JPH01184277A - 基板回転装置 - Google Patents
基板回転装置Info
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- JPH01184277A JPH01184277A JP806388A JP806388A JPH01184277A JP H01184277 A JPH01184277 A JP H01184277A JP 806388 A JP806388 A JP 806388A JP 806388 A JP806388 A JP 806388A JP H01184277 A JPH01184277 A JP H01184277A
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- substrate
- pole teeth
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、基板の真空蒸着やスパッタなどを行なう真空
処理装置に係り、特に基板回転装置に関するものである
。
処理装置に係り、特に基板回転装置に関するものである
。
従来の技術
従来のこの種の基板回転装置は、第３図に示すような構
造になっていた。すなわち、真空ポンプ１によって真空
に医たれた真空槽２の中で、基板３は自転可能なように
回転アーム４に軸支された基板ホルダ５に保持される。
造になっていた。すなわち、真空ポンプ１によって真空
に医たれた真空槽２の中で、基板３は自転可能なように
回転アーム４に軸支された基板ホルダ５に保持される。
前記基板ホルダ５０回転軸と同軸にその上端部に設けら
れた遊星歯車６は、回転アーム４の回転軸と同心にかつ
真空槽２に固定して設けられた歯車７とかみ合うように
なっている。前記回転アーム４は、真空槽２に設けた軸
受８に軸支された回転軸９に固定されている。駆動モー
タ１０の回転は、継手１１を介して前記回転軸９に伝達
される。シール１２により回転軸９と真空槽２との間の
気密を保持している。
れた遊星歯車６は、回転アーム４の回転軸と同心にかつ
真空槽２に固定して設けられた歯車７とかみ合うように
なっている。前記回転アーム４は、真空槽２に設けた軸
受８に軸支された回転軸９に固定されている。駆動モー
タ１０の回転は、継手１１を介して前記回転軸９に伝達
される。シール１２により回転軸９と真空槽２との間の
気密を保持している。
蒸発源１３は、前記基板３に対向して真空槽２の底部に
固定されている。
固定されている。
以上のような構造の基板回転装置において、駆動モータ
１０を回転させると、回転軸９および回転アーム４が回
転する。このとき、回転アーム４に回転自在に軸支され
た基板ホルダ５は、歯車７と遊星歯車６のかみ合いによ
って、回転アーム４の回転方向とは逆方向に回転する。
１０を回転させると、回転軸９および回転アーム４が回
転する。このとき、回転アーム４に回転自在に軸支され
た基板ホルダ５は、歯車７と遊星歯車６のかみ合いによ
って、回転アーム４の回転方向とは逆方向に回転する。
すなわち基板ホルダ５は、自転および公転運動を行なう
。蒸発源１３から蒸発した蒸発材料は、自転、公転する
基板ホルダ５に保持された基板３を均一に蒸着する。
。蒸発源１３から蒸発した蒸発材料は、自転、公転する
基板ホルダ５に保持された基板３を均一に蒸着する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構造では、遊星歯車６と歯車
７とがかみ合いによって互いに李耗し、粉塵を発生して
真空槽２の中を汚染し、基板３の蒸着における成膜品質
を劣化させるだけでなく、高真空中での遊星歯車６と歯
車７との摺動によって焼付きを起し、所定の回転運動が
円滑に行なえないという問題があった。
７とがかみ合いによって互いに李耗し、粉塵を発生して
真空槽２の中を汚染し、基板３の蒸着における成膜品質
を劣化させるだけでなく、高真空中での遊星歯車６と歯
車７との摺動によって焼付きを起し、所定の回転運動が
円滑に行なえないという問題があった。
本発明は上記問題を解決するもので、基板の自転および
公転運動における粉塵の発生を防ぎ、基板の成膜品質の
劣化を防ぐとともに、歯車の摺動による焼付きを無くし
て、装置の円滑な動作が行なえるようにした基板回転装
置を提供することを目的とするものである。
公転運動における粉塵の発生を防ぎ、基板の成膜品質の
劣化を防ぐとともに、歯車の摺動による焼付きを無くし
て、装置の円滑な動作が行なえるようにした基板回転装
置を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記問題を解決するために本発明の基板回転装置は、回
転アームと、この回転アームの端部に回転自在に設けた
基板ホルダと、この基板ホルダの一私軒へ同軸に取付は
周端縁に複数の凹凸の磁極歯を有する円板と、この円板
の磁極歯に対向して前記回転アームの回転軸と同心の円
筒形の支持体に周端縁に沿って配設した複数個の磁石と
