JPH07284716A - スピンコータ及びそのスピンコータにおける回転板保持方法 - Google Patents
スピンコータ及びそのスピンコータにおける回転板保持方法Info
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- JPH07284716A JPH07284716A JP10175494A JP10175494A JPH07284716A JP H07284716 A JPH07284716 A JP H07284716A JP 10175494 A JP10175494 A JP 10175494A JP 10175494 A JP10175494 A JP 10175494A JP H07284716 A JPH07284716 A JP H07284716A
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- spin coater
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薬液が塗布される回転板の変形と、回転板の
裏面やテーブル面への汚染を無くすとともに、ターンテ
ーブルから回転板への熱伝導による影響を無くすことが
できるようにしたスピンコータ及びそのスピンコータに
おける回転板保持方法を提供する。 【構成】 ターンテーブル４上に水平に配設したガラス
原盤１０上に薬液を滴下し、ターンテーブル４によりガ
ラス原盤１０を回転させて、ガラス原盤１０上に均一な
薬膜を形成させるものであって、ターンテーブル４上の
ガラス原盤１０が載置される領域内に真空吸着用の環状
溝１８を設けるとともに、この環状溝１８により囲まれ
る内側に大気開放用穴２１を通して大気圧に通じる凹部
２０を設けた。
裏面やテーブル面への汚染を無くすとともに、ターンテ
ーブルから回転板への熱伝導による影響を無くすことが
できるようにしたスピンコータ及びそのスピンコータに
おける回転板保持方法を提供する。 【構成】 ターンテーブル４上に水平に配設したガラス
原盤１０上に薬液を滴下し、ターンテーブル４によりガ
ラス原盤１０を回転させて、ガラス原盤１０上に均一な
薬膜を形成させるものであって、ターンテーブル４上の
ガラス原盤１０が載置される領域内に真空吸着用の環状
溝１８を設けるとともに、この環状溝１８により囲まれ
る内側に大気開放用穴２１を通して大気圧に通じる凹部
２０を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば光ディスク原盤
製造装置において、ターンテーブル上に水平に配設した
ガラス原盤上に薬液を滴下し、そのターンテーブルによ
りガラス原盤を回転させて、そのガラス原盤上に均一な
薬膜を形成させるのに好適なスピンコータ及びそのスピ
ンコータにおける回転板保持方法に関するものである。
製造装置において、ターンテーブル上に水平に配設した
ガラス原盤上に薬液を滴下し、そのターンテーブルによ
りガラス原盤を回転させて、そのガラス原盤上に均一な
薬膜を形成させるのに好適なスピンコータ及びそのスピ
ンコータにおける回転板保持方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のスピンコータは、ガラス
原盤が載置されるターンテーブル上の面に、環状の溝と
放射状の溝を有し、中央の穴より真空引きしてガラス原
盤をターンテーブル上に保持する構造が採られている。
原盤が載置されるターンテーブル上の面に、環状の溝と
放射状の溝を有し、中央の穴より真空引きしてガラス原
盤をターンテーブル上に保持する構造が採られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
構造では、真空吸着圧力がガラス原盤の中央に集中して
加わり、この圧力でガラス原盤が変形する等、ターンテ
ーブル形状の影響を受け易いと言う問題点があった。ま
た、ガラス原盤の上面または端面に散布された薬液等を
吸い込み、この吸い込むときにガラス原盤の裏面やター
ンテーブル側の載置面を汚し易いと言う問題点があっ
た。さらに、ターンテーブルとガラス原盤とが密着する
面積、すなわち熱伝導面が広いので、ターンテーブルを
支持しているスピンドル側からの熱の影響を受け易いと
言う問題点があった。
構造では、真空吸着圧力がガラス原盤の中央に集中して
加わり、この圧力でガラス原盤が変形する等、ターンテ
ーブル形状の影響を受け易いと言う問題点があった。ま
た、ガラス原盤の上面または端面に散布された薬液等を
吸い込み、この吸い込むときにガラス原盤の裏面やター
ンテーブル側の載置面を汚し易いと言う問題点があっ
た。さらに、ターンテーブルとガラス原盤とが密着する
面積、すなわち熱伝導面が広いので、ターンテーブルを
支持しているスピンドル側からの熱の影響を受け易いと
言う問題点があった。
【０００４】そこで、これらの問題点を解決するのに、
ガラス原盤の外周部近くに対応させて、Ｏリングをガラ
ス原盤とターンテーブルとの間に介装し、このＯリング
