JPH03225620A - 磁気ディスク用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は外部記憶装置に使用される磁気ディスクの基板
に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の磁気ディスク基板は、第２図（ａ）及び
同図（ｂ）に示すように、中央部に穴を有する円板であ
って、例えば、その両面に同時にスパッタ処理を行う場
合、基板１ｂの外周部をＶ溝を設けたスパッタ装置の保
持部２ｂで保持していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の磁気ディスク基板は、その保持のための
処理が基板１ｂ自体に施されることがなく、スパッタ装
置の保持部２ｂにＶ溝を設けるため、保持部が影となっ
て、磁気ディスク表面の外側に一部スバッタ処理されな
い影となる部分４ができる欠点がある。特に高密度用磁
気ディスクの場合、外周−杯まで使用領域を広げる必要
があるため、このような欠点は大きな問題となる。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、外部記憶装置に使用される磁気ディスクの基
板において、前記基板の外周側面にＶ型溝を有している
。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図（ａ）及び同図（ｂ）は本発明の一実施例をそれ
ぞれ示す正面図及びＡ−Ａ線断面図である。第１図（ａ
）及び同図（ｂ）において、基板１ａは、外周側面にＶ
溝３を有している。スバッ夕装置の保持部２ａは、本発
明の場合、その先鰯部を山形にすることが可能である。

基板１をこＣスパッタ装置の保持部２ａにセットし、ス
パッタ処理を実施すると、スパッタリングの方向５は１
板１ａの外周部においても何らスパッタ装置のへ持部２
ａの影響を受けることなく、所望の処理を行うことがで
きる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、基板外周側面にＶ溝を設
けることにより、スパッタ処理時に保撓部の影を発生さ
せない保持部形状を採用することが可能となり、外周−
杯に均一なスパッタ処理を施すことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）及び同図（ｂ）は本発明の基板とスパッタ
装置との関係を示す正面図及びＡ−Ａ線断面図、第２図
（ａ）及び同図（ｂ）は従来の基板とスパッタ装置との
関係を示す正面図及びＢ−Ｂ線断面図である。 １ａｌｌｂ・・・基板、２ａ、２ｂ・・・スパッタ装置
の保持部、３・・・Ｖ溝、４・・・影となる部分、５・
・・スパッタリングの方向。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 外部記憶装置に使用される磁気ディスクの基板において
   、前記基板の外周側面にＶ型溝を有することを特徴とす
   る磁気ディスク用基板。