JP2877217B2 - 表面処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は表面処理装置に関する
もので、更に詳細には、例えば磁気ディスク等の被処理
体を無電解メッキ処理する表面処理装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、アルミニウム製の磁気ディスクの
表面に例えばニッケル燐を被覆する場合、図７に示すよ
うに、被処理体であるドーナツ状のディスク基板Ｄ（以
下にディスクという）を適宜間隔をおいて支持軸１に垂
直状に支持し、この支持軸１を対峙する吊持部材２間に
横架させ、そして、吊持部材２を下降させて処理槽であ
るメッキ槽３内に貯留されたメッキ液４にディスクＤを
浸漬して、ディスクＤの表面にメッキ処理を施してい
る。このような表面処理によれば、一度に多数枚のディ
スクＤを同時に表面処理することができ、また、吊持部
材２を図示しない駆動手段にて上下（あるいは水平）に
振動させることにより、ディスク表面に均一なメッキ膜
を形成することができる。更に、複数本の支持軸１を同
時に吊持部材間に横架して、上述と同様に処理を行うこ
とにより、更に効率良く多数枚のディスクＤを処理する
ことができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の表面処理装置においては、支持軸１を対峙する
吊持部材２の対向する取付面に設けられた軸受５にスプ
リング６を介在させて取付けるか、あるいは、吊持部材
２の一方に保持孔を設け、支持軸１の端部を一端保持孔
に嵌挿した後、支持軸１の他端を軸受５に係合させるな
どの方法で支持軸１を吊持部材２間に横架するため、メ
ッキ処理中にスプリング６や保持孔等にもメッキされ
る。したがって、繰返して表面処理を行う間にスプリン
グ６等のメッキ部が剥離して粒子状不純物（パーティク
ル）が発生し、この不純物がディスクＤに付着した化学
反応（ケミカルコンタミネーション）を起こして、磁気
ディスクの特性や歩留まりの悪化を招くという問題があ
った。

【０００４】また、吊持部材２を上下動（あるいは水平
動）することによってディスクＤを固定した場合に較べ
てディスク表面とメッキ液との接触を多くすることがで
きるが、方向が一定な上下動（あるいは水平動）である
ため、ディスクＤの全面に均一にメッキを施しがたいと
いう問題があった。更には、支持軸１及びディスクＤの
セットが面倒であるという問題があった。

【０００５】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、被処理体への不純物等の付着を低減して歩留まりの
向上を図れるようにし、かつ被処理体の表面処理を均一
に行えるようにした表面処理装置を提供することを目的
とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の表面処理装置は、対峙する吊持部材間に
複数の被処理体を間隔をおいて垂直状に支持した状態
で、処理液内に浸漬することにより、上記被処理体の表
面を処理する表面処理装置において、 複数の上記被処
理体を間隔をおいて垂直状に支持する支持軸と、 上記
吊持部材に固定される円形案内体と、 上記円形案内体
と同心上にあって回転可能な回転保持体と、 上記回転
保持体の外周部に、上記支持軸を着脱及び回転可能に嵌
挿すべく放射方向に開口する支持軸保持溝と、 上記支
持軸に固着されて上記円形案内体に係合して転動する回
転子と、 上記回転保持体の外周部における上記支持軸
保持溝間に設けられる放射方向に開口する補助支持軸保
持溝と、 上記補助支持軸保持溝に着脱及び回転可能に
嵌挿され、軸方向に、隣接される上記支持軸に支持され
る上記被処理体を間隔をおいて保持する間隔保持溝を列
設する補助支持軸と、 上記回転保持体の少なくとも下部
側近傍位置に配設される上記支持軸及び保持支持軸の落
下防止兼用ガイドと、を具備してなることを特徴とする
ものである。

【０００７】この発明において、上記円形案内体と回転
子とは互いに係合して回転子が転動するものであれば、
例えば円形案内体と回転子とを互いに接触して摩擦力に
よって回転する摩擦円盤等にて形成することも可能であ
るが、好ましくは円形案内体を太陽歯車にて形成し、回
転子を太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成する方がよ
い。

【０００８】

【作用】上記のように構成されるこの発明の表面処理装
置によれば、回転可能な回転保持体の外周方向に設けら
れた支持軸保持溝に支持軸を回転可能に嵌挿し、支持軸
に固着される回転子を回転保持体と同心上に固定された
回転案内体に係合することにより、多数枚の被処理体を
支持した支持軸を容易にセットすることができる。ま
た、回転保持体の回転（公転）に伴って支持軸が落下防
止兼用ガイドによって案内されつつ移動することにより
支持軸が回転（自転）することができ、支持軸の回転に
伴って回転（自転）する被処理体の表面に処理液が均一
に接触されて処理することができる。