の内側で真空吸着するようにした構造も既に提案されて
いる。しかし、この構造では薬液の吸い込み等は解消で
きるが、ガラス原盤の変形はより大きくなると言う問題
点があった。
ガラス原盤の外周部近くに対応させて、Ｏリングをガラ
ス原盤とターンテーブルとの間に介装し、このＯリング
の内側で真空吸着するようにした構造も既に提案されて
いる。しかし、この構造では薬液の吸い込み等は解消で
きるが、ガラス原盤の変形はより大きくなると言う問題
点があった。
【０００５】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は薬液が塗布される回転板の変形
と、回転板の裏面やターンテーブル面への汚染を無くす
とともに、ターンテーブルから回転板への熱伝導による
影響を無くすことができるようにしたスピンコータ及び
そのスピンコータにおける回転板保持方法を提供するこ
とにある。さらに、他の目的は、以下に説明する内容の
中で順次明らかにして行く。
のであり、その目的は薬液が塗布される回転板の変形
と、回転板の裏面やターンテーブル面への汚染を無くす
とともに、ターンテーブルから回転板への熱伝導による
影響を無くすことができるようにしたスピンコータ及び
そのスピンコータにおける回転板保持方法を提供するこ
とにある。さらに、他の目的は、以下に説明する内容の
中で順次明らかにして行く。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明にあ
っては、ターンテーブル上に水平に配設した回転板上に
薬液を滴下し、前記ターンテーブルにより前記回転板を
回転させて、前記回転板上に均一な薬膜を形成させるス
ピンコータにおいて、前記ターンテーブル上の前記回転
板が載置される領域内に真空吸着用の環状の溝を設ける
とともに、前記環状溝により囲まれる内側の領域内を凹
部として形成し、前記凹部内に大気圧に通じる孔を設け
て達成される。
っては、ターンテーブル上に水平に配設した回転板上に
薬液を滴下し、前記ターンテーブルにより前記回転板を
回転させて、前記回転板上に均一な薬膜を形成させるス
ピンコータにおいて、前記ターンテーブル上の前記回転
板が載置される領域内に真空吸着用の環状の溝を設ける
とともに、前記環状溝により囲まれる内側の領域内を凹
部として形成し、前記凹部内に大気圧に通じる孔を設け
て達成される。
【０００７】
【作用】これによれば、ターンテーブル上に載置された
回転板は、ターンテーブル側に設けられている環状溝の
部分により、回転板の外周側だけが真空吸着されてター
ンテーブル上に保持されるので、例え薬液が吸い込まれ
たとしても外周側の環状溝の部分で吸い込まれることに
なり、回転板の中心側まで汚染されることが無くなる。
また、環状溝に対応している回転板の外周近くだけが真
空吸着されて、その内側は大気圧に通じる凹部となって
おり、この凹部の部分では回転板の面とターンテーブル
の面とは接触しないので、回転板の裏面中心側の汚染を
さらに少なくすることができるとともに、ターンテーブ
ル側から回転板への熱伝導を少なくして熱影響を無く
し、回転板の変形を少なくすることができる。
回転板は、ターンテーブル側に設けられている環状溝の
部分により、回転板の外周側だけが真空吸着されてター
ンテーブル上に保持されるので、例え薬液が吸い込まれ
たとしても外周側の環状溝の部分で吸い込まれることに
なり、回転板の中心側まで汚染されることが無くなる。
また、環状溝に対応している回転板の外周近くだけが真
空吸着されて、その内側は大気圧に通じる凹部となって
おり、この凹部の部分では回転板の面とターンテーブル
の面とは接触しないので、回転板の裏面中心側の汚染を
さらに少なくすることができるとともに、ターンテーブ
ル側から回転板への熱伝導を少なくして熱影響を無く
し、回転板の変形を少なくすることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。図１乃至図３は本発明の一実施例とし
て光ディスク原盤製造装置におけるスピンコータの要部
構成を示すもので、図１はそのスピンコータにおけるタ
ーンテーブル部周辺構造の拡大図、図２は一部を破断し
て示すスピンコータの要部側面図、図３は図２に示すス
ピンコータの上面図である。
詳細に説明する。図１乃至図３は本発明の一実施例とし
て光ディスク原盤製造装置におけるスピンコータの要部
構成を示すもので、図１はそのスピンコータにおけるタ
ーンテーブル部周辺構造の拡大図、図２は一部を破断し
て示すスピンコータの要部側面図、図３は図２に示すス
ピンコータの上面図である。
【０００９】図１乃至図３において、スピンコータ１
は、ベース板２上に形成されたプロセスチャンバー３
と、このプロセスチャンバー３内に設けられたターンテ
ーブル４と、ターンテーブル４と一体に回転するスピン
ドル５と、このスピンドル５を回転させるためのモータ
６と、ノズルアームユニット７等で構成されている。
は、ベース板２上に形成されたプロセスチャンバー３
と、このプロセスチャンバー３内に設けられたターンテ
