CN115323339B - 一种工装及物理气相沉积设备 - Google Patents
一种工装及物理气相沉积设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115323339B CN115323339B CN202210916712.2A CN202210916712A CN115323339B CN 115323339 B CN115323339 B CN 115323339B CN 202210916712 A CN202210916712 A CN 202210916712A CN 115323339 B CN115323339 B CN 115323339B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mounting
- tool
- hole
- rod body
- thumb wheel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 20
- 210000003813 thumb Anatomy 0.000 claims description 63
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 description 2
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种工装,包括工装单元和底盘,工装单元包括拨轮和传动机构,拨轮上设有多个安装件,传动机构与拨轮转动连接,传动机构用于带动安装件自转;底盘上设有多个工装单元。本发明中通过设置多个安装件,能够实现产品的安装,能够有效提高产品安装数量,提高单次镀膜产品数量,减小生产成本;通过设置传动机构,能够带动安装件自转,底盘安装到物理气相沉积设备后能够实现围绕物理气相沉积设备中心的公转、围绕工装中心的自转、围绕拨轮中心固定角度自转和安装件自转,能够使产品的涂层均匀性显著提升。
Description
技术领域
本发明涉及物理气相沉积技术领域,特别涉及一种工装及物理气相沉积设备。
背景技术
气相沉积技术俗称涂层技术,是指在目标产品上沉积涂覆一层或多层硬度高、耐磨性好的难熔金属或非金属化合物薄膜,如TiC、TiN、Al2O3等,谋求提高耐磨性、导电导热性、抗氧化性等特殊性能。物理气相沉积(以下简称PVD),指使用真空蒸镀、溅射镀膜或离子镀等等物理的方法,使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。其特点是:其一,沉积温度低,可在500℃以下进行涂层,能在对温度敏感的产品上进行涂层,对硬质合金产品的强度不会产生影响;其二,PVD涂层内产生压应力,有利于提高硬质合金的使用性能,更适合于对硬质合金精密复杂刀具进行涂层;其三,PVD涂层技术能合成化学气相沉积技术不能合成的高熔点金属的三元、四元乃至多元氮化物,在沉积不稳定和亚稳定的多组分化合物方面有其明显的优势。
PVD方法所采用的装置有多种形式,一般要求产品在设备腔体内部作往返或旋转运动,由此得到相比产品静止的情形更为均匀的膜厚。由于早期的物理气相沉积设备无法控制入射离子的角度,产品的夹持装置一般采用倾斜夹持旋转设计,以便使产品表面与离子入射方向相对垂直。然而,这种设计空间利用率低,大大限制了涂层设备内部产品的装载数量。近年来,PVD设备发展迅速,当前主流的PVD涂层设备均配备有偏转磁场,可实现离子多角度入射,保障涂层覆盖到产品的各个表面。因此,产品的装持装置无需再考虑倾斜机构,逐渐发展为往大装载量发展的趋势,以期提高生产效率;并且现有的涂层设备产品的涂层均匀性有待提高。
发明内容
