CN219066803U - 一种晶圆旋转固定爪 - Google Patents

一种晶圆旋转固定爪 Download PDF

Info

Publication number
CN219066803U
CN219066803U CN202320225405.XU CN202320225405U CN219066803U CN 219066803 U CN219066803 U CN 219066803U CN 202320225405 U CN202320225405 U CN 202320225405U CN 219066803 U CN219066803 U CN 219066803U
Authority
CN
China
Prior art keywords
wafer
rotating
rotating plate
supporting platform
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202320225405.XU
Other languages
English (en)
Inventor
徐槿尧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guwei Semiconductor Technology Jiangsu Co ltd
Original Assignee
Guwei Semiconductor Technology Jiangsu Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guwei Semiconductor Technology Jiangsu Co ltd filed Critical Guwei Semiconductor Technology Jiangsu Co ltd
Priority to CN202320225405.XU priority Critical patent/CN219066803U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN219066803U publication Critical patent/CN219066803U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本实用新型属于晶圆技术领域,公开了一种晶圆旋转固定爪,包括晶圆支撑平台,晶圆支撑平台上均匀地开有若干个对称的活动槽,活动槽内安装有夹持机构;夹持机构包括安装在圆支撑平台底部的固定板和转动板,以及设置在固定板上的转动轴,转动板通过转动轴与固定板转动连接,转动板一端的上侧设有抱爪,转动板另一端的下侧设有配重块;晶圆支撑平台上在转动板外侧设有复位机构,本实用新型的优点是,抱爪与配重块错位设置,相互水平转动,保证抱爪对晶圆进行水平夹持,同时配重块可换,能够适应不同的清洗打磨工艺。

