JPH0280568A - 薄膜製造装置における基板保持機構 - Google Patents
薄膜製造装置における基板保持機構Info
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- JPH0280568A JPH0280568A JP23196488A JP23196488A JPH0280568A JP H0280568 A JPH0280568 A JP H0280568A JP 23196488 A JP23196488 A JP 23196488A JP 23196488 A JP23196488 A JP 23196488A JP H0280568 A JPH0280568 A JP H0280568A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜の製造装置における基板の保持機構に関
する。
する。
近年、光磁気記録媒体に関する研究が盛んで、実用化に
近いレベルまで進んでいる。そこで、薄膜製造装置によ
る従来の基板保持機構における光磁気記録媒体の製造方
法を第７図に示して詳述する。
近いレベルまで進んでいる。そこで、薄膜製造装置によ
る従来の基板保持機構における光磁気記録媒体の製造方
法を第７図に示して詳述する。
第７図は、光磁気記録媒体の保護層もしくは、光磁気記
録層を成膜するスパッタ室の横断面図である。
録層を成膜するスパッタ室の横断面図である。
第１段階は、基板１を基板保持板２に設けられた基板１
より大きい内径と厚みの円筒形空隙３に保持する。そし
て、センターマスキングキャップ４と、キャップ押え１
６を止めネジ１０を使い、基板１のセンターに取り付け
る。さらに、基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空
ポンプ６で、スパッタ室７を高真空にする。
より大きい内径と厚みの円筒形空隙３に保持する。そし
て、センターマスキングキャップ４と、キャップ押え１
６を止めネジ１０を使い、基板１のセンターに取り付け
る。さらに、基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空
ポンプ６で、スパッタ室７を高真空にする。
第２段階は、分軸用軸５を回転させると、基板１は基板
保持板中心を中心に公転する。そして、基板１は円筒形
空隙３に保持されているため、公転一回転につき、基板
１の外周の長さと円筒形空隙３の内周の長さとの差だけ
、基板は自転する。
保持板中心を中心に公転する。そして、基板１は円筒形
空隙３に保持されているため、公転一回転につき、基板
１の外周の長さと円筒形空隙３の内周の長さとの差だけ
、基板は自転する。
第３段階は、スパッタ室７に約２ ｍ ｍ ｔ ｏ’
ｒ ｒになるようにアルゴンガスを導入し、自公転する
基板１と、ターゲット８との間にＲＦ電圧をかけ放電さ
せ、スパッタすることにより基板上に、第一層の５ｉＡ
ＩＮ保護層を１００ＯＡ成膜する。
ｒ ｒになるようにアルゴンガスを導入し、自公転する
基板１と、ターゲット８との間にＲＦ電圧をかけ放電さ
せ、スパッタすることにより基板上に、第一層の５ｉＡ
ＩＮ保護層を１００ＯＡ成膜する。
続けて、第２層のＵｄＤｙＦｅ系光磁気記緑光磁気記録
膜成膜する。
膜成膜する。
再び続けて、第３層の５ｉＡＩＮ保護膜を１０００Ａ成
膜していた。
膜していた。
しかし、前述の従来技術では第７図の様に、基板１が自
転するためには、基板外径よりも円筒形空隙３の内径の
方が大きくする必要がある。当然基板１と円筒形空隙３
との間に余裕が必要であり、基板１のその時のバランス
で、第７図の上の基板の様に、上部が後に倒れることが
ある。すると、基板１と外周マスク部分１７の間が開き
、基板外周部に、５ｉＡＩＮ保護膜や、光磁気記録膜が
スパッタ中に成膜される。すると、基板外周部に必要な
未成膜部分２５が第８図の様に狭くなるか、第９図の様
にまったくなくなることになる。
転するためには、基板外径よりも円筒形空隙３の内径の
方が大きくする必要がある。当然基板１と円筒形空隙３
との間に余裕が必要であり、基板１のその時のバランス
で、第７図の上の基板の様に、上部が後に倒れることが
ある。すると、基板１と外周マスク部分１７の間が開き
、基板外周部に、５ｉＡＩＮ保護膜や、光磁気記録膜が
スパッタ中に成膜される。すると、基板外周部に必要な
未成膜部分２５が第８図の様に狭くなるか、第９図の様
にまったくなくなることになる。
そして、透明プラスチック基板を保護のため、成膜した
基板の成膜側に、紫外線硬化接着剤を使って貼り合わせ
る場合、接着効果のある未成膜部分がなく又は、狭く充
分密着力を確保することができず、歩留が低く、さらに
、信頼性に欠けるなどの課題があった。
基板の成膜側に、紫外線硬化接着剤を使って貼り合わせ
る場合、接着効果のある未成膜部分がなく又は、狭く充
分密着力を確保することができず、歩留が低く、さらに
、信頼性に欠けるなどの課題があった。
そこで、本発明はこのような課題点を解決するもので、