を備えたものである。
転アームと、この回転アームの端部に回転自在に設けた
基板ホルダと、この基板ホルダの一私軒へ同軸に取付は
周端縁に複数の凹凸の磁極歯を有する円板と、この円板
の磁極歯に対向して前記回転アームの回転軸と同心の円
筒形の支持体に周端縁に沿って配設した複数個の磁石と
を備えたものである。
作用
上記の構成により、回転アームを回転させると、回転ア
ームの端部の軸受で軸支した基板ホルダの回転軸と同軸
の円板は公転するとともに、その円板が有する周端縁の
複数の凹凸の磁極歯とそれに対向する複数個の磁石との
間の磁力によって、円板は前記磁石の周囲を転動するよ
うに回転力を受けて自転する。それにともなって同軸の
基板ホルダとそれで保持した基板は非接触で円滑に自転
しつつ公転し、従来のような歯車のかみ合いによる粉塵
の発生や焼付きなどの障害は全く発生しない。
ームの端部の軸受で軸支した基板ホルダの回転軸と同軸
の円板は公転するとともに、その円板が有する周端縁の
複数の凹凸の磁極歯とそれに対向する複数個の磁石との
間の磁力によって、円板は前記磁石の周囲を転動するよ
うに回転力を受けて自転する。それにともなって同軸の
基板ホルダとそれで保持した基板は非接触で円滑に自転
しつつ公転し、従来のような歯車のかみ合いによる粉塵
の発生や焼付きなどの障害は全く発生しない。
実施列
以下、本発明の一実施例の基板回転装置について、添付
図面にもとづいて説明する。
図面にもとづいて説明する。
第１図は本発明の一実施例の基板回転装置の要部の平面
図、第２図は同基板回転装置を設けた真空処理装置の概
略断面図である。
図、第２図は同基板回転装置を設けた真空処理装置の概
略断面図である。
第２図において、真空槽２１は、真空ポンプ２２を設け
て真空状態に維持できる。この真空槽２１の内部には、
底面２１ａのほぼ中央部に蒸発材料を蒸発させる蒸発源
２３を配設し、かつ真空槽２１の天板２１ｂの中央部に
設けた軸受２４によって回転自在に回転アーム２５の回
転軸２５ａを軸支し、この回転アーム２５の先端に取付
けた軸受２６で基板ホルダ２７の回転軸２７ａを回転自
在に軸支し、この基板ホルダ２７の下面で基板２８を保
持している。前記回転アーム２５の回転軸２５ａは継手
２９を介して駆動モータ３０に連結し、回転アーム２５
と軸受２４との間はシール材３１により摺動自在に気密
を保持している。前記基板ホルダ２７の回転軸２７ａの
上端部に、円板３２を基板ホルダ２７と同軸に取付けて
おり、この円板３２の周端縁に複数の凹凸の磁極歯３２
ａを形成している。また前記真空槽２１の軸受２４の周
囲の天板２１ｂに取付けた円筒形の非磁性の支持体３３
の下端部に、前記円板３２の磁極歯３２Ｈに対向して複
数個の永久磁石３４を配設している。
て真空状態に維持できる。この真空槽２１の内部には、
底面２１ａのほぼ中央部に蒸発材料を蒸発させる蒸発源
２３を配設し、かつ真空槽２１の天板２１ｂの中央部に
設けた軸受２４によって回転自在に回転アーム２５の回
転軸２５ａを軸支し、この回転アーム２５の先端に取付
けた軸受２６で基板ホルダ２７の回転軸２７ａを回転自
在に軸支し、この基板ホルダ２７の下面で基板２８を保
持している。前記回転アーム２５の回転軸２５ａは継手
２９を介して駆動モータ３０に連結し、回転アーム２５
と軸受２４との間はシール材３１により摺動自在に気密
を保持している。前記基板ホルダ２７の回転軸２７ａの
上端部に、円板３２を基板ホルダ２７と同軸に取付けて
おり、この円板３２の周端縁に複数の凹凸の磁極歯３２
ａを形成している。また前記真空槽２１の軸受２４の周
囲の天板２１ｂに取付けた円筒形の非磁性の支持体３３
の下端部に、前記円板３２の磁極歯３２Ｈに対向して複
数個の永久磁石３４を配設している。
この永久磁石３４は、第１図に示すように凹形で、前記
磁極歯３２ａのピッチと同等のピッチで対向して複数個
を支持体３３の下端部の周端縁に沿って配設している。
磁極歯３２ａのピッチと同等のピッチで対向して複数個
を支持体３３の下端部の周端縁に沿って配設している。
以上のように構成された基板回転装置について、その動
作を説明する。
作を説明する。
駆動モータ３０を回転させると、回転アーム２５は継手
２９を介して回転する。回転アーム２５の先端の軸受２
６で軸支した基板ホルダ２７の回転軸２７ａの上端部に
取付けた円板３２の磁極歯３２ａと永久磁石３４との間
の磁力によって、円板３２は永久磁石３４の外周を転動
するように回転力を受ける。したがって、前記回転アー
ム２５を回転させることにより基板ホルダ２７は非接触
で自転、公転運動を円滑に行なうことができて、粉塵な
どを発生させることがなく、蒸発源２３から蒸発した蒸
発材料は、自転、公転する基板ホルダ２７で保持した基
板２８を均一に蒸着する。
２９を介して回転する。回転アーム２５の先端の軸受２
６で軸支した基板ホルダ２７の回転軸２７ａの上端部に
取付けた円板３２の磁極歯３２ａと永久磁石３４との間
の磁力によって、円板３２は永久磁石３４の外周を転動