本申请的目的在于提供一种工装及物理气相沉积设备,既能确保产品涂层的均匀性、致密性,又能充分利用物理气相沉积设备空间,实现中小尺寸规格产品的大批量生产,提高工业生产效率。
为实现上述目的,本申请提供如下技术方案:
本发明的一种工装,包括:
工装单元,包括拨轮和传动机构,所述拨轮上设有多个安装件,所述传动机构与所述拨轮转动连接,所述传动机构用于带动所述安装件自转;
底盘,所述底盘上设有多个所述工装单元,所述拨轮与所述底盘转动连接。
进一步地,所述传动机构包括磁性件,所述磁性件设于所述拨轮的中心处,所述安装件以所述拨轮的中轴线为中心周向均匀的分布在所述磁性件的外侧,所述安装件与所述磁性件相邻的部分能够被所述磁性件吸引。
进一步地,所述拨轮的上表面设有第二通孔和第二安装孔,所述第二通孔设于所述拨轮的中心处,所述第二安装孔以所述拨轮的中轴线为中心周向均匀的分布,所述安装件下端伸入所述第二安装孔内。
进一步地,所述工装单元还包括:
轴座,所述轴座的下端与所述底盘连接,所述轴座的上端与所述第二通孔转动连接,所述轴座的上端设有用于安装所述磁性件的第三安装孔。
进一步地,所述拨轮的外周面均匀分布多个轮齿。
进一步地,所述第二安装孔和所述第二通孔连通。
进一步地,所述安装件包括多个装配芯杆和套管,所述套管设于所述装配芯杆的上方,所述装配芯杆与所述套管一一对应连接,所述装配芯杆下端与所述拨轮转动连接。
进一步地,所述装配芯杆包括由上至下依次连接的第一顶部、第一中部和第一底部,所述第一中部的直径大于所述第一顶部和第一底部的直径,所述第一顶部与所述套管的下端连接,所述第一中部的上表面与所述套管的下端面抵接,所述第一底部与所述拨轮转动连接,所述第一中部的下表面与所述拨轮的上表面抵接。
进一步地,所述工装单元还包括:
支撑盘,设于所述拨轮的上方,所述支撑盘上设有供所述套管的上端穿出的第一通孔;
支撑杆,所述支撑杆的上端与所述支撑盘连接,所述支撑杆的下端与所述拨轮连接。
进一步地,所述安装件包括多个安装芯杆,所述安装芯杆包括杆体和限位环,所述限位环套设于所述杆体,所述杆体的下端与所述拨轮转动连接,所述限位环的下表面与所述拨轮的上表面抵接,所述杆体的上端用于套设待镀膜产品。
进一步地,所述杆体包括第一杆体、第二杆体和第三杆体,所述第一杆体的直径小于所述第三杆体的直径,所述第二杆体呈锥形,所述第一杆体的下端与所述第二杆体的小端连接,所述第二杆体的大端与所述第三杆体的上端连接,所述限位环套设于所述第三杆体。
进一步地,所述底盘包括:
外环,所述外环周向方向上设有多个均匀分布的第一安装孔,所述轴座的下端与所述第一安装孔连接;
内环,设于所述外环的内侧,所述内环上设有连接部;
横梁,所述横梁的一端与所述内环连接,所述横梁的另一端与所述外环连接。
本发明的一种物理气相沉积设备,包括腔室和工装,所述工装设于所述腔室内,所述工装为前述任意一项所述的工装。
综上,本发明的技术效果和优点:
1、本发明中,通过设置多个安装件,能够实现待镀膜产品的安装,能够有效提高产品安装数量,提高涂层产品数量的装载量,减小生产成本;通过设置传动机构,能够带动安装件自转,从而带动安装件上的产品自转,提高产品的涂层均匀性;
2、本发明中,磁性件设于拨轮的中心处,安装件以拨轮的中轴线为中心周向均匀地分布在磁性件的外侧,安装件与磁性件相邻的部分能够被磁性件吸引,拨轮自转带动安装件相对于磁性件转动时,磁性件的磁性吸引力能够带动安装件自转,从而带动产品自转,能够实现在拨轮小空间内带动多个安装件的产品自转,结构紧凑,节省空间;
3、本发明中,通过设置第二安装孔,能够便于安装件的安装;本发明设置轴座,能够实现拨轮和底盘的转动连接,通过在轴座的上端设置第三安装孔,使轴座既具有实现拨轮转动连接的功能又具有安装磁性件的功能;
