JP2010118480A - 基板吸着装置、及び、基板検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板への静電気の誘引を抑えることができると共に、基板を確実に吸着することができる基板吸着装置及び基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板（Ｇ）を吸引するための吸引孔１１ｃが形成された吸着パッド１１と、この吸着パッド１１の基部１１ｂを収容し吸引孔１１ｃに連通する収容凹部１２ａ及びこの収容凹部１２ａに連通する吸引路１２ｂが形成されたパッド支持部材１２と、吸着パッド１１を基板（Ｇ）側に付勢する弾性部材（１３）と、を備える基板吸着装置１０において、吸着パッド１１は、この吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と交差する中心軸Ａ２を有する係止ピン１６がこの係止ピン１６と略同一の幅で且つ係止ピン１６よりも高さ方向（Ｚ軸方向）に長い係止孔１７ｄ内を移動することで、高さ方向に移動し、吸着パッド１１は、係止ピン１６が係止孔１７ｄにより係止孔１７ｄの幅方向への移動を規制されることで、揺動軸Ａ１回りの回転が規制される。
【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）その他のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の基板を吸着保持する基板吸着装置、及び、この基板吸着装置を備える基板検査装置に関する。

従来、フラットパネルディスプレイ等の製造工程におけるガラス基板の外観検査に用いられる基板検査装置には、検査ステージにおいてガラス基板をエア吸着により保持する基板吸着装置が配置される（例えば、特許文献１参照）。

このような基板吸着装置は、近年のガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板を確実に吸着する吸着力を備え且つガラス基板の反りや歪みに対応することが要求されている。
例えば、上記特許文献１記載の基板吸着機構では、吸着パッドは、この吸着パッドを支持するパッド支持部材との間の隙間を気密に閉塞するパッキンの弾性変形により揺動する。また、吸着パッドはコイルスプリングの弾性変形により上下動し、吸着パッドの上限高さはストッパにより規定される。

上記特許文献１のストッパとしては、吸着パッドを支持するパッド支持部材の側面にボルトにより固定され、水平方向に屈曲した上端側で吸着パッドの上限高さを規定する２つの略Ｌ字状の部材（特許文献１の例えば、図２〜図４、図７、図８、図１０等参照）や、吸着パッドの吸引孔に上方から挿入され、頭部で吸着パッドの上限高さを規定するネジ（特許文献１の例えば、図９、図１１〜図１４等参照）などが開示されている。

また、上記特許文献１記載の基板吸着機構では、ストッパとして上述の略Ｌ字状の部材を用いる場合には、吸着パッドは略Ｌ字状の部材によって回転も規制される。一方、ストッパとして上述のネジを用いる場合には、吸着パッドに設けられパッド支持部材の孔に挿入される回転防止用のピン（特許文献１の例えば、図１１〜図１４等参照）によって、吸着パッドは回転を規制される。
特開２００７−１５７８６７号公報

しかしながら、上記特許文献１記載の基板吸着機構は、ストッパとして用いられる金属製の２つの略Ｌ字状の部材やネジが吸着パッドのガラス基板吸着面側に露出するため、基板に帯電した静電気が金属部に向けて放電し、そのスパークによりガラス基板や基板面に形成されたＴＦＴ回路を損傷させてしまう事態が発生してしまう虞がある。この静電気の放電は、回転防止用に設けられるピンによっても発生する虞がある。

更には、上記特許文献１記載の基板吸着機構は、ストッパとしての２つの略Ｌ字状の部材の、吸着パッドの上限高さを規定する屈曲した上端側が、吸着パッドの揺動範囲を制限してしまっていた。また、回転防止用にピンを用いる場合、このピンが挿入されるパッド支持部材の孔を大きくすると吸着パッドの回転を規制することができず、孔を小さくするとピンが吸着パッドの揺動時に引っ掛かってしまい、吸着パッドの揺動範囲を制限してしまう。

