JPS6171865A - 回転型塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は回転型塗布装置に関するものである。

〔技術的背景〕

例えばガラス板、アクリル系ｔＩ脂板などエフなる基板
の表面に均一な塗布膜？形成する装置としては、種々の
型のものが仰られているが、基板を回転せしめて遠心力
？利用して空布膜？形成する回転型塗布装置は、猶造力
科ｆｉｌｌでしかも薄くて均−件の高い塗布膜？形成す
ることができる特長を有している。

〔従来技術〕

従来の回転型塗布装置の典型的な一例ｔＭｚ図（イ１及
び（口１に示す。ｌは回転保持台、２は吸引孔である。

この吸引孔２は、七の上端２１が回転保持ａｌの保持部
１１の中央領域に位置し、下＠２２は回転軸部１２内に
設けた導通路１３に連通している。この導通路１３は真
空ポンプ（図示せず）に気密に接続されている。４はゴ
ムなど工Ｖなるｚ’ｅ　７　キンク用リングであり、こ
のノぞツキング用リング４はその上部外周部の全体が保
持部１１から上刃に突出した状態で吸引孔２の上！２１
’に囲むよう保持部１１に設けたリング状凹溝１４内に
配設芒れ、このバッキング用リング４の上部外周部上に
基板５がａ置される。

基板５２ノぞツキング用リング４の上部外周部上に載置
した状態で、真空ポンプにより吸引孔２内？排気して負
圧上作用せしめると基板５がバッキング用リング４に気
密に密着し、これにより基板５が回転保持台ｌに吸引固
定δ九る。次に釜布液の液滴ｙ：を基板５の上面に滴下
し１回転駆動部（図示せず）により回転保持８１會七の
回転＋１１１１Ｐｔ−中心に高速回転ゼしめると、回転
に伴なう遠心力によジ基板５上の液滴が展延し、これに
より基板５の上面に塗布膜が形成される。

この工うな構成の回転型塗布装置は、種々の分野に３い
て用いられているが、最近光ディスクと称される情報記
録媒体の研究開発が盛んになされ、この元ディスク全形
成するための原盤の公造成いは元ディスクの製造などに
どいて、ガラス板或いはアクリル系樹脂板などよりなる
円板状の基板の表面にレジスト層或いは記録層を塗布に
より形成することか行なわれている。このような元ディ
スクは通常いわゆるＶ：７−ド盤と同じように回転せし
めて情報の記報または再生上行なうものであるため、そ
の基板の中央部には記録装置または再生装置へセットす
るための貫通孔が設けられている。

しかしながら、上記構成の回転型塗布装置１ｔに３いて
は、吸引孔２の上端２１が回転保持台１の保持部１１の
中火領域に位置されるため、既述の如（中央部に貫通孔
ｔＭ丁石基板七回転保持台１に載置しても、この貫通孔
を介して吸引孔２が外部空間に連通した状態となり、こ
のため真空ポンプ會駆動せしめても負圧が形成されず、
従って基板會回転保持菅１に吸引固定することができず
、結局塗布膜を形成することができない。

これに対して、基板の保持を吸引力？利用せずに、基板
の貫通孔で利用して機械的に基板ｒフランジ固定する機
構？設けることが考えられるが、この工うな機得でに、
回転保持台１の構造が複雑となり、しかも基板の固定及
び取外しに要する時間が長（て塗布の処理効率が低下し
、七のうえ基板の上面即ち塗布面側にも固定具の一部が
接触することとなるため、塗布可能面積が小さくなる０
また固定具に付着した塵埃或いは塗布液等が塗布膜ｒ汚
染するＳそれもめる。

〔発明の目的〕

不発明は以上の如き事情に基いてなされたものであって
、七の目的は、中天部に貫通孔【肩する基板でめっても
負圧により吸引保持することができて塗布膜の形成７行
なうことがでさる簡単な構成の回転型塗布装置上提供す
ることにある。

〔発明の構成〕

以上の目的は、基板で回転保持台に負圧により保持し回
転させながらこの基板の表面に塗布膜を形成する回転型
塗布装置であって、前記回転保持台に、七の保持部にＪ
６ける中央領域の外側の環状領域に開口する吸引孔を具
えてなること’ｋｔ！！ｆ徴とする回転型塗布装置に工
って達成される。

