CN210159894U

CN210159894U - 匀胶机托盘和匀胶机

Info

Publication number: CN210159894U
Application number: CN201920782193.9U
Authority: CN
Inventors: 罗健
Original assignee: Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Current assignee: Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Priority date: 2019-05-28
Filing date: 2019-05-28
Publication date: 2020-03-20
Anticipated expiration: 2029-05-28

Abstract

本实用新型涉及一种匀胶机托盘和匀胶机。上述匀胶机托盘包括：承片台和承片架；承片台上开设有通气孔；承片架设置在承片台上，且突出于承片台，承片架开设有与通气孔连通的吸片孔。上述匀胶机托盘可以使基板与承片台之间呈中空的状态，被甩至基板边缘的墨水无法沿基板边沿扩散，故在旋涂的过程中，墨水不会浸染整个基板背面，造成基板背面的污染。

Description

匀胶机托盘和匀胶机

技术领域

本实用新型涉及匀胶设备技术领域，特别是涉及匀胶机托盘和匀胶机。

背景技术

匀胶机也称为旋转涂覆仪、旋转涂膜仪等，是用于涂覆各类胶液的设备，其能够快速、精准的在基板上形成涂覆层，因此被广泛用于OLED和QLED等发光器件的制备。一般地，匀胶机的工作原理是：将基板放置于匀胶机的托盘上，托盘采用真空吸片的方式吸住基板，托盘带动基板高速旋转，利用离心力使滴在基板上的胶均匀地涂覆在基板上。但传统的匀胶机由于基板边缘与托盘之间的吸附作用力差和墨水表面张力的作用，被甩至基板边缘的墨水液滴会沿着基板与承片台的缝隙被吸入基板背面，进而导致从基板四周吸入的墨水浸染整个基板背面，造成基板背面的污染，对基板带来不利的影响。

实用新型内容

基于此，有必要针对如何避免基板背面污染的问题，提供一种匀胶机托盘和匀胶机。

一种匀胶机托盘，包括：承片台和承片架；

所述承片台上开设有通气孔；

所述承片架设置在所述承片台上，且突出于所述承片台，所述承片架开设有与所述通气孔连通的吸片孔。

在其中一实施例中，所述承片台具有旋转中心，以使所述承片台围绕所述旋转中心旋转；且所述承片台上至少设置有两个承片架，且各承片架以围绕所述旋转中心等距分布的方式设置。

在其中一实施例中，所述承片台上设置有4个承片架，且所述承片架以可拆卸连接的方式固定在所述承片台上。

在其中一实施例中，所述承片架上还设置有防脱部，用于防止吸附在所述吸片孔上的基板脱离。

在其中一实施例中，所述防脱部以半包围所述吸片孔的方式设置在所承片架上，且所述防脱部的开口方向朝向所述承片台的中心点。

在其中一实施例中，所述承片架突出于所述承片台的高度为2mm-5mm。

在其中一实施例中，所述吸片孔的内径为0.5mm-1.0mm。

在其中一实施例中，所述匀胶机托盘还包括下腔体；所述下腔体位于所述匀胶机托盘的远离所述承片架的一侧且与所述通气孔连通，以用于形成真空腔；

所述下腔体的腔壁上设置有抽气孔台，且所述抽气孔台上开设有抽气孔。

在其中一实施例中，所述抽气孔的内径为2-4mm。

一种匀胶机，包括上述匀胶机托盘和抽气机构，所述抽气机构连接于所述匀胶机托盘的抽气孔台，以与所述抽气孔连通。

上述匀胶机托盘通过设置突出于承片台的承片架，并在承片台上开设通气孔，承片架上开设与通气孔连通的用于固定基板吸片孔，基板背面与承片台不直接接触，故在旋涂的过程中，墨水不会浸染整个基板背面，造成基板背面的污染。

