KR20040058283A - 스탬퍼의 제조방법, 원판, 지지 구조와, 이 스탬퍼의 용도 - Google Patents

Abstract

Small Form Factor(SFF) 광 데이터 저장매체의 제조에 사용되는 스탬퍼를 제조하는 방법에 대한 설명이 주어진다. 통상적인 원판(2)에는, 각각의 영역(3a-3h)의 중심이 원판(2)의 회전축(9)의 외부에 배치되면서, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들(3a-3h)을 갖고 양각 구조를 지닌 일련의 영역들이 설치된다. 이것은, 마스터 레코더 기록 헤드의 복잡한 이동을 필요로 하지 않으면서, 종래의 마스터 레코더와, 별개의 원판 지지 구조(1)를 사용하여 행해진다. 이에 따라 얻어진 원판(2)은, 원판(2)의 표면의 음화를 포함하는 스탬퍼를 제조하는데 사용된다.

Description

스탬퍼의 제조방법, 원판, 지지 구조와, 이 스탬퍼의 용도{METHOD OF MANUFACTURING A STAMPER, MASTER PLATE, SUPPORT STRUCTURE AND USE OF SUCH A STAMPER}

본 발명은, 광 데이터 저장매체의 제조에 사용되는 스탬퍼를 제조하며, 회전축을 갖는 기판과 이 기판 위에 형성된 방사빔 감지 기록층을 포함하는 원판(master plate)이 변조된 방사빔에 노출되고, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 지닌 양각 구조를 갖는 일련의 영역들이 각각의 영역의 중심이 원판의 회전축의 외부에 놓이도록 기록층 내부에 형성된 후, 원판의 정보 트랙들의 양각 구조가 복사되는 스탬퍼가 상기 원판 상에 형성되어 원판으로부터 분리되는 스탬퍼 제조방법에 관한 것이다.

또한, 본 발명은, 상기한 방법에서 제조된 원판에 관한 것이다.

또한, 본 발명은, 상기한 방법에서 사용되는 지지 구조에 관한 것이다.

더구나, 본 발명은, 상기 방법에서 제조된 스탬퍼의 용도에 관한 것이다.

서두에서 언급된 형태를 갖는 방법은 유럽특허출원 EP 0 355 925 A1에 공지되어 있다.

광학적으로 판독가능한, 예를 들면 디지털 정보를 갖는 광 데이터 저장매체는, 일반적으로, 광 정보매체의 기판의 합성수지 재료에 양각으로 형성되고 매체의가장자리에서 약간 떨어지거나 이 매체의 중앙에서 시작되는 반사 및 비반사, 또는 적어도 덜 반사하는 영역들 또는 "피트들"로 이루어진 나선형 트랙을 구비한다. 나선형 트랙은 광 정보매체의 중심에서 약간 떨어지거나 이 매체의 가장자리에 인접하여 끝이 난다. 이와 같은 트랙은 방사빔, 예를 들면 레이저빔을 사용하여 주사되어 일련의 디지털화된 펄스들을 출력할 수 있으며, 한편으로 이 펄스들은 화상, 음향 또는 데이터, 예를 들면 텍스트로 변환될 수 있다. 광 데이터 저장매체는 보통 대부분이 주입성형공정에 의해 제조된다. 이와 같은 공정에서는, 광 디스크 매체의 기판에 각인될 양각 구조의 음화(negative)를 포함하는 스탬퍼가 주입성형장치의 주형 내부에 배치된다. 디스크 형태의 스탬퍼가 가능한 한 긴 내용연한을 갖고, 주입성형공정이 가능한 한 짧은 순환주기를 갖는 것이 매우 중요하다. 상기한 유럽특허출원에 따르면, 상기 원판 상에 각각의 나선형 트랙을 상기 원판의 중심의 이부에 배치하면서 4개의 나선형 정보 트랙들을 형성한 후, 상기 원판으로부터 마찬가지로 스탬퍼로 불리는 디스크 형태의 니켈 음화를 제조함으로써, 상당히 짧은 순환 주기를 갖는 방법이 기술되어 있다. 이에 따르면, 결과적으로 얻어지는 광 저장매체의 최대 직경이 제한되기는 하지만, 광 저장매체 당 주입성형공정의 순환주기가 약 4배 정도 줄어든다. 그러나, 이와 같은 매체는, 종래의 광 정보매체에서는, 열악한 반사 특성과 비교적 큰 중앙 구멍의 필요성으로 인해 보통 사용하는데 부적합한 가장자리와 중앙 영역들을 사용할 수 있으므로, 단위 면적당 더 높은 정보밀도를 가질 수도 있다. 이것은, 정보매체의 중앙 및 가장자리 부분들이 원판 상의 중심을 벗어난 배치로 인해 광학특성에 관해 동일한 균일성을 갖기 때문이다. 실제로는, 일련의 나선형 정보 트랙들은 통상적인 광 정보매체의 가장자리와 중심 사이에 배치된 환형 영역에 설치될 수 있는데, 이 영역은 원하는 반사특성을 갖는다. 원형 원판의 가장자리로부터 중심으로 또는 이와 반대방향으로 이 원판 상에 한 개의 나선형 정보 트랙을 설치하는 것은 기계적으로는 비교적 간단하다. 원판을 회전하게 할 수 있으며, 정보 트랙을 설치하기 위한 "기록 헤드"가 원판의 중심을 포함하는 반경방향의 라인을 따라 균일한 속도로 구동될 수 있다.