するように回転力を受ける。したがって、前記回転アー
ム２５を回転させることにより基板ホルダ２７は非接触
で自転、公転運動を円滑に行なうことができて、粉塵な
どを発生させることがなく、蒸発源２３から蒸発した蒸
発材料は、自転、公転する基板ホルダ２７で保持した基
板２８を均一に蒸着する。
以上のように本実施例によれば１回転アーム２５と、こ
の回転アーム２５の先端に回転自在に設けた基板ホルダ
２７と、この基板ホルダ２７の回転軸２７ａの上端部に
取付け、かつ周端縁に凹凸の磁極歯３２ａを設けた円板
３２と、この円板３２の磁極歯３２ａに対向して回転ア
ーム２５の匠転軸２５ａと同心の支持体３３の下端部の
周端縁に沿って固定して設けた複数の永久磁石３４とを
備えたことにより、歯車のかみ合いによる粉塵などの発
生や焼付きを生じることなく、円滑に真空中において基
板ホルダ２７の自転および公転を行なうことができ、基
板ホルダ２７で保持した基板２８を均一に蒸着できて、
高品位の蒸着膜を形成することができる。
の回転アーム２５の先端に回転自在に設けた基板ホルダ
２７と、この基板ホルダ２７の回転軸２７ａの上端部に
取付け、かつ周端縁に凹凸の磁極歯３２ａを設けた円板
３２と、この円板３２の磁極歯３２ａに対向して回転ア
ーム２５の匠転軸２５ａと同心の支持体３３の下端部の
周端縁に沿って固定して設けた複数の永久磁石３４とを
備えたことにより、歯車のかみ合いによる粉塵などの発
生や焼付きを生じることなく、円滑に真空中において基
板ホルダ２７の自転および公転を行なうことができ、基
板ホルダ２７で保持した基板２８を均一に蒸着できて、
高品位の蒸着膜を形成することができる。
発明の効果
以上のように本発明の基板回転装置においては、回転ア
ームの端部に回転自在に設けた基板ホルダと、この基板
ホルダの回転軸に同軸に取付は周端縁に凹凸の磁極歯を
有する円板と、この円板の磁極歯に対向して回転アーム
の回転軸と同心の円筒形支持体の周端縁に沿って配設し
た複数個の磁石とを備えたことにより、従来のように歯
車のかみ合いや摺動による粉塵の発生や、焼付きを生じ
ることなく円滑に真空中において基板の自転および公転
を行なうことができ、たとえば均一に蒸着して高品の蒸
着膜を形成することができる。
ームの端部に回転自在に設けた基板ホルダと、この基板
ホルダの回転軸に同軸に取付は周端縁に凹凸の磁極歯を
有する円板と、この円板の磁極歯に対向して回転アーム
の回転軸と同心の円筒形支持体の周端縁に沿って配設し
た複数個の磁石とを備えたことにより、従来のように歯
車のかみ合いや摺動による粉塵の発生や、焼付きを生じ
ることなく円滑に真空中において基板の自転および公転
を行なうことができ、たとえば均一に蒸着して高品の蒸
着膜を形成することができる。
第１図は本発明の実施例における基板回転装置の要部の
平面図、第２図は同基板回転装置を設けた真空処理装置
の概略断面図、第３図は従来の基板回転装置を設けた真
空処理装置の概略断面図である。 ２５・・・回転アーム、２５ａ・・・回転軸、２７・・
・基板ホルダ、２７ａ・・・回転軸、２８・・・基板、
３２・・・円板、３２ａ・・・磁極歯、３３・・・支持
体、３４・・・磁石。
平面図、第２図は同基板回転装置を設けた真空処理装置
の概略断面図、第３図は従来の基板回転装置を設けた真
空処理装置の概略断面図である。 ２５・・・回転アーム、２５ａ・・・回転軸、２７・・
・基板ホルダ、２７ａ・・・回転軸、２８・・・基板、
３２・・・円板、３２ａ・・・磁極歯、３３・・・支持
体、３４・・・磁石。
Claims (1)
- １、回転アームと、この回転アームの端部に回転自在に
設けた基板ホルダと、この基板ホルダの回転軸へ同軸に
取付け周端縁に複数の凹凸の磁極歯を有する円板と、こ
の円板の磁極歯に対向して前記回転アームの回転軸と同
心の円筒形の支持体に周端縁に沿って配設した複数個の
磁石とを備えたことを特徴とする基板回転装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP806388A JPH01184277A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 基板回転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP806388A JPH01184277A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 基板回転装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01184277A true JPH01184277A (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=11682886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP806388A Pending JPH01184277A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 基板回転装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01184277A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996021757A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Tsai Charles Su Chang | Rotatable susceptor with integrated ferromagnetic element |
| US6063455A (en) * | 1995-10-09 | 2000-05-16 | Institute For Advanced Engineering | Apparatus for manufacturing diamond film having a large area and method thereof |
| JP2008138276A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置 |
| DE19649412B4 (de) * | 1995-12-08 | 2009-07-02 | Materials Research Corp. | Vorrichtung und Verfahren zum Bewegen eines Substrats |
| WO2013056005A1 (en) | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Ferrotec (Usa) Corporation | Non-contact magnetic drive assembly with mechanical stop elements |
| KR20160132743A (ko) * | 2015-05-11 | 2016-11-21 | 주성엔지니어링(주) | 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 |
| KR20170087741A (ko) * | 2016-01-21 | 2017-07-31 | 주성엔지니어링(주) | 기판 처리장치 |
| JP2022112860A (ja) * | 2021-01-22 | 2022-08-03 | 株式会社シンクロン | 成膜装置 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP806388A patent/JPH01184277A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996021757A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Tsai Charles Su Chang | Rotatable susceptor with integrated ferromagnetic element |
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| EP2766921B1 (en) * | 2011-10-12 | 2020-04-22 | Ferrotec (USA) Corporation | Contactless magnetic drive assembly with mechanical stop elements |
| KR20160132743A (ko) * | 2015-05-11 | 2016-11-21 | 주성엔지니어링(주) | 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 |
| JP2018515930A (ja) * | 2015-05-11 | 2018-06-14 | ジュソン エンジニアリング カンパニー リミテッド | 工程チャンバーの内部に配置される基板処理装置及びその作動方法 |
| US10818534B2 (en) | 2015-05-11 | 2020-10-27 | Jusung Engineering Co., Ltd. | Substrate processing apparatus arranged in process chamber and operating method thereof |
| KR20170087741A (ko) * | 2016-01-21 | 2017-07-31 | 주성엔지니어링(주) | 기판 처리장치 |
| JP2022112860A (ja) * | 2021-01-22 | 2022-08-03 | 株式会社シンクロン | 成膜装置 |
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