JPS626688Y2 - - Google Patents
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- JPS626688Y2 JPS626688Y2 JP7779781U JP7779781U JPS626688Y2 JP S626688 Y2 JPS626688 Y2 JP S626688Y2 JP 7779781 U JP7779781 U JP 7779781U JP 7779781 U JP7779781 U JP 7779781U JP S626688 Y2 JPS626688 Y2 JP S626688Y2
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- JP
- Japan
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- chuck body
- chuck
- main
- semiconductor wafer
- movable
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- Expired
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- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 26
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案はフオトレジスト塗布装置に組み込ん
で用いる真空チヤツクの改良に関するものであ
る。
で用いる真空チヤツクの改良に関するものであ
る。
集積回路等の製造に当り、いわゆるフオトエツ
チングの技術が駆使されているが、その一工程と
して半導体ウエフアの表面にフオトレジストを塗
布乾燥する工程がある。フオトエツチングの各工
程はすべて集積回路におけるパターンの解像度に
影響するので、良質の集積回路を得るためにはフ
オトレジストの塗布並びに乾燥がバラツキなくし
かも各部均等に行なわれる必要がある。
チングの技術が駆使されているが、その一工程と
して半導体ウエフアの表面にフオトレジストを塗
布乾燥する工程がある。フオトエツチングの各工
程はすべて集積回路におけるパターンの解像度に
影響するので、良質の集積回路を得るためにはフ
オトレジストの塗布並びに乾燥がバラツキなくし
かも各部均等に行なわれる必要がある。
第1図はこのような場合に用いられるフオトレ
ジスト塗布装置の従来の例を示すものである。こ
の塗布装置は、下部容器1と下部容器1の中心で
回転する真空チヤツク2と蓋3とによつて構成さ
れている。真空チヤツク2は頂部に円板状の吸着
部4を備え半導体ウエフアSWを吸着しつつ電動
機5によつて回転されるものである。また下部容
器1は半導体ウエフアSWにフオトレジストを塗
布する際、図示しないシリンダ装置によつて押し
上げられて蓋3と密着する構成がとられている。
蓋3の側にフオトレジストの噴射機構が設けら
れ、また下部容器1には吸気管6および下部にた
まつたフオトレジストの排出管7が設けられてい
る。
ジスト塗布装置の従来の例を示すものである。こ
の塗布装置は、下部容器1と下部容器1の中心で
回転する真空チヤツク2と蓋3とによつて構成さ
れている。真空チヤツク2は頂部に円板状の吸着
部4を備え半導体ウエフアSWを吸着しつつ電動
機5によつて回転されるものである。また下部容
器1は半導体ウエフアSWにフオトレジストを塗
布する際、図示しないシリンダ装置によつて押し
上げられて蓋3と密着する構成がとられている。
蓋3の側にフオトレジストの噴射機構が設けら
れ、また下部容器1には吸気管6および下部にた
まつたフオトレジストの排出管7が設けられてい
る。
このフオトレジスト塗布装置において、吸着部
4としては半導体ウエフアSWに比し小径のもの
が用いられ、半導体ウエフアSWはその上に載置
吸引された状態にある。これはフオトレジスト塗
布装置の両側にフオーク状部を備えた第1および
第2の摺動テーブルを配設し、第1の摺動テーブ
ルに載せて半導体ウエフアSWを吸着部4上に運
び、フオトレジスト層8が形成された後にこれを
傷めないように第2の摺動テーブルに載せて次の
工程に運ぶためである。したがつて半導体ウエフ
アSWの下面に摺動テーブルのフオーク状部が挿
