JPH11323550A - 真空成膜装置用回転テーブル - Google Patents
真空成膜装置用回転テーブルInfo
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- JPH11323550A JPH11323550A JP12598198A JP12598198A JPH11323550A JP H11323550 A JPH11323550 A JP H11323550A JP 12598198 A JP12598198 A JP 12598198A JP 12598198 A JP12598198 A JP 12598198A JP H11323550 A JPH11323550 A JP H11323550A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ホルダー回転のための駆動力を必要最小限に
抑え、しかも非接触方式でホルダーを回転させ得る構造
とする真空成膜装置用回転テーブルの提供。 【解決手段】 回転テーブルの中心軸回りに回転可能に
設けられる大テーブル１、その周縁に同心の円に沿って
自軸回りの回転可能に配置される複数個の小テーブル
２、各小テーブル２の周縁に同心の円に沿って自軸回り
の回転可能に配置され、成膜される部品を保持する複数
個のワークホルダー３、各回転軸４に等分周に取付けら
れる複数個の磁石片からなる複数個の能動側磁石体５、
各ワークホルダー３の非保持側下部に能動側磁石体５に
近接対向して等分周に取付けられる複数個の磁石片から
なり、相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸
引力とによりワークホルダー３に回転運動を付与する受
動側磁石体６により真空成膜装置用回転テーブルが構成
される。
抑え、しかも非接触方式でホルダーを回転させ得る構造
とする真空成膜装置用回転テーブルの提供。 【解決手段】 回転テーブルの中心軸回りに回転可能に
設けられる大テーブル１、その周縁に同心の円に沿って
自軸回りの回転可能に配置される複数個の小テーブル
２、各小テーブル２の周縁に同心の円に沿って自軸回り
の回転可能に配置され、成膜される部品を保持する複数
個のワークホルダー３、各回転軸４に等分周に取付けら
れる複数個の磁石片からなる複数個の能動側磁石体５、
各ワークホルダー３の非保持側下部に能動側磁石体５に
近接対向して等分周に取付けられる複数個の磁石片から
なり、相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸
引力とによりワークホルダー３に回転運動を付与する受
動側磁石体６により真空成膜装置用回転テーブルが構成
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオンプレーティ
ングをはじめとする真空成膜装置に用いられ、成膜され
る部品を搭載する回転テーブルに関する。
ングをはじめとする真空成膜装置に用いられ、成膜され
る部品を搭載する回転テーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の真空成膜装置用回転テーブルに
関する典型的な先行技術が特公平 2−94711号公報によ
り挙示されるように公知であって、その構造の概要は次
の通りである。
関する典型的な先行技術が特公平 2−94711号公報によ
り挙示されるように公知であって、その構造の概要は次
の通りである。
【０００３】真空容器の側壁、あるいは天板に蒸発源
（イオン源）が配置されており、真空容器の底板中央
に、成膜される部品（以下、ワークと言う）を搭載する
テーブルが配置される真空成膜装置にあって、複数のワ
ークに均一にコーティングするため、複数のワークが、
各々のイオン源の前を均等に通過するようにテーブルを
回転させる。この回転テーブルは、複数のワークをそれ
ぞれ直接支持する複数の小テーブルと、複数の小テーブ
ルを支持する大テーブルとから構成されている。小テー
ブルは、大テーブルの周縁に配置されており、大テーブ
ルが自転するに伴って、大テーブルの回転中心軸回りを
自転しながら公転するようになっている。さらに、小テ
ーブルの周縁でホルダーを介して支持されたワークも、
小テーブルの回転中心軸回りを自転しながら公転するよ
うになっている。
（イオン源）が配置されており、真空容器の底板中央
に、成膜される部品（以下、ワークと言う）を搭載する
テーブルが配置される真空成膜装置にあって、複数のワ
ークに均一にコーティングするため、複数のワークが、
各々のイオン源の前を均等に通過するようにテーブルを
回転させる。この回転テーブルは、複数のワークをそれ
ぞれ直接支持する複数の小テーブルと、複数の小テーブ
ルを支持する大テーブルとから構成されている。小テー
ブルは、大テーブルの周縁に配置されており、大テーブ
ルが自転するに伴って、大テーブルの回転中心軸回りを
自転しながら公転するようになっている。さらに、小テ
ーブルの周縁でホルダーを介して支持されたワークも、
小テーブルの回転中心軸回りを自転しながら公転するよ
うになっている。
【０００４】上記先行技術では、ワークを支持するホル
ダーを回転する手段として、歯車駆動方式を採用し、大
テーブルの回転運動が一連の歯車機構を経て、最終段の
ホルダーに伝達されるようになっていて、ホルダーを連
続的に回転させる方式が採用されている。
