JP2003165120A - スタンパの製造方法 - Google Patents

スタンパの製造方法

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JP2003165120A
JP2003165120A JP2001365572A JP2001365572A JP2003165120A JP 2003165120 A JP2003165120 A JP 2003165120A JP 2001365572 A JP2001365572 A JP 2001365572A JP 2001365572 A JP2001365572 A JP 2001365572A JP 2003165120 A JP2003165120 A JP 2003165120A
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JP
Japan
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stamper
manufacturing
electroforming
replica
disk
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Toshiharu Yoshikawa
吉川敏治
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ディスク用スタンパは、1枚製造する
のに数時間かかる。工程で発生するごみや、レジストの
厚さ及び均一性、記録レーザ光の安定性及び現像条件の
安定性等が記録されたピットやグルーブの形状に重大な
影響を与える。特に高密度光ディスク用スタンパの製造
収率は悪く、製造時間が時には、数日かかるのが現状で
ある。 【解決手段】 良品のスタンパ31で例えば射出成型機
32でレプリカ33を製造する。これを原盤として電鋳
34をした後、剥離35してスタンパ36を製造する
と、良品スタンパを大量生産する事が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスティク成型
技術を応用した、スタンパを大量生産する事に関する。
【0002】
【従来の技術】以下の説明では、光ディスク用スタンパ
の一般的な製造方法を例とする。光ディスクは、スタン
パを原盤としてプラスティク成型機で射出成形して製造
されるので、スタンパの品質が製造される光ディスクの
品質に多大な影響を与える。
【0003】近年、光ディスクも高密度化の傾向があ
り、スタンパの品質向上が望まれている。しかし現行の
スタンパ製造技術では、スタンパが不良の場合、再製造
しなければならない。一般的にスタンパの品質及び収率
は、記録密度に反比例するので、現状では高密度用スタ
ンパの生産性は、非常に悪い。その主な理由は、1)レ
ジストの厚さ及び均一性、2)記録レーザ光の安定性、
3)現像条件の安定性等が記録されたピットやグルーブ
の形状に重大な影響を与えるためである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記で説明した様に光
ディスクの製造では、スタンパの品質が非常に重要であ
るが、スタンパ1枚を製造するのに数時間から数十時間
かかる。この様な現状なので、良品スタンパを1枚製造
するのに、再生産を繰り返すと数日かかる事も珍しくな
い。本発明は、良品スタンパを短時間に製造する技術及
び方法を開発し、この問題を解決する事を目的としてい
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、基になるスタンパから射出成形でレプリカ
を作り、これを原盤として電鋳でスタンパを作成する。
基になるスタンパの品質がよければ、例えば射出成形機
で大量のレプリカを作り、それを電鋳すれば、良品スタ
ンパを容易に大量生産する事が可能である。
【発明の実施の形態】
【0006】発明の形態を実施例に基づき図面を参照し
て説明する。図1でスタンパを製造する一般的な方法を
説明する。ガラス原盤の大きさはは、直径200mm厚さ6
mmで、その表面を酸化セリューム等で超精密研磨の後
に、超純水で洗浄する。このガラス原盤は、レジスト塗
布用スピナで厚さ約100nmのレジストを均一に塗布
し、露光用のレジスト原盤11とする。ガラス原盤表面
のレジストを、レーザ露光機で感光12させ、現像する
と13が出来る。この表面に、ニッケルの導電膜をスパ
ッタ等の技術で付着させ、電鋳で厚さ約0.3mmのニッケ
ル14をメッキする。この様にして作成されたニッケル
をガラス原盤から剥離して、仕上げをするとスタンパ1
5が出来る。
【0007】上記の方法で作成したスタンパ15を成型
機16に取り付け、射出成形するとディスク17が出
来、その表面に反射膜又は記録膜18をスパッタ法で付
与する。最後に保護膜及び、印刷をすると完成ディスク
19が出来る。
【0008】図2でレジストを露光する露光機の一例を
説明する。レーザ発信器21で発生したレーザ光を、光
量安定器22で安定させた後、光変調器23で光を断続
させる。このレーザ光を、ガラス原盤26の表面に塗布
されたレジストに、対物レンズ25で直径0.5μm以下
に集光させる。露光機で使用する対物レンズ25のNAは
例えば、0.9と大きいので焦点深度が浅く、自動焦点機
構が使用されている。
【0009】この時、ガラス原盤26はスピンドル・モ
ータ27で回転させる。移動光学台28に取り付けられ
ている対物レンズ25は、リニヤ・モータ24でガラス
原盤の内周から外周又は、外周から内周に移動させる。
この様にして記録するとレーザ光の軌跡は、スパイラル
状になる。しかし、製造する光ディスクによっては、同
心円状に記録する事もある。又、スピンドル・モータの
回転数と対物レンズの移動速度は、制御器29で制御し
