JPH05101367A

JPH05101367A - 磁気デイスクおよび基板ホルダー

Info

Publication number: JPH05101367A
Application number: JP26035791A
Authority: JP
Inventors: Fumio Fukazawa; 文雄深澤; Makoto Watanabe; 真渡辺; Masahiro Takagi; 將宏高木; Kazunori Tsuchiya; 和憲土屋; Kazutoshi Suzuki; 和敏鈴木
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1991-10-08
Filing date: 1991-10-08
Publication date: 1993-04-23

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ディスク装置における磁気記録媒体として
使用される磁気ディスクおよび基板ホルダーに関し、磁
気ディスクの製造工程や運搬工程などにおいて、基板の
外周側が成膜不足となったり、傷ついたりするのを防止
可能とすることを目的とする。【構成】非磁性の基板に磁性膜を形成して情報を磁気的
に記録する磁気ディスクにおいて、磁気ディスクを構成
する基板１の外周と内周のうち、少なくとも外周に、周
方向の溝14を形成し、磁気ディスクの製造工程や運搬工
程などにおいて基板１を支持する基板ホルダーＨには、
該溝14に嵌入できる爪16、16ａを設け、該爪16、16ａが
前記基板外周の溝14に嵌入するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】コンピュータシステムにおける外
部記憶装置として、磁気ディスク装置が用いられるが、
本発明は磁気ディスク装置における磁気記録媒体として
使用される磁気ディスクおよび基板ホルダーに関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は薄膜型磁気ディスクの製造方法を
工程順に示す断面図である。１はアルミニウムなどの非
磁性体からなるドーナツ状の基板であり、その上に形成
されたNiＰメッキ下地層２の上に、工程(1) において、
回転している非磁性基板の板面に研摩テープを押し当て
て円周方向に微細なテクスチャー溝３を形成する。

【０００３】工程(2) において、テクスチャー溝３の上
に、密着性を高めるためのCr層４を形成し、その上に工
程(3) において、Co合金などから成る磁性膜５が成膜さ
れ、さらに工程(4) に示すように、磁性膜５上に保護膜
としてカーボン膜６を形成する。Cr層４、Co合金磁性膜
５およびカーボン膜６は、スパッタなどの手法で成膜さ
れる。スパッタ処理の次に、基板１を回転させ、ラッピ
ングテープでポリッシュ加工を行ない、異常突起などを
研摩して除去する。

【０００４】最後にフォンブリン系の潤滑剤７を塗布す
ることで、薄膜型の磁気ディスクが完成する。工程(1)
で形成したテクスチャー溝３は、磁性膜５に対して、磁
気記録／再生特性を良くするための磁気異方性を付与す
るためである。また、テクスチャー溝３に沿ってカーボ
ン膜６も凹凸となるため、磁気ヘッドが磁気ディスク面
に吸着されにくく、かつ磁気ヘッドと磁気ディスク面と
の間の摩擦が小さくなる。

【０００５】ところで、工程(1) におけるテクスチャー
処理は、円板１枚ずつ行なわなければならず、また工程
(2)(3)(4) におけるクロム膜やコバルト合金磁性膜、カ
ーボン膜の成膜は、図８に示すような基板ホルダーｈに
複数枚の基板１を保持させた状態で、キャリヤ８を図９
に示すようなCrターゲットt1やCo合金ターゲットt2、カ
ーボンターゲットt3の前を通過させて、各基板１の両面
に順次成膜していく。そして最後に、各円板ごとに潤滑
剤を塗布する。

【０００６】しかしながら、このようにドーナツ状の円
板の状態で図７の工程(1) …(4) の作業を行なうには、
テクスチャー処理工程で、各円板をスピンドル機構に取
付けて回転させ、またスパッタリング工程では、各円板
を基板ホルダーｈに保持させなければならない。そのた
め、各工程において円板を１枚ずつ着脱しなければなら
ず、またスパッタ工程における搬送や、各工程間におけ
る運搬などは特別の基板ホルダーを用いなければならな
い。

【０００７】図10(a)(b)は図８における従来の基板ホル
ダーの詳細を示す正面図と断面図である。基板ホルダー
ｈには、各基板１を下側で支持できるように、基板取付
け孔９の下側に２〜３個の基板支持爪10を有しており、
該基板支持爪10の先端には、(b) 図に示すように、Ｖ溝
11が形成されている。そして、各基板支持爪10のＶ溝11
中に基板１を嵌め込んで支持させる。なお、基板１中央
の孔12は、磁気ディスクを磁気ディスク装置のスピンド
ルに取付けるためのものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
支持構造で、多数の基板１を基板ホルダーｈに支持し
て、図９のように各ターゲットt1・t1間、t2・t2間、t3
・t3間を通過させてスパッタを行なう際に、図11に示す
ように、基板支持爪10の先端10ｅの蔭が基板１上に発生
する。すなわち、図11において矢印a₁、a₂、a₃で示すよ
うに、ターゲットから発生したスパッタ粒子は、各方向
から飛来して、基板表面に付着する。

