の表面処理装置は、上記第一実施例
のディスクよりも直径の小さいディスクDをセットする
ように構成されている。すなわち、上記第一実施例では
第二支持軸19が隣り合う第一支持軸18の中間に配置
されているのに対し、この第二実施例では第二支持軸1
9が第一支持軸18と半径方向で対向する位置に配置さ
れている。したがって、その第二支持軸19の位置に軸
受溝21が配設されている(図示省略)。
【0018】また、両回転保持板7間には第一及び第二
支持軸18,19間に支持されるディスクDの両側部を
支持するように第三支持軸28が横架されて回転可能に
支持されており、上記第一実施例ではディスクが3点で
支持されているのに対してこの第二実施例ではディスク
Dが4点で支持されている。なお、第二実施例におい
て、その他の部部は上記第一実施例と同じであるので、
同一部分に同一符号を付してその説明は省略する。
【0019】なお、上記実施例では、駆動モータ15か
ら歯車機構を介して回転保持板7に回転を伝達する場合
について説明したが、その手段は必ずしも歯車伝達機構
である必要はなく、例えばワイヤ等の索条を用いて回転
を行うようにしてもよい。また、上記実施例では、この
発明の表面処理装置を中心に穴を有しない円盤状の磁気
ディスクの無電解メッキ処理の場合について説明した
が、被処理体は必ずしも円盤状の磁気ディスクである必
要はなく、中心に穴を有するドーナツ状であってもよ
い。また、磁気ディスク以外のLDあるいはCD等の被
処理体のメッキ処理あるいはメッキ以外の表面処理にお
いても適用できることは勿論である。
【0020】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明の表面
処理装置によれば、上記のように構成されているので、
以下のような効果が得られる。
【0021】1)対峙する吊持部材の対向する面に、円
形状の回転保持板を回転可能に設け、その回転保持板の
中心側に被処理体と外接する第一支持軸を設け、回転保
持板の外周側に径方向外方に開口して設けられた軸受
溝に第支持軸を入れて上記第一支持軸と第二支持軸と
の間で被処理体を支持するようにしたので、多数枚の被
処理体のセットを容易に行うことができる。
【0022】2)回転保持板の回転中心部に固定車を設
け、第一支持軸に上記固定車と接して回転する従動車を
設けたので、回転保持板の回転に伴って被処理体が処理
液中を自転しつつ公転移動するようになり、被処理体の
表面に均一な処理を迅速に施すことができ、処理能力の
向上が図れる。
【0023】3)回転保持板の外周側に径方向外方に開
口して設けられた軸受溝で第支持軸を受けて回転保持
板の少なくとも下部外周近傍位置に配設された落下防止
兼用ガイドで第二支持軸を案内するようにしたので、ス
プリングで支持軸を保持するものと異なり、パーティク
ル等の不純物の発生が少なく、被処理体への不純物の付
着を減少でき、歩留まりの向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の表面処理装置の第一実施例の断面図
である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】この発明の表面処理装置の第二実施例の断面図
である。
【図4】従来の表面処理装置の一例を示す概略断面図で
ある。
【符号の説明】
D ディスク(被処理体) 2 吊持部材 4 メッキ液(処理液) 7 回転保持板 18 第一支持軸 19 第二支持軸 21 軸受溝 23 落下防止用ガイド 26 固定車 27 従動車

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対峙する吊持部材間に複数の被処理体を
    間隔をおいて垂直状に支持した状態で、処理液内に浸漬
    することにより、上記被処理体の表面を処理する表面処
    理装置において、 上記吊持部材の対向する面に、円形状の回転保持板を回
    転可能に設け、 上記回転保持板の中心側に、上記被処理体と外接する第
    一支持軸を回転可能に支持すると共に、 上記回転保持板の外周側に、上記被処理体と外接する第
    二支持軸を着脱可能に保持する径方向外方に開口した軸
    受溝を設け、 上記回転保持板の少なくとも下部外周近傍位置に、上記
    第二支持軸の落下防止兼用ガイドを配設し、 上記回転保持板の回転中心部に固定車を設けると共に、 上記第一支持軸に上記固定車と接して回転する従動車
    を設けたことを特徴とする表面処理装置。
JP9366893A 1993-03-29 1993-03-29 表面処理装置 Expired - Lifetime JP2877218B2 (ja)

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JPH06280037A JPH06280037A (ja) 1994-10-04
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JP3192642B2 (ja) * 1998-10-02 2001-07-30 住友特殊金属株式会社 表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法
US7498062B2 (en) * 2004-05-26 2009-03-03 Wd Media, Inc. Method and apparatus for applying a voltage to a substrate during plating

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JPH06280037A (ja) 1994-10-04

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Effective date: 19981225