【０００９】また、補助支持軸保持溝に着脱及び回転可
能に嵌挿される補助支持軸の軸方向に、隣接する支持軸
に支持される被処理体を間隔をおいて保持する間隔保持
溝を列設することにより、被処理体を間隔をおいて確実
に支持することができるので、小径で軽量な被処理体で
あっても、処理液内の移動中に浮遊して隣接間で接触す
ることがなく、表面処理を確実に行うことができる。

【００１０】この場合、円形案内体を太陽歯車にて形成
し、回転子を太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成する
ことにより、支持軸の回転（自転）を更に確実にするこ
とができ、被処理体の表面処理を更に均一にすることが
できる。

【００１１】

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、この発明の表面処理装置をアル
ミニウム製磁気ディスクの無電解メッキ装置に適用した
場合について説明する。また、従来の表面処理装置と同
じ部分には同一符号を付して説明する。

【００１２】図１はこの発明の表面処理装置の第一実施
例の概略側断面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図、図３は
第一実施例の要部の概略斜視図、図４はこの発明におけ
る被処理体と支持軸を示す斜視図、図５はこの発明の第
二実施例の概略側面図、図６は図５のＢ−Ｂ線に沿う拡
大断面図である。

【００１３】この発明の表面処理装置は、図示しない搬
送機構から垂下されて対峙する一対の吊持部材２の対向
する面に取付けられる垂直方向に回転可能な回転保持体
１０と、吊持部材２に固定されると共に、回転保持体１
０と同軸上の円形案内体である太陽歯車３０と、両回転
保持体１０の外周部に略等間隔に設けられる放射方向に
開口する複数（図２及び図３では８個の場合を示す。）
の支持軸保持溝１２（以下に保持溝という）と、支持軸
保持溝１２に着脱及び回転可能に嵌挿されると共に多数
の被処理体であるディスクＤを適宜間隔をおいて垂直状
に支持する支持軸１と、この支持軸１に固着されると共
に太陽歯車３０に係合（噛合）する回転子である遊星歯
車３１と、回転保持体１０の外周近傍位置に配設されて
支持軸１の落下を防止するための落下防止兼用ガイド２
０（以下にガイドという）とを具備してなる。

【００１４】また、上記両回転保持体１０の外周部にお
ける保持溝１２の間には、保持溝１２と同様に放射方向
に開口する補助支持軸保持溝１２Ａ（以下に補助保持溝
という）が等間隔に形成されている（図３参照）。これ
ら補助保持溝１２Ａには、補助支持軸４０が着脱及び回
転可能に嵌挿されている。そして、補助支持軸４０の軸
方向に列設された間隔保持溝４１内に、隣接する支持軸
１に支持される各ディスクＤを位置させて、ディスクＤ
間の間隔を保持させながらディスクＤを公転及び自転さ
せている。なおこの場合、補助保持溝１２Ａは、処理す
るディスクＤを支持する支持軸１の本数と同数が設けら
れている｛図２及び図３では８個の補助保持溝１２Ａが
設けられ、図５では１６個の補助保持溝（図示せず）が
設けられている。｝。

【００１５】なお、吊持部材２、回転保持体１０及びガ
イド２０はメッキされ難い合成樹脂製部材にて形成され
ており、支持軸１はステンレス鋼製軸の表面を合成樹脂
にて被覆した構造となっている。

【００１６】この場合、上記回転保持体１０は、外周面
に歯部１１が設けられており、吊持部材２に貫通固定さ
れる軸１３にベアリング１４を介して回転可能に装着さ
れている。この回転保持体１０には伝達機構を構成する
第１の伝達歯車１５が噛合し、この第１の伝達歯車１５
に第２の伝達歯車１６を介して駆動モータ１７の駆動軸
１８に装着された駆動歯車１９が噛合されている。した
がって、駆動モータ１７の回転により、駆動歯車１９、
第２の伝達歯車１６及び第１の伝達歯車１５を介して回
転保持体１０が垂直方向に回転することができる。