その目的とするところは、薄膜の特性が基板の全領域に
わたって広く均一で、且つ、基板の外周部分に薄膜が積
層しない機構を設けた薄膜の製造装置における、基板保
持機構を提供するところにある。
その目的とするところは、薄膜の特性が基板の全領域に
わたって広く均一で、且つ、基板の外周部分に薄膜が積
層しない機構を設けた薄膜の製造装置における、基板保
持機構を提供するところにある。
本発明の薄膜の製造装置における基板保持機構は、複数
板の基板上に単層及び多層成膜する側面スパッタ方式の
薄膜製造装置で、該基板を取り付ける治具の中心を公転
させると共に、該基板の中心を自転させるため、該基板
よりも大きい内径と厚みをもった円筒形空隙が設けられ
た基板保持機構において、該基板を該円筒形空隙に保持
された状態で自転する基板の成膜側に重心があることを
特徴とする。
板の基板上に単層及び多層成膜する側面スパッタ方式の
薄膜製造装置で、該基板を取り付ける治具の中心を公転
させると共に、該基板の中心を自転させるため、該基板
よりも大きい内径と厚みをもった円筒形空隙が設けられ
た基板保持機構において、該基板を該円筒形空隙に保持
された状態で自転する基板の成膜側に重心があることを
特徴とする。
本発明の機構のように、自転する基板の成膜側に重心が
あれば、基板は外周マスクに密着しながら自公転し、成
膜される。そして、常に基板外周部をマスキングするこ
とで、未成膜領域が確保される。
あれば、基板は外周マスクに密着しながら自公転し、成
膜される。そして、常に基板外周部をマスキングするこ
とで、未成膜領域が確保される。
〔実施例１〕
本発明の具体的応用分野の実施例は、光磁気記録媒体の
製造工程における薄膜製造過程で以下、実例にもとづき
詳細に説明する。
製造工程における薄膜製造過程で以下、実例にもとづき
詳細に説明する。
第１図は、本発明の実施例における光磁気記録媒体の製
造装置における基板保持機構を用いて、透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に一度に多数枚収容した時の横断
面図である。
造装置における基板保持機構を用いて、透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に一度に多数枚収容した時の横断
面図である。
第１段階は、成膜側に取り付けるセンターマスキングキ
ャップ４と、基板の裏側に取り付けるキャップ押え９を
、止めネジ１０を使って基板に取り付ける。尚、センタ
ーマスキングキャップ４の材質はアルミニウムで、形状
は底面がφ３２ｍｍで上面がφ１０ｍｍで高さが１０ｍ
ｍの円錐台であり、重さは約１１ｇである。さらに、キ
ャップ押えの材質はアルミニウムで、形状はφ３５ｍｍ
で厚み２ｍｍの円盤であり、重さは約５ｇである。
ャップ４と、基板の裏側に取り付けるキャップ押え９を
、止めネジ１０を使って基板に取り付ける。尚、センタ
ーマスキングキャップ４の材質はアルミニウムで、形状
は底面がφ３２ｍｍで上面がφ１０ｍｍで高さが１０ｍ
ｍの円錐台であり、重さは約１１ｇである。さらに、キ
ャップ押えの材質はアルミニウムで、形状はφ３５ｍｍ
で厚み２ｍｍの円盤であり、重さは約５ｇである。
つまり、センターマスキングキャップ４とキャップ押え
９の差は約６ｇである。
９の差は約６ｇである。
そして、この基板１を基板保持板２に設けられた、円筒
形空隙３に保持する６円筒形空隙３は、基板より０．５
ｍｍ厚く、内径は９５ｍｍである大きさである。さらに
基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空ポンプ６で、
スパッタ室７を高真空にする。
形空隙３に保持する６円筒形空隙３は、基板より０．５
ｍｍ厚く、内径は９５ｍｍである大きさである。さらに
基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空ポンプ６で、
スパッタ室７を高真空にする。
第２段階は公転用軸５を回転させると、基板ｌは基板保
持板中心を中心に公転する。そして、基板１は円筒形空
隙３に保持されているため公転一回転につき、基板１の
外周の長さと円筒空隙３の内周の長さとの差だけ基板は
、外周マスクに密着しながら自転する。
持板中心を中心に公転する。そして、基板１は円筒形空
隙３に保持されているため公転一回転につき、基板１の
外周の長さと円筒空隙３の内周の長さとの差だけ基板は
、外周マスクに密着しながら自転する。
第３段階は、スパッタ室７に約２ｍｍｔｏｒｒになるよ
うにアルゴンガスを導入し、自公転する基板１と、ター
ゲット８との間にＲＦ電圧をかけ放電させ、スパッタす
ることにより基板上に、第−層の５ｉＡＩＮ保護膜をｔ
ｏｏＯＡ成膜する。
うにアルゴンガスを導入し、自公転する基板１と、ター
ゲット８との間にＲＦ電圧をかけ放電させ、スパッタす
ることにより基板上に、第−層の５ｉＡＩＮ保護膜をｔ
ｏｏＯＡ成膜する。
続けて、第２層のＮｄＤｙＦｅ系光磁気記録膜を５００
Ａ成膜する。