【０００９】矢印a₁方向から飛来して来たスパッタ粒子
に対しては殆ど支障は生じないが、矢印a₃方向から飛来
して来たスパッタ粒子は、基板支持爪10の先端10ｅに遮
られて、基板表面まで到達できない。そのため、基板支
持爪10の付近は、スパッタ膜13の膜厚が不足し、情報を
確実に記録するのに必要な膜厚が得られず、その結果基
板１の外周寄りは使用不可能となる。

【００１０】また、各製造工程の間において、各基板を
運搬したり、保管したりする場合は、図12のような基板
ホルダー部h1を有する搬送バッケトに多数の基板１を収
納するが、この場合もＶ溝11を一定間隔に形成し、各Ｖ
溝11中に基板１を挿入し支持させている。そのため、基
板両面の外周側が基板ホルダーh1のＶ溝11に接して傷つ
いたり、塵埃が付着するなどの問題がある。

【００１１】本発明の技術的課題は、このような問題に
着目し、磁気ディスクの製造工程や運搬工程などにおい
て、基板の外周側が成膜不足となったり、傷ついたりす
るのを防止可能とすることにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】図１は本発明による磁気
ディスクおよび基板ホルダーの基本原理を説明する要部
断面図である。請求項１の発明は、非磁性の基板１に磁
性膜を形成して情報を磁気的に記録する磁気ディスクに
おいて、その外周と内周のうち、少なくとも外周に、周
方向の溝14を形成してなる構成である。なお、鎖線15で
示すように、基板内周側、すなわち取付け孔12の内周に
も周方向の溝を形成してもよい。

【００１３】請求項２の発明は、非磁性の基板に磁性膜
を形成して情報を磁気的に記録する磁気ディスクの基板
１の外周に、周方向の溝14を形成するとともに、該磁気
ディスクの製造工程や搬送工程において基板１を支持す
る基板ホルダーＨには、該溝14に嵌入できる爪16を設
け、該爪16が前記基板外周の溝14に嵌入するようにした
構成である。

【００１４】請求項３の発明は、非磁性の基板１に磁性
膜を形成して情報を磁気的に記録する磁気ディスクの基
板１の外周に、中心に向けて非円形の孔17を開けるとと
もに、磁気ディスクの製造工程や搬送工程において基板
１を支持する基板ホルダーＨには、前記の孔17に嵌入で
きる非円形の爪18を設け、該爪18が前記基板外周の孔17
に嵌入するようにした構成である。

【００１５】

【作用】請求項１のように、磁気ディスクの外周と内周
のうち、少なくとも外周に、周方向の溝14が形成されて
いると、外周の溝14を利用して、磁気ディスクの製造工
程や搬送工程などにおいて、該溝14に支持爪16を嵌入さ
せることで、基板面に支持爪16の蔭が発生しないように
基板を保持でき、また基板を着脱する際に該溝14を利用
して基板チャッキングできる。磁気ディスクの取付け孔
15の内周にも周方向の溝15を形成すると、該溝15も基板
支持やチャッキングに利用できる。

【００１６】請求項２のように、磁気ディスク外周に周
方向の溝14を形成するとともに、基板ホルダーＨに設け
た、例えば先の尖った爪16を前記基板外周の溝14に嵌入
させると、磁気ディスクの製造工程において、基板１側
に基板支持爪16の蔭が発生せず、外周寄りまで確実に成
膜などが可能となる。

【００１７】また、蔭が発生せず、図１における矢印a₃
方向から飛来して来たスパッタ粒子により、基板外周縁
までスパッタされることで、スパッタ膜13の基板１への
付着強度が増し、過酷の環境で長期間稼動している間に
剥離するなどの恐れがない。さらに、基板の運搬などの
際に、基板ホルダー部の爪が基板面に接触することはな
く、基板１の外周寄りが傷ついたり、塵埃が付着するよ
うなこともない。

【００１８】請求項３のように、前記の周方向の溝に代
えて、基板１の外周に、中心に向けて非円形の孔17を開
け、基板ホルダーＨには、該孔17に嵌入できる非円形の
爪18を有しているため、磁気ディスクの製造工程や搬送
工程などにおいて、基板１側に基板支持爪の蔭が発生せ
ず、外周寄りまで確実に成膜などが可能となり、しかも
基板１の外周寄りが傷ついたり、塵埃が付着するような
こともない。