그러나, 종래의 방법의 문제점은, 나선형 운동이 원판과 마스터 레코더의 "기록 헤드" 상에서 더 이상 분할될 수 없으므로, 각각의 영역의 중심이 원판의 중심의 바깥쪽에 있을 때, 표준 원판 상에 나선형 정보 트랙들을 갖는 일련의 영역들을 설치하는 것은 극히 복잡하다는 것이다. "기록 헤드" 그 자체는 복잡한 나선형 운동을 따라 구동되어야만 한다. 이와 같은 운동은 표준 마스터 레코더로는 불가능하다. 이와 같은 문제점을 극복하기 위해, 상기한 유럽특허출원에 공지된 방법은, 4개의 개별 디스크들을 수납하기 위한 함몰부를 그 내부에 갖는 원형 홀더 내부에 끼워맞추어지는, 최종적으로 얻어지는 광 정보매체의 크기를 갖는 4개의 개별 디스크들로 이루어진 복합 부품으로 형성될 수 있는 특수한 원판을 사용한다. 이들 별개의 디스크들 각각은 통상적인 방법으로 별도로 마스터링되어야만 한다. 다수의 부품들을 포함하는 원판은 불리하다는 것은 자명하다. 첫째, 표준 원판을 사용할 수 없고, 둘 때, 함몰부들 내부의 4개의 분리된 디스크들의 배치가 슬릿이나 홈들을 발생하여, 이것이 스탬퍼의 형성공정 중에 바람직하지 않은 효과, 예를 들면 불균일한 층 두께를 발생할지도 모르며, 셋째, 이와 같은 특수한 원판은 값이 더 비싸다.

결국, 본 발명의 목적은, 표준 원판에, 표준 마스터링 레코더를 사용하여 간간한 방법으로, 서두에 기재된 것과 같이, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 갖는 일련의 영역들을 설치할 수 있는, 서두에 기재된 종류의 방법을 제공함에 있다.