以下図面全参照しながら本発明の詳細な説明する。

第１図（イ）及び（ロ）は不発明の一実施例で示す説明
図でめろ。ｌＯは回転保持台でるり、この回転保持台１
０には、保持部１１００回転中心？含む中火領域１５の
外側の現状領域１６に８いて開口する負圧形成用の吸引
孔２０（ｚ設ける。

以上にどいて、保持部に３ける中央領域の外側の環状領
域とは、装置の保持部に塗布処理を受ける仮処理＠ケ保
持せしめた状態に３いて尚該仮処ｘ４Ａ物の中火貫通孔
に連通することがない領域？いう、具体的には、保持部
１１（ｌＩ：＃ける中央領域１５と框、例えば後述する
基板５１の貫通孔５２が真正面に対向する領域部分業含
む、貫通孔５２の開口面積よりは若干大きい領域を指し
、環状領域１６とは、中火領域１５の外側で６って当該
中火領域１５の全体で取囲むいわばドーナツ板状の領域
を指丁。

図示の例では、吸引孔２０の上端２３に環状領域１６に
どいて円環状に伸びて３り、吸引孔２０の下端２４は回
転保持台１０の内部に号いて例えば中央から四方に伸び
る導通孔２５に連通し、この導通孔２５は、胴部１２０
内に設けた導通路１３０に連通している。そしてこの保
持Ｊ−ｈ、　ｉ　Ｑは、回転軸部１４０とは別体に構成
されていて、その胴部１２０に３いて当該回転軸部１４
０に脱屑可能に例えばねじなどにより固定されている。

胴部１２０内の導通路１３０は、回転軸部１４０円に設
けた導通路１５０に連通している。この導通路１５０は
真空ポンプ（図示せず）に気密に接続されている。

＋ｚｒｘ−ｒムなどエフなる円周側バッキング用すング
であり、このノぞツキング用リング４１は、保持部１１
０の環状領域１６の内方側に８いて回転軸Ｐｉ中心とて
る環状に設けた凹溝１７内に配設され、このバッキング
用リング４１の上部外周部の全体は保持部１１０から上
方に突出し工いる。

４２はゴムなどエフなる外周側バッキング用リングであ
り、このバッキング用リング４２は、保持部１１０の環
状領域１６の外方側にどいて回転軸Ｐｉ中心とする環状
に設けた凹溝１８内に配設され、このバッキング用りン
グ４２の上部外周部の全体は保持部１１０から上方に突
出していて、七の突出高さは、内周側バッキング用リン
グ４１の突出高石と同じである。

５１は、その中火部に貫通孔５２ｉ肩する円板状の基板
でろって例えば元ディスク用の基板である。この元ディ
スク用の基＆５１は１例えばガラス或いにアクリル系樹
脂エフなり、その中火部の）Ｔ通孔５２の直径は例えば
約３５−程度であり、基＆５１の直径は例えば約２００
〜３００ｍｍ５度である。

この基板５１は、その中心が回転軸Ｐ上に位置する工う
、ノぞツキング用りング４１及び４２の上部外周部上に
載置され、保持部１１０とは直接接触しない状態に３か
れる。

以上の薄酸の装置に２いては次のようにして塗布膜が形
成される。即）、基板５１勿ａＲツキング用リング４１
及び４２上に載置した状態で、真空ポンプにより吸引孔
２０内を排気すると基板５１の下面がノクツキング用リ
ング４１及び４２に気密に密着し、吸引孔２０内の負圧
により基板５１が回転保持台１０に吸引固定される。仄
いで塗布液の液滴を基板５１の上面に滴下し回転駆動部
（図示せず）により回転保持台１０ｉその回転軸Ｐｉ中
心に高速回転せしめると、　これと一体的に基板５１が
七の貫通孔５２紫中心に回転され、この回転に伴なう遠
心力に！−り基板５１上の液滴が外方に次第に展延し、
これにより基板５１の上面に塗布膜が形成される。

