JPH0343232Y2 - - Google Patents

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JPH0343232Y2
JPH0343232Y2 JP1987150601U JP15060187U JPH0343232Y2 JP H0343232 Y2 JPH0343232 Y2 JP H0343232Y2 JP 1987150601 U JP1987150601 U JP 1987150601U JP 15060187 U JP15060187 U JP 15060187U JP H0343232 Y2 JPH0343232 Y2 JP H0343232Y2
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JP
Japan
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substrate
holder
pallet
holding mechanism
circular opening
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JP1987150601U
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JPS6453755U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、基板に自転・公転を与えながら処理
するスパツタリング装置における基板保持機構に
関するものである。
(従来技術とその問題点) 磁気デイスク、光デイスク等の基板表面に薄膜
をスパツタリング法によつて形成する方法とし
て、スパツタリング処理中、基板を自転・公転さ
せる方法がある。
すなわち、パレツトに設けた複数の円形開口部
の各内周面部に環状凹溝を形成し、この環状凹溝
内にドーナツ状基板を位置させ、パレツトを垂直
状態に保持して回転することにより、基板を自
転・公転させながらスパツタリング処理を行うも
のである。
ところで、前記のように、基板をパレツトの円
形開口部の環状凹溝を介して保持すると、スパツ
タリング処理中に、基板の外周縁部に形成された
薄膜あるいは凹溝内壁部に形成された薄膜が、基
板と環状凹溝との摩擦により剥離してダストとな
つて基板に付着し、薄膜の欠陥になるという問題
点を有していた。さらに、環状凹溝を介して直接
基板を保持する関係上、基板自体の自転速度に限
界があり、必要な自転数が確保できないという問
題点を有していた。
したがつて、本考案は、基板を簡単な構成から
なる保持機構を介してパレツトの円形開口部に装
着することにより、前記従来の問題点を解決する
ことのできる自転・公転式スパツタリング装置に
おける基板保持機構を提供することを目的とす
る。
(問題点を解決すべき手段) 本考案は、前記目的を達成するために、自転・
公転式スパツタリング装置におけるドーナツ状基
板保持機構を、パレツトに設けた円形開口部に掛
け渡した支持部材と、この支持部材に設けた係合
部材と、外周に前記基板の開口縁部を保持する保
持部材を備えたホルダーとからなり、前記係合部
材とホルダーとを遊嵌状態で、かつ、回転自在に
取り付けた構成としたものである。
(実施例) つぎに、本考案の一実施例を添付図面にしたが
つて説明する。
第1図は、自転・公転式マグネトロン・スパツ
タリング装置の概略を示し、1は処理室で、この
処理室1の両側壁2には、パレツト回転装置3が
設けられており、同一円周上に多数の基板Wを下
記する保持機構7で保持したパレツト4が、その
軸部5を前記パレツト回転装置3により接離可能
に支持され、かつ、回転可能となつている。
また、前記両側壁2に基板Wと対面するよう
に、複数のスパツタリング電極20が放射状に配
置されている。
前記保持機構7は、第2図にしめすように、パ
レツト4に設けた複数の円形開口部6に掛け渡し
て取り付けた支持部材8と、係合部材9と、保持
部材15を備えたホルダー12とからなる。
そして、前記係合部材9は、円形頭部10と軸
部11とからなり、前記支持部材8に適宜取り付
けられ、円形開口部6の中心に位置する。
前記ホルダー12は、前記係合部材9の円形頭
部10と軸部11とが遊嵌状態で位置するよう
に、大径部14aと小径部14bとからなる孔部
14を中心に有するとともに、外周部にスプリン
グ式クリツプからなる保持部材15を備えた円板
状のホルダー本体13と蓋体16とからなり、ホ
ルダー本体13の孔部14を係合部材9の円形頭
部10と軸部11とに遊嵌合するとともに、蓋体
16をホルダー本体13に取り付けることによ
り、ホルダー12を係合部材9に回転自在に遊嵌
する。
前記構成において、ドーナツ状基板Wをスパツ
タリング処理するには、ドーナツ状基板Wの開口
Hを前記保持部材15の凹所15aに嵌合するこ
とにより基板Wをパレツト4の開口部6に固定装
置する。
そして、パレツト回転装置3によりパレツト4
の軸部5を挾持して回転させるものである。
この場合、基板Wはホルダー12と係合部材9
とを介してパレツト4の円形開口部6に設けた支
持部材8に回転自在に保持されているので、パレ
ツト4の回転につれてホルダー12が逆方向に自
転することになり、その結果、基板Wは自転・公
転しながらスパツタリングされることになる。
第3図は、本考案の第2実施例で、前記係合部
材9の孔部17を、前方に開口する小径部17a
とこれに続く大径部17bとで構成し、ホルダー
12を、一方に前記保持部材15を有する本体1
2aと、他方に前記係合部材9の大径部17bに
回転自在に遊嵌合する円板部12bと、これを連
結する軸部12cからなり、ホルダー12の一方
が係合部材9に遊嵌合することにより、パレツト
4の回転により前記同様基板Wを自転・公転する
ようになつている。
なお、保持部材15は、スプリング式クリツプ
に限らず、マグネツトチヤツクあるいはツイスト
ロツク方式であつてもよい。
(考案の効果) 以上の説明で明らかなように、本考案によれ
ば、基板は、ホルダーに直接固定支持され、か
つ、このホルダーを円形開口部のほぼ中心部に設
けた係合部材に遊嵌状態で回転自在に装着してい
るため、スパツタリング中に基板表面に堆積され
た薄膜が、剥離してダストとして飛散することが
ない。さらに、基板の自転速度は遊嵌合する係合
部の径を選択することにより容易に変更できる。
なお、基板をホルダーに装着する手段として、
実施例のようにスプリング式クリツプを使用すれ
ば、基板の着脱も極めて容易に行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の基板保持機構を備えたスパツ
タリング装置の概略図で、第2図は第1図におけ
る基板保持機構の詳細拡大断面図で、第3図は他
の実施例である。 3〜パレツト回転装置、4〜パレツト、6〜円
形開口部、7〜保持機構、8〜支持部材、9〜係
合部材、13〜ホルダー、15〜保持部材、H〜
開口、W〜基板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 垂直状態の回転パレツトに設けた円形開口部
    に、ドーナツ状基板を保持し、この基板を自転・
    公転させながら処理するスパツタリング装置にお
    ける基板保持機構において、前記基板保持機構
    を、前記回転パレツトの円形開口部に掛け渡した
    支持部材と、この支持部材に設けた係合部材と、
    外周に前記基板の開口縁部を着脱可能に保持する
    保持部材を備えたホルダーとから構成し、前記係
    合部材とホルダーとを遊嵌状態で、かつ、回転自
    在に取り付けてなるスパツタリング装置における
    ドーナツ状基板保持機構。
JP1987150601U 1987-09-30 1987-09-30 Expired JPH0343232Y2 (ja)

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JP1987150601U JPH0343232Y2 (ja) 1987-09-30 1987-09-30

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JP1987150601U JPH0343232Y2 (ja) 1987-09-30 1987-09-30

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Publication Number Publication Date
JPS6453755U JPS6453755U (ja) 1989-04-03
JPH0343232Y2 true JPH0343232Y2 (ja) 1991-09-10

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ID=31423892

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56598U (ja) * 1979-06-16 1981-01-06

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61125170U (ja) * 1984-10-12 1986-08-06

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56598U (ja) * 1979-06-16 1981-01-06

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JPS6453755U (ja) 1989-04-03

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