ダーを回転する手段として、歯車駆動方式を採用し、大
テーブルの回転運動が一連の歯車機構を経て、最終段の
ホルダーに伝達されるようになっていて、ホルダーを連
続的に回転させる方式が採用されている。
【０００５】一方、他の先行技術の回転テーブルの要部
構造が図５に概要示されるように、ホルダー２３を間欠
的に回転させる方式のものも提案されている。これは図
５を参照して、各小テーブル２２にそれぞれ隣接して大
テーブル（図示せず）に回転可能に配置される複数個の
揺動軸２４と、この揺動軸２４に取付けられたキッカー
と通称される蹴り爪２５と、蹴り爪２５の先端に間欠的
に当接するようにホルダー２３の軸に取付けられた係合
歯２６とにより間欠回転駆動機構が形成されていて、揺
動する蹴り爪２５によって係合歯２６が蹴られてホルダ
ー２３の軸回りに間欠的に回転するのに伴って、ホルダ
ー２３が間欠回転させられる。
構造が図５に概要示されるように、ホルダー２３を間欠
的に回転させる方式のものも提案されている。これは図
５を参照して、各小テーブル２２にそれぞれ隣接して大
テーブル（図示せず）に回転可能に配置される複数個の
揺動軸２４と、この揺動軸２４に取付けられたキッカー
と通称される蹴り爪２５と、蹴り爪２５の先端に間欠的
に当接するようにホルダー２３の軸に取付けられた係合
歯２６とにより間欠回転駆動機構が形成されていて、揺
動する蹴り爪２５によって係合歯２６が蹴られてホルダ
ー２３の軸回りに間欠的に回転するのに伴って、ホルダ
ー２３が間欠回転させられる。
【０００６】なお、上述する先行技術はいずれも成膜時
において、ホルダー、該ホルダー軸受け及び小テーブル
を介してワークに−５０〜−３０００Ｖ程度の負のバイ
アス電圧が印加される構造となつている。
において、ホルダー、該ホルダー軸受け及び小テーブル
を介してワークに−５０〜−３０００Ｖ程度の負のバイ
アス電圧が印加される構造となつている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記先行技術におい
て、前者の連続回転方式の場合、ホルダーに対して回転
駆動力を伝達する歯車の数が多くなり、その分大きな回
転駆動源が必要になってランニングコスト増につなが
る。一方、後者の間欠回転方式の場合、蹴り爪２５が係
合歯２６を蹴る際、バイアス電圧印加接点を兼ねるホル
ダー軸受けに、間欠的に荷重が加わることから、バイア
ス電圧の印加状態が不安定になり、その結果、ワークの
膜質にばらつきが生じて製品の品質を低下させる問題が
ある。
て、前者の連続回転方式の場合、ホルダーに対して回転
駆動力を伝達する歯車の数が多くなり、その分大きな回
転駆動源が必要になってランニングコスト増につなが
る。一方、後者の間欠回転方式の場合、蹴り爪２５が係
合歯２６を蹴る際、バイアス電圧印加接点を兼ねるホル
ダー軸受けに、間欠的に荷重が加わることから、バイア
ス電圧の印加状態が不安定になり、その結果、ワークの
膜質にばらつきが生じて製品の品質を低下させる問題が
ある。
【０００８】本発明は、このような従来の真空成膜装置
用回転テーブルが有する問題点の解消を図るために成さ
れたものであり、従って、本発明の目的は、ホルダー回
転のための駆動力を必要最小限に抑え、しかも非接触方
式でホルダーを回転させ得る構造とすることにより、回
転動力エネルギーの低減化並びに成膜の均質化を図らせ
る真空成膜装置用回転テーブルを提供することにある。
用回転テーブルが有する問題点の解消を図るために成さ
れたものであり、従って、本発明の目的は、ホルダー回
転のための駆動力を必要最小限に抑え、しかも非接触方
式でホルダーを回転させ得る構造とすることにより、回
転動力エネルギーの低減化並びに成膜の均質化を図らせ
る真空成膜装置用回転テーブルを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため以下に述べる構成としたものである。即
ち、本発明に係る請求項１の発明は、成膜される部品を
搭載する真空成膜装置の回転テーブルであって、前記回
転テーブルの中心軸回りに回転可能に設けられる大テー
ブル１と、大テーブル１の周縁にその中心と同心の円に
沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置される複数個
の小テーブル２と、前記各小テーブル２の周縁にその中
心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配
置され、成膜される前記部品を保持する複数個のワーク
ホルダー３と、各小テーブル２にそれぞれ隣接して前記
大テーブル１に回転可能に配置される複数個の回転軸４
と、各回転軸４に等分周に取付けられる複数個の磁石片
５a ，５b からなる複数個の能動側磁石体５と、モータ
及び回転動力伝達機構７，１１，８，９，４，１０，…
を備え、大テーブル１の自転、複数個の小テーブル２と
複数個の回転軸４の公転及び自転を行わせるための駆動
手段と、各ワークホルダー３における非保持側下部に前
記能動側磁石体５に近接対向して等分周に取付けられる
複数個の磁石片６a ，６b からなり、前記能動側磁石体
５の相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸引
力とによりワークホルダー３に回転運動を付与する受動
側磁石体６とを含んで構成してなることを特徴とする。