附图说明

图1为本实用新型一实施方式的匀胶机托盘的示意图；

图2为本实用新型一实施方式的匀胶机的分解状态的示意图；

图3为本实用新型的一实施方式的匀胶机的下腔体的示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将对本实用新型进行更全面的描述，并给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，本实用新型一实施方式的匀胶机托盘100，包括：承片台110和承片架120。其中，承片台110上开设有通气孔(未图示)，承片架120设置在承片台110上，且突出于承片台110，承片架120开设有吸片孔121，吸片孔121与抽气机构连通，以固定待匀胶基板。

可理解的，承片台110的大小和形状无特别限定，可以根据基板的大小和形状进行调节。在一实施例中，承片台110呈圆柱状。由于承片台110需要与抽气机构配合使用，可理解的，承片台110的远离承片架120的一面设置有相应的连接结构，以使抽气机构和吸片孔121连通。

此外，承片台110具有旋转中心，以使承片台110围绕旋转中心旋转。可理解的，承片台110上可以设置相应的旋转部件，以实现承片台的旋转，可以采用本领域常用旋转部件和设置方式，在此不做特别限定。

承片架120为突出于承片台110的部件，如此可以使基板与承片台110之间呈中空的状态，被甩至基板边缘的墨水无法沿基板边沿扩散，故在旋涂的过程中，墨水不会浸染整个基板背面，造成基板背面的污染。承片架120突出于承片台110的高度无特别限定。在一实施例中，承片架120突出于承片台110的高度为2-5mm。

承片架120开设有吸片孔121，吸片孔121与承片台110的通气孔连通，使吸片孔121通过通气孔与抽气机构连接，利用负压作用固定待匀胶基板。吸片孔121的孔径大小可以根据基板大小和抽气压力进行调节。在一实施例中，吸片孔121的内径为0.5-1.0mm。该范围内的吸片孔121能够在保证常规抽气压力下固定基板的同时，避免基板产生形变。另外，需要说明的是，各承片架120上开设的吸片孔121的数目无特别限定，可以设置数个小孔，以避免气流过大而造成的基板形变。

承片架120可以为任意规则或不规则形状。在一实施例中，承片架120呈圆柱形或矩形，以方便基板的固定。承片架120在承片台110上的设置位置可以根据承片架120的数目和基板形状来进行确定。在一实施例中，承片台110上至少设置有两个承片架120，各承片架120以围绕旋转中心等距分布的方式设置。在一实施例中，承片台110的旋转中心和承片台110的中心点重叠，各承片架120上的吸片孔121的中心点和承片台110的中心点之间的距离相等。通过设置两个或两个以上的承片架120，可以使各承片架120分布在承片台110边缘位置，如此可以使基板的固定位置为非有效发光区，以避免负压对成膜作用的影响；而使各承片架120上的吸片孔121的中心点和承片台110的中心点之间的距离相等，可以保证基板各固定位点的受力平衡，避免基板变形。在一实施中，承片台110上设置有4个承片架，以广泛适用于目前常用的方形基板的涂覆。可理解，承片架120的数量也可以是2个、3个、5个等等，数量不限于此。

另外，承片架120优选以可拆卸连接的方式固定在承片台110上，如此可以根据基板的形状和大小对承片架120的位置进行调整，以方便各类基板的涂覆作业。在一实施例中，包括四个承片架，分别为第一承片架、第二承片架、第三承片架和第四承片架，其中，第一承片架和第三承片架以中心对称的方式设置在承片台上，第二承片架和第四承片架以中心对称的方式设置在承片台上，且第一承片架和第三承片架的对称中心和第三承片架和第四承片架的对称中心重合。

另外，还可以在承片架120上设置防脱部122，用于防止吸附在吸片孔121上的基板脱离。在一实施例中，防脱部122以半包围吸片孔121的方式设置在承片架120上，且防脱部122的开口方向朝向承片台110的中心点。可理解的，防脱部122具有围绕吸片孔121的阻挡壁1221，且阻挡壁1221上开设有一个开口，开口的方向朝向承片台的中心点，即，使吸片孔121和承片台110的中心点位于阻挡壁1221的同一侧。