Description

一种晶圆旋转固定爪
技术领域
本实用新型属于晶圆技术领域,公开了一种晶圆旋转固定爪。
背景技术
清洗与化学腐蚀是任何半导体材料工厂所不可或缺的工序,在对晶圆进行清洗打磨时,晶圆需要高速旋转,因此需要对晶圆进行夹持固定。
请参考图6,现有晶圆旋转固定爪的抱爪和配重块在同一竖直面上,在使用过程中发现,当晶圆进行旋转时,尤其是较脆的砷化镓晶片,抱爪会在配重块离心力的作用下向内倾斜,从而固定住晶圆,然而向内倾斜的抱爪总是第一时间与最为脆弱的晶圆的上表面棱接触,晶圆常常因此破损。
同时,现有晶圆旋转固定爪的配重块不可调,无法适应不同的清洗打磨工艺。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供了一种晶圆旋转固定爪,抱爪与配重块错位设置,相互水平转动,保证抱爪对晶圆进行水平夹持。
本实用新型提供的技术方案如下:
一种晶圆旋转固定爪,包括晶圆支撑平台,晶圆支撑平台上均匀地开有若干个对称的活动槽,活动槽内安装有夹持机构;
夹持机构包括安装在圆支撑平台底部的固定板和转动板,以及设置在固定板上的转动轴,转动板通过转动轴与固定板转动连接,转动板一端的上侧设有抱爪,转动板另一端的下侧设有配重块;
晶圆支撑平台上在转动板外侧设有复位机构。
优选的,复位机构包括设置在晶圆支撑平台转动板外侧的容纳腔,容纳腔内开有内低外高的滑槽,滑槽内放置有重力球,容纳腔开口处正对转动板靠近配重块的一侧。
优选的,复位机构包括设置在转动板外侧的复位簧片,复位簧片固定在活动槽内壁。
优选的,抱爪为自旋陶瓷抱爪。
优选的,配重块与转动板下侧可拆卸连接。
优选的,容纳腔在远离夹持机构的一侧开有与滑槽连通的通孔。
优选的,晶圆支撑平台底部设有支撑架,支撑架上开有与转动机构连通的安装孔。
综上所述,本实用新型的有益效果如下:
(1)本实用新型通过转动板,以及错位设置的抱爪和配重块,保证抱爪对晶圆进行水平夹持,防止晶圆在夹持过程中发生损坏。
(2)本实用新型通过设置可拆卸的配重块,从而实现配重块的可换,能够适应不同的清洗打磨工艺。
(3)本实用新型的复位机构能够在晶圆支撑平台停止旋转时,带动抱爪同时自动张开,防止在配重块的带动下,抱爪张开不一致导致晶圆向一侧偏移。
附图说明
图1为本实用新型第一个实施例的结构示意图;
图2为本实用新型第二个实施例俯视结构示意图;
图3为本实用新型夹持机构结构示意图;
图4为本实用新型第一个实施例复位机构剖面结构示意图;
图5为图2中A处放大图;
图6为现有圆旋转固定爪结构示意图。
附图标记如下:
1、晶圆支撑平台;2、活动槽;3、夹持机构;4、支撑架;31、固定板;32、转动板;33、转动轴;34、抱爪;35、配重块;311、容纳腔;312、滑槽;313、重力球;314、通孔;321、复位簧片。
实施方式
为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型保护范围的限定。
如图1-5所示,一种晶圆旋转固定爪,包括晶圆支撑平台1,晶圆支撑平台1上均匀地开有若干个对称的活动槽2,活动槽2内安装有夹持机构3。
晶圆支撑平台1用于放置晶圆,夹持机构3用于固定放置于晶圆支撑平台1上的晶圆,防止晶圆在高速转动时脱离晶圆支撑平台1造成损坏。
夹持机构3包括安装在圆支撑平台1底部的固定板31和转动板32,以及设置在固定板上的转动轴33,转动板32通过转动轴33与固定板31转动连接,转动板32一端的上侧设有抱爪34,转动板32另一端的下侧设有配重块35。
具体的,转动板32可以在活动槽2的限定范围内绕转动轴33水平转动,抱爪34一侧向内侧水平转动时固定住晶圆,配重块35重量大于抱爪34的重量,在晶圆支撑平台1高速旋转时,配重块35一侧在离心力的带动下向圆支撑平台1外侧转动,从而带动抱爪34向内侧抱紧,从而实现抱爪34竖直地对旋转晶圆的固定。
晶圆支撑平台1上在转动板32外侧设有复位机构。
复位机构用于在晶圆支撑平台1停止旋转时,带动抱爪34同时自动张开,防止在配重块35的带动下,抱爪34张开不一致导致晶圆向一侧偏移。
在一些实施例中,抱爪34为自旋陶瓷抱爪,自旋陶瓷抱爪包括转动轴以及陶瓷外壳,自旋陶瓷抱爪为本领域抱爪常用部件,本申请不再赘述。
在一较优实施方式中,配重块35与转动板32下侧可拆卸连接。
具体的,为了适应不同类型的晶圆,以及不同的转速,固定不变的配重块35不足以满足抱爪34抱紧的需求,因此,将配重块35与转动板32下侧设置为可拆卸连接,可拆卸连接可以是螺纹连接、卡扣连接等常用的可拆卸连接方式。
作为进一步优化的又一实施方式,晶圆支撑平台1底部设有支撑架4,支撑架4上开有与转动机构连通的安装孔41。
具体的,为了适应不同规格的晶圆转动机构,在晶圆支撑平台1下方设置了支撑架4,支撑架4以及安装孔41用于晶圆支撑平台1与晶圆转动机构的连接。
实施例
复位机构包括设置在晶圆支撑平台1转动板32外侧的容纳腔311,容纳腔311内开有内低外高的滑槽312,滑槽312内放置有重力球313,容纳腔311开口处正对转动板32靠近配重块35的一侧。
具体的,晶圆支撑平台1高速旋转时,重力球313会在离心力的作用下沿滑槽312向外侧移动,不会干涉夹持机构3的夹持,当晶圆支撑平台1停止旋转时,容纳腔311内的重力球313在重力的作用下会沿滑槽312自然下落,直至触碰到转动板32,转动板32靠近配重块35的一侧会向内侧转动,相应的,转动板32远离重力球313的一侧会在重力球的作用下向外侧转动,从而实现抱爪34的张开。
重力球313的大小以及活动槽2的宽度保证重力球313在回落时不会从滑槽312内掉出。
进一步的,容纳腔311在远离夹持机构3的一侧开有与滑槽312连通的通孔314。
重力球313在滑槽312内运动时,由于滑槽312内相对封闭,重力球313很可能受到气压或是晶圆清洗液体的影响无法正常回落,因此,通孔314的设置可以保证重力球313可以在滑槽312内自由运动,防止其受到受气液封闭的影响。
需要说明的是,关于重力球313的重量以及配重块35的重量,在出厂前就会做好动平衡,以方便使用者对于不同需求的使用。
实施例
复位机构包括设置在转动板32外侧的复位簧片321,复位簧片321固定在活动槽2内壁。
具体的,复位簧片321的一侧固定在活动槽2内壁,另一侧抵住转动板32靠近配重块35的一侧,在复位簧片321不受外力时,复位簧片321对转动板32靠近配重块35的一侧施加向内的弹力,当晶圆支撑平台1高速旋转时,配重块35的离心力大于复位簧片321的弹力,因此复位簧片321不会干涉夹持机构3的夹持,当晶圆支撑平台1停止旋转时,在复位簧片321弹力的作用下,转动板32靠近配重块35的一侧会向内侧转动,相应的,转动板32远配重块35的一侧会向外侧转动,从而实现抱爪34的张开。
需要说明的是,关于复位簧片321的弹力以及配重块35的重量,在出厂前就会做好动平衡,以方便使用者对于不同需求的使用。
需要说明的是,在附图或说明书正文中,未绘示或描述的实现方式,均为所属技术领域中普通技术人员所知的形式,并未进行详细说明。此外,上述对各元件和方法的定义并不仅限于实施例中提到的各种具体结构、形状或方式。
还需要说明的是,本文可提供包含特定值的参数的示范,但这些参数无需确切等于相应的值,而是可在可接受的误差容限或设计约束内近似于相应值。实施例中提到的方向用语,如涉及“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等,仅是参考附图的方向,并非用来限制本申请的保护范围。
上述说明示出并描述了本实用新型的优选实施例,如前所述,应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述实用新型构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围,则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。