4、本发明中,外环与内环之间采用横梁连接,能够有效减轻底盘的重量;
5、本发明中,通过设置支撑盘和支撑杆,能够对套管和安装的产品进行有效支撑,有效提高套管安装产品的稳定性;
6、本发明中,在物理气相沉积设备有效空间大小下可以容纳更多的产品,底盘安装到物理气相沉积设备后能够实现围绕涂层设备中心的公转、围绕工装中心的自转、围绕拨轮中心固定角度自转和安装件自转,能够使产品的涂层均匀性显著提升,特别适用于物理气相沉积涂层产品的大规模工业化生产。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一中工装的结构示意图;
图2为本发明实施例一中工装单元的结构示意图;
图3为本发明实施例一中工装单元的爆炸结构示意图;
图4为本发明实施例一中省略拨轮和支撑杆后工装单元的结构示意图;
图5是本发明实施例一中底盘的结构示意图;
图6是本发明实施例一中拨轮的结构示意图;
图7是本发明实施例一中轴座的结构示意图;
图8是本发明实施例一中磁性件的结构示意图;
图9是本发明实施例一中装配芯杆的结构示意图;
图10是本发明实施例一中套管的结构示意图;
图11是本发明实施例一中支撑盘的结构示意图;
图12是本发明实施例一中支撑杆的结构示意图;
图13是本发明实施例一中物理气相沉积设备的部分结构示意图;
图14是本发明实施例一中物理气相沉积设备的部分结构主视图;
图15是本发明实施例一中物理气相沉积设备的部分结构仰视图;
图16是本发明实施例二中工装的结构示意图;
图17是本发明实施例二中工装单元的爆炸结构示意图;
图18是本发明实施例二中安装芯杆的结构示意图。
图中:1、工装单元;2、底盘;3、支架底盘;4、拨片;5、太阳轮;6、行星轮;7、支架顶盖;11、拨轮;12、套管;13、磁性件;14、装配芯杆;14’、安装芯杆;15、轴座;16、支撑盘;17、支撑杆;111、第二通孔;112、第二安装孔;113、第五安装孔;121、内壁;122、外壁;141、第一顶部;142、第一中部;143、第一底部;144、第一杆体;145、第二杆体;146、第三杆体;147、限位环;151、第二顶部;152、第二中部;153、第二底部;1511、第三安装孔;161、第一通孔;162、第六安装孔;171、第三顶部;172、第三底部;21、外环;22、内环;23、横梁;211、第一安装孔;221、第一凹槽;222、第二凹槽;223、凸起;31、旋转立柱;311、分隔套;32、太阳轮限位;33、连接柱;34、支架;51、限位孔。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1
本实施例提供一种工装,如图1-15所示,包括工装单元1和底盘2。其中工装单元1用于安装待镀膜产品。底盘2一方面为工装单元1提供支撑,另一方面与物理气相沉积设备的内部零件配合,实现中心定位。具体地,工装单元1包括拨轮11和传动机构,拨轮11上设有多个安装件,传动机构与拨轮11转动连接,传动机构用于带动安装件自转。底盘2上设有多个工装单元1,拨轮11与底盘2转动连接。
本实施例中,通过设置多个安装件,能够实现待镀膜产品的安装,能够有效提高待镀膜产品安装数量,提高待镀膜产品数量的装载量,减小生产成本;通过设置传动机构,能够带动安装件自转,从而带动安装件上的产品自转,提高产品的涂层均匀性。
进一步地,传动机构包括磁性件13。优选地,磁性件13设于拨轮11的中心处;安装件以拨轮11的中轴线为中心周向均匀的分布在磁性件13的外侧,安装件与磁性件13相邻的部分能够被磁性件13吸引。优选的,所述装配芯杆14采用铁磁性材料。拨轮11没有自转时,安装件与磁性件13由磁力吸合,拨轮11与磁性件13转动连接,当拨轮11自转时,由于磁性件13设于拨轮11的中心处,拨轮11自转带动安装件绕所述磁性件13公转,由于磁性件13的磁力吸引安装件产生摩擦能够引起安装件自转,从而带动产品自转。此外,本申请的传动机构还可以采用齿轮传动结构实现各个安装件自转。由于受拨轮11空间大小影响,本实施例采用磁性件13的方案为较优方案。本实施例中通过磁性件13能够实现在拨轮小空间内带动多个安装件的产品自转,结构紧凑,节省空间。