【００１７】また、上記軸１３の先端は吊持部材２の対
向する面側に突出する断面四角形状に形成されており、
この断面四角部１３ａに太陽歯車３０が回転が阻止され
た状態で固着されており、この太陽歯車３０に、支持軸
１に固着された遊星歯車３１が噛合し得るようになって
いる。なおこの場合、軸１３の断面四角部１３ａの辺を
垂直方向に傾斜させることによって、軸１３に対するメ
ッキ液４の液切れを良好にすることができる。

【００１８】上記支持軸１には軸方向に沿って等間隔に
小径部１ａが設けられており、この小径部１ａにディス
クＤが係止されることにより、複数のディスクＤを間隔
をおいて垂直状に支持することができる（図４参照）。

【００１９】また、上記ガイド２０は、図２に示すよう
に、上部左右に９０°の角度をおいて上記保持溝１２と
合致する位置に開口溝２１を設け、それ以外の部分が回
転保持体１０の外周部近傍位置に配設されるように吊持
部材２に固定ピン２２をもって固定される（図２参
照）。したがって、回転保持体１０の回転に伴って垂直
方向に移動する支持軸１が下方に位置した際に保持溝１
２から脱落するのをガイド２０によって防止することが
できる。なおこの場合、開口溝２１が左右２箇所に設け
られているが、必ずしも開口溝２１は左右２箇所に設け
る必要はなく、少なくとも１箇所設けておけばよい。ま
た、ガイド２０は少なくとも回転保持体１０の下方部に
配設しておけばよい。

【００２０】次に、この発明の表面処理装置の動作態様
について説明する。まず、支持軸１に所定枚数のディス
クＤを予め支持しておき、このディスクＤを支持した支
持軸１をガイド２０の開口溝２１から回転保持体１０の
保持溝１２に落し込むように嵌挿すると共に、遊星歯車
３１を太陽歯車３０に係合（噛合）した後、回転保持体
１０を所定角度（図２及び図３では４５°、図５の場合
は２２°）回転しながら、順次他の支持軸１を保持溝１
２に嵌挿して、両回転保持体１０間に８本あるいは１６
本の支持軸１を横架してディスクＤのセットを行う。こ
のようにして、ディスクＤを垂直状に配置した後、同様
に回転保持体１０を所定角度（図２及び図３では４５
°、図５の場合は２２°）回転して補助保持溝１２Ａに
補助支持軸４０を嵌挿すると共に、間隔保持溝４１内
に、隣接する支持軸１に支持される各ディスクＤを位置
させることにより、ディスクＤの間隔を確実に保持す
る。

【００２１】上記のようにしてディスクＤをセットした
ものを図示しない搬送機構によって洗浄槽あるいは所定
の薬品槽に浸漬して前処理を行った後、メッキ槽３の上
方へ移動する。そして、吊持部材２を下降させて回転保
持体１０、支持軸１、補助支持軸４０及びディスクＤを
メッキ槽３内のメッキ液４中に浸漬した後、駆動モータ
１７を駆動すると、駆動モータ１７の回転が駆動歯車１
９、第２の伝達歯車１６及び第１の伝達歯車１５を介し
て回転保持体１０に伝達されて回転保持体１０が垂直方
向に回転（公転）する。この回転保持体１０の回転（公
転）に伴って支持軸１に固着された遊星歯車３１が太陽
歯車３０上を転動して回転（自転）する。この際、補助
支持軸４０に列設された間隔保持溝４１内に、隣接する
支持軸１に支持される各ディスクＤが位置されるので、
ディスクＤ間の間隔が保持された状態で、ディスクＤは
公転及び自転される。なお、支持軸１及び補助支持軸４
０は、ガイド２０によって案内されつつ移動されるの
で、支持軸１、補助支持軸４０及びディスクＤは落下す
ることがない。

【００２２】したがって、ディスクＤはメッキ液４中を
浮遊して支持軸１の小径部１ａから外れて隣接するディ
スクＤと接触することなく、支持軸１に支持されている
ディスクＤは公転しながら自転してメッキ液４中を移動
するので、ディスクＤの表面に均一な膜厚のメッキを施
すことができる。

【００２３】上記のようにして、メッキ処理が行われた
後、吊持部材２が上昇してメッキ槽３から引き上げら
れ、次の処理工程へ搬送される。なおこの際、吊持部材
２の下端面に設けられた傾斜面２ａによってメッキ槽３
から吊持部材２が引上げられるときのメッキ液の液切れ
を良好にすることができる。そして、最終処理が施され
た後、上述した支持軸１のセットの手順と逆の手順にて
支持軸１が回転保持体１０から取外される。