본 발명에 따르면, 상기한 목적은,

a) 변조된 방사빔에 기록층을 노출하는 동안, 원판이 지지 구조의 회전축에 대해 편심으로 고정되고, 지지 구조의 회전축이 원판의 기판의 표면에 거의 수직하며, 부착된 원판을 갖는 지지 구조가 지지 구조의 회전축을 따라 회전하고,

b) 제 1 영역의 중심이 지지 구조의 회전축과 일치하는 동안, 일련의 영역 중에서 제 1 영역이 방사빔에 노출되어, 정보 트랙들을 형성하며,

c) 원판이, 지지 구조에서 분리되고, 다음 영역의 중심이 지지 구조의 회전축과 일치할 때까지 지지 구조에 대해 움직여, 지지 구조에 다시 고정되고,

d) 상기 다음 영역이 방사빔에 노출되어, 정보 트랙들을 형성하며,

e) 일련의 영역들의 모든 영역들이 방사빔에 노출될 때까지, 단계 c) 및 d)를 반복하는 것을 특징으로 하는 방법에 의해 달성된다.

상기한 방법을 사용함으로써, 종래의 원판에, 통상적인 마스터 레코더를 사용하여, 서두에 기재된 것과 같은 정보 트랙들을 갖는 다수의 영역을 설치할 수 있다. 통상적인 원판을 지지 구조 상에 편심으로 배치함으로써, 다수의 영역들이 바로 이어서 노출된다. 다음의 영역들의 노출이 표준 원판 상에서와 동일한 방법으로수행되어, 종래의 마스터링 레코더의 변형이 필요하지 않다. 상기한 영역들은 최종적으로 얻어지는 광학매체의 정보 영역들에 해당한다. 이때, 상기한 용어인 원판은 가정 널리 사용되는 원형 원판을 포함하며, 다른 형태의 원판들로 포함한다는 점에 주목하기 바란다. 현재, 소형 광 저장매체에 대한 관심이 증가하고 있다. 디스크의 구현에서의 이와 같은 소형 광학매체를 Small Form Factor(SFF) 광 디스크로 부를 수도 있다. 이들 디스크는, 디지털 캠코더, 디지털 정지 화상 카메라, 디지털 오디오 플레이어 및 휴대전화기 등의 민수용 화상, 음향 및 통신장치의 저장매체로서 점점 더 중요성이 증가되고 있는데, 이들 장치에서는 저장매체의 크기가 중요한 특징인 것은 명백하다. 본 발명에 따른 방법은, SFF 광 디스크의 제조용 스탬퍼를 제조하기 위한 원판을 제공하는데 매우 적합하다.

상기한 방법의 바람직한 실시예에 있어서는, 단계 c)에서, 원판이 원판의 회전축을 중심으로 회전하고, 원판의 회전축이 지지 구조 상의 일정한 위치에 존재한다. 이와 같은 구성은, 원판의 회전중에, 원판의 중앙 척(chuck)이 지지 구조의 수납 홀더에 대한 중심맞춤수단으로 사용될 수도 있다는 이점을 갖는다. 이와 같은 척을 중심으로 회전한 후, 원판이 예를 들면 공지된 진공기술에 의해 지지 구조에 대해 고정될 수도 있다.

상기한 방법의 바람직한 실시예에 있어서는, 원판이 360/n도와 거의 같은 크기의 n-1배 만큼 회전하고, n은 1보다 큰 정수이다. 이에 따르면, 상기한 영역들의 회전대칭 세트가 원판과, 후속하는 스탬퍼 상에 형성된다. 이와 같은 구성은, 절단해야만 하는 스탬퍼와 다수의 SFF 광 디스크들을 포함하는 주입성형된 기판의 후속처리를 용이하게 한다는 이점을 갖는다. 일반적으로, 주입성형된 기판 상에 금속 반사층을 적층, 예를 들면 스퍼터링하는 동안, 기판의 보통 약 1 mm의 외주부에서의 금속의 적층을 방지하기 위해 마스크가 사용된다. 이것의 목적은 외주부 근처에서의 금속의 부식을 방지하기 위한 것이다. 기판의 외주부에 금속이 존재하지 않을 때, 금속층의 적층후에 도포되는 보호 커버층이 기판과 접촉하여, 외부환경으로부터 금속층을 완전히 밀봉한다. 기판당 복수의 SFF 디스크인 경우에는, 더 큰 기판 내부에 여전히 존재하며 절단되지 않은 SFF 디스크의 "외주연"에서 마스킹이 행해져야만 한다. 이들 SFF 디스크의 접선방향 및 반경방향의 위치가 정확하게 규정되면, SFF 디스크들의 "외주연"을 마스크하기 위한 스퍼터링 마스킹 도구를 설계하는 것은 비교적 간단하다. 이것이 본 실시예의 방법을 사용할 때 정확히 얻어지는 결과이다. 더구나, 첫 번째 SFF 광 디스크가 정렬된 후에 절단된 다음, 다음 디스크들을 절단하면서 기판이 360/n도의 크기의 n-1배 만큼 회전하는 절단도구가 사용될 수도 있다.