ーブル４と、ターンテーブル４と一体に回転するスピン
ドル５と、このスピンドル５を回転させるためのモータ
６と、ノズルアームユニット７等で構成されている。
【００１０】さらに詳述すると、プロセスチャンバー３
は、内筒部８ａと外筒部８ｂとを有して中央が上下に貫
通したドーナツ状に形成されて、ベース板２上に固定し
て取り付けられているカップ体８と、このカップ体８の
上面を覆って取り付けられた蓋体９とで形成されてい
る。また、蓋体９の中央には光ディスクの原盤として形
成されるガラス原盤１０の出し入れを可能にする大きさ
の開口９ａが設けられている。
は、内筒部８ａと外筒部８ｂとを有して中央が上下に貫
通したドーナツ状に形成されて、ベース板２上に固定し
て取り付けられているカップ体８と、このカップ体８の
上面を覆って取り付けられた蓋体９とで形成されてい
る。また、蓋体９の中央には光ディスクの原盤として形
成されるガラス原盤１０の出し入れを可能にする大きさ
の開口９ａが設けられている。
【００１１】モータ６は、プロセスチャンバー３の略中
心に対応して、ホルダー１１を介してベース板２の下方
に固定して取り付けられており、回転軸６ａは上方に向
かって突出されている。そして、この回転軸６ａの先端
にカップリング１２を介してスピンドル５が一体回転可
能に連結されている。
心に対応して、ホルダー１１を介してベース板２の下方
に固定して取り付けられており、回転軸６ａは上方に向
かって突出されている。そして、この回転軸６ａの先端
にカップリング１２を介してスピンドル５が一体回転可
能に連結されている。
【００１２】下端側がモータ６の回転軸６ａと連結され
ている上記スピンドル５は、ベース板２を上下に貫通
し、かつ上端側がカップ体８の中心空間内に位置する状
態にしてベース板２に固定して取り付けられている。ま
た、中心には真空流路１３が形成されている。なお、こ
の真空流路１３は、スピンドル５の下端側で図示せぬ真
空源と接続されている。さらに、スピンドル５の上端に
は、Ｏリング１４を装着するためのＯリング装着溝１５
が形成されている。
ている上記スピンドル５は、ベース板２を上下に貫通
し、かつ上端側がカップ体８の中心空間内に位置する状
態にしてベース板２に固定して取り付けられている。ま
た、中心には真空流路１３が形成されている。なお、こ
の真空流路１３は、スピンドル５の下端側で図示せぬ真
空源と接続されている。さらに、スピンドル５の上端に
は、Ｏリング１４を装着するためのＯリング装着溝１５
が形成されている。
【００１３】ターンテーブル４は、スピンドル５の上端
に同心的に配置され、固定ボルト２４でスピンドル５に
固定して取り付けられている。なお、スピンドル５の上
端に取り付けられるとき、Ｏリング１４がＯリング装着
溝１５に装着されて真空流路１３に対するシールがなさ
れる。また、ターンテーブル４の下面側には、カップ体
８の内筒部８ａの上端と対応してリング溝１６が形成さ
れていて、このリング溝１６内に内筒部８ａの上端部が
挿入された状態にして取り付けられている。一方、ター
ンテーブル４の上面側には、外周部分に環状の溝１８が
形成されている。なお、この環状溝１８はスピンドル５
と同心的に設けられ、また外径がガラス原盤１０の外径
よりも小さな状態にして形成されている。さらに、この
環状溝１８内には、このターンテーブル４の下面側で中
心に開口されて、スピンドル５側の真空流路１３と連結
されている真空流路１９の開口１９ａが互いに１８０度
ずれた位置に形成されている。加えて、ターンテーブル
４の上面側には、環状溝１８で囲まれた領域内の部分
に、環状溝１８と連通させずにザグリを入れて、その部
分略全体を凹部２０として形成している。加えて、凹部
２０内には、このターンテーブル４を上下に貫通して大
気開放用穴２１が形成されている。そして、このターン
テーブル４上にガラス原盤１０が乗せられた後から、図
示せぬ真空源を駆動させると、環状溝１８内が真空流路
１３，１９を通して真空にされ、これにより環状溝１８
の部分でガラス原盤１０の外周部近傍内側が吸引されて
真空チャックでき、また真空源を停止させると真空チャ
ックを解除できる構造になっている。図２は、このよう
にガラス原盤１０がターンテーブル４上に真空チャック
されている状態を示している。
に同心的に配置され、固定ボルト２４でスピンドル５に
固定して取り付けられている。なお、スピンドル５の上
端に取り付けられるとき、Ｏリング１４がＯリング装着
溝１５に装着されて真空流路１３に対するシールがなさ
れる。また、ターンテーブル４の下面側には、カップ体
８の内筒部８ａの上端と対応してリング溝１６が形成さ
れていて、このリング溝１６内に内筒部８ａの上端部が
挿入された状態にして取り付けられている。一方、ター
ンテーブル４の上面側には、外周部分に環状の溝１８が
形成されている。なお、この環状溝１８はスピンドル５
と同心的に設けられ、また外径がガラス原盤１０の外径
よりも小さな状態にして形成されている。さらに、この
環状溝１８内には、このターンテーブル４の下面側で中