入されるだけの吸着部4よりはみ出した部分が必
要である。
4としては半導体ウエフアSWに比し小径のもの
が用いられ、半導体ウエフアSWはその上に載置
吸引された状態にある。これはフオトレジスト塗
布装置の両側にフオーク状部を備えた第1および
第2の摺動テーブルを配設し、第1の摺動テーブ
ルに載せて半導体ウエフアSWを吸着部4上に運
び、フオトレジスト層8が形成された後にこれを
傷めないように第2の摺動テーブルに載せて次の
工程に運ぶためである。したがつて半導体ウエフ
アSWの下面に摺動テーブルのフオーク状部が挿
入されるだけの吸着部4よりはみ出した部分が必
要である。
ところが、このようにはみ出した部分がある
と、フオトレジスト塗布の際、噴射されたフオト
レジストの一部が、この部分に廻り込んで無用に
付着する不都合があり、特に半導体ウエフアSW
の両面を利用するような場合にはこれが表裏面不
均一の原因となり半導体装置としての特性を著し
く劣化させる欠点があつた。
と、フオトレジスト塗布の際、噴射されたフオト
レジストの一部が、この部分に廻り込んで無用に
付着する不都合があり、特に半導体ウエフアSW
の両面を利用するような場合にはこれが表裏面不
均一の原因となり半導体装置としての特性を著し
く劣化させる欠点があつた。
この考案は上記の事情を解消するためのもの
で、チヤツク本体の中央凹部に嵌合する補助チヤ
ツク体を設けこのチヤツク体を昇降自在な構成と
するとともにチヤツク本体上面の形状を対象とす
る半導体ウエフアと略一致させることにより、ウ
エフアの供給並びに送出が容易であるとともにウ
エフアの裏面に対するフオトレジストの無用な付
着がなく均一かつ良質なものを得られるフオトレ
ジスト塗布装置用チヤツクを提供しようとするも
のである。
で、チヤツク本体の中央凹部に嵌合する補助チヤ
ツク体を設けこのチヤツク体を昇降自在な構成と
するとともにチヤツク本体上面の形状を対象とす
る半導体ウエフアと略一致させることにより、ウ
エフアの供給並びに送出が容易であるとともにウ
エフアの裏面に対するフオトレジストの無用な付
着がなく均一かつ良質なものを得られるフオトレ
ジスト塗布装置用チヤツクを提供しようとするも
のである。
以下図面を参照してこの考案の一実施例を説明
る。第2図aおよび同図bにおいて、チヤツク本
体11は主チヤツク体12およびこれを支持する
円筒状の胴部13とよりなり、主チヤツク体12
の中央に凹部14が形成され、さらにその中心に
貫通孔12′が設けられている。主チヤツク体1
2の上面の平面形状は、対象とする半導体ウエフ
アのそれと略同一の大きさに形成される。また主
チヤツク体12の周縁部は下面が傾斜して尖鋭に
形成されている。
る。第2図aおよび同図bにおいて、チヤツク本
体11は主チヤツク体12およびこれを支持する
円筒状の胴部13とよりなり、主チヤツク体12
の中央に凹部14が形成され、さらにその中心に
貫通孔12′が設けられている。主チヤツク体1
2の上面の平面形状は、対象とする半導体ウエフ
アのそれと略同一の大きさに形成される。また主
チヤツク体12の周縁部は下面が傾斜して尖鋭に
形成されている。
15は前記凹部14に嵌合する円板状の補助チ
ヤツク体16を上部に有する可動体でこれに続く
円柱状の支持部17および可動部18を備えてい
る。可動部18はチヤツク本体11の円筒状の胴
部13内を上下方向に摺動自在なもので、常時は
スプリング19により下方に押圧され補助チヤツ
ク体16が主チヤツク体12の凹部14内に位置
している。補助チヤツク体16の外径は凹部14
の内径よりも僅かに小さく両者の間に吸気用の間
隙が形成されるように構成されている。また前記
支持部17は貫通孔12′に遊嵌され支持部17
がこの貫通孔12′を案内としてその内部を円滑
に摺動して上下動し得るように構成されている。
補助チヤツク体16の上面には放射状の細溝20
が形成され、また主チヤツク体12の上面にも放
射状の細溝21aおよびこれらの間を結ぶリング
状の細溝21bが形成されている。これらの細溝
20,21aおよび21bは半導体ウエフアSW
を吸着する際空気の吸引路となるものである。ま
たチヤツク本体11の胴部13には垂直方向に沿
つて空気吸引路22が形成され凹部14に連通さ
れている。
ヤツク体16を上部に有する可動体でこれに続く
円柱状の支持部17および可動部18を備えてい