〔実施例の作用効果〕

以上の実施例にＬれば欠の工うな作用効果が奏される。

（１１吸引孔２０はその開口即ち上端２３が回転保持台
１０の保持部１１０１ｃ＃ける環状領域１６内ち基板５
１（７）貫通孔５２が真正面に対向する領域部分の外方
９１１１に位置され、しかも環状領域１６内にＨいて上
端２３？を間に挾ｆ＋Ｊ−偵域の内周と外周にはそれぞ
れＡツキング用リング４１及び４２２配設しているため
、これらノぐツキング用りング４１及び４２上に基板５
１’ｔ−載置ぜしめて真空ポンプに工ろ排気？行なって
いる状態にＨいては、上端２３が基板５１の貫通孔５２
とは連通ぜずしかも外部空間から遮ｆ′ｒさｎるたわ、
真空ポンプによる排気にＪ−シ吸引孔２０Ｆ３１Ｃ確実
導負圧？形成することかでき、この結果中火部に貫通孔
５２’ｆｆｉ肩する基板５１ｉ回転保持台ｌＯ上に確実
に吸引固定することができ、結局簡単な溝底で中央部に
ｉ通孔５２？！−有する基板５１の上ｒｆＪｉＣ薙実に
塗布膜？形成することができる。

ヤしてこのことρシら、通常中天部に貫通孔が形ｆｉｙ
、されている元ディスク用基板或いは元ディスク原盤用
基板などに８いて、記録層或いはレジスト層の形成を負
圧を利用した簡＄な構成の上述の回転型塗布装置にエリ
行なうことができ、このため塗布工程に３いては基板の
取付は及び取外しｔ短時間で行なうことができるうえ迅
速に塗布膜上形成することができ、この結果元ディスク
或いは元ディスク原盤の生産効率を高（することができ
、しかも基板の塗布面側には接触するものがないので塗
布膜への汚染のＳそｉ、もなく、このため均−件の高い
塗布Ｈ’を形成することができ、結局均−注の良い元デ
ィスク或いは元ディスク原盤を得ることができる。

そして回転保持ｂ　ｌ　Ｏｋ回転軸部１４０から分離可
能に薄酸しているため、従来の回転型塗布装餘ににいて
、その回転保持台が分離可能である場合にはこれ？上記
の如き回転保持台ｌＯに交換することＶＣ！−９容易に
本発明の回転型壁布装置り得ることがでさる利益が得ら
れる。

〔他の実施例〕

第３図（イ）及び仲）は・朋の実施例倉示す説明図でめ
り、回転保持臼２００の平坦な保持部１１１に３げる中
央領域１５０の外側の糠状領域１６０において各々開口
する工う小径の多数の吸引孔２００で設けた例である。

即）この例にどいては、吸引孔２００の上端２１０が保
持部１１１に３いて四方に放射状に並ぶよう、各々互に
離間して配置ｔされている。これらの吸引孔２００は各
々の下端２２０が、回転保持８１００の内部にどいて四
方に放射状に伸びる工う設げた専通孔２３０に連通し、
この専通孔２３０は胴部１２０内に設げた導通路１３０
に連通している。そしてこの保持台１００は、回転軸部
１４０とは別体に構成されていて、その胴部１２０にお
いて百該回転軸部１４０て脱着可能に例えばねじなどに
より固定されている。胴部１２０内の導通路１３０は回
転ｓ１部１４０内に設けた等通路１５０に気密に連通し
、こＣ１）　４通路１５０に真空ポンプ（図示せず）に
気密に接続されている。

この例に３いては、バンキング用リングを設けずに、基
板５１全七の中心用と回転＠Ｐとが一致する工う回ｒ／
、保持廿１００の平坦な保持部Ｉｌｌ上に直接接触ぜし
めて載置する。