心に開口されて、スピンドル５側の真空流路１３と連結
されている真空流路１９の開口１９ａが互いに１８０度
ずれた位置に形成されている。加えて、ターンテーブル
４の上面側には、環状溝１８で囲まれた領域内の部分
に、環状溝１８と連通させずにザグリを入れて、その部
分略全体を凹部２０として形成している。加えて、凹部
２０内には、このターンテーブル４を上下に貫通して大
気開放用穴２１が形成されている。そして、このターン
テーブル４上にガラス原盤１０が乗せられた後から、図
示せぬ真空源を駆動させると、環状溝１８内が真空流路
１３，１９を通して真空にされ、これにより環状溝１８
の部分でガラス原盤１０の外周部近傍内側が吸引されて
真空チャックでき、また真空源を停止させると真空チャ
ックを解除できる構造になっている。図２は、このよう
にガラス原盤１０がターンテーブル４上に真空チャック
されている状態を示している。
【００１４】ノズルアームユニット７は、図示せぬ薬液
供給器に通じており、先端にはノズル部７ａが設けられ
ている。そして、このノズルアームユニット７では、タ
ーンテーブル４上にガラス原盤１０をセット及び交換す
るときにノズル部７ａが邪魔にならない待機位置に移動
させておき、セット後に再びガラス原盤１０の上（散布
位置）に戻すことができる構造になっている。
供給器に通じており、先端にはノズル部７ａが設けられ
ている。そして、このノズルアームユニット７では、タ
ーンテーブル４上にガラス原盤１０をセット及び交換す
るときにノズル部７ａが邪魔にならない待機位置に移動
させておき、セット後に再びガラス原盤１０の上（散布
位置）に戻すことができる構造になっている。
【００１５】このように構成されたスピンコータの動作
を次に説明する。まず、ターンテーブル４上にガラス原
盤１０がセットされて、真空源が駆動されると、環状溝
１８の部分でガラス原盤１０が吸引されて真空チャック
される。このとき、環状溝１８で囲まれた内側は大気開
放用穴２１を通して大気圧と通じている。次いで、薬液
散布指令が上位装置より受けると、ノズルアームユニッ
ト７がノズル部７ａを散布位置に移動させる。また、移
動が完了すると、その位置で停止する。
を次に説明する。まず、ターンテーブル４上にガラス原
盤１０がセットされて、真空源が駆動されると、環状溝
１８の部分でガラス原盤１０が吸引されて真空チャック
される。このとき、環状溝１８で囲まれた内側は大気開
放用穴２１を通して大気圧と通じている。次いで、薬液
散布指令が上位装置より受けると、ノズルアームユニッ
ト７がノズル部７ａを散布位置に移動させる。また、移
動が完了すると、その位置で停止する。
【００１６】次に、ノズル部７ａよりガラス原盤１０上
に例えばフォトレジスト、現像液等薬液が散布される。
散布が終わると、モータ６が駆動され、スピンドル５及
びターンテーブル４がガラス原盤１０と共に回転され
る。すると、散布された薬液がスピンコートされ、均一
な薬膜が形成される。これと同時に、ノズルアームユニ
ット７がノズル部７ａを待機位置に移動させ、移動が完
了すると次の薬液散布指令が出るまで待機する。また、
ガラス原盤１０へのスピンコートが終了するとモータ６
が停止され、次いでガラス原盤１０に対する真空チャッ
クが解かれてガラス原盤１０の交換が行われる。これに
より、１サイクルが終了する。
に例えばフォトレジスト、現像液等薬液が散布される。
散布が終わると、モータ６が駆動され、スピンドル５及
びターンテーブル４がガラス原盤１０と共に回転され
る。すると、散布された薬液がスピンコートされ、均一
な薬膜が形成される。これと同時に、ノズルアームユニ
ット７がノズル部７ａを待機位置に移動させ、移動が完
了すると次の薬液散布指令が出るまで待機する。また、
ガラス原盤１０へのスピンコートが終了するとモータ６
が停止され、次いでガラス原盤１０に対する真空チャッ
クが解かれてガラス原盤１０の交換が行われる。これに
より、１サイクルが終了する。
【００１７】したがって、この実施例の構造によれば、
ターンテーブル４上に載置されたガラス原盤１０は、こ
のガラス原盤１０の外周側で環状に形成されている環状
溝１８の部分によりガラス原盤１０の外周側だけが真空
吸着されてターンテーブル４上に保持されるので、例え
薬液が吸い込まれたとしても外周側の環状溝１８の部分
で吸い込まれることになり、ガラス原盤１０の中心側ま
で汚染されることが無くなる。また、環状溝１８に対応
しているガラス原盤１０の外周近くだけが真空吸着され
るので、ガラス原盤１０の変形を少なくすることができ
る。さらに、この環状に真空吸着されている部分の内側
は大気圧に通じる凹部２０となっており、この凹部２０
の部分ではガラス原盤１０の面とターンテーブル４の面
とが接触しないので、ガラス原盤１０の裏面中心側の汚
染をさらに少なくすることができるとともに、ターンテ
ーブル４側からガラス原盤１０への熱伝導を少なくして
熱影響を無くすことができる。
ターンテーブル４上に載置されたガラス原盤１０は、こ
のガラス原盤１０の外周側で環状に形成されている環状