る。可動部18はチヤツク本体11の円筒状の胴
部13内を上下方向に摺動自在なもので、常時は
スプリング19により下方に押圧され補助チヤツ
ク体16が主チヤツク体12の凹部14内に位置
している。補助チヤツク体16の外径は凹部14
の内径よりも僅かに小さく両者の間に吸気用の間
隙が形成されるように構成されている。また前記
支持部17は貫通孔12′に遊嵌され支持部17
がこの貫通孔12′を案内としてその内部を円滑
に摺動して上下動し得るように構成されている。
補助チヤツク体16の上面には放射状の細溝20
が形成され、また主チヤツク体12の上面にも放
射状の細溝21aおよびこれらの間を結ぶリング
状の細溝21bが形成されている。これらの細溝
20,21aおよび21bは半導体ウエフアSW
を吸着する際空気の吸引路となるものである。ま
たチヤツク本体11の胴部13には垂直方向に沿
つて空気吸引路22が形成され凹部14に連通さ
れている。
チヤツク本体11の胴部13の下端に密封体2
3を介してフランジ24が固定的に設けられる。
胴部13の内部に形成された空気流通路25はフ
ランジ24に形成された空気流通路26に連通さ
れ、その開放端は図示しない切換器を介して真空
装置または送風装置に導かれている。
3を介してフランジ24が固定的に設けられる。
胴部13の内部に形成された空気流通路25はフ
ランジ24に形成された空気流通路26に連通さ
れ、その開放端は図示しない切換器を介して真空
装置または送風装置に導かれている。
またチヤツク本体11は電動機27によつて回
転されるものであり、この際可動体15もまたチ
ヤツク本体11とともに回転する構成がとられて
いる。
転されるものであり、この際可動体15もまたチ
ヤツク本体11とともに回転する構成がとられて
いる。
この考案のチヤツクは以上の構成よりなるもの
であるから、第1の摺動テーブルにより半導体ウ
エフアSWをこの装置上に載置する場合には切換
器により送風機に接続して空気流通路26および
25を介して胴部13内に空気を送りその圧力を
高める。このようにすると可動部18がスプリン
グ19に抗して押し上げられ補助チヤツク体16
が上昇した第2図bに示す状態になる。この状態
では補助チヤツク体16の周囲に充分な空間があ
るので第1の摺動テーブルのフオーク状部を用い
て容易に補助チヤツク体16上に運ぶことができ
る。
であるから、第1の摺動テーブルにより半導体ウ
エフアSWをこの装置上に載置する場合には切換
器により送風機に接続して空気流通路26および
25を介して胴部13内に空気を送りその圧力を
高める。このようにすると可動部18がスプリン
グ19に抗して押し上げられ補助チヤツク体16
が上昇した第2図bに示す状態になる。この状態
では補助チヤツク体16の周囲に充分な空間があ
るので第1の摺動テーブルのフオーク状部を用い
て容易に補助チヤツク体16上に運ぶことができ
る。
次いで胴部13内の空気を抜いて可動体15を
下降させ補助チヤツク体16を主チヤツク体12
の凹部14内に収容すると補助チヤツク体14の
上面は主チヤツク体12の上面と一致し、半導体
ウエフアSWは主チヤツク体12および補助チヤ
ツク体16によつて形成される広い面積の円形部
によつて安定に支持されることになる。
下降させ補助チヤツク体16を主チヤツク体12
の凹部14内に収容すると補助チヤツク体14の
上面は主チヤツク体12の上面と一致し、半導体
ウエフアSWは主チヤツク体12および補助チヤ
ツク体16によつて形成される広い面積の円形部
によつて安定に支持されることになる。
次いで切換器により真空装置に切換えると、細
溝20,21a,21b、空気流通路22,25
および26を通じて吸気され主チヤツク体12お
よび補助チヤツク体16上の半導体ウエフアSW
がこれらに吸着されて確実に保持された状態にな
る。
溝20,21a,21b、空気流通路22,25
および26を通じて吸気され主チヤツク体12お
よび補助チヤツク体16上の半導体ウエフアSW
がこれらに吸着されて確実に保持された状態にな
る。
この状態で電動機27によりチヤツク本体11
および可動体15を高速回転させ、半導体ウエフ
アSWが回転した状態でこれにフオトレジストを
塗布する。塗布が終ると再び空気を供給して補助
チヤツク体16を上昇させ第2の摺動テーブルを
駆動させて半導体ウエフアSWとその上に載せこ
れを次段の工程に移動させる。
および可動体15を高速回転させ、半導体ウエフ