〔他の実施例の作用効果〕 この例に３いては次のような作用効果が奏される。

（１）吸引孔２００の上端２１０の何れもが回転保持台
１００の保持部１１１にｊ６ける環状領域１６０に位ｆ
！！、されていて、基板５１が保持部１１１に載置され
た状態に３いては、基板５１の中火部の貫通孔５２が上
端２１０とは対向しないため、この状態で真空ポンプに
工ろ排気７行なうと、吸引孔２００内に確実に負圧を形
成することができ、このだ果基板５１？保持部Ｉｌｌ上
に密層した状態で確実に吸引固定することができ、従っ
て基板５１が曲が９のない平坦な状態で保持され、結局
簡単な構成で中火部に貫通孔５２？肩する基板５１の上
面に確実にしかも曲がりのない状態で均一な釜布膜を形
成することができる。

このように基板５１’ｌ−曲がりのない状態で塗布膜を
形成することができるため膜厚の均−注が高（、従って
元ディスク用基板の表面に膜厚のムラがな（て均一性の
良い高性能の記録Ｊ＠を形成することが可ｎ目となる。

またこの例に３いてはバッキング用リングに用いないた
め、バッキング用リングの劣化に裏って生ずることのめ
る吸引力の早期低下が生ぜず、また〕ぐツキング用リす
グ？交換するというｆ′Ｆ−条も不要でありメンテナン
スに要する費用が少ない利益も得られる。

そして回転保持台１００’ｊ−回転軸部１４０から分？
准可能に構成【−ているため、従来の回転型塗布装置に
おいて、その回転保持臼が分離可能である場合にはこｔ
ｔ２上記の如き回転保持台１００に交換することにより
容易に本発明の回転型は布装置？得ることができる利益
が得られる。

以上具体的実施例に基いて本発明全説明したが、本発明
に８いては、保持部の中天領域に穴が形成されていても
よく、この場合には当該穴が吸引孔と連通していなげれ
ばよい。

〔発明のｒ「用効果〕

以上詳細に説明した工うに、本発明は、基板？回転保持
台に負圧により保持し回転させながらこの基板の表面に
塗布膜を形成する回転型塗布装置であって、前記回転保
持８に、その保持部に３ける中央領域の外側の環状領域
に開口する吸引孔を具えてなることを特徴とする回転型
塗布装置であるから、中天部に貫通孔全層する基板であ
っても負圧により吸引保持することができて塗布膜の形
成全行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（イ）及び（口１はそれぞれ本発明の一実施例ヤ
示す説明用縦断正面図及び説明用平面図、第２図（イ）
及び仲１はそれぞれ従来装置の一例？示す鋏明用縦断正
面図及び説明用平面図、第３図（イ）及び（ロ）はそれ
ぞれ不発明の他の実施例を示す説明用縦断正面図及び説
明用平面図でろる。 ｌ・・・回転保持臼　　　　２・・・吸引孔２１・・・
上端　　　　　　１１・・・保持部２２・・・下端　　
　　　　１２・・・回転軸部１３・・・導通路　　　　
　　４・・・バッキング用リングｌ４・・・凹溝　　　
　　　５・・・基板Ｐ・・・回転軸　　　　　　１０・
・・回転保持せ１１０・・・保持部　　　　　１５・・
・中天領域１６・・・環状領域　　　　２０・・・吸引
孔５１・・・基板　　　　　　５２・・・貫通孔２３・
・・上端　　　　　　　２４・・・下端２５・・・導通
孔　　　　　　　４１・・・バンキング用リング１７・
・・凹溝　　　　　　　　　４２・・・ノぞツキング用
リング１００・・・回転保持＊　　　　ｌ　ｌ　ｌ・・
・保持部１５０・・・中火領域　　　　１６０・・・環
状領域２００・・・吸引孔　　　　１２０・・・胴部１
４０・・・回転棚部　　　　１３０，１５０・・・導通
路２１０・・・上端 」α　ｌ　図　（イ） 第１図（Ｄ） 負さ　２　図　（イ） ぞ窪２図（ロ） り疼３　図　（イ） ４色３図　（ロ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）基板を回転保持台に負圧により保持し回転させなが
   らこの基板の表面に塗布膜を形成する回転型塗布装置で
   あつて、前記回転保持台は、その保持部における中央領
   域の外側の環状領域に開口する吸引孔を具えてなること
   を特徴とする回転型塗布装置。