達成するため以下に述べる構成としたものである。即
ち、本発明に係る請求項１の発明は、成膜される部品を
搭載する真空成膜装置の回転テーブルであって、前記回
転テーブルの中心軸回りに回転可能に設けられる大テー
ブル１と、大テーブル１の周縁にその中心と同心の円に
沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置される複数個
の小テーブル２と、前記各小テーブル２の周縁にその中
心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配
置され、成膜される前記部品を保持する複数個のワーク
ホルダー３と、各小テーブル２にそれぞれ隣接して前記
大テーブル１に回転可能に配置される複数個の回転軸４
と、各回転軸４に等分周に取付けられる複数個の磁石片
５a ，５b からなる複数個の能動側磁石体５と、モータ
及び回転動力伝達機構７，１１，８，９，４，１０，…
を備え、大テーブル１の自転、複数個の小テーブル２と
複数個の回転軸４の公転及び自転を行わせるための駆動
手段と、各ワークホルダー３における非保持側下部に前
記能動側磁石体５に近接対向して等分周に取付けられる
複数個の磁石片６a ，６b からなり、前記能動側磁石体
５の相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸引
力とによりワークホルダー３に回転運動を付与する受動
側磁石体６とを含んで構成してなることを特徴とする。
【００１０】また、本発明に係る請求項２の発明は、成
膜される部品を搭載する真空成膜装置の回転テーブルで
あって、前記回転テーブルの中心軸回りに回転可能に設
けられる大テーブル１と、大テーブル１の周縁にその中
心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配
置され複数個の小テーブル２と、各小テーブル２の外周
縁に等分周に配置され突設される複数個の蹴り爪１２
と、前記各小テーブル２の周縁にその中心と同心の円に
沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置され、成膜さ
れる前記部品を保持する複数個のワークホルダー３と、
各小テーブル２にそれぞれ隣接して前記大テーブル１に
回転可能に配置される複数個の回転軸４と、各小テーブ
ル２の前記蹴り爪１２に対して間欠的に噛み合うように
前記回転軸４に取付けられる歯車１３と、各回転軸４に
等分周に取付けられる複数個の磁石片５a ，５b からな
る複数個の能動側磁石体５と、モータ及び回転動力伝達
機構７，１１，８，…を備え、大テーブル１の自転、複
数個の小テーブル２の公転及び自転、複数個の回転軸４
の公転を行わせるための駆動手段と、各ワークホルダー
３における非保持側下部に前記能動側磁石体５に近接対
向して等分周に取付けられる複数個の磁石片６a ，６b
からなり、前記能動側磁石体５の相対向する磁石片間に
生じる磁気反発力と磁気吸引力とによりワークホルダー
３に回転運動を付与する受動側磁石体６とを含んで構成
してなることを特徴とする。
膜される部品を搭載する真空成膜装置の回転テーブルで
あって、前記回転テーブルの中心軸回りに回転可能に設
けられる大テーブル１と、大テーブル１の周縁にその中
心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配
置され複数個の小テーブル２と、各小テーブル２の外周
縁に等分周に配置され突設される複数個の蹴り爪１２
と、前記各小テーブル２の周縁にその中心と同心の円に
沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置され、成膜さ
れる前記部品を保持する複数個のワークホルダー３と、
各小テーブル２にそれぞれ隣接して前記大テーブル１に
回転可能に配置される複数個の回転軸４と、各小テーブ
ル２の前記蹴り爪１２に対して間欠的に噛み合うように
前記回転軸４に取付けられる歯車１３と、各回転軸４に
等分周に取付けられる複数個の磁石片５a ，５b からな
る複数個の能動側磁石体５と、モータ及び回転動力伝達
機構７，１１，８，…を備え、大テーブル１の自転、複
数個の小テーブル２の公転及び自転、複数個の回転軸４
の公転を行わせるための駆動手段と、各ワークホルダー
３における非保持側下部に前記能動側磁石体５に近接対
向して等分周に取付けられる複数個の磁石片６a ，６b
からなり、前記能動側磁石体５の相対向する磁石片間に
生じる磁気反発力と磁気吸引力とによりワークホルダー
３に回転運動を付与する受動側磁石体６とを含んで構成
してなることを特徴とする。
【００１１】また、本発明に係る請求項３の発明は、上
記請求項１又は請求項２の発明に関して、能動側磁石体
５と受動側磁石体６とが軸直角方向の断面形状を略同形
とする対称関係に形成され、かつ、両磁石体５、６にお
ける複数個の磁石片５a ，５b 、６a ，６b が、隣合う
ものについて極性が逆になるように正極Ｎと負極Ｓとを
交互に配置して取付けられてなることを特徴とする。
記請求項１又は請求項２の発明に関して、能動側磁石体
５と受動側磁石体６とが軸直角方向の断面形状を略同形
とする対称関係に形成され、かつ、両磁石体５、６にお
ける複数個の磁石片５a ，５b 、６a ，６b が、隣合う
ものについて極性が逆になるように正極Ｎと負極Ｓとを
交互に配置して取付けられてなることを特徴とする。
【００１２】このような本発明によれば、回転テーブル
を回転するための駆動手段は、大テーブルと小テーブル
と複数個の回転軸とを駆動するに足るものであればよく
て、複数個のワークホルダーまで駆動することを要しな
いことから、そのための間欠回転運動を行わせる機構を
含む歯車機構の構造が簡略化され、かつ、駆動力を大幅
に削減することができる。
を回転するための駆動手段は、大テーブルと小テーブル
と複数個の回転軸とを駆動するに足るものであればよく
て、複数個のワークホルダーまで駆動することを要しな
いことから、そのための間欠回転運動を行わせる機構を
含む歯車機構の構造が簡略化され、かつ、駆動力を大幅
に削減することができる。
【００１３】また本発明によれば、複数個のワークホル
ダーの回転は、複数個の回転軸の回転運動を磁気力利用
の非接触方式により伝達させるようにしているので、特
にワークホルダーに対して間欠回転運動を行わせる場合
に、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡になる
のを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧印加状
態の変動を抑えて成膜の均質化を果たすことができる。
ダーの回転は、複数個の回転軸の回転運動を磁気力利用
の非接触方式により伝達させるようにしているので、特
にワークホルダーに対して間欠回転運動を行わせる場合
に、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡になる
のを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧印加状
態の変動を抑えて成膜の均質化を果たすことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を具体的に説明する。本発明に係る回転テーブルが適用
される真空成膜装置としては、従来から使用されている
公知とされる構造のものであるので、図示を省略してそ
の概要構造につき以下説明する。周囲が壁により囲まれ
る真空室の下部に上記回転テーブルが配設され、回転テ
ーブルを回転駆動するための駆動軸は、真空室の底壁を
気密に貫通して室外に取り出され、モータと機械的に連
結される。ワークホルダーに支持されるワークにイオン
プレーティングを行わせるためのイオン源は、例えば回
転テーブルの側方に２個、上方に２個配置されている。
なお、この真空成膜装置には、加熱ヒータ、ガス導入手
段、真空抽気手段、バイアス電圧印加手段等が設けられ
ている。
を具体的に説明する。本発明に係る回転テーブルが適用
される真空成膜装置としては、従来から使用されている
公知とされる構造のものであるので、図示を省略してそ
の概要構造につき以下説明する。周囲が壁により囲まれ
る真空室の下部に上記回転テーブルが配設され、回転テ
ーブルを回転駆動するための駆動軸は、真空室の底壁を
気密に貫通して室外に取り出され、モータと機械的に連
結される。ワークホルダーに支持されるワークにイオン
プレーティングを行わせるためのイオン源は、例えば回
転テーブルの側方に２個、上方に２個配置されている。
なお、この真空成膜装置には、加熱ヒータ、ガス導入手
段、真空抽気手段、バイアス電圧印加手段等が設けられ
ている。
【００１５】次いで、図１及び図２を参照して本発明の
第１実施形態に係る回転テーブルの態様を説明する。図
１には、回転テーブルの部分示平面図が、図２には、同
じく部分示縦断面図がそれぞれ図示される。
第１実施形態に係る回転テーブルの態様を説明する。図
１には、回転テーブルの部分示平面図が、図２には、同
じく部分示縦断面図がそれぞれ図示される。
【００１６】上記回転テーブルは、１個の大テーブル１
と、複数個の小テーブル２と、この小テーブル２の整数
倍となる複数個のワークホルダー３と、小テーブル２と
同数の複数個の回転軸４と、この回転軸４と同数の複数
個の能動側磁石体５と、ワークホルダー３と同数の複数
個の受動側磁石体６と、大テーブル１、小テーブル２及
び回転軸４を回転させるための駆動手段とを含んで構成
される。
と、複数個の小テーブル２と、この小テーブル２の整数
倍となる複数個のワークホルダー３と、小テーブル２と
同数の複数個の回転軸４と、この回転軸４と同数の複数
個の能動側磁石体５と、ワークホルダー３と同数の複数
個の受動側磁石体６と、大テーブル１、小テーブル２及
び回転軸４を回転させるための駆動手段とを含んで構成
される。
【００１７】大テーブル１は大径円板から成っていて、
その中心部に立設される中心軸（図示せず）の回りに回
転可能に設けられ、モータ、減速機、駆動軸、駆動歯車
等からなる駆動機構（図示せず）から回転力が付与され
ることによって、中心軸回りに所定速度で回転する。こ
の大テーブル１の周縁には、複数個の回転軸１１が大テ
ーブル１の中心と同心の円に沿い、かつ等分周した位置
に回転可能に軸支されて立設されている。この複数個の
回転軸１１には、小径円板から成る小テーブル２がその
中心部を嵌着してそれぞれ取付けられていて、回転軸１
１と一体に回転可能に設けられる。
その中心部に立設される中心軸（図示せず）の回りに回
転可能に設けられ、モータ、減速機、駆動軸、駆動歯車
等からなる駆動機構（図示せず）から回転力が付与され
ることによって、中心軸回りに所定速度で回転する。こ