Ａ成膜する。
再び続けて、第３層の５ｉＡＩＮ保護膜を１０００Ａ成
膜していた。
膜していた。
以上のような条件で成膜すれば、第６図の様に未成膜領
域２５を確保した製品を製造できる。
域２５を確保した製品を製造できる。
尚、本発明の実施例１でのセンターマスキングキャップ
４とキャップ押え９の差は６ｇであるが０．１ｇ以上の
差があり、重心が成膜側にあれば効果は同じである。又
、形状や、材質が他の物であっても、効果は同じである
。
４とキャップ押え９の差は６ｇであるが０．１ｇ以上の
差があり、重心が成膜側にあれば効果は同じである。又
、形状や、材質が他の物であっても、効果は同じである
。
さらに、本発明の実施例ではセンターマスキングキャッ
プ４とキャップ押え９を止めネジ１０で基板１に取り付
ける方法であるが、第２図の様に成膜側から、バネを使
ったセンターマスキングキャップ１４でも、重さが０．
１ｇ以上で重心が成膜側にあれば効果は同じである。
プ４とキャップ押え９を止めネジ１０で基板１に取り付
ける方法であるが、第２図の様に成膜側から、バネを使
ったセンターマスキングキャップ１４でも、重さが０．
１ｇ以上で重心が成膜側にあれば効果は同じである。
〔実施例２〕
本発明の具体的応用分野の他の実施例は、光磁気記録媒
体の製造工程における薄膜製造過程で以下、実例にもと
づき詳細に説明する。
体の製造工程における薄膜製造過程で以下、実例にもと
づき詳細に説明する。
第３図は、本発明の実施例における光磁気記録媒体の製
造装置における基板保持機構を用いて、透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に一度に多数枚収容した時の横断
面図である。
造装置における基板保持機構を用いて、透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に一度に多数枚収容した時の横断
面図である。
第一段階は、第三図の様に、基板外周部の端面が斜めで
あり、基板の成膜側の直径より裏面側が０．１ｍｍ〜２
．０ｍｍ大きいφ９０ｍｍの直径の基板１１である。さ
らに、センターマスキングキャップ４を取り付ける。尚
、センターマスキングキャップ４とキャップ押え９は、
はぼ同じ重さである。
あり、基板の成膜側の直径より裏面側が０．１ｍｍ〜２
．０ｍｍ大きいφ９０ｍｍの直径の基板１１である。さ
らに、センターマスキングキャップ４を取り付ける。尚
、センターマスキングキャップ４とキャップ押え９は、
はぼ同じ重さである。
そして、この基板１１を基板保持板２に設けられた１円
筒形空隙３に保持する０円筒形空隙３は、基板より０．
５ｍｍ厚く、内径はφ９５ｍｍである大きさである。さ
らに基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空ポンプ６
で、スパッタ室７を高真空にする。
筒形空隙３に保持する０円筒形空隙３は、基板より０．
５ｍｍ厚く、内径はφ９５ｍｍである大きさである。さ
らに基板保持板の公転用軸５に取り付け、真空ポンプ６
で、スパッタ室７を高真空にする。
第２段階と第３段階は、実施例１と同じなので省略する
。
。
尚、本発明の実施例２では、基板の外周端面を斜めにし
たが、第４図の様に、基板を保持する、基板保持板１２
に設けた円筒形空隙１３の内周端面を斜めにしてもよい
、この時の円筒形空隙の内周端面の裏面側の内径の方が
成膜側より０．１ｍｍから２．０ｍｍ小さいφ９５ｍｍ
である。
たが、第４図の様に、基板を保持する、基板保持板１２
に設けた円筒形空隙１３の内周端面を斜めにしてもよい
、この時の円筒形空隙の内周端面の裏面側の内径の方が
成膜側より０．１ｍｍから２．０ｍｍ小さいφ９５ｍｍ
である。
さらに、第５図の様に、外周端面を斜めにしたリング状
外周マスク１５を使ってもよい、この時のリング状外周
マスク１５は、成膜側より裏面側の外径は０．１ｍｍか
ら２．０ｍｍ大きい、この様にしても効果は同じである
。
外周マスク１５を使ってもよい、この時のリング状外周
マスク１５は、成膜側より裏面側の外径は０．１ｍｍか
ら２．０ｍｍ大きい、この様にしても効果は同じである
。
又、本発明は自転する基板の成膜側に重心があれば目的
は達成できるので、成膜する基板の面が垂直に対して上
部が成膜側に０１から３０＠傾ける。そしてその方法と
して公転軸を傾けたり、スパッタ室やスパッタ装置本体
全体を傾けても効果は同じである。
は達成できるので、成膜する基板の面が垂直に対して上
部が成膜側に０１から３０＠傾ける。そしてその方法と
して公転軸を傾けたり、スパッタ室やスパッタ装置本体
全体を傾けても効果は同じである。
以上に述べたように、本発明によれば、基板上に、単層
及び、多層成膜する薄膜の製造装置における基板保持機
構において、基板の公転とともに、重心が成膜側にある
基板を自転することにより、基板外周部に薄膜の積層し
ない未成膜領域を確実に確保し、それによって、紫外線
硬化樹脂と基板との密着性向上によって、密着貼り合わ
せ工程の歩留りが安定向上し、そして、光磁気記録媒体
の特性の安定と、寿命と、信頼性の向上などに多大の効
果を有するものである。
及び、多層成膜する薄膜の製造装置における基板保持機
構において、基板の公転とともに、重心が成膜側にある
基板を自転することにより、基板外周部に薄膜の積層し
ない未成膜領域を確実に確保し、それによって、紫外線
硬化樹脂と基板との密着性向上によって、密着貼り合わ
せ工程の歩留りが安定向上し、そして、光磁気記録媒体
の特性の安定と、寿命と、信頼性の向上などに多大の効
果を有するものである。
第１図は、本発明の実施例１における光磁気記録媒体の
製造装置における基板保持機構において透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に多数枚収容した時の横断面図。 第２図は、本発明の実施例１における他の光磁気記録媒
体の製造装置における基板保持機構において、透明プラ
スチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した時の横
断面図。 第３図は、本発明の実施例２における光磁気記録媒体の
製造装置における基板保持機構において透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に多数枚収容した時の横断面図。 第４図は、本発明の実施例２における他の光磁気記録媒
体の製造装置における基板保持機構において、透明プラ
スチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した時の横
断面図。 第５図は、本発明の実施例２におけるさらに他の光磁気
記録媒体の製造装置における基板保持機構において、透
明プラスチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した
時の横断面図。 第６図は、本発明の実施例１と２の基板保持機構におい
て、成膜した後の基板の図。 第７図は、従来の光磁気記録媒体の製造装置における基
板保持機構において、透明プラスチック基板を、スパッ
タ室に多数枚、収容した時の横断面図。 第８図は、従来の基板保持機構において成膜後の基板で
、基板外周部の未成膜領域の少ない基板の図。 第９図は、従来の基板保持機構において成膜後の基板で
、基板外周部の未成膜領域のない基板の図。 １・・・基板 ２・・・基板保持板 ３・・・円筒形空隙 ４・・・センターマスキングキャップ ５・・・公転用軸 ６・・・真空ポンプ ７・・・スパッタ室 ８・・・ターゲット ９・・・本発明の実施例１のセンターマスキングキャッ
プの裏面より止めるキャップ押え１０・・・止めネジ １１・・・本発明の実施例２の基板 １２・・・本発明の実施例２の他の実施例の基板保持板 １３・・・本発明の実施例２の他の実施例の円筒形空隙 １４・・・本発明の実施例１の他の実施例のセンターマ
スキングキャップ １５・・・本発明の実施例２のさらに他の実施例のリン
グ状外周マスク ６・・・従来技術のキャップ押え ７・・・外周マスク部分 ５・・・未成膜領域 ６・・・有効記録可能領域 ７・・・膜厚不均一領域 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木 喜三部 他１名第３図 １７図
製造装置における基板保持機構において透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に多数枚収容した時の横断面図。 第２図は、本発明の実施例１における他の光磁気記録媒
体の製造装置における基板保持機構において、透明プラ
スチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した時の横
断面図。 第３図は、本発明の実施例２における光磁気記録媒体の
製造装置における基板保持機構において透明プラスチッ
ク基板を、スパッタ室に多数枚収容した時の横断面図。 第４図は、本発明の実施例２における他の光磁気記録媒
体の製造装置における基板保持機構において、透明プラ
スチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した時の横
断面図。 第５図は、本発明の実施例２におけるさらに他の光磁気
記録媒体の製造装置における基板保持機構において、透
明プラスチック基板を、スパッタ室に多数枚、収容した
時の横断面図。 第６図は、本発明の実施例１と２の基板保持機構におい
て、成膜した後の基板の図。 第７図は、従来の光磁気記録媒体の製造装置における基
板保持機構において、透明プラスチック基板を、スパッ
タ室に多数枚、収容した時の横断面図。 第８図は、従来の基板保持機構において成膜後の基板で
、基板外周部の未成膜領域の少ない基板の図。 第９図は、従来の基板保持機構において成膜後の基板で
、基板外周部の未成膜領域のない基板の図。 １・・・基板 ２・・・基板保持板 ３・・・円筒形空隙 ４・・・センターマスキングキャップ ５・・・公転用軸 ６・・・真空ポンプ ７・・・スパッタ室 ８・・・ターゲット ９・・・本発明の実施例１のセンターマスキングキャッ