【００２４】なお、上記実施例では、回転保持体１０の
回転を駆動モータ１７から歯車伝達機構を介して回転保
持体１０に回転を伝達する場合について説明したが、回
転手段としての伝達機構は必ずしも歯車伝達機構である
必要はなく、例えばワイヤ等の索条を用いて回転を行う
ようにしてもよい。また、上記実施例では、この発明の
表面処理装置を磁気ディスクの無電解メッキ処理の場合
について説明したが、磁気ディスク以外のドーナツ状の
ディスク等の被処理体のメッキ処理あるいはメッキ以外
の表面処理においても適用できることは勿論である。

【００２５】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の表面
処理装置によれば、上記のにように構成されているの
で、以下のような効果が得られる。

【００２６】１）請求項１記載の表面処理装置によれ
ば、回転可能な回転保持体の外周方向に設けられた支持
軸保持溝に支持軸を回転可能に嵌挿し、支持軸に固着さ
れた回転子を回転保持体と同心上に固定された回転案内
体に係合するので、多数枚の被処理体を支持した支持軸
を容易にセットすることができる。また、支持軸の支持
部の接触面積を少なくすることができるので、被処理体
へのパーティクル等の不純物の付着を少なくすることが
でき、歩留まりの向上を図ることができる。更に、被処
理体を公転しつつ自転することができるので、被処理体
の表面に処理液を均一に接触して処理することができる
と共に、処理精度の向上を図ることができる。また、補
助支持軸保持溝に着脱及び回転可能に嵌挿される補助支
持軸の軸方向に、隣接する支持軸に支持される各被処理
体を間隔をおいて保持する間隔保持溝を列設するので、
被処理体を間隔をおいて確実に支持することができ、小
径で軽量な被処理体の表面処理を確実に行うことができ
る。

【００２７】２）請求項２記載の表面処理装置によれ
ば、円形案内体を太陽歯車にて形成し、回転子を太陽歯
車に噛合する遊星歯車にて形成するので、被処理体の回
転（自転）を更に確実にして被処理体の表面処理を更に
均一にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の表面処理装置の第一実施例の概略側
断面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。

【図３】この発明の要部を示す概略斜視図である。

【図４】第一実施例における被処理体と支持軸を示す斜
視図である。

【図５】この発明の表面処理装置の第二実施例の概略側
面図である。

【図６】図５のＢ−Ｂ線に沿う拡大断面図である。

【図７】従来の表面処理装置の一例を示す概略断面図で
ある。

【符号の説明】

Ｄ ディスク（被処理体） １ 支持軸 ２ 吊持部材 ３ メッキ槽（処理槽） ４ メッキ液（処理液） １０ 回転保持体 １２ 保持溝（支持軸保持溝） １２Ａ 補助保持溝（補助支持軸保持溝） ２０ 落下防止兼用ガイド ３０ 太陽歯車（円形案内体） ３１ 遊星歯車（回転子） ４０ 補助支持軸 ４１ 間隔保持溝

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対峙する吊持部材間に複数の被処理体を
   間隔をおいて垂直状に支持した状態で、処理液内に浸漬
   することにより、上記被処理体の表面を処理する表面処
   理装置において、複数の上記被処理体を間隔をおいて垂直状に支持する支
   持軸と、 上記吊持部材に固定される円形案内体と、 上記円形案内体と同心上にあって回転可能な回転保持体
   と、 上記回転保持体の外周部に、上記支持軸を着脱及び回転
   可能に嵌挿すべく放射方向に開口する支持軸保持溝と、 上記支持軸に固着されて上記円形案内体に係合して転動
   する回転子と、 上記回転保持体の外周部における上記支持軸保持溝間に
   設けられる放射方向に開口する補助支持軸保持溝と、 上記補助支持軸保持溝に着脱及び回転可能に嵌挿され、
   軸方向に、隣接される上記支持軸に支持される上記被処
   理体を間隔をおいて保持する間隔保持溝を列設する補助
   支持軸と、 上記回転保持体の少なくとも下部側近傍位置に配設され
   る上記支持軸及び保持支持軸の落下防止兼用ガイドと、
   を具備して なることを特徴とする表面処理装置。
2. 【請求項２】 円形案内体を太陽歯車にて形成し、回転
   子を上記太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成してなる
   ことを特徴とする請求項１記載の表面処理装置。