このように吸着パッドの揺動範囲が制限されると、ガラス基板の反りに沿って吸着パッ
ドが追従できず、吸着パッドの吸着面とガラス基板の裏面との間に隙間ができ確実に吸着することができなくなる。このように吸着不完全な状態で大型のガラス基板の一辺を吸着して浮上搬送する際に、ガラス基板が途中で外れて破損等の事態を招く。

本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、基板への静電気の誘引を抑えることができると共に、基板を確実に吸着することができる基板吸着装置及び基板検査装置を提供することである。

上記課題を解決するために、本発明の基板吸着装置は、基板を吸引するための吸引孔が形成された吸着パッドと、この吸着パッドの基部を収容し上記吸引孔に連通する収容凹部及びこの収容凹部に連通する吸引路が形成されたパッド支持部材と、上記吸着パッドを上記基板側に付勢する弾性部材と、を備える基板吸着装置において、上記吸着パッドは、この吸着パッドの揺動軸と交差する中心軸を有する係止ピンがこの係止ピンと略同一の幅で且つこの係止ピンよりも高さ方向に長い係止孔内を移動することで、高さ方向に移動し、上記吸着パッドは、上記係止ピンが上記係止孔によりこの係止孔の幅方向への移動を規制されることで、上記揺動軸回りの回転が規制される構成とする。

上記課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、上記基板吸着装置と、この基板吸着装置が配置されるステージと、を備える構成とする。

本発明は、基板に対する静電気の放電を防ぐことができ、かつ吸着パッドの揺動の自由度を高め基板を確実に吸着することができる。

以下、本発明の実施の形態に係る基板吸着装置及び基板検査装置について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板検査装置１を示す概略平面図である。

同図に示す基板検査装置１は、基板吸着装置１０と、浮上ステージ２と、基板搬送ステージ３と、ガントリ４と、観察部５とを備え、例えば液晶ディスプレイに用いられるガラス基板Ｇの外観検査を行う。

浮上ステージ２には、上面にエアを吐出する吐出孔が形成された複数の浮上プレート２ａがマトリクス状に配列されている。
基板搬送ステージ３は、浮上ステージ２の片側において基板搬送方向（Ｘ軸方向）に延びている。また、基板搬送ステージ３は、その上面に形成されたガイド３ａと、例えばリニアモータ等の駆動手段によってガイド３ａに沿って移動する基板搬送部３ｂとを有する。

基板搬送部３ｂには、基板吸着装置１０が基板搬送方向（Ｘ軸方向）に一定間隔で並設されている。詳しくは後述するが、基板吸着装置１０は、ガラス基板Ｇの裏面端部を吸着保持する。

ガントリ４は、浮上ステージ２及び基板搬送ステージ３を跨ぐ門型形状を呈する。ガントリ４の水平アーム部には、図示しないガイドが形成されている。
観察部５は、例えばリニアモータ等の駆動手段によって、ガントリ４の上記ガイドに沿って基板搬送方向（Ｘ軸方向）と直交するＹ軸方向に移動する顕微鏡等からなる。

なお、図１に示す基板検査装置１は、ガラス基板Ｇを浮上ステージ２上で浮上搬送しながら検査するが、ガントリ４を固定式ではなく可動式にして、ガラス基板Ｇをステージ上に載置又は浮上させて静止した状態で検査する構成の場合にも、基板吸着装置１０は、ガラス基板Ｇを吸着保持するために配置される。

図２Ａ及び図２Ｂは、本発明の一実施の形態に係る、吸着パッド１１が上限高さにある状態の基板吸着装置１０を示す断面図である。図３は、基板吸着装置１０を示す分解斜視図である。