150-170 nm의 범위를 갖는 직경을 지니며 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 기록하기 위한 영역들의 직경이 40 mm보다 작은 원판을 사용하는 것이 특히 적합하다. 표준 원판은 160 mm의 직경을 갖고,예를 들면 30 mm의 직경을 갖는 상기 영역들을 구비한다. 40 mm보다 작은 직경이 SFF 광 디스크들에 대한 적합한 크기가 될 것 같다. 160 mm의 원판에 대해서는, n이 8, 9 및 10 중에서 한 개의 값, 예를 들면 8이고, 지지 구조 상의 원판의 회전축이 지지 구조의 회전축까지 30-55 mm의 거리, 예를 들면 43 mm의 거리를 갖는 것이 유리하다. 이에 따르면, 원판의 환형 구역에 최적의 최대수의 영역이 설치될 수 있다.

상기한 방법에 사용하는데 적합한 지지 구조의 바람직한 실시예는, 지지 구조가, 부착된 원판의 질량과 균형을 맞추어, 지지 구조와 부착된 원판의 조립체의 무게중심이 지지 구조의 회전축과 거의 일치하도록 하기 위한 적어도 한 개의 평형추를 구비한 것을 특징으로 한다. 지지 구조가 상당히 높은, 예를 들면 300 RPM보다 높은 회전속도로 마스터 레코더에 의해 회전되어야 하므로, 지지 구조와 부착된 원판의 조립체의 균형을 맞추는 것이 유리하다. 균형이 맞추어진다는 것은, 정적으로 균형이 맞추어지거나 정적/동적으로 균형이 맞추어지는 것을 의미한다. 균형이 맞추어진 조립체는, 기록된 트랙들에 편위를 일으킬지도 모르는, 기록중의 원치 않는 진동과 힘을 방지한다.

지지 구조의 바람직한 실시예에 있어서는, 평형추가 지지 구조의 회전축에 대해 움직일 수 있다. 이와 같은 구성은, 평형추를 약간 이동하여, 원하는 위치, 즉 지지 구조의 회전축으로 조립체의 무게중심을 조정함으로써, 원판의 질량의 작은 편차를 보상할 수 있다는 이점을 갖는다.

지지 구조의 또 다른 실시예에 있어서는, 평형추가 지지 구조로부터 착탈이 가능하다. 표준 원판으로부터 상당히 벗어나는 질량을 가질 수 있는 새로운 형태의 원판이 도입되면, 평형추를 더 크거나 더 작은 질량을 갖는 다른 평형추로 교체하는 것이 필요할 수도 있다. 이들 편차를 보상하기 위해서는, 단순히 평형추를 이동하는 것으로 충분하지 않을 수도 있다.

본 발명에 따른 방법을 수행하기 위한 지지 구조와 원판의 조립체의 일 실시예를 도면을 참조하여 설명한다. 이때, 이들 도면은 도식적인 도면이라는 점에 유의하기 바란다.

첨부도면에서,

도 1은 본 발명에 따른 방법을 수행하기 위한 지지 구조와 원판의 조립체의 일 실시예에 대한 평면도를 개략적으로 나타낸 것이고,

도 2는 도 1의 II-II선에 따른 도 1에 도시된 실시예의 단면도이다.