Claims (7)

1.一种晶圆旋转固定爪,包括晶圆支撑平台(1),其特征在于,所述晶圆支撑平台(1)上均匀地开有若干个对称的活动槽(2),活动槽(2)内安装有夹持机构(3);
所述夹持机构(3)包括安装在圆支撑平台(1)底部的固定板(31)和转动板(32),以及设置在固定板上的转动轴(33),转动板(32)通过转动轴(33)与固定板(31)转动连接,所述转动板(32)一端的上侧设有抱爪(34),转动板(32)另一端的下侧设有配重块(35);
所述晶圆支撑平台(1)上在转动板(32)外侧设有复位机构。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述复位机构包括设置在晶圆支撑平台(1)转动板(32)外侧的容纳腔(311),容纳腔(311)内开有内低外高的滑槽(312),滑槽(312)内放置有重力球(313),所述容纳腔(311)开口处正对转动板(32)靠近配重块(35)的一侧。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述复位机构包括设置在转动板(32)外侧的复位簧片(321),复位簧片(321)固定在活动槽(2)内壁。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述抱爪(34)为自旋陶瓷抱爪。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述配重块(35)与转动板(32)下侧可拆卸连接。
6.根据权利要求2所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述容纳腔(311)在远离夹持机构(3)的一侧开有与滑槽(312)连通的通孔(314)。
7.根据权利要求1所述的一种晶圆旋转固定爪,其特征在于,所述晶圆支撑平台(1)底部设有支撑架(4),支撑架(4)上开有与转动机构连通的安装孔(41)。
CN202320225405.XU 2023-02-16 2023-02-16 一种晶圆旋转固定爪 Active CN219066803U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202320225405.XU CN219066803U (zh) 2023-02-16 2023-02-16 一种晶圆旋转固定爪

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202320225405.XU CN219066803U (zh) 2023-02-16 2023-02-16 一种晶圆旋转固定爪

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN219066803U true CN219066803U (zh) 2023-05-23

Family

ID=86377373

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202320225405.XU Active CN219066803U (zh) 2023-02-16 2023-02-16 一种晶圆旋转固定爪

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN219066803U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5180661B2 (ja) スピンナ洗浄装置および加工装置
EP0290218B1 (en) Apparatus for retaining wafers
CN219066803U (zh) 一种晶圆旋转固定爪
WO2020188997A1 (ja) 基板処理装置のスピンチャック
US20160225644A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2017045784A (ja) ロボットハンド
US6408863B1 (en) Seal configuration for use with a motor drive assembly in a microelectronic work piece processing system
CN210159894U (zh) 匀胶机托盘和匀胶机
KR100446808B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
JP2023090873A (ja) 基板処理方法
KR101829039B1 (ko) 베큠척
CN106257640A (zh) 一种片式器件的盛片装置
KR20200040538A (ko) 기판 세정 장치
CN211265423U (zh) 晶圆单片清洗装置
US20230105522A1 (en) Removing apparatus
KR20180126109A (ko) 복수개의 캐리어를 세정하기 위한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
JP2016501445A (ja) ウェハの収容および載置用の収容具
JP2004055641A (ja) スピンプロセッサの基板チャック部構造
CN112309912A (zh) 具有防污染功能的基板干燥装置
CN216120251U (zh) 承载装置和检测设备
CN113210215A (zh) 一种悬浮式匀胶机及其匀胶方法
CN208554875U (zh) 匀胶机及其托盘
KR20060048544A (ko) 회전컵식 도포장치
CN221521272U (zh) 一种硅片分选机防碎片吸盘支架
JP2001070894A (ja) 基板固定装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant