CN216120251U - 承载装置和检测设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种承载装置和检测设备。承载装置包括支架和吸附件。其中，支架上形成有镂空区域，吸附件连接支架并设置在镂空区域内；吸附件用于吸附待测物并使待测物的相背两侧均能够通过镂空区域露出。本申请的承载装置中，通过支架的定位及连接支架的吸附件的真空吸附，将待测物的正面无遮挡地承载在支架上，以便满足对待测物的正面进行无遮挡检测的需求；同时，由于支架上形成有镂空区域，吸附件设置在镂空区域内，那么被吸附件真空吸附固定的待测物的背面也能通过镂空区域露出，并且待测物的背面遮挡区域较小，这样，能够实现最大程度上全面检测待测物的相背两侧的效果。

Description

承载装置和检测设备

技术领域

本申请涉及半导体检测技术领域，更具体而言，涉及一种承载装置和检测设备。

背景技术

在加工晶圆的过程中，会对晶圆整体造成划伤、色差和脏污等缺陷，其中部分缺陷还会比较大，就需要在晶圆层级对晶圆的正面和背面的宏观缺陷进行检测。那么，为了方便检测，在检测时需要保证晶圆在处于被承载状态下时，晶圆的正面无遮挡且晶圆的背面遮挡区域尽量小。

实用新型内容

本申请实施方式提供一种承载装置。

本申请实施方式的承载装置包括支架和吸附件。所述支架形成有镂空区域，所述吸附件连接所述支架并设置在所述镂空区域内。所述吸附件用于吸附待测物并使所述待测物的相背两侧均能够通过所述镂空区域露出。

在某些实施方式中，所述支架为圆形架、椭圆形架、多边形架中的一种。

在某些实施方式中，所述支架包括第一面和第二面，所述第一面与所述第二面相对设置，所述镂空区域贯穿所述第一面和所述第二面，所述支架形成有自所述第一面向所述第二面凹陷的避让槽。

在某些实施方式中，所述支架具有容纳槽，所述容纳槽开设于所述第二面，所述承载装置包括气管，所述气管收容于所述容纳槽内，且所述气管连通所述吸附件。

在某些实施方式中，所述承载装置包括安装件，所述安装件设置在所述支架的内壁上，所述内壁朝向所述镂空区域，所述吸附件通过所述安装件安装在所述支架上。

在某些实施方式中，所述承载装置包括设置在所述安装件上的止挡块，所述止挡块位于所述吸附件与所述支架之间。

在某些实施方式中，所述止挡块的高度高于所述吸附件的高度，且所述止挡块与所述吸附件之间的高度差值范围为0.5mm-5mm。

在某些实施方式中，所述止挡块的数量为多个，多个所述止挡块呈环形布置，所述吸附件的数量也为多个，所述吸附件与所述止挡块之间一一对应。

在某些实施方式中，所述承载装置还包括支撑座和连接所述支撑座的支撑臂，所述支架架设在所述支撑臂上。

在某些实施方式中，所述支架能够相对于所述支撑臂转动。

本申请实施方式提供一种检测设备。所述检测设备包括检测装置和上述任一实施方式中的承载装置，所述检测装置与所述承载装置对应，并用于对承载在所述承载装置上的待测物进行检测。

本申请的承载装置及检测设备中，承载装置包括支架和连接支架的吸附件，吸附件能够真空吸附待测物，使得待测物的相背两侧均能够通过支架上形成的镂空区域露出。因此，本申请中能够通过支架的定位及连接支架的吸附件的真空吸附，将待测物的正面无遮挡地承载在支架上，以便满足对待测物的正面进行无遮挡检测的需求；同时，由于支架上形成有镂空区域，吸附件设置在镂空区域内，那么被吸附件真空吸附固定的待测物的背面也能通过镂空区域露出，并且待测物的背面遮挡区域较小，这样，能够实现最大程度上全面检测待测物的相背两侧的效果。

本申请的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实施方式的实践了解到。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本申请某些实施方式的检测设备的立体结构示意图；

图2是本申请某些实施方式的承载装置的分解结构示意图；

图3是本申请某些实施方式的支架的立体结构示意图；

图4是本申请某些实施方式的支架的背面的结构示意图；

图5是本申请某些实施方式的支架的俯视示意图；

图6是图5所示的支架沿A-A线的剖面示意图。

主要元件符号说明：

检测设备1000、承载装置100、待测物200、检测装置300、支架11、镂空区域110、第一面111、第二面112、内壁113、外壁114、避让槽115、容纳槽116、底板117、吸附件12、气管13、安装件14、安装面140、止挡块15、支撑座16、支撑臂17、转动机构18。