基板吸着装置１０は、ガラス基板Ｇを吸引するための吸着凹面に吸引孔１１ｃが形成された矩形の吸着パッド１１と、収容凹部１２ａ及び吸引路１２ｂが形成されたパッド支持部材１２と、吸着パッド１１をガラス基板Ｇ側に付勢する弾性部材としてのコイルスプリング１３と、パッキンとしてのＶパッキン１４と、高さ調整部材としての係止ピン固定板１５と、係止ピン１６，１６と、係止孔としての長孔１７ｄ，１７ｄが形成されたストッパ１７と、を備える。

吸着パッド１１は、ガラス基板Ｇ側の面である上面の一部に吸着面１１ｅが設けられた平面視矩形状の吸着部１１ａと、この吸着部１１ａの裏面中央から下方に突出する水平断面形状が円形の基部１１ｂとを有する。

吸着部１１ａの上面中央には吸引孔１１ｃが開口している。吸引孔１１ｃは、この吸引孔１１ｃよりも大径で吸引孔１１ｃと同軸（吸着パッド１１のＺ軸方向に延びる揺動軸Ａ１とも同軸）に設けられた凹部１１ｄと連通している。この凹部１１ｄは、基部１１ｂの底面に開口し、後述するコイルスプリング１３の少なくとも上端が収容される。

吸着部１１ａの上面は、図３に示すように、ガラス基板Ｇを吸着する吸着面１１ｅと、この吸着面１１ｅよりも下方に位置する非吸着面１１ｆとからなる。吸着部１１ａの上面中央に形成された吸引孔１１ｃは、吸着面１１ｅに位置しており、吸着面１１ｅと非吸着面１１ｆとの境界は、吸着部１１ａの上面長手方向（Ｘ軸方向）に吸引孔１１ｃ近傍を通って延びている。

吸着面１１ｅには、外周部分を除く部分が窪んで吸着凹部が形成されている。そのため、吸引孔１１ｃのみで直接ガラス基板Ｇを吸着するよりも吸着面積を増やすことができ、したがって、吸着力を高めることができる。

基部１１ｂは、パッド支持部材１２の上面に開口する収容凹部１２ａに、径方向に所定の間隙をもって収容される。凹部１１ｄ上面と収容凹部１２ａ底面との間には、コイルスプリング１３が設けられ、このコイルスプリングの弾性力により吸着パッド１１を上方に付勢させている。

Ｖパッキン１４は、基部１１ｂのうち収容凹部１２ａ内に収容される部分の外周に設けられ、基部１１ｂと収容凹部１２ａとの間の間隙を気密に閉塞する。また、Ｖパッキン１４は、吸着パッド１１の揺動時にも上記間隙を気密に閉塞した状態で弾性変形する。これにより、吸引により収容凹部１２ａ内を負圧にしたときに、基部１１ｂと収容凹部１２ａとの間の間隙からの外気の流入を防ぐことができる。

パッド支持部材１２には、収容凹部１２ａに連通する吸引路１２ｂが形成され、この吸引路１２ｂは継手１８及び図示しない吸引用チューブ（吸引配管）を介して吸引ポンプに接続されている。また、パッド支持部材１２は、支持台１９の固定孔１９ａにネジにより固定され、支持台１９を介して、図１に示す基板搬送部３ｂに接続される。

係止ピン固定板１５は、図３に示すように平面視略Ｕ字状を呈し、パッド支持部材１２を挟んで対向する側壁部１５ａ，１５ａに高さ方向（Ｚ軸方向）に長い長孔１５ｂ，１５ｂが形成されている。係止ピン固定板１５は、長孔１５ｂ，１５ｂに挿入されるネジ１５ｃ，１５ｃによりパッド支持部材１２に固定され、長孔１５ｂ，１５ｂとネジ１５ｃ，１５ｃとの位置関係によって、パッド支持部材１２に対し高さ調整可能となっている。また、係止ピン固定板１５には、２つの固定孔１５ｄ，１５ｄが形成され、ここに２つの係止ピン１６，１６が固定される。

２つの係止ピン１６，１６は、その中心軸Ａ２が互いに一致し、係止ピン固定板１５の固定孔１５ｄ，１５ｄから互いに遠ざかるように延びる。なお、吸着パッド１１が上限高さにあるときの係止ピン１６の中心軸Ａ２は、Ｖパッキン１４部分（又はその近傍）で吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と垂直に交差する。

ストッパ１７は、薄板の水平部１７ａと、その両端から鉛直下方に延びる側壁部１７ｂ，１７ｂとを有する。
水平部１７ａの中央には、吸着パッド１１の基部１１ｂが挿入される貫通孔１７ｃが形成され、水平部１７ａは、吸着パッド１１の吸着部１１ａの裏面に４つのネジ１７ｅで固定されている。

側壁部１７ｂには，係止ピン１６の直径よりも若干大きい幅（Ｙ軸方向）で、且つ高さ方向（Ｚ軸方向）に長い長孔（係止孔）１７ｄ，１７ｄが形成されている。この長孔１７ｄ，１７ｄには上述の係止ピン１６，１６が内側から挿入される。

係止ピン１６，１６の直径は、長孔１７ｄ，１７ｄの幅よりも若干小さいため、長孔１７ｄ，１７ｄにより長孔１７ｄ，１７ｄの幅方向（Ｙ軸方向）への移動が規制される。そのため、係止孔１７ｄ，１７ｄが形成されたストッパ１７に固定される吸着パッド１１は、係止ピン１６，１６及び長孔１７ｄ，１７ｄにより回転を規制される。また、係止ピン１６，１６同士の間隔を広げることにより、吸着パッド１１の回転角度を極めて微小に抑えることができる。

本実施の形態の吸着パッド１１は、係止ピン１６，１６が長孔１７ｄ，１７ｄの下端で係止されるときに上限高さにあり、基部１１ｂの根元側にかけて拡径したテーパ部１１ｇがパッド支持部材１２の収容凹部１２ａの面取り部１２ｃに当接するときに下限高さにある。

詳しくは後述するが、長孔１７ｄ，１７ｄは係止ピン１６よりも高さ方向に長いため、吸着パッド１１は揺動軸Ａ１を中心にＸ軸方向に揺動可能である。また、上述のように係止ピン１６の中心軸Ａ２が、揺動中心となるＶパッキン１４部分又はその近傍で吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と交差するため、吸着パッド１１はＹ軸方向へも揺動可能である。

以下、基板吸着装置１０によるガラス基板Ｇの吸着について、上述の図１〜図３に加え、図４〜図６Ｂを参照しながら説明する。
図４は、吸着パッド１１がＸ軸方向へ揺動した状態の基板吸着装置１０を示す断面図であり、図５は、吸着パッド１１がＹ軸方向へ揺動した状態の基板吸着装置１０を示す断面図である。

図６Ａ及び図６Ｂは、吸着パッド１１が下限高さにある状態の基板吸着装置１０を示す断面図である。
まず、図示しない基板搬送ロボットにより図１に示す浮上ステージ２上にガラス基板Ｇ
が搬入される。このとき、基板吸着装置１０は、コイルスプリング１３の上方への付勢力により、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、吸着パッド１１が上限高さに位置する状態、即ち、ストッパ１７の長孔１７ｄ，１７ｄの下端に係止ピン１６が当接している状態にある。

浮上ステージ２上に搬入されたガラス基板Ｇは、浮上プレート２ａにより吐出されるエアにより浮上した状態で、図示しない基板位置決め機構により位置決めされた後、ガラス基板Ｇの裏面端部が吸着パッド１１に当接する。このとき、ガラス基板Ｇに反りや撓みが生じていても、吸着パッド１１は、揺動軸Ａ１を中心に、図４に示すＸ軸方向、図５に示すＹ軸方向、これらの間の方向等に自在に揺動して、吸着面１１ｅがガラス基板Ｇに平行になる。