プの裏面より止めるキャップ押え１０・・・止めネジ １１・・・本発明の実施例２の基板 １２・・・本発明の実施例２の他の実施例の基板保持板 １３・・・本発明の実施例２の他の実施例の円筒形空隙 １４・・・本発明の実施例１の他の実施例のセンターマ
スキングキャップ １５・・・本発明の実施例２のさらに他の実施例のリン
グ状外周マスク ６・・・従来技術のキャップ押え ７・・・外周マスク部分 ５・・・未成膜領域 ６・・・有効記録可能領域 ７・・・膜厚不均一領域 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木 喜三部 他１名第３図 １７図
Claims (1)
- 複数枚の基板上に単層及び多層成膜する側面スパッタ方
式の薄膜製造装置で、該基板を取り付ける治具の中心を
公転させると共に、該基板の中心を自転させるため、該
基板よりも大きい内径と厚みをもった円筒形空隙が設け
られた基板保持機構において、該基板を該円筒形空隙に
保持された状態で、自転する基板の成膜側に重心がある
ことを特徴とする薄膜製造装置における基板保持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23196488A JPH0280568A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 薄膜製造装置における基板保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23196488A JPH0280568A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 薄膜製造装置における基板保持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0280568A true JPH0280568A (ja) | 1990-03-20 |
Family
ID=16931810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23196488A Pending JPH0280568A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 薄膜製造装置における基板保持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0280568A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5637200A (en) * | 1995-02-08 | 1997-06-10 | Nobler Technologies, Inc. | Compact disk locking apparatus |
| US5753091A (en) * | 1993-05-05 | 1998-05-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Carrier palette for substrates of optical storage media |
| JPH11335835A (ja) * | 1998-05-21 | 1999-12-07 | Nec Corp | スパッタリング装置とその成膜方法 |
| US6022462A (en) * | 1996-07-02 | 2000-02-08 | Sony Corporation | DC sputtering system |
-
1988
- 1988-09-16 JP JP23196488A patent/JPH0280568A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5753091A (en) * | 1993-05-05 | 1998-05-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Carrier palette for substrates of optical storage media |
| US5637200A (en) * | 1995-02-08 | 1997-06-10 | Nobler Technologies, Inc. | Compact disk locking apparatus |
| US6022462A (en) * | 1996-07-02 | 2000-02-08 | Sony Corporation | DC sputtering system |
| JPH11335835A (ja) * | 1998-05-21 | 1999-12-07 | Nec Corp | スパッタリング装置とその成膜方法 |
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