도 1 및 도 2에는, 광 데이터 저장매체의 제조에 사용되는 스탬퍼를 제조하는 방법을 수행하기 위한 지지 구조(1)의 원판(2)의 조립체가 도시되어 있다. 원판(2)은, 유리로 제조된 기판(2a)과, 그 위에 형성된 방사선 감지 기록층(2b)을 구비한다. 기록층(2b)은 변조된 방사빔(10)에 노출된다. 나선형 또는 동심원 형태를 갖는 정보 트랙들을 갖고 양각 구조를 갖는 일련의 영역들(3a-3h)이, 각각의 영역(3a-3h)의 중심이 원판의 회전축(9)의 외부에 배치되면서 기록층(2b)에 형성된다. 본 발명의 방법에서는 다음과 같은 단계가 포함된다:

a) 변조된 방사빔(10)에 기록층(2b)을 노출시키는 동안, 원판(2)이 지지 구조(1)의 회전축(8)에 대해 편심으로 고정된다. 지지 구조(1)의 회전축(8)은 원판(2)의 기록층(2b)의 표면에 대략 수직하다. 고정된 원판(2)과 함께 지지 구조(1)가 회전축(8)을 따라 회전한다.

b) 제 1 영역(3a)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치하는 동안, 일련의 영역들(3a-3h) 중에서 제 1 영역(3a)이 방사빔(10)에 노출되어, 정보 트랙을 형성한다.

c) 원판(2)이 지지 구조(1)에서 분리되고, 다음 영역(3b)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치할 때까지, 지지 구조(1)에 대해 원판(2)의 회전축(9) 주위로 45도의 양만큼 회전한다. 원판의 회전축(9)은 지지 구조(1) 상의 일정한 위치에 존재한다. 그후, 원판이 다시 지지 구조(1)에 고정된다.

d) 상기 다음 영역(3b)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치하는 동안, 다음 영역(3b)이 방사빔(10)에 노출되어, 정보 트랙을 형성한다.

e) 일련의 영역(3a-3h)의 모든 8개의 영역이 방사빔(10)에 노출될 때까지 단계 c) 및 d)를 반복한다.

이때, 도 1에서는, 모든 영역(3a-3h)이 노출되었으며, 최종 노출된 영역(3h)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치하고 있다.

원판(2)은 160 mm의 직경을 갖고, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 갖는 영역들(3)의 직경은 30 mm이다. 지지 구조(1) 상의 원판(2)의 회전축(9)은, 지지 구조(1)의 회전축(8)까지 43 mm의 거리를 갖는다.

그후, 원판(2)의 방사빔 감지 기록층(2b)의 표면에는, 공지된 적층기술, 예를 들면 스퍼터링이나 습식 무전해 니켈 적층에 의해, 약 50-100 nm의 도전성 금속층, 예를 들면 니켈층이 형성된다. 금속화가 되면, 원판(2)은 니켈 스탬퍼를 형성하는 전주성형(electro-forming)공정에서 사용하기 위한 준비상태가 된다. 니켈 이온들이 점진적으로 원판(2)의 도전성 표면 위에 적층될 때, 원판(2)의 영역들(3a-3h)에 있는 데이터 피트들을 갖는 정보 트랙들이 전주성형공정에서 정확하게 복제된다. 원판(2) 상에 스탬퍼를 전주성형하는 공정은 당업계에 공지되어 있다. 현재의 기술로는, 이 공정에 대략 1시간이 소요된다. 원하는 스탬퍼 두께가 얻어진 후(이것은, 파라데이 법칙에 따른 전류/시간/적층 속도 계산에 의해 결정된다), 원판(2)과 스탬퍼가 전주성형 갈바니 전지에서 분리된다. 그후, 원판(2)의 표면에서 니켈 스탬퍼가 분리된다. 니켈 스탬퍼는 원판(2)의 음화에 해당한다. 스탬퍼의 표면에 혹시 있을지도 모르는 기록층(2b)의 잔류물을 공지된 세정기술로 제거한다. 금속층이 니켈이 아닌 경우에는, 이 잔류물을 선택적인 에칭제를 사용하여 용해시켜 제거하는 것이 바람직하다. 이와 같이 얻어진 스탬퍼는 파더(father) 스탬퍼로도 알려져 있다. 이와 같은 파더 스탬퍼는, 주입성형장치에서 직접 사용되어, 마찬가지로 정보 트랙들의 양화(positive)를 포함하는 플라스틱 기판들을 성형할 수도 있다. 이와 달리, 전주성형공정을 반복하여, 마더(mother) 스탬퍼로 불리는 파더 스탬퍼의 표면의 음화를 형성할 수 있는데, 이 마더 스탬퍼는 다시 최종적으로 주입성형장치에 배치되는 소위 선(son) 스탬퍼를 제조하는데 사용된다. 이에 따르면, 1개의 파더 스탬퍼에서 복수의 선 스탬퍼들이 얻어지므로, 1개의 파더 스탬터를 사용하여 가능하였던 것보다 많은 수의 광 저장매체 기판들이 제조될 수 있다. 더구나, 이와 같은 구성은, 선 스탬퍼들 중에서 1개의 고장 또는 손상이 일어난 경우에, 예비용의 선 스탬퍼들을 제조할 수 있는 가능성을 제공한다.