具体的には、図４に示すように、吸着パッド１１の中心軸Ａ１´が揺動軸Ａ１よりもＸ軸方向に傾いて吸着パッド１１がＸ軸方向に揺動する場合には、ストッパ１７に設けられた２つの長孔１７ｄ、１７ｄでは、ガラス基板Ｇが他方よりも下方に位置する側（同図では右側）の係止ピン１６が長孔１７ｄの上方に移動し、基部１１ｂのテーパ部１１ｇが収容凹部１２ａの面取り部１２ｃに当接する下限高さまで到達する。また、他方の係止ピン１６は係止孔１７ｄの下方に移動し、係止孔１７ｄの下端に当接する上限高さまで到達する。このように係止ピン１６，１６が長孔１７ｄ，１７ｄ内を移動することで、吸着パッド１１はＸ軸方向へ自在に揺動する。

一方、図５に示すように、吸着パッド１１の中心軸Ａ１´´が揺動軸Ａ１よりもＹ軸方向に傾いて吸着パッド１１がＹ軸方向に揺動する場合には、係止ピン１６，１６の中心軸Ａ２が吸着パッド１１の揺動中心となるＶパッキン１４部分で揺動軸Ａ１と交差するため、吸着パッド１１はＹ軸方向へ自在に揺動する。

そして、ガラス基板Ｇによって吸着パッド１１の吸着面１１ｅの吸着凹部が閉塞されると、吸引孔１１ｃ、凹部１１ｄ、収容凹部１２ａ、吸引路１２ｂ、継手１８、図示しない吸引用チューブを介して、吸引ポンプによりエアが排気され、負圧によってガラス基板Ｇが吸着パッド１１に吸着される。

そして、ガラス基板Ｇの吸引による内部負圧がコイルスプリング１３の付勢力を上回ると、吸着パッド１１は、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、基部１１ｂのテーパ部１１ｇに収容凹部１２ａの面取り部１２ｃが当接する基準高さまで下降して停止する。

なお、ガラス基板Ｇに反りや撓みが生じている場合には、吸着パッド１１の吸着面１１ｅは、図６Ａ及び図６Ｂに示す水平状態ではなく、ガラス基板Ｇに対し傾斜した状態で下降し、基部１１ｂのテーパ部１１ｇに収容凹部１２ａの面取り部１２ｃが当接することで水平位置に規制され、ガラス基板Ｇの反りや撓みが矯正される。

吸着パッド１１がガラス基板Ｇを吸着すると、基板吸着装置１０は、図１に示す基板搬送部３ｂがガイド３ａに沿って移動することで、ガラス基板Ｇを吸着したまま基板搬送方向（Ｘ軸方向）に移動する。

そして、観察部５は、基板搬送方向（Ｘ軸方向）と直交するＹ軸方向に移動しながら、基板搬送方向（Ｘ軸方向）に移動するガラス基板Ｇの外観検査を行う。なお、観察部５は、ガラス基板Ｇを顕微鏡により拡大観察するが、基板検査装置１の検査手段としては、観察部５のように微視的にミクロ検査を行うものではなく、巨視的にマクロ検査を行う例えばラインセンサを用いてもよい。

検査が終了したガラス基板Ｇは、図示しない基板搬送ロボットにより浮上ステージ２から搬出され、次工程に搬送される。
以上説明した本実施の形態では、吸着パッド１１は、係止ピン１６，１６が長孔１７ｄ，１７ｄ内を移動することで、高さ方向（Ｚ軸方向）に移動する。また、吸着パッド１１は、係止ピン１６，１６が係止孔１７ｄ，１７ｄにより幅方向（Ｙ軸方向）への移動を規制されることで、揺動軸Ａ１回りの回転が規制される。

そのため、吸着パッド１１の上限高さを規定する部材や吸着パッドの回転を規制する部材を吸着パッド１１の基板吸着面側に配置する必要がない。したがって、ガラス基板Ｇに帯電した静電気の放電を未然に防ぐことができる。