【００１９】

【実施例】次に本発明による磁気ディスクおよび基板ホ
ルダーが実際上どのように具体化されるかを実施例で説
明する。図２は請求項１、２の発明を、スパッタ装置に
おける基板ホルダーに実施した例であり、 (a)は側面
図、 (b)は (a)図におけるｂ−ｂ断面図である。

【００２０】基板１は、外周側に周方向の溝14を有し、
内周側に周方向の溝15を有している。スパッタ室内で基
板１を保持して搬送する基板ホルダーＨには、基板取付
け孔９の中心に向かって形成された３個の爪16の先端
が、基板外周の周方向溝14に嵌入できるようになってい
る。

【００２１】そのため、基板１を基板ホルダーＨに取付
ける際に、基板外周の溝14に３個の爪16の先端を嵌入さ
せることで、基板１は基板ホルダーＨに支持される。な
お、爪16は、基板１とほぼ同じ厚さをしており、先端だ
けが尖っているが、(c) 図のように爪全体が、周方向溝
14に嵌入できる程度の薄い爪16ａであってもよい。

【００２２】このように、基板ホルダーＨの爪16、16ａ
は、基板外周の周方向溝14に嵌入して基板１を保持する
ため、スパッタ粒子がどの方向から飛来して来ても、基
板１上に爪16、16ａの蔭ができることはなく、図１に示
すように、基板１の外周端まで、一定膜厚の成膜が可能
となる。

【００２３】図３は請求項１、２の発明を、各工程間に
おける基板運搬用のバケットに実施した例であり、 (a)
は平面図、 (b)は正面図である。この実施例では、搬送
バッケト19の基板ホルダー部に、図２(c) における爪16
ａのように、爪全体が、周方向溝14に嵌入できる程度に
薄い爪16ａが３個形成されている。そのため、基板外周
の溝14に、３個の爪16ａを嵌入させることで、基板１は
３個の爪16ａに支持される。しかも、基板１の両面が爪
16ａに接するようなことはないので、基板表面が傷つい
たり、塵埃が付着するようなこともない。

【００２４】次に、基板内周にも周方向の溝15を設けて
おくと、内径チャッキングを容易に行なうことができ
る。例えば、図２における基板ホルダーＨに、ロボット
ハンドで基板１を着脱するような場合、従来は真空チャ
ックで基板の内周側の表面を吸着して保持していたが、
図４のように基板内周の周方向溝15に爪20を圧入して保
持することもできる。

【００２５】すなわち、スリーブ21の先端に、内周方向
溝15に嵌入できる爪20を有し、しかもスリーブ21にスリ
ット22を設けて、弾性を持たせている。通常は、爪15は
周方向溝15から外れるように、外径が縮小しているが、
スリーブ21中の軸23の先端のテーパ状ヘッド24を爪15の
内側に引っ込めると、爪20が押し開かれて、内周溝15中
に嵌入し内径チャックが行われる。

【００２６】図示例の内径チャックは、基板着脱の際だ
けでなく、基板１を保持して回転させ、いわゆるテクス
チャー加工したり、テープバーニッシュ加工を行なう場
合にも適用できる。また、基板外周の周方向溝14を利用
して、外径チャックを行なうこともできる。このよう
に、基板内外周の周方向溝14、15をチャッキングに利用
することで、基板面を使用しないでチャッキングできる
ため、チャッキングの際に基板面を傷つけたりすること
がなく、磁気記録面として使用できる面積が広くなる。
なお、周方向溝14、15の断面形状は、Ｖ字状のほか、Ｕ
字状やコ字状などでもよい。

【００２７】図５、図６は、請求項３の発明の実施例で
あり、スパッタ装置における基板ホルダーに適用した例
である。図５は基板１の正面図と底面図であり、基板１
の外周には、中心に向けて非円形の孔17が、複数個等間
隔に開けられている。一方、図６に示すように、基板ホ
ルダーＨには、前記の孔17に嵌入できる非円形の爪18を
有しており、該爪18を前記基板１の外周の孔17に嵌入さ
せることで、基板１が基板ホルダーＨに保持される。基
板外周の孔17および爪18は非円形なため、基板１が基板
ホルダーＨに支持された状態で回転するようなことはな
い。なお、図３における運搬用バケット19の底部に、非
円形の爪18を設けることで、基板運搬用の基板ホルダー
部にも適用できる。