具体实施方式

以下结合附图对本申请的实施方式作进一步说明。附图中相同或类似的标号自始至终表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。

另外，下面结合附图描述的本申请的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请的实施方式，而不能理解为对本申请的限制。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

请参阅图1至图3，本申请实施方式的承载装置100包括支架11和吸附件12。支架11上形成有镂空区域110；吸附件12连接支架11，并且，吸附件12设置在镂空区域110内，吸附件12用于吸附待测物200并使待测物200的相背两侧均能够通过镂空区域110露出。

如图1所示，本申请实施方式的承载装置100可以应用于检测设备1000。其中，待测物200包括但不限于为晶圆、芯片、陶瓷基片、显示屏面板、手机前盖、手机后盖、VR眼镜、AR眼镜、智能手表盖板、玻璃、透镜、任何装置的壳体(例如手机壳)等元件。当待测物200为晶圆时，晶圆可包括经过taiko工艺处理后的晶圆(taiko晶圆)；晶圆还可以是不需要经过贴膜处理即可承载于承载装置100上进行检测的普通晶圆。或者晶圆还可以是将晶圆采用铁环框架进行贴膜后再被承载进行检测的铁环晶圆。

晶圆的类型不限于上述提及的三种，还可以是其他类型的晶圆。本申请仅以待测物200是晶圆为例进行详细说明，待测物200为其他类型元件时的情形与晶圆类似，不详细展开说明。

可以理解，在加工晶圆的过程中，会对晶圆整体造成划伤、色差和脏污等缺陷，其中部分缺陷还会比较大，就需要在晶圆层级对晶圆的正面和背面的宏观缺陷进行检测。在半导体检测领域，晶圆需要放置在承载台上以便对晶圆表面进行检测。由于半导体工业对晶圆表面缺陷检测的要求一般是高效准确，为了方便检测，在检测时需要保证晶圆在处于被承载状态下时，晶圆的正面无遮挡且晶圆的背面遮挡区域尽量小。

为了满足高效准确的检测要求，需要在晶圆处于承载在承载装置100上的状态时，晶圆的正面无遮挡背面遮挡区域尽量小，因此需要设计出合适的承载装置100，以提高检测效率和准确度。

本申请的承载装置100中，承载装置100包括支架11和连接支架11的吸附件12，吸附件12能够真空吸附待测物200，使得待测物200的相背两侧均能够通过支架11上形成的镂空区域110露出。因此，本申请中能够通过支架11的定位及连接支架11的吸附件12的真空吸附，将待测物200的正面无遮挡地承载在支架11上，以便满足对待测物200的正面进行无遮挡检测的需求；同时，由于支架11上形成有镂空区域110，吸附件12设置在镂空区域110内，那么被吸附件12真空吸附固定的待测物200的背面也能通过镂空区域110露出，并且待测物200的背面遮挡区域较小，这样，能够实现最大程度上全面检测待测物200的相背两侧的效果，提高检测效率和准确度。

请参阅图3，在一个实施例中，支架11可以为圆形架、椭圆形架、多边形架中的一种。这样，支架11更好的配合承载待测物200，以对待测物200进行检测。具体地，支架11的形状可以是圆形架、椭圆形架以及多边形架等多种形状，当支架11为多边形架的情况下，支架11可以为三角形架、矩形架、四边形架、五边形架、六边形架以及八边形架等，当然支架11也可以是其他不规则形状。支架11的形状可根据待测物200的形状设置，本申请对支架11的形状不做限制，接下来以支架11的形状为圆形做详细说明。

支架11可以选用不锈钢材料制成，使得支架11具有足够的硬度和刚度保持自身形状和耐用性。当然支架11也可以选用其他的合金材料、陶瓷或者复合塑料等材料制成。本申请对制成支架11的材料并不对限定。

请继续参阅图2及图3，支架11上形成有镂空区域110，或者说支架11具体可以为圆环形。镂空区域110的大小形状可以与待测物200的大小形状相匹配，或者说尺寸稍大于待测物200的尺寸，这样待测物200在承载在承载装置100上时，能够完全通过镂空区域110露出从而被检测。考虑到待测物200的尺寸规格有8英寸和12英寸等，支架11可以做成8寸、12寸或者兼容8/12寸大小。