また、吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と係止ピン１６，１６の中心軸Ａ２とが交差すると共に係止ピン１６，１６が係止孔１７ｄ，１７ｄ内を高さ方向（Ｚ軸方向）に移動することができるため、吸着パッド１１の揺動範囲が制限されるのを防ぐことができる。

よって、本実施の形態によれば、簡素な構造で、ガラス基板Ｇに帯電した静電気の放電を抑えることができると共に、ガラス基板Ｇを確実に吸着することができる。
また、本実施の形態では、互いに中心軸Ａ２が一致する２つの係止ピン１６，１６と係止孔１７ｄ，１７ｄとにより、吸着パッド１１は、高さ方向に移動すると共に揺動軸Ａ１回りの回転が規制される。そのため、吸着パッド１１を自在に揺動させることができ、したがって、より一層、ガラス基板Ｇを確実に吸着することができる。

また、本実施の形態では、Ｖパッキン１４は、吸着パッド１１の基部１１ｂとパッド支持部材１２の収容凹部１２ａとの間の間隙を気密に閉塞した状態で弾性変形し、吸着パッド１１が上限高さにあるときの係止ピン１６の中心軸Ａ２は、吸着パッド１１の揺動中心であるＶパッキン１４部分又はその近傍で揺動軸Ａ１と交差する。そのため、吸着パッド１１を自在に揺動させることができ、したがって、より一層、ガラス基板Ｇを確実に吸着することができる。

また、本実施の形態では、係止ピン１６は、パッド支持部材１２に対し高さ調整可能に固定された高さ調整部材１５に設けられる。これにより、パッド支持部材１２と吸着パッド１１との位置関係を高さ調整部材１５により調整することができるため、したがって、吸着パッド１１の揺動範囲を自在に調整することができる。

また、本実施の形態では、吸着パッド１１の吸着部１１ａのガラス基板Ｇ側の面は、吸着面１１ｅと非吸着面１１ｆとを含む。この非吸着面１１ｆを設けることにより、吸着面１１ｅのＹ方向の幅を２０ｍｍ程度に小さくしても、吸着孔１１ｃの位置を非吸着面１１ｆ側に寄せることが可能になり、吸着部１１ａ下方に配置される吸着保持部材１２等のその他の部材を小さくする必要がなく設計の自由度を高めることができると共に、吸着パッド１１の揺動範囲を広くとることができる。更には、本実施の形態では、吸着パッド１１に、吸着パッド１１の上限高さを規定するネジなどを設けていないため、吸引孔１１ｃの開口面積を小さくすることができ、したがって、吸着面１１ｅの領域と非吸着面１１ｆの領域とを自由に区画することができる。

また、吸着パッド１１がストッパ１７に取り付けられているため、吸着パッド１１の吸着面１１ｆを長手方向に延出させることができ、５ｃｍ、１０ｃｍと大型の吸着パッドにも容易に対応できる。すなわち、吸着パッド１１以外の部材を共通に使用し、吸着パッド１１のみ換えることで、ストッパ１７よりも大きな各種サイズの吸着パッドに対応可能となる。また、吸着パッド１１をストッパ１７より大きいサイズにすることで、金属性のストッパ１７や係止ピン１６とガラス基板Ｇとの間を吸着パッド１１で遮蔽することができ
、ガラス基板Ｇに帯電した静電気の放電によるスパークを未然に防ぐことができる。

このように吸着パッド１１の吸着１１ａを長手方向に大きくする場合には、図３に示すように吸着面１１ｅにガラス基板の裏面を支える突起部１１ｈを設けると、ガラス基板Ｇを水平に吸着保持できるので好ましい。この突起部１１ｈは、図示のような線状のもに限られず、円形、ドーナツ型または矩形など島状突起部を複数分散して配置してもよい。

なお、以上説明した本実施の形態では、ストッパ１７を貫通する長孔１７ｄ，１７ｄを係止孔として説明したが、係止孔としては、係止ピン１６を係止できるものであればよいため、ストッパ１７を貫通しない凹部ないし溝でもよい。