アSWが回転した状態でこれにフオトレジストを
塗布する。塗布が終ると再び空気を供給して補助
チヤツク体16を上昇させ第2の摺動テーブルを
駆動させて半導体ウエフアSWとその上に載せこ
れを次段の工程に移動させる。
この考案のチヤツクは補助チヤツク体16が上
昇して半導体ウエフアSWの周縁部に空間を作る
ことができるので摺動テーブルによりこれを操作
するのが容易であるとともに、フオトレジスト塗
着時にはその下面はこれと略同形の主チヤツク体
12および補助チヤツク体16により蔽われた状
態になるのでフオトレジストの無用な付着がなく
裏面を清潔に保つことができる。したがつて半導
体ウエフアSWの両面を利用するような場合にも
支障をきたすことがない。
昇して半導体ウエフアSWの周縁部に空間を作る
ことができるので摺動テーブルによりこれを操作
するのが容易であるとともに、フオトレジスト塗
着時にはその下面はこれと略同形の主チヤツク体
12および補助チヤツク体16により蔽われた状
態になるのでフオトレジストの無用な付着がなく
裏面を清潔に保つことができる。したがつて半導
体ウエフアSWの両面を利用するような場合にも
支障をきたすことがない。
また、主チヤツク体12の周縁部は下面が傾斜
して尖鋭に形成されているので、先端部にフオト
レジストの付着することがなく、これがさらに次
の半導体ウエフアSWに付着してフオトレジスト
層の質を低下させるおそれがなく、常に良質のフ
オトレジスト層が得られるものである。
して尖鋭に形成されているので、先端部にフオト
レジストの付着することがなく、これがさらに次
の半導体ウエフアSWに付着してフオトレジスト
層の質を低下させるおそれがなく、常に良質のフ
オトレジスト層が得られるものである。
主チヤツク体12の周縁部を尖鋭な形状とした
ことは、このチヤツクをホトレジスト塗布のため
にスピン回転させた際周辺の気流を乱すことがな
く気流の流れが安定するので均一な塗布を行ない
得ることに一層貢献する。
ことは、このチヤツクをホトレジスト塗布のため
にスピン回転させた際周辺の気流を乱すことがな
く気流の流れが安定するので均一な塗布を行ない
得ることに一層貢献する。
また、この考案はチヤツク本体11に円筒状の
胴部13を備え、一方可動体15には可動部18
を設けてこの可動部18がシリンダに対するピス
トンのように胴部13内を上下方向に摺動自在な
構成を備え、しかも可動体15側の円柱状の支持
部17が主チヤツク体12の貫通孔12′に遊嵌
され貫通孔12′が案内となつて上下し高速回転
の際、チヤツク本体11と可動体15の相互関係
が安定し、さらに補助チヤツク体16の上昇並び
に下降を円滑かつ安定して行ない得るものであ
る。
胴部13を備え、一方可動体15には可動部18
を設けてこの可動部18がシリンダに対するピス
トンのように胴部13内を上下方向に摺動自在な
構成を備え、しかも可動体15側の円柱状の支持
部17が主チヤツク体12の貫通孔12′に遊嵌
され貫通孔12′が案内となつて上下し高速回転
の際、チヤツク本体11と可動体15の相互関係
が安定し、さらに補助チヤツク体16の上昇並び
に下降を円滑かつ安定して行ない得るものであ
る。
さらに、主チヤツク体12と可動部18の間に
介装されたスプリング19は常時補助チヤツク体
16が凹部14に嵌合する方向に働き、しかも真
空装置による可動体15に対する吸引力はスプリ
ング19の作用と同一方向で協働する関係にする
ので半導体ウエフア吸着時に補助チヤツク体16
を主チヤツク体12に対して著しく安定に保つこ
とができる。
介装されたスプリング19は常時補助チヤツク体
16が凹部14に嵌合する方向に働き、しかも真
空装置による可動体15に対する吸引力はスプリ
ング19の作用と同一方向で協働する関係にする
ので半導体ウエフア吸着時に補助チヤツク体16
を主チヤツク体12に対して著しく安定に保つこ
とができる。
以上述べたようにこの考案によれば、チヤツク
本体の中央凹部に嵌合する補助チヤツク体を設け
このチヤツク体を昇降自在な構成とするとともに
チヤツク本体上面の形状を対象とする半導体ウエ
フアと略一致させることにより、ウエフアの供給
並びに送出が容易であるとともにウエフアの裏面
に対するフオトレジストの無用な付着がなく均一
かつ良質なものを得られるフオトレジスト塗布装
置用チヤツクを提供することができる。
本体の中央凹部に嵌合する補助チヤツク体を設け