吸附件12的形状可以为向内凹陷、边缘具有一定弧度的圆盘形状，例如吸附件12可以为风琴式吸盘，这样吸附件12可以用来吸附有一定翘曲程度的待测物200，例如吸附翘曲程度为0.5mm、1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm、4.5mm、5mm，或者为-0.5mm、-1mm、-1.5mm、-2mm、-2.5mm、-3mm、-3.5mm、-4mm、-4.5mm、-5mm，从而提高吸附件12的兼容性和吸附稳定性。

吸附件12可由NBR丁腈橡胶、HNBR氢化丁腈橡胶、SIL硅橡胶、VITON氟素橡胶、EPDM三元乙丙橡胶、CR氯丁橡胶、IIR丁基橡胶等橡胶材料制成，吸附件12的材料还可以是其他软质材料，以使用于吸附待测物200的吸附件12具有较佳的软性特质，避免在吸附待测物200时，吸附件12与待测物200的接触面对待测物200表面的微结构造成破坏，本申请对吸附件12的材质不做限定。

吸附件12的数量可以包括多个，为了保证吸附稳定性，吸附件12的数量至少为三个，多个吸附件12可以环绕支架11设置，更进一步的，多个吸附件12围设形成圆形区域。吸附件12的直径可以根据待测物200的尺寸和待测物200的检测需求来进行调整。本申请方式并不对吸附件12的具体数量和具体尺寸做固有限制。

吸附件12吸附待测物200的方式可以是以真空吸附的方式实现，真空吸附具有吸附平稳、可靠、不损坏待测物200表面的优点。真空吸附即用真空负压来“吸附”工件(待测物200)来达到夹持工件(待测物200)的目的。本申请中的承载装置100应用在检测设备1000中，检测设备1000还包括真空阀(图中未示出)，在待测物200置于吸附件12上的情况下，当真空阀开启后，吸附件12与待测物200之间的空气被抽走形成真空腔，此时吸附件12与待测物200内部的气压低于吸附件12外部的气压，待测物200在外部压力的作用下被吸起，可以理解，吸附件12与待测物200件的真空度越高，吸附件12与待测物200之间贴的越紧。

吸附件12与支架11连接，从而吸附件12能够吸附固定待测物200于支架11上，便于进行后续步骤的检测，使得在对承载于承载装置100上的待测物200进行检测时，待测物200不易发生偏移晃动；并且，在需要检测待测物200的背面时，需要承载装置100带动待测物200进行转动以使待测物200的背面朝上，使用吸附件12配合真空阀真空吸附的方式可以保证在转动过程中待测物200也不会被甩出。

同时，吸附件12设置在镂空区域110内，这样，在吸附件12真空吸附待测物200的情况下，待测物200也处于镂空区域110内，那么在将待测物200承载在与自身尺寸相匹配的支架11上时，待测物200的相背两侧均能够通过镂空区域110露出，从而可以对待测物200进行全面的检测，提高检测效率和准确度。

请参阅图3，在一个实施例中，支架11可以包括第一面111和第二面112。其中，第一面111与第二面112相对设置，镂空区域110可以贯穿第一面111和第二面112。支架11还可以形成有自第一面111向第二面112凹陷的避让槽115。

具体地，上述技术方案中提供的承载装置100，镂空区域110贯穿支架11的第一面111与第二面112，支架11上连接有吸附件12，从而被吸附件12吸附固定的待测物200的相背两侧均能通过镂空区域110露出。一般地，待测物200的正面，即被吸附件12吸附固定后无遮挡露出检测的一面，设置在支架11的第一面111，待测物200的背面设置在支架11的第二面112。

另外，支架11还包括内壁113与外壁114。可以理解，支架11的内壁113朝向镂空区域110设置，那么在支架11上形成的自第一面111向第二面112凹陷的避让槽115可以贯穿支架11的内壁113和外壁114。可以容易从图示中得出，避让槽115未贯穿支架11的第二面112，利于支架11的稳定性。当然，在另外一些实施方式中，可以贯穿支架11的第一面111与第二面112、内壁113与外壁114形成避让孔。

如此，在支架11上形成有避让槽115使得在需要上下料时，可以有效避免承载装置100与机械手出现干涉现象。也即是说，机械手能够夹持待测物200通过避让槽115，从而实现在与支架11不出现干涉的情况下进行上下料。还需要说明的是，避让槽115的形状可以是矩形、圆形、三角形、多边形等多种规则或不规则形状，避让槽115的形状与支架11的形状和机械手的形状相适应匹配。