の大テーブル１の周縁には、複数個の回転軸１１が大テ
ーブル１の中心と同心の円に沿い、かつ等分周した位置
に回転可能に軸支されて立設されている。この複数個の
回転軸１１には、小径円板から成る小テーブル２がその
中心部を嵌着してそれぞれ取付けられていて、回転軸１
１と一体に回転可能に設けられる。
【００１８】大テーブル１には、さらに複数個の前記回
転軸４が設けられる。この回転軸４は、各小テーブル２
と対関係を成した部材であって、対応する小テーブル２
に隣接した位置に、自軸回りの回転可能に軸支されて立
設されている。回転軸４は、図２に図示されるように自
由端側の上端部が小テーブル２よりも上方に若干長突出
して立設されており、この上方突出部分の回りに後述す
る能動側磁石体５が取付けられている。
転軸４が設けられる。この回転軸４は、各小テーブル２
と対関係を成した部材であって、対応する小テーブル２
に隣接した位置に、自軸回りの回転可能に軸支されて立
設されている。回転軸４は、図２に図示されるように自
由端側の上端部が小テーブル２よりも上方に若干長突出
して立設されており、この上方突出部分の回りに後述す
る能動側磁石体５が取付けられている。
【００１９】一方、大テーブル１、小テーブル２及び回
転軸４を回転させるための前記駆動手段は、大テーブル
１の下方に該テーブル１と同軸に配置して固定させた太
陽歯車７と、この太陽歯車７に噛み合わせて前記回転軸
１１に嵌着した遊星歯車８と、回転軸１１に嵌着した歯
車９と、この歯車９に噛み合わせて前記回転軸４に嵌着
した歯車１０との歯車列を備えている。このような駆動
手段が設けられることにより、大テーブル１の回転に伴
い、小テーブル２及び回転軸４は自転しながら大テーブ
ル１の回転軸回りに公転する動きを成すものである。
転軸４を回転させるための前記駆動手段は、大テーブル
１の下方に該テーブル１と同軸に配置して固定させた太
陽歯車７と、この太陽歯車７に噛み合わせて前記回転軸
１１に嵌着した遊星歯車８と、回転軸１１に嵌着した歯
車９と、この歯車９に噛み合わせて前記回転軸４に嵌着
した歯車１０との歯車列を備えている。このような駆動
手段が設けられることにより、大テーブル１の回転に伴
い、小テーブル２及び回転軸４は自転しながら大テーブ
ル１の回転軸回りに公転する動きを成すものである。
【００２０】上記小テーブル２の上面には複数個のワー
クホルダー３が配設されている。この各ワークホルダー
３は、図示しないワークを保持するための部材であっ
て、小テーブル２の周縁にその中心と同心の円に沿い、
かつ等分周した位置に回転可能に下端部が軸支されて立
設されている。また、ワークホルダー３における軸支部
の直上方部には、後述する受動側磁石体６が前記能動側
磁石体５に対応させて取付けられている。このように設
けられるワークホルダー３は、小テーブル２の自転に伴
い、回転軸１１の回りを公転する。
クホルダー３が配設されている。この各ワークホルダー
３は、図示しないワークを保持するための部材であっ
て、小テーブル２の周縁にその中心と同心の円に沿い、
かつ等分周した位置に回転可能に下端部が軸支されて立
設されている。また、ワークホルダー３における軸支部
の直上方部には、後述する受動側磁石体６が前記能動側
磁石体５に対応させて取付けられている。このように設
けられるワークホルダー３は、小テーブル２の自転に伴
い、回転軸１１の回りを公転する。
【００２１】回転軸４の上方突出部分の回りに取付けら
れてなる前記能動側磁石体５は、複数個例えば６個の磁
石片５a ，５b から形成されていて、それらの磁石片５
a,５b が回転軸４の周面部に等分周、例えば６個の場合
中心角が６０°となる等分位置に取付けられる。この場
合本実施の形態では、複数個の磁石片５a ，５b が、隣
合うものについて極性が逆になるように正極Ｎの磁石片
（５a ）と負極Ｓの磁石片（５b ）とを交互に配置して
取付けている。
れてなる前記能動側磁石体５は、複数個例えば６個の磁
石片５a ，５b から形成されていて、それらの磁石片５
a,５b が回転軸４の周面部に等分周、例えば６個の場合
中心角が６０°となる等分位置に取付けられる。この場
合本実施の形態では、複数個の磁石片５a ，５b が、隣
合うものについて極性が逆になるように正極Ｎの磁石片
（５a ）と負極Ｓの磁石片（５b ）とを交互に配置して
取付けている。
【００２２】一方、ワークホルダー３の軸支部の直上方
部に取付けられてなる前記受動側磁石体６は、前記能動
側磁石体５と回転軸４直角方向の断面形状を略同形とす
る対称関係に形成されていて、複数個例えば６個の磁石
片６a ，６b が上記軸支部の直上方部の周面部に等分
周、例えば６個の場合中心角が６０°となる等分位置に
取付けられる。この場合複数個の磁石片６a ，６b が、
隣合うものについて極性が逆になるように正極Ｎの磁石
片（６a ）と負極Ｓの磁石片（６b ）とを交互に配置し
て取付けている。
部に取付けられてなる前記受動側磁石体６は、前記能動
側磁石体５と回転軸４直角方向の断面形状を略同形とす
る対称関係に形成されていて、複数個例えば６個の磁石
片６a ，６b が上記軸支部の直上方部の周面部に等分
周、例えば６個の場合中心角が６０°となる等分位置に
取付けられる。この場合複数個の磁石片６a ，６b が、
隣合うものについて極性が逆になるように正極Ｎの磁石
片（６a ）と負極Ｓの磁石片（６b ）とを交互に配置し
て取付けている。
【００２３】本第１実施形態においては、このように能
動側磁石体５と受動側磁石体６とを接近させ、かつ対応
関係に配設してなることにより、能動側磁石体５の回転
が受動側磁石体６に非接触下で伝達される。即ち、小テ
ーブル２が回転するに伴って回転軸４が自転し、同時に
能動側磁石体５が回転すると、能動側磁石体５の磁石片
５a ，５b と受動側磁石体６の磁石片６a ，６b との間
で反発作用と吸引作用とが交互に繰り返して働くことに
なり、その結果、非接触状態下において受動側磁石体６
つまりワークホルダー３を、ランダムではあるが回転
（自転）させることができる。
動側磁石体５と受動側磁石体６とを接近させ、かつ対応
関係に配設してなることにより、能動側磁石体５の回転
が受動側磁石体６に非接触下で伝達される。即ち、小テ
ーブル２が回転するに伴って回転軸４が自転し、同時に
能動側磁石体５が回転すると、能動側磁石体５の磁石片
５a ，５b と受動側磁石体６の磁石片６a ，６b との間
で反発作用と吸引作用とが交互に繰り返して働くことに
なり、その結果、非接触状態下において受動側磁石体６
つまりワークホルダー３を、ランダムではあるが回転
（自転）させることができる。
【００２４】図３及び図４を参照して本発明の第２実施
形態に係る回転テーブルの態様を説明する。図３には、
回転テーブルの部分示平面図が、図４には、同じく部分
示縦断面図がそれぞれ図示される。
形態に係る回転テーブルの態様を説明する。図３には、
回転テーブルの部分示平面図が、図４には、同じく部分
示縦断面図がそれぞれ図示される。
【００２５】上記第２実施形態に関して、前記第１実施
形態に類似し対応する各部材については同一の参照符号
を付して、それらの説明は重複を避けてここでは説明を
省略し、特徴とされる構成点について以下説明する。前
記第１実施形態の場合、回転軸４の回転（自転）が歯車
９，１０を介して回転軸１１から与えられているのに対
して、本第２実施形態の場合は、歯車９，１０が設けら
れなく、その代わりに小テーブル２と回転軸４との間に
蹴り爪１２及び歯車１３からなる間欠回転駆動機構が設
けられている。
形態に類似し対応する各部材については同一の参照符号
を付して、それらの説明は重複を避けてここでは説明を
省略し、特徴とされる構成点について以下説明する。前
記第１実施形態の場合、回転軸４の回転（自転）が歯車
９，１０を介して回転軸１１から与えられているのに対
して、本第２実施形態の場合は、歯車９，１０が設けら
れなく、その代わりに小テーブル２と回転軸４との間に
蹴り爪１２及び歯車１３からなる間欠回転駆動機構が設
けられている。
【００２６】蹴り爪１２は、各小テーブル２の外周縁に
恰も粗いピッチの歯車にも似た等分周の配置で突出させ
て設けられる。一方、歯車１３は、前記蹴り爪１２に対
して間欠的に噛み合うことができるように、回転軸４の
軸支部の直上方部に嵌着されている。
恰も粗いピッチの歯車にも似た等分周の配置で突出させ
て設けられる。一方、歯車１３は、前記蹴り爪１２に対
して間欠的に噛み合うことができるように、回転軸４の
軸支部の直上方部に嵌着されている。
【００２７】このように前記間欠回転駆動機構を設けて
なる第２実施形態は、モータ及び回転動力伝達機構７，
１１，８，…により大テーブル１の自転、各小テーブル
２の公転及び自転、各回転軸４の公転が行われ、また、
各小テーブル２の回転（自転）に伴い、蹴り爪１２と歯
車１３とが間欠的に噛み合って各回転軸４が間欠的に回
転（自転）し、これにより能動側磁石体５の回転が受動
側磁石体６に非接触下で伝達されることから、ワークホ
ルダー３が間欠的に回転するようになっている。
なる第２実施形態は、モータ及び回転動力伝達機構７，
１１，８，…により大テーブル１の自転、各小テーブル
２の公転及び自転、各回転軸４の公転が行われ、また、
各小テーブル２の回転（自転）に伴い、蹴り爪１２と歯
車１３とが間欠的に噛み合って各回転軸４が間欠的に回
転（自転）し、これにより能動側磁石体５の回転が受動
側磁石体６に非接触下で伝達されることから、ワークホ
ルダー３が間欠的に回転するようになっている。
【００２８】以上述べたところから明らかなように、両
実施形態によれば、ワークホルダー３回転のための直接
的な駆動力を必要最小限に留めて、しかもワークホルダ
ー３を非接触下で回転（自転）させることができるの
で、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡になる
のを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧印加状
態の変動を抑えることが可能である。
実施形態によれば、ワークホルダー３回転のための直接
的な駆動力を必要最小限に留めて、しかもワークホルダ
ー３を非接触下で回転（自転）させることができるの
で、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡になる
のを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧印加状
態の変動を抑えることが可能である。
【００２９】
【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
【００３０】本発明によれば、ワークを支持するワーク
ホルダーに対して、非接触で回転駆動力を伝達するよう
にしているため、ワークホルダーを回転するための駆動
力が大幅に軽減されて、ランニングコストの低減が図れ
る。また、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡
になるのを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧
印加状態の変動を抑えることにより、成膜される部品の
膜質の均一化を果たすことができる。
ホルダーに対して、非接触で回転駆動力を伝達するよう
にしているため、ワークホルダーを回転するための駆動
力が大幅に軽減されて、ランニングコストの低減が図れ
る。また、ホルダー軸受けに加わる機械的荷重が不均衡
になるのを解消できて、ホルダー回転時のバイアス電圧
印加状態の変動を抑えることにより、成膜される部品の
膜質の均一化を果たすことができる。
【図１】本発明の第１実施形態に係る回転テーブルの部
分示平面図である。
分示平面図である。
【図２】図１図示回転テーブルの部分示縦断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の第２実施形態に係る回転テーブルの部
分示平面図である。
分示平面図である。
【図４】図３図示回転テーブルの部分示縦断面図であ
る。
る。
【図５】先行技術における回転テーブルの部分示平面図
である。
である。
１…大テーブル ２…小テーブル ３…ワ
ークホルダー ４…回転軸 ５…能動側磁石体 ５a …正
極磁石片 ５b …負極磁石片 ６…受動側磁石体 ６a …
正極磁石片 ６b …負極磁石片 ７…太陽歯車 ８…
遊星歯車 ９…歯車 １０…歯車 １１…回
転軸 １２…蹴り爪 １３…歯車
ークホルダー ４…回転軸 ５…能動側磁石体 ５a …正
極磁石片 ５b …負極磁石片 ６…受動側磁石体 ６a …
正極磁石片 ６b …負極磁石片 ７…太陽歯車 ８…
遊星歯車 ９…歯車 １０…歯車 １１…回
転軸 １２…蹴り爪 １３…歯車
Claims (3)
- 【請求項１】 成膜される部品を搭載する真空成膜装置
の回転テーブルであって、前記回転テーブルの中心軸回
りに回転可能に設けられる大テーブルと、大テーブルの
周縁にその中心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能
にそれぞれ配置される複数個の小テーブルと、前記各小
テーブルの周縁にその中心と同心の円に沿って自軸回り
の回転可能にそれぞれ配置され、成膜される前記部品を
保持する複数個のワークホルダーと、各小テーブルにそ
れぞれ隣接して前記大テーブルに回転可能に配置される
複数個の回転軸と、各回転軸に等分周に取付けられる複
数個の磁石片からなる複数個の能動側磁石体と、モータ
及び回転動力伝達機構を備え、大テーブルの自転、複数
個の小テーブルと複数個の回転軸の公転及び自転を行わ
せるための駆動手段と、各ワークホルダーにおける非保
持側下部に前記能動側磁石体に近接対向して等分周に取
付けられる複数個の磁石片からなり、前記能動側磁石体
の相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸引力
とによりワークホルダーに回転運動を付与する受動側磁
石体とを含むことを特徴とする真空成膜装置用回転テー
ブル。 - 【請求項２】 成膜される部品を搭載する真空成膜装置
の回転テーブルであって、前記回転テーブルの中心軸回
りに回転可能に設けられる大テーブルと、大テーブルの
周縁にその中心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能
にそれぞれ配置され複数個の小テーブルと、各小テーブ
ルの外周縁に等分周に配置され突設される複数個の蹴り
爪と、前記各小テーブルの周縁にその中心と同心の円に
沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置され、成膜さ
れる前記部品を保持する複数個のワークホルダーと、各
小テーブルにそれぞれ隣接して前記大テーブルに回転可
能に配置される複数個の回転軸と、各小テーブルの前記
蹴り爪に対して間欠的に噛み合うように前記回転軸に取
付けられる歯車と、各回転軸に等分周に取付けられる複
数個の磁石片からなる複数個の能動側磁石体と、モータ
及び回転動力伝達機構を備え、大テーブルの自転、複数
個の小テーブルの公転及び自転、複数個の回転軸の公転
を行わせるための駆動手段と、各ワークホルダーにおけ
る非保持側下部に前記能動側磁石体に近接対向して等分
周に取付けられる複数個の磁石片からなり、前記能動側
磁石体の相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気
吸引力とによりワークホルダーに回転運動を付与する受
動側磁石体とを含むことを特徴とする真空成膜装置用回
転テーブル。 - 【請求項３】 能動側磁石体と受動側磁石体とが軸直角
方向の断面形状を略同形とする対称関係に形成され、か
つ、両磁石体における複数個の磁石片が、隣合うものに
ついて極性が逆になるように正極Ｎと負極Ｓとを交互に
配置して取付けられてなる請求項１又は２に記載の真空
成膜装置用回転テーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12598198A JPH11323550A (ja) | 1998-05-08 | 1998-05-08 | 真空成膜装置用回転テーブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12598198A JPH11323550A (ja) | 1998-05-08 | 1998-05-08 | 真空成膜装置用回転テーブル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11323550A true JPH11323550A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=14923779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12598198A Pending JPH11323550A (ja) | 1998-05-08 | 1998-05-08 | 真空成膜装置用回転テーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11323550A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006063391A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 皮膜形成用ワーク保持装置 |
| JP2008266681A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置 |
| JP2010501734A (ja) * | 2006-09-01 | 2010-01-21 | マシオンクジク、フランク | 真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための装置、真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための方法ならびに装置および方法の使用 |
| KR20170027641A (ko) * | 2015-09-02 | 2017-03-10 | 주성엔지니어링(주) | 기판 처리장치 및 그 작동방법 |
| JP2018507960A (ja) * | 2015-02-24 | 2018-03-22 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト，プフェフィコーンＯｅｒｌｉｋｏｎ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ａｇ， Ｐｆａｅｆｆｉｋｏｎ | モーターピストンをコーティングするための方法 |
| KR20200021698A (ko) * | 2018-08-21 | 2020-03-02 | (주)보림시스템 | 공구의 균일한 코팅을 위한 사선 지그 |
| CN115323339B (zh) * | 2022-08-01 | 2023-12-05 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种工装及物理气相沉积设备 |
-
1998
- 1998-05-08 JP JP12598198A patent/JPH11323550A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006063391A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 皮膜形成用ワーク保持装置 |
| JP2010501734A (ja) * | 2006-09-01 | 2010-01-21 | マシオンクジク、フランク | 真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための装置、真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための方法ならびに装置および方法の使用 |
| JP2008266681A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置 |
| JP2018507960A (ja) * | 2015-02-24 | 2018-03-22 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト，プフェフィコーンＯｅｒｌｉｋｏｎ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ａｇ， Ｐｆａｅｆｆｉｋｏｎ | モーターピストンをコーティングするための方法 |
| KR20170027641A (ko) * | 2015-09-02 | 2017-03-10 | 주성엔지니어링(주) | 기판 처리장치 및 그 작동방법 |
| KR20200021698A (ko) * | 2018-08-21 | 2020-03-02 | (주)보림시스템 | 공구의 균일한 코팅을 위한 사선 지그 |
| CN115323339B (zh) * | 2022-08-01 | 2023-12-05 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种工装及物理气相沉积设备 |
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