また、ストッパ１７の長孔（係止孔）１７ｄ，１７ｄは、係止ピン１６と略同一幅で且つ係止ピン１６よりも高さ方向に長ければ上述の本実施の形態の効果を得ることができるため、縦長の孔である必要はなく、例えば、係止ピン１６が幅方向に長い場合には断面正方形の孔としてもよい。この点は、係止ピン固定板１５の長孔１５ｂ，１５ｂについても同様である。

また、本実施の形態では、パッキンとして、吸着パッド１１の基部１１ｂの上下動を許容しやすいＶパッキン１４を例に説明したが、例えば、ＯリングやＣリングとしてもよく、吸着パッド１１の揺動時に基部１１ｂと収容凹部１２ａとの間隙を気密に閉塞した状態で弾性変形するものであれば、吸着パッド１１を自在に揺動させることができる。

また、本実施の形態では、係止ピン１６の中心軸Ａ２は、吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と垂直に交差することで吸着パッド１１の揺動範囲を広くすることができるが、交差する角度は垂直から多少ズレていてもよい。

また、本実施の形態では、吸着パッド１１等の部材の高さ方向をＺ軸方向として説明したが、ガラス基板Ｇを縦置きにして検査する場合には、上述の高さ方向はガラス基板Ｇに対して垂直な方向とするとよい。

図７は、本発明の一実施の形態の第１変形例に係る基板吸着装置２０を示す概略部分断面図である。
同図に示す基板吸着装置２０では、ストッパ２７は、吸着パッド１１の吸着部１１ａの裏面全面に亘って設けられている。また、ストッパ２７は、係止孔が形成される係止板２７ａ，２７ａが下方に突出するように設けられている。

図８は、本発明の一実施の形態の第２変形例に係る基板吸着装置３０を示す概略部分断面図である。
同図に示す基板吸着装置３０では、吸着パッド３１は、吸着部３１ａ及び基部３１ｂ、並びに、吸着部３１ａの両端から下方に屈曲して延びる屈曲部３１ｃ，３１ｃを有する。屈曲部３１ｃ，３１ｃには、係止ピン１６，１６が挿入される係止孔としての長孔３１ｄ，３１ｄが形成されている。

本変形例によれば、吸着パッド３１に係止孔３１ｄ，３１ｄを設けているため、上述の実施の形態のストッパ１７を省略することができ、したがって、より一層簡素な構成とすることができる。

図９は、本発明の一実施の形態の第３変形例に係る吸着パッド４１を示す側面図である。
同図に示す吸着パッド４１は、上述の第２変形例と同様に、吸着部４１ａ及び基部４１
ｂ、並びに、吸着部４１の両端から下方に屈曲して延びる屈曲部４１ｃ，４１ｃを有するが、屈曲部４１ｃ，４１ｃには係止孔ではなく係止ピン４１ｄ，４１ｄが設けられている。そのため、図示しない高さ調整部材或いはパッド支持部材には、係止ピン４１ｄ，４１ｄが挿入される係止孔を設ける必要がある。

本発明の一実施の形態に係る基板検査装置を示す概略平面図である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドが上限高さにある状態の基板吸着装置を示す断面図（その１）である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドが上限高さにある状態の基板吸着装置を示す断面図（その２）である。 本発明の一実施の形態に係る基板検査装置を示す分解斜視図である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドがＸ軸方向へ揺動した状態の基板吸着装置を示す断面図である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドがＹ軸方向へ揺動した状態の基板吸着装置を示す断面図である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドが下限高さにある状態の基板吸着装置を示す断面図（その１）である。 本発明の一実施の形態に係る、吸着パッドが下限高さにある状態の基板吸着装置を示す断面図（その２）である。 本発明の一実施の形態の第１変形例に係る基板吸着装置を示す概略部分断面図である。 本発明の一実施の形態の第２変形例に係る基板吸着装置を示す概略部分断面図である。 本発明の一実施の形態の第３変形例に係る吸着パッドを示す側面図である。

符号の説明

１ 基板検査装置
２ 浮上ステージ
２ａ 浮上プレート
３ 基板搬送ステージ
３ａ ガイド
３ｂ 基板搬送部
４ ガントリ
５ 観察部
１０ 基板吸着装置
１１ 吸着パッド
１１ａ 吸着部
１１ｂ 基部
１１ｃ 吸引孔
１１ｄ 凹部
１１ｅ 吸着面
１１ｆ 非吸着面
１１ｇ テーパ部
１１ｈ 突起部
１２ パッド支持部材
１２ａ 収容凹部
１２ｂ 吸引路
１２ｃ 面取り部
１３ コイルスプリング
１４ Ｖパッキン
１５ 係止ピン固定板
１５ａ 側壁部
１５ｂ 長孔
１５ｃ ネジ
１５ｄ 固定孔
１６ 係止ピン
１７ ストッパ
１７ａ 水平部
１７ｂ 側壁部
１７ｃ 貫通孔
１７ｄ 長孔（係止孔）
１７ｅ ネジ
１８ 継ぎ手
１９ 支持台
１９ａ 固定孔
２０ 基板吸着装置
２７ ストッパ
２７ａ 係止板
３０ 基板吸着装置
３１ 吸着パッド
３１ａ 吸着部
３１ｂ 基部
３１ｃ 屈曲部
３１ｄ 長孔
４１ 吸着パッド
４１ａ 吸着部
４１ｂ 基部
４１ｃ 屈曲部
４１ｄ 係止ピン
Ａ１ 吸着パッド揺動軸
Ａ２ 係止ピン中心軸
Ｇ ガラス基板

Claims (6)

1. 基板を吸引するための吸引孔が形成された吸着パッドと、
   該吸着パッドの基部を収容し前記吸引孔に連通する収容凹部及び該収容凹部に連通する吸引路が形成されたパッド支持部材と、
   前記吸着パッドを前記基板側に付勢する弾性部材と、
   を備える基板吸着装置において、
   前記吸着パッドは、該吸着パッドの揺動軸と交差する中心軸を有する係止ピンが該係止ピンと略同一の幅で且つ該係止ピンよりも高さ方向に長い係止孔内を移動することで、高さ方向に移動し、
   前記吸着パッドは、前記係止ピンが前記係止孔により該係止孔の幅方向への移動を規制されることで、前記揺動軸回りの回転が規制される、
   ことを特徴とする基板吸着装置。
2. 前記吸着パッドは、互いに中心軸が一致する２つの前記係止ピンが別個の前記係止孔内をそれぞれ移動することで、高さ方向に移動し、
   前記吸着パッドは、前記２つの係止ピンが前記係止孔により該係止孔の幅方向への移動を規制されることで、前記揺動軸回りの回転が規制される、
   ことを特徴とする基板吸着装置。
3. 前記吸着パッドの基部と前記パッド支持部材の収容凹部との間の間隙を気密に閉塞し、前記吸着パッドの揺動時に前記間隙を気密に閉塞した状態で弾性変形するパッキンを更に備え、
   前記吸着パッドが上限高さにあるときの前記係止ピンの中心軸は、前記パッキン部分又はその近傍で前記揺動軸と交差する、
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の基板吸着装置。
4. 前記パッド支持部材又は前記吸着パッドに対し、高さ調整可能に固定された高さ調整部材を更に備え、
   前記係止ピン又は前記係止孔は、前記高さ調整部材に設けられる、
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項記載の基板吸着装置。
5. 前記吸着パッドの前記基板側の面は、前記吸着面と非吸着面とを含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項記載の基板吸着装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項記載の基板吸着装置と、
   該基板吸着装置が配置されるステージと、
   を備えることを特徴とする基板検査装置。