请参阅图4，在一个实施例中，支架11可以具有容纳槽116，容纳槽116开设于第二面112。承载装置100可以包括气管13，气管13可以收容于容纳槽116内，并且气管13可以连通吸附件12。这样，设置有容纳槽116用于容纳气管13，使得支架11与气管13之间结构紧凑；气管13连通吸附件12，可以在吸附件12与待测物200之间进行抽真空，以达到吸附待测物200的作用。

如上文所述，本申请中的承载装置100应用于检测设备1000，检测设备1000还包括有真空阀，用于抽真空。具体地，容纳槽116的形状可以与支架11的形状以及收容于容纳槽116中的气管13的形状相匹配，本申请中容纳槽116环绕支架11形成，以收容对应于多个吸附件12设置的气管13。容纳槽116开设于支架11的第二面112，在容纳槽116中收容有气管13，支架11包括底板117，底板117用于保护和限位收容在容纳槽116中的气管13，从而支架11与气管13形成结构紧凑的整体。气管13可以用于与真空阀和吸附件12均连通，使得可以对吸附件12进行抽真空，以达到真空吸附待测物200的目的。

特别地，真空阀可以为保持型电磁阀，在打开真空阀通过气管13对吸附件12与待测物200之间形成的气腔进行抽真空后，吸附件12吸附待测物200，并且即便是断电也仍然可以保持吸附状态。为了在检测完成后，进行破真空取下待测物200时，避免待测物200发生较大漂移，本申请中并不使用保持型真空电磁阀中自带的破坏阀。

这是由于该破坏阀为先导式阀，适用压力需要大于0.3MPa，在此压力下破真空时，会致使承载装置100上承载的待测物200发生漂移，从而带来一定的安全隐患。对此，本申请中的检测设备1000中加设有三通电磁阀(图未示)，三通电磁阀连接吸盘和大气，在真空阀打开进行抽真空时，三通电磁阀关闭，保持吸附件12的真空吸附状态；在需要破真空时，三通电磁阀打开，接通大气以采用大气破真空，避免待测物200发生较大漂移。另外，在其他实施方式中也可以采用两通阀，本申请在此不做限制。

请再次参阅图3，在一个实施例中，承载装置100可以包括安装件14。安装件14可以设置在支架11的内壁113上，内壁113可以朝向镂空区域110。这样，吸附件12可以通过安装件14安装在支架11上。

具体地，安装件14的形状可以为圆形、矩形、三角形、多边形等各种规则或者不规则形状，本申请中安装下的形状为“凸”字形块。安装件14可以采用金属材料制成，使得安装件14有足够的硬度保持自身形状，更加耐用；当然安装件14也可以采用非金属材料，如复合塑料制成，制造工艺简单、质轻成本低廉。

安装件14可以设置在支架11的内壁113上，具体地，安装件14可以与支架11采用可拆卸的安装方式连接在一起，例如通过螺钉等紧固件将安装件14与支架11固定连接，这样可便于更换安装件14，例如更换不同尺寸的安装件14、或者更换不同材质的安装件14、或更换不同折旧程度的安装件14。在另一个实施例中，安装件14安装于支架11上的方式可以是不可拆卸的安装方式，如安装件14通过胶合的方式固定在支架11的内壁113，从而将安装件14更加稳固地安装于支架11上。

安装件14可以用于连接支架11与吸附件12，也即是说在承载装置100上设置有安装件14可以便于将吸附件12连接安装在支架11上，使得吸附件12可以被安装在镂空区域110内。安装件14可以包括有安装面140，吸附件12可以安装在安装面140上，安装件14的数量可以包括多个，安装件14可以与吸附件12一一对应设置，当然在一个安装件14上也可以安装有多个吸附件12。

需要说明的是，安装件14与吸附件12也可以通过可拆卸的安装方式连接，例如通过螺钉等紧固件将安装件14与吸附件12固定连接，这样可便于更换吸附件12，例如更换不同尺寸的吸附件12、或者更换不同材质的吸附件12、或更换不同折旧程度的吸附件12。在另一个实施例中，安装件14与吸附件12的安装方式也可以是不可拆卸的安装方式，如吸附件12与安装件14胶合的方式连接在一起，从而将吸附件12更加稳固地安装于安装件14上。