도 1 및 도 2에서, 지지 구조(1)가, 부착된 원판(2)의 질량과 균형을 맞추어, 지지 구조(1)와 부착된 원판(2)의 조립체의 무게중심이 지지 구조(1)의회전축(8)과 거의 일치하도록 하기 위한 평형추(5)를 구비한다.

균형추(5)는 지지 구조(1)의 회전축(8)에 대해 움직일 수 있다. 본 실시예에서는, 예를 들면 균형추(5)를 슬레지(sledge)(4)에서 빼냄으로써, 균형추를 지지 구조(1)에서 착탈할 수도 있다.

지기 구조(1)는 원판(2)을 수납하는 중심맞춤부(6)를 갖는다. 더구나, 지지 구조(1)는 마스터링 레코더 상에서 지지 구조의 중심을 맞추는데 사용되는 척(7)을 갖는다.

이때, 전술한 실시예들은 본 발명을 제한하는 것이 아니라 본 발명을 예시하는 것이며, 첨부된 청구범위의 범주를 벗어나지 않으면서 다양한 다른 실시예들이 본 발명이 속하는 기술분양의 당업자들에 의해 설계될 수 있다는 점에 주목하기 바란다. 청구범위에서, 괄호 안에 놓인 참조번호는 청구범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 인된다. 용어 "포함하는", "포함한다" 또는 "구비한다"는 청구범위에 나열된 것 이외의 다른 구성요소 또는 단계의 존재를 배제하는 것이 아니다. 구성요소 앞의 용어 "a" 또는 "an"은 복수의 이와 같은 구성요소의 존재를 배제하는 것이 아니다. 특정한 구성이 서로 다른 종속항에서 재언급된다는 단순한 사실이, 이들 구성의 조합이 유리하게 사용될 수 없다는 것을 의미하는 것이 아니다.

본 발명에 따르면, 광 데이터 저장매체의 제조에 사용되는 스탬퍼를 제조하는 방법이 제공된다. 통상적인 원판은, 각각의 중심이 원판의 회전축의 외부에 배치되면서, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙을 갖고 양각 구조를 지닌 일련의 영역을 구비한다. 이것은, 마스터 레코더 기록 헤드의 복잡한 이동을 필요로 하지않으면서, 종래의 마스터 레코더와, 별개의 원판 지지 구조를 사용하여 행해진다.