【００２８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、請求項１
のように、磁気ディスクを構成する基板１の外周と内周
のうち、少なくとも外周に、周方向の溝14が形成されて
いるため、磁気ディスクの製造や搬送などの際に、基板
外周の溝14または内周の溝15を利用して、支持爪16、16
ａやチャッキング用の爪20を嵌入させることで、基板表
面に接触すること無しに基板ホルダーＨに支持したりチ
ャッキングできる。

【００２９】また、請求項２のように、基板外周の溝14
に、基板ホルダーＨの爪を嵌入させることで、基板１側
に基板支持爪の蔭が発生せず、外周寄りまで均一に成膜
などが可能となる。さらに、基板の運搬などの際に、基
板ホルダーＨの爪が基板面に接触することはないため、
基板面の外周寄りが傷ついたり、塵埃が付着するような
こともない。

【００３０】請求項３のように、基板１の外周に、中心
に向けて非円形の孔17を開け、基板ホルダーＨの非円形
の爪18を嵌入させることで、磁気ディスクの製造工程や
搬送工程などにおいて、基板１側に爪18の蔭が発生せ
ず、外周寄りまで確実に成膜でき、しかも基板表面が傷
ついたり、塵埃が付着するようなこともない。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明による磁気ディスクおよび基板ホ
ルダーの基本原理を説明する要部断面図である。

【図２】請求項１、２の発明を、スパッタ装置における
基板ホルダーに実施した例であり、 (a)は側面図、 (b)
は (a)図におけるｂ−ｂ断面図、 (c)は基板支持爪の別
の実施例を示す要部断面図である。

【図３】請求項１、２の発明を、各工程間における基板
運搬用のバケットに実施した例であり、 (a)は平面図、
(b)は正面図である。

【図４】請求項１の発明を内径チャックに実施した例を
示す断面図である。

【図５】請求項３の発明の実施例における基板の正面図
と底面図である。

【図６】図５の基板を基板ホルダーに支持した状態の部
分断面／正面図である。

【図７】薄膜型磁気ディスクの製造方法を工程順に示す
断面図である。

【図８】従来のスパッタ用の基板ホルダーの斜視図であ
る。

【図９】磁性膜などの連続スパッタ方法を示す平面図で
ある。

【図10】図８における従来の基板ホルダーの詳細を示す
正面図と断面図である。

【図11】従来のスパッタ用基板ホルダーにおけるスパッ
タ作用を示す要部断面図である。

【図12】従来の基板ホルダー機構を用いた基板運搬バケ
ットを示す平面図と正面図である。

【符号の説明】

１非磁性の基板２ NiＰ下地膜３テクスチャー溝４ Cr膜５ Co合金磁性膜６カーボン膜７潤滑剤８基板キャリヤ９基板取付け孔ｈ従来の基板ホルダー t1 Crターゲット t2 Co合金ターゲット t3 カーボンターゲット 10 基板支持用の爪 10e 基板支持爪の先端 11 Ｖ溝 12 基板中央の孔（スピンドルへの取付け孔） 13 スパッタ膜Ｈ本発明の基板ホルダー 14 基板外周の周方向溝 15 基板内周の周方向溝 16,16a 基板支持用の爪 17 非円形の孔 18 非円形の爪 19 基板運搬用のバッケト 20 内径チャック用の爪 21 スリーブ 22 スリット 23 チャック開閉軸 24 テーパ状ヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者土屋和憲神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士通株式会社内 (72)発明者鈴木和敏山形県東根市大字東根元東根字大森5400番２（番地なし）株式会社山形富士通内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性の基板に磁性膜を形成して情報を
磁気的に記録する磁気ディスクにおいて、磁気ディスクを構成する基板(1) の外周と内周のうち、
少なくとも外周に、周方向の溝(14)を形成してなること
を特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】非磁性の基板に磁性膜を形成して情報を
磁気的に記録する磁気ディスクの基板(1) の外周に、周
方向の溝(14)を形成するとともに、該磁気ディスクの製造工程や運搬工程などにおいて基板
(1) を支持する基板ホルダー(H) には、該溝(14)に嵌入
できる爪(16,16a)を設け、該爪(16,16a)が前記基板外周
の溝(14)に嵌入するように構成してなることを特徴とす
る基板ホルダー。
【請求項３】非磁性の基板に磁性膜を形成して情報を
磁気的に記録する磁気ディスクの基板(1) の外周に、中
心に向けて非円形の孔(17)を開けるとともに、該磁気ディスクの製造工程や運搬工程などにおいて基板
(1) を支持する基板ホルダー(H) には、前記の孔(17)に
嵌入できる非円形の爪(18)を設け、該爪(18)が前記基板
外周の孔(17)に嵌入するように構成してなることを特徴
とする基板ホルダー。