在安装件14的数量为多个的情况下，多个安装件14可以环绕支架11设置在支架11的内壁113上，更进一步的，多个安装件14围设形成圆形区域。安装件14的尺寸可以根据待测物200的尺寸和待测物200的检测需求来进行调整。本申请方式并不对安装件14的具体数量和具体尺寸做固有限制。

请再次参阅图1和图3，在一个实施例中，承载装置100还可以包括设置在安装件14上的止挡块15，止挡块15可以位于吸附件12与支架11之间。这样，设置有止挡块15可以保证待测物200上下片时的位置，在检测过程中对待测物200起到一定的防护作用。

具体地，止挡块15的形状可以为圆形、矩形、三角形等多种规则或不规则形状，本实施例中止挡块15的形状与支架11的形状和待测物200的形状相适应，具体而言，止挡块15的外侧和内侧均呈弧形，使得止挡块15的外侧可以与支架11的内壁113贴合，止挡块15的内侧可以与待测物200的边缘贴合。

止挡块15可以由橡胶等软质材料制成，当止挡块15抵触待测物200的外边缘时，可有效保护待测物200的外边缘，例如止挡块15的材料可以优先选用聚醚醚酮材料，聚醚醚酮是一种具有耐高温、自润滑、易加工和高机械强度等优异性能的特种工程塑料，可制造加工成各种机械零部件，本实施例中选用聚醚醚酮材料制成止挡块15可以避免对待测物200带来污染或者磕碰损失。在另外一些实施方式中，止挡块15也可以选用别的复合塑料制成。

止挡块15同样可以设置在安装件14的安装面140上，并与吸附件12间隔设置，或者说止挡块15在安装完成后位于吸附件12与支架11之间，以保证不干涉吸附件12吸附待测物200；同时，为了保证止挡块15不干涉处于被承载状态下的待测物200，止挡块15的内径应当略大于待测物200的直径。

请参阅图5和图6，在一个实施例中，止挡块15的高度可以高于吸附件12的高度，并且，止挡块15与吸附件12之间的高度差值H的范围可以为0.5mm-5mm。这样，止挡块15能够在吸附件12吸附待测物200时，对待测物200起到一定限位作用。

具体地，本实施例中的止挡块15的高度方向所指的是由止挡块15与安装面140贴合的一面朝向止挡块15远离安装件14的一面，吸附件12的高度方向所指的是由吸附件12与安装面140贴合的一面朝向吸附件12远离安装件14的一面。

止挡块15在安装完成后，位于支架11与吸附件12之间，以避免干涉待测物200。为了起到止挡块15对待测物200的限位作用，止挡块15的高度可以高于吸附件12的高度，进一步的，止挡块15与吸附件12之间的高度差值H可以为0.5mm、1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm、4.5mm、5mm等。这样，可以防止在破真空后，机械手夹持取出待测物200之前，待测物200发生较大位移，或者说可以保证待测物200上下片时的位置。

请参阅图1和图3，在一个实施例中，止挡块15的数量可以为多个，多个止挡块15可以呈环形布置；同时，吸附件12的数量也可以为多个，吸附件12与止挡块15之间可以一一对应。具体地，多个止挡块15围设形成圆形区域。吸附件12与止挡块15一一对应指的是，至少一个止挡块15与一个吸附件12对应设置在一起。这样，保证吸附件12对待测物200的吸附稳定性，以及能够实现止挡块15对待测物200良好的限位保护。

请参阅图1和图2，在一个实施例中，承载装置100还可以包括支撑座16和支撑臂17，支撑臂17连接支撑座16，支架11可以架设在支撑臂17上。这样，支撑座16可以用于支撑支架11，保证支架11的稳定性；支撑臂17能够抬高支架11的位置，便于进行后续步骤的检测。

具体地，支撑座16的形状可以为圆形、椭圆形、三角形、矩形等各种规则或者不规则形状，本实施例中支撑座16为圆形。支撑座16的材料可以为不锈钢材料，保证支撑座16的硬度和刚度，不易变形且具有良好的使用耐久。

支撑臂17的数量可以为多个，从而保证架设支架11的稳定性。支撑臂17的一端连接支撑座16，另一端对应连接支架11，从而实现支架11架设在支撑臂17上，抬高支架11的位置以进行检测。支撑臂17可以与支撑座16采用一样的材料制成，以提高支撑座16与支撑臂17的连接稳定性。进一步的，支撑臂17可以与支撑座16通过不可拆卸的安装方式连接在一起，例如支撑臂17与支撑座16通过焊接固定，从而使得整个支撑臂17与支撑座16连接的更为牢固，当然，支撑臂17与支撑座16也可以使用别的安装方式进行安装。特别地，支撑臂17可以与支架11采用可拆卸的安装方式安装在一起，从而便于更换支架11。