このチヤツク体を昇降自在な構成とするとともに
チヤツク本体上面の形状を対象とする半導体ウエ
フアと略一致させることにより、ウエフアの供給
並びに送出が容易であるとともにウエフアの裏面
に対するフオトレジストの無用な付着がなく均一
かつ良質なものを得られるフオトレジスト塗布装
置用チヤツクを提供することができる。
なお、この考案は上記実施例に限定されるもの
ではなく要旨を変更しない範囲において種々変形
して実施することができる。
ではなく要旨を変更しない範囲において種々変形
して実施することができる。
第1図は従来のフオトレジスト塗布装置の概略
的な構成図、第2図はこの考案の一実施例を示す
ものでaは平面図、bは縦断正面図である。 1……下部容器、2……真空チヤツク、3……
蓋、4……吸着部、5……電動機、6……吸気
管、7……排出管、8……フオトレジスト層、1
1……チヤツク本体、12……主チヤツク体、1
3……胴部、14……凹部、15……可動体、1
6……補助チヤツク体、17……支持部、18…
…可動部、19……スプリング、20……細溝、
21a,21b……細溝、22……空気流通路、
23……密封体、24……フランジ、25,26
……空気流通路、27……電動機。
的な構成図、第2図はこの考案の一実施例を示す
ものでaは平面図、bは縦断正面図である。 1……下部容器、2……真空チヤツク、3……
蓋、4……吸着部、5……電動機、6……吸気
管、7……排出管、8……フオトレジスト層、1
1……チヤツク本体、12……主チヤツク体、1
3……胴部、14……凹部、15……可動体、1
6……補助チヤツク体、17……支持部、18…
…可動部、19……スプリング、20……細溝、
21a,21b……細溝、22……空気流通路、
23……密封体、24……フランジ、25,26
……空気流通路、27……電動機。
Claims (1)
- 対象とする半導体ウエフアと平面形状が略同一
の上面をもつとともに周縁部の下面が傾斜して断
面形状の角度が鋭角をなし尖鋭に形成された主チ
ヤツク体およびこれを支持する円筒状の胴部を備
え前記主チヤツク体の中央部に凹部を形成すると
ともにさらにその中心に貫通孔を形成したチヤツ
ク本体と、前記凹部に嵌合する補助チヤツク体を
万部に備えこれに続き前記貫通孔に遊嵌される円
柱状の支持部および前記円筒状の胴部内を上下方
向に摺動自在な可動部を設けた可動体と、前記胴
部内の前記主チヤツク体および前記可動部の間に
介装され常時は前記補助チヤツク体が前記凹部に
嵌合する方向に働くスプリングと、前記胴部の内
部と切換器を介して連通される真空装置および送
風装置と、前記主チヤツク体および補助チヤツク
体の上面に半導体ウエフアを吸着させるための吸
着手段と、前記チヤツク本体および可動体を高速
回転させるための回転手段とを備えたことを特徴
とするフオトレジスト塗布装置用チヤツク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7779781U JPS626688Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7779781U JPS626688Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57191051U JPS57191051U (ja) | 1982-12-03 |
JPS626688Y2 true JPS626688Y2 (ja) | 1987-02-16 |
Family
ID=29873441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7779781U Expired JPS626688Y2 (ja) | 1981-05-28 | 1981-05-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS626688Y2 (ja) |
-
1981
- 1981-05-28 JP JP7779781U patent/JPS626688Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57191051U (ja) | 1982-12-03 |
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