Claims (10)

1. 광 데이터 저장매체의 제조에 사용되는 스탬퍼를 제조하며, 회전축(9)을 갖는 기판(2a)과 이 기판 위에 형성된 방사빔 감지 기록층(2b)을 포함하는 원판(2)이 변조된 방사빔(10)에 노출되고, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 지닌 양각 구조를 갖는 일련의 영역들(3a-3h)이 각각의 영역(3a-3h)의 중심이 원판(2)의 회전축(9)의 외부에 놓이도록 기록층(2b) 내부에 형성된 후, 원판(2)의 정보 트랙들의 양각 구조가 복사되는 스탬퍼가 상기 원판(2) 상에 형성되어 원판(2)으로부터 분리되는 스탬퍼 제조방법에 있어서,

   a) 변조된 방사빔(10)에 기록층(2b)을 노출하는 동안, 원판(2)이 지지 구조(1)의 회전축(8)에 대해 편심으로 고정되고, 지지 구조(1)의 회전축(8)이 원판(2)의 기판(2a)의 표면에 거의 수직하며, 부착된 원판(2)을 갖는 지지 구조(1)가 지지 구조(1)의 회전축(8)을 따라 회전하고,

   b) 제 1 영역(3a)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치하는 동안, 일련의 영역(3) 중에서 제 1 영역(3a)이 방사빔(10)에 노출되어, 정보 트랙을 형성하며,

   c) 원판(2)이, 지지 구조(1)에서 분리되고, 다음 영역(3b)의 중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 일치할 때까지 지지 구조(1)에 대해 움직여, 지지 구조(1)에 다시 고정되고,

   d) 상기 다음 영역(3b)이 방사빔(10)에 노출되어, 정보 트랙을 형성하며,

   e) 일련의 영역들(3)의 모든 영역들(3c, 3d, …)이 방사빔(10)에 노출될 때까지,단계 c) 및 d)를 반복하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼의 제조방법.
2. 제 1항에 있어서,

   단계 c)에서, 원판(2)이 원판(2)의 회전축(9)을 중심으로 회전하고, 원판(2)의 회전축(9)이 지지 구조(1) 상의 일정한 위치에 존재하는 것을 특징으로 하는 스탬퍼의 제조방법.
3. 제 2항에 있어서,

   원판(2)이 360/n도와 거의 같은 크기의 n-1배 만큼 회전하고, n은 1보다 큰 정수인 것을 특징으로 하는 스탬퍼의 제조방법.
4. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,

   원판(2)은 150-170 nm의 범위를 갖는 직경을 지니며, 나선형 또는 동심원 형태의 정보 트랙들을 갖는 영역들(3)의 직경이 40 mm보다 작은 것을 특징으로 하는 스탬퍼의 제조방법.
5. 제 4항에 있어서,

   n이 8, 9 및 10 값 중에서 한 개의 값이고, 지지 구조(1) 상의 원판(2)의 회전축(9)이 지지 구조(1)의 회전축(8)까지 30-55 mm의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 스탬퍼의 제조방법.
6. 청구항 1에 기재된 방법에 따른 정보 트랙들의 영역들을 구비한 원판(2)의, 원판의 음화 표면을 갖는 스탬퍼 제조용으로서의 용도.
7. 청구항 1에 기재된 방법에 사용하는데 적합한 지지 구조에 있어서,

   상기 지지 구조(1)가, 부착된 원판(2)의 질량과 균형을 맞추어, 지지 구조(1)와 부착된 원판(2)의 조립체의 무게중심이 지지 구조(1)의 회전축(8)과 거의 일치하도록 하기 위한 적어도 한 개의 평형추(5)를 구비한 것을 특징으로 하는 지지 구조.
8. 제 7항에 있어서,

   평형추(5)가 지지 구조(1)의 회전축(8)에 대해 움직일 수 있는 것을 특징으로 하는 지지 구조.
9. 제 7항 또는 제 8항에 있어서,

   평형추(5)가 지지 구조(1)로부터 착탈이 가능한 것을 특징으로 하는 지지 구조.
10. 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 스탬퍼의, 40 mm보다 작은 직경을 갖는 광 데이터 저장매체의 제조용으로서의 용도.