在一个实施例中，支架11能够相对于支撑臂17转动。这样，可以对支架11上吸附的待测物200的相背两侧均实现检测，提高检测效率和准确度。

具体地，请参阅图1和图2，承载装置100还包括有转动机构18，转动机构18与支架11相连接，并且转动机构18连接有电机(图未示)，电机能够驱动转动机构18相对于支撑臂17转动，以带动支架11及被安装在支架11上吸附件12真空吸附固定的待测物200一起转动，从而实现对待测物200相背两侧均进行检测。

请参阅图1和图2，本申请还提供一种检测设备1000，检测设备1000包括检测装置300及上述任一实施方式中的承载装置100。其中，检测装置300与承载装置100对应，并用于对承载于承载装置100上的待测物200进行检测。

具体地，待测物200包括但不限于晶圆、显示屏、电子设备的壳体、芯片等。在一个实施例中，待测物200可为晶圆，检测装置300可为检测仪，检测仪可以用于检测承载在承载装置100上的晶圆的缺陷。

请结合图2，本申请实施例中的检测设备1000在需要对待测物200进行检测时，将待测物200承载于承载装置100上。而本申请的承载装置100中，承载装置100包括支架11和连接支架11的吸附件12，吸附件12能够真空吸附待测物200，使得待测物200的相背两侧均能够通过支架11上形成的镂空区域110露出。

因此，本申请中能够通过支架11的定位及连接支架11的吸附件12的真空吸附，将待测物200的正面无遮挡地承载在支架11上，以便满足对待测物200的正面进行无遮挡检测的需求；同时，由于支架11上形成有镂空区域110，吸附件12设置在镂空区域110内，那么被吸附件12真空吸附固定的待测物200的背面也能通过镂空区域110露出，并且待测物200的背面遮挡区域较小，在需要对待测物200的背面进行检测时，承载装置100中的转动机构18带动支架11转动使得待测物200的背面朝上，这样，能够实现最大程度上全面检测待测物200的相背两侧的效果，提高检测效率和准确度。

在本说明书的描述中，参考术语“某些实施方式”、“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个，除非另有明确具体的限定。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (11)

1.一种承载装置，其特征在于，包括：

支架，形成有镂空区域；以及

吸附件，所述吸附件连接所述支架并设置在所述镂空区域内，所述吸附件用于吸附待测物并使所述待测物的相背两侧均能够通过所述镂空区域露出。

2.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述支架为圆形架、椭圆形架、多边形架中的一种。

3.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述支架包括第一面和第二面，所述第一面与所述第二面相对设置，所述镂空区域贯穿所述第一面和所述第二面，所述支架形成有自所述第一面向所述第二面凹陷的避让槽。

4.根据权利要求3所述的承载装置，其特征在于，所述支架具有容纳槽，所述容纳槽开设于所述第二面，所述承载装置包括气管，所述气管收容于所述容纳槽内，且所述气管连通所述吸附件。

5.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述承载装置包括安装件，所述安装件设置在所述支架的内壁上，所述内壁朝向所述镂空区域，所述吸附件通过所述安装件安装在所述支架上。

6.根据权利要求5所述的承载装置，其特征在于，所述承载装置包括设置在所述安装件上的止挡块，所述止挡块位于所述吸附件与所述支架之间。

7.根据权利要求6所述的承载装置，其特征在于，所述止挡块的高度高于所述吸附件的高度，且所述止挡块与所述吸附件之间的高度差值范围为0.5mm-5mm。

8.根据权利要求6所述的承载装置，其特征在于，所述止挡块的数量为多个，多个所述止挡块呈环形布置，所述吸附件的数量也为多个，所述吸附件与所述止挡块之间一一对应。

9.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述承载装置还包括支撑座和连接所述支撑座的支撑臂，所述支架架设在所述支撑臂上。

10.根据权利要求9所述的承载装置，其特征在于，所述支架能够相对于所述支撑臂转动。

11.一种检测设备，其特征在于，所述检测设备包括：

检测装置；和

权利要求1-10任一项所述的承载装置，所述检测装置与所述承载装置对应，并用于对承载在所述承载装置上的待测物进行检测。

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