溝１８の部分によりガラス原盤１０の外周側だけが真空
吸着されてターンテーブル４上に保持されるので、例え
薬液が吸い込まれたとしても外周側の環状溝１８の部分
で吸い込まれることになり、ガラス原盤１０の中心側ま
で汚染されることが無くなる。また、環状溝１８に対応
しているガラス原盤１０の外周近くだけが真空吸着され
るので、ガラス原盤１０の変形を少なくすることができ
る。さらに、この環状に真空吸着されている部分の内側
は大気圧に通じる凹部２０となっており、この凹部２０
の部分ではガラス原盤１０の面とターンテーブル４の面
とが接触しないので、ガラス原盤１０の裏面中心側の汚
染をさらに少なくすることができるとともに、ターンテ
ーブル４側からガラス原盤１０への熱伝導を少なくして
熱影響を無くすことができる。
【００１８】なお、上記実施例では、光ディスク原盤製
造装置におけるスピンコータについて説明したが、これ
以外にも半導体装置においてウエハ上にフォトレジスト
膜を形成する場合にも適用できるものである。
造装置におけるスピンコータについて説明したが、これ
以外にも半導体装置においてウエハ上にフォトレジスト
膜を形成する場合にも適用できるものである。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
ターンテーブル上に載置された回転板は、ターンテーブ
ル側に設けられている環状に形成されている溝の部分に
より、回転板の外周側だけが真空吸着されてターンテー
ブル上に保持されるので、例え薬液が吸い込まれたとし
ても外周側の環状溝の部分で吸い込まれることになり、
回転板の中心側まで汚染されることが無くなる。また、
環状溝に対応している回転板の外周近くだけが真空吸着
されるので、回転板の変形を少なくすることができる。
さらに、この環状に真空吸着されている部分の内側は大
気圧に通じる凹部となっており、この凹部の部分では回
転板の面とターンテーブルの面とが接触しないので、回
転板の裏面中心側の汚染をさらに少なくすることができ
るとともに、ターンテーブル側から回転板への熱伝導を
少なくして熱影響を無くすことができる。
ターンテーブル上に載置された回転板は、ターンテーブ
ル側に設けられている環状に形成されている溝の部分に
より、回転板の外周側だけが真空吸着されてターンテー
ブル上に保持されるので、例え薬液が吸い込まれたとし
ても外周側の環状溝の部分で吸い込まれることになり、
回転板の中心側まで汚染されることが無くなる。また、
環状溝に対応している回転板の外周近くだけが真空吸着
されるので、回転板の変形を少なくすることができる。
さらに、この環状に真空吸着されている部分の内側は大
気圧に通じる凹部となっており、この凹部の部分では回
転板の面とターンテーブルの面とが接触しないので、回
転板の裏面中心側の汚染をさらに少なくすることができ
るとともに、ターンテーブル側から回転板への熱伝導を
少なくして熱影響を無くすことができる。
【図１】本発明の一実施例として示すスピンコータのタ
ーンテーブル部周辺構造における拡大図である。
ーンテーブル部周辺構造における拡大図である。
【図２】本実施例に係るスピンコータの要部側面図であ
る。
る。
【図３】本実施例に係るスピンコータの上面図である。
１ スピンコータ ４ ターンテーブル ５ スピンドル １０ ガラス原盤（回転板） １３ 真空流路 １８ 環状溝 １９ 真空流路 ２０ 凹部 ２１ 大気開放用穴
Claims (4)
- 【請求項１】 ターンテーブル上に水平に配設した回転
板上に薬液を滴下し、前記ターンテーブルにより前記回
転板を回転させて、前記回転板上に均一な薬膜を形成さ
せるスピンコータにおいて、 前記ターンテーブル上の前記回転板が載置される領域内
に真空吸着用の環状の溝を設けるとともに、前記環状溝
により囲まれる内側の領域内を凹部として形成し、前記
凹部内に大気圧に通じる孔を設けたことを特徴とするス
ピンコータ。 - 【請求項２】 前記真空吸着用の環状溝に通じる真空流
路を前記ターンテーブルの軸中心を通って設けた請求項
１に記載のスピンコータ。 - 【請求項３】 ターンテーブル上に水平に配設したガラ
ス原盤上に薬液を滴下し、前記ターンテーブルにより前
記ガラス原盤を回転させて、前記ガラス原盤上に均一な
薬膜を形成させる光ディスク原盤製造装置におけるスピ
ンコータにおいて、 前記ターンテーブル上の前記回転板が載置される領域内
に真空吸着用の環状の溝を設けるとともに、前記環状溝
により囲まれる内側に大気圧に通じる凹部を設けたこと
を特徴とする光ディスク原盤製造装置におけるスピンコ
ータ。 - 【請求項４】 ターンテーブル上に水平に配設した回転
板上に薬液を滴下し、前記ターンテーブルにより前記回
転板を回転させて、前記回転板上に均一な薬膜を形成さ
せるスピンコータにおける回転板保持方法において、 前記ターンテーブル上に載置された前記回転板の外周部
近くを環状に真空吸着して前記ターンテーブル上に保持
するとともに、その環状に真空吸着されている部分の内
側に大気圧に通じる凹部を設け、前記凹部の部分では前
記回転板の面と前記ターンテーブルの面とが接触しない
ようにして保持することを特徴とするスピンコータにお
ける回転板保持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175494A JPH07284716A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | スピンコータ及びそのスピンコータにおける回転板保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175494A JPH07284716A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | スピンコータ及びそのスピンコータにおける回転板保持方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07284716A true JPH07284716A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=14309030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10175494A Pending JPH07284716A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | スピンコータ及びそのスピンコータにおける回転板保持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07284716A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001063606A1 (en) * | 2000-02-25 | 2001-08-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a circular optical storage disc and circular optical storage disc |
| JP2010109249A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 回転処理装置 |
| WO2016092700A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |
| CN110665710A (zh) * | 2019-11-11 | 2020-01-10 | 徐州涡轮空间汽车科技有限公司 | 一种喷涂汽车配件装置 |
| WO2020100804A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2020-05-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP10175494A patent/JPH07284716A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001063606A1 (en) * | 2000-02-25 | 2001-08-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a circular optical storage disc and circular optical storage disc |
| JP2010109249A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 回転処理装置 |
| WO2016092700A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |
| JPWO2016092700A1 (ja) * | 2014-12-12 | 2017-10-19 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |
| US10431463B2 (en) | 2014-12-12 | 2019-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holding device, lithography apparatus, and article production method |
| WO2020100804A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2020-05-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
| CN110665710A (zh) * | 2019-11-11 | 2020-01-10 | 徐州涡轮空间汽车科技有限公司 | 一种喷涂汽车配件装置 |
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