ながら同期運転する。同期の取り方で、角速度一定(C
AV)、線速度一定(CLV)又はその他の記録方法が
可能である。製造する光ディスクの種類によっては、光
偏向器23−1でレーザ光を蛇行させる事もある。
【0010】上記の方法で感光したガラス原盤12を現
像すると、13の様に感光したレジストが除去され、ガ
ラス原盤の表面に微少の凹凸が形成される。13の表面
にスパッタ法等でニッケル薄膜を付与して、14の様に
厚さ約0.3mmになるまでニッケルを電鋳する。ガラス
原盤の表面に電鋳したニッケルを、剥離して仕上げ処理
をすると、光ディスク用スタンパ15が出来る。
【0011】通常上記の行程は、早くても数時間以上か
かる。この様に時間をかけて制作したスタンパの品質が
目標に達しない場合、再生産しなければならないので、
良品スタンパ1枚の製造時間は数10時間以上、時には
数日かかる事もある。近年、光ディスクの高密度化が進
んでおり、その方法は種々考えられているが、基本的で
重要なのは、記録ピッチを狭くする事である。具体的に
は、CDでは1.6μmであるが、DVDでは0.74μm、高密
度光磁気ディスクでは0.4μmが実用化されており、次
世代高密度光磁気ディスクでは0.2μm以下も実用化が
間近い。この様な高密度ディスク用スタンパの製造で
は、今まで許容されていた行程中のごみや異物が問題に
なり、良品スタンパの製造収率が著しく低下している。
【0012】次に、本発明の詳細を図3で説明する。図
1の15迄の行程で製造されたスタンパ31(図1の1
5)を使用して、2P法又は射出成形機32で作成した
レプリカ33が電気及び、機械等の特性を満足する事が
確認出来たならば、この表面に導電薄膜をスパッタ等で
付ける。次に、電鋳34して後に35の様にレプリカと
ニッケルを剥離して仕上げ処理をすると、良品スタンパ
36が出来る。
【0013】本発明の製造方法で制作したスタンパ36
を使用して、ディスクを製造する工程を図4で説明す
る。一般的なディスク製造方法と特に差違はないが、ス
タンパ41(36)を成型機42に取り付けて射出成形
すると、ディスク43が出来る。光学特性及び機械特性
を満足したディスクは、スパッタ法等で反射膜又は、記
録膜44を付着させる。最後に、保護膜及び印刷をして
完成ディスク45が出来上がる。
【0014】射出成形でディスクを製造する場合、ピッ
トやグルーブの転写性すなわち電気特性、光学特性及び
機械特性を同時に満足させる事は大変難しい。最近で
は、生産性を向上させるために、CD1枚の成形時間は
約3秒である。この様な短時間で、ディスクの反りが無
く良好にピットやグルーブを転写しなければならないの
で、光ディスクの射出成形は、非常に高度な技術が必要
である。
【0015】 しかし、本
発明で使用するレプリカ33の製造では、電気特性と機
械特性のみに着目して射出成形条件を確立すればよい。
例えば、レプリカ33を1枚製作するのに数十秒以上数
分かかっても、図1の11から15までの数時間に比べ
非常に短いので、スタンパの生産性は著しく向上し、良
品で同品質のスタンパを安定して大量生産が可能であ
る。
【0016】一般的なディスクの製造での成型工程は一
つであるが、本発明は30及び40の二つの成型工程を
経るので、使用するスタンパ31のピットやグルーブの
形状は、二つの成型工程での樹脂の収縮率を加味して製
作しなければならない。
【0017】本発明は、上記実施例に限定されない。本
発明は、その趣旨を逸脱しない限り、種々変更する事が
出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的なスタンパの製造方法の概略図
【図2】レーザ露光機の略図
【図3】本発明のスタンパ製造方法の概略図
【図4】射出成形機によるディスクの製造方法の概略図
【符号の説明】
10 一般的なディスクの製造方法の概略図 11 洗浄されたガラス原盤 12 露光機でレジストを感光 13 現像されたガラス原盤 14 電鋳が終了したガラス原盤 15 スタンパ 16 射出成型機 17 成形されたディスク 18 反射膜又は、記録膜を付与されたディスク 19 完成したディスク 20 レーザ露光機の略図 21 レーザ発信機 22 光量安定器 23 光変調器 23−1 光偏光器 24 リニヤ・モータ 25 対物レンズ 26 ガラス原盤 27 スピンドル・モータ 28 移動光学台 29 制御器 30 本発明のスタンパ製造方法の概略図 31 本発明用スタンパ 32 成型機 33 レプリカ 34 電鋳されたレプリカ 35 レプリカから剥離した電鋳部分 36 完成したスタンパ 40 射出成形機によるディスクの製造方法の概略
図 41 スタンパ 42 成型機 43 ディスク 44 機能膜付与 45 保護膜付与及び印刷をされたディスクの完成

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 本発明のスタンパの製造方法は、電気
    特性や物理特性が同一のスタンパを大量生産が可能な製
    造技術及び製造方法。
  2. 【請求項2】 大量生産の技術として、プラスティック
    2P法又はプラスティック射出成型法等の技術を含む、
    請求項1に記載のスタンパの製造技術及び製造方法。
  3. 【請求項3】 電鋳を実施するために、プラスティク成
    型品の表面に導電膜を付着させる方法としてスパッタ
    法、真空蒸着法又は、無電解メッキ法等を用いた請求項
    1及び、2に記載のスタンパの製造技術及び製造方法。
  4. 【請求項4】 プラスティック成型品から、電鋳により
    スタンパを製造する技術を含む請求項1から3に記載の
    スタンパの製造技術及び製造方法。
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