在一实施例中，阻挡壁1221包括第一阻挡壁1221a和第二阻挡壁1221b，第一阻挡壁1221a和第二阻挡壁1221b之间的夹角小于180度。可理解的，第一阻挡壁1221a和第二阻挡壁1221b之间的夹角根据承片架120的数目和基板的形状进行选择。例如基板为矩形，设置有四个承片架，第一阻挡壁1221a和第二阻挡壁1221b之间的夹角可以设置为90度；基板为三角形，设置有三个承片架，第一阻挡壁1221a和第二阻挡壁1221b之间的夹角可以设置为60度等。

另外，防脱部122和承片架120可以为可拆卸连接，也可以为一体式加工成型部件。

另外，如图2所示，上述匀胶机托盘100还可以包括下腔体200，下腔体200位于匀胶机托盘100的远离承片架120的一侧且与通气孔连通，以用于形成真空腔。可理解的，下腔体200和承片台110可以为一体式连接，也可以为如插拔式连接、螺纹式连接等可拆卸连接，以方便清洗和维修，在此不做特别限定。此外，下腔体200的形状无特别限定，仅需其能够与承片台110的远离承片架120的一面的大小吻合形成真空腔即可。另外，下腔体200内壁设置相应的密封圈等部件，以保证真空腔内的密封性能，使气体仅从承片孔流入真空腔。

如图2所示，承片台110的远离承片架120的一面和下腔体200连接，并形成真空腔。如图3所示，下腔体200的腔壁上设置有抽气孔台210，且抽气孔台210上开设有抽气孔211，用于使匀胶机托盘100上的吸片孔121通过抽气孔211与抽气机构连通。

另外，抽气孔台210可以为本领域的常规结构。在一实施例中，抽气孔台210呈坡度为90°～150°的圆台状。在另一实施例中，抽气孔台210的远离下腔体的一面和承片台110的远离承片架120的一面之间的距离为2-3mm。

抽气孔台上开设有抽气孔211，在一实施例中，抽气孔211的内径为2-4mm。需要说明的是，抽气孔211的数目无特别限定，可以根据需要设置数个抽气孔，并调节各抽气孔的孔径大小。

本实用新型的一实施方式的匀胶机，包括上述匀胶机托盘和真空机构，抽气机构和匀胶机托盘的抽气孔连通。其中，匀胶机托盘和上述相同，在此不再赘述。抽气机构可以为常用抽气机构，例如真空泵等，在此不做特别限定。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种匀胶机托盘，其特征在于，包括：承片台和承片架；

所述承片台上开设有通气孔；

2.根据权利要求1所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述承片台具有旋转中心，以使所述承片台围绕所述旋转中心旋转；且所述承片台上至少设置有两个承片架，且各承片架以围绕所述旋转中心等距分布的方式设置。

3.根据权利要求2所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述承片台上设置有4个承片架，且所述承片架以可拆卸连接的方式固定在所述承片台上。

4.根据权利要求2所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述承片架上还设置有防脱部，用于防止吸附在所述吸片孔上的基板脱离。

5.根据权利要求4所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述防脱部以半包围所述吸片孔的方式设置在所述承片架上，且所述防脱部的开口方向朝向所述承片台的中心点。

6.根据权利要求1-5任一项所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述承片架突出于所述承片台的高度为2mm～5mm。

7.根据权利要求1-5任一项所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述吸片孔的内径为0.5mm～1.0mm。

8.根据权利要求1-5任一项所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述匀胶机托盘还包括下腔体；所述下腔体位于所述匀胶机托盘的远离所述承片架的一侧且与所述通气孔连通，以用于形成真空腔；

9.根据权利要求8所述的匀胶机托盘，其特征在于，所述抽气孔的内径为2-4mm。

10.一种匀胶机，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的匀胶机托盘和抽气机构，所述抽气机构连接于所述匀胶机托盘的抽气孔台，以与所述抽气孔连通。