进一步地,拨轮11的上表面设有第二通孔111和第二安装孔112,第二通孔111从顶面向底面或从底面向顶面开设于拨轮11的中心处;第二安装孔112以拨轮11的中轴线为中心周向均匀的分布。第二安装孔112可以为通孔也可以为盲孔;本实施例中第二安装孔112为通孔。安装件下端伸入第二安装孔112内。
进一步地,工装单元1还包括轴座15。轴座15的下端与底盘2连接,轴座的上端与第二通孔111转动连接,轴座15的上端设有用于安装磁性件13的第三安装孔1511。可选地,轴座15包括第二顶部151、第二中部152和第二底部153。第二顶部151、第二中部152和第二底部153均为圆柱体;第二中部152的外径大于第二顶部151的外径,也大于第二底部153的外径。第二顶部151的上表面设有用于安装磁性件13的第三安装孔1511;第三安装孔1511为盲孔。本实施例中磁性件13选用圆柱形磁铁。磁铁还可以选用其他形状,例如长方体、三棱柱、球形或其他不规则形状;磁铁放置于第三安装孔1511内。可选地,第三安装孔1511与磁铁为过渡配合,磁铁相对于轴座固定不动。第二顶部151用于与拨轮11的第二通孔111配合。第二中部152用于轴座15的限位。第二底部153用于与底盘2的外环21上的第一安装孔211配合。第二底部153与底盘2的第一安装孔211为过盈配合,保证轴座15和拨轮11可相对转动。可选地,第二底部153可以为一个与第二顶部151等直径的圆柱体。可选地,第二通孔111和第二安装孔112连通,使安装件与磁性件13距离较近。
本实施例通过设置第二安装孔112,能够便于安装件的安装;本实施例设置轴座15,能够实现拨轮11和底盘2的转动连接,通过在轴座15的上端设置第三安装孔1511,使轴座15既具有实现拨轮转动连接的功能又具有安装磁性件13的功能。
进一步地,拨轮11的外周面均匀分布多个轮齿,本申请对轮齿的数量不作具体限制。本实施例中拨轮11上的轮齿个数为6。
可选地,安装件包括多个装配芯杆14和套管12,套管12设于装配芯杆14的上方,装配芯杆14与套管12一一对应连接,装配芯杆14下端与拨轮11转动连接。
可选地,装配芯杆14包括由上至下依次连接的第一顶部141、第一中部142和第一底部143。第一顶部141、第一中部142和第一底部143均为圆柱体;第一中部142的外径大于第一顶部141的外径,也大于第一底部143的外径。其中第一顶部141与套管12的下端连接;第一中部142为装配芯杆14上外径最大的部位,第一中部142用于装配芯杆14的限位,第一中部142的下表面与拨轮11的上表面抵接。第一底部143设于拨轮11的第二安装孔112内,第一底部143与第二安装孔112转动连接。可选地,第一顶部141的外径大于第一底部143的外径;第一中部142的外径大于第一顶部141的外径。
进一步地,套管12的下端设有与第一顶部141连接的第四安装孔。第一中部142的上表面与套管12的下端面抵接。第四安装孔可以为通孔也可以为盲孔。套管12的上端设置第五安装孔,用于安装待镀膜产品,第五安装孔可以为通孔也可以为盲孔。本实施例中第四安装孔和第五安装孔连通为一个轴向通孔。可选地,套管12包括内壁121和外壁122。内壁121用于与装配芯杆14的第一顶部141配合连接。
进一步地,工装单元1还包括支撑盘16和支撑杆17。支撑盘16设于拨轮11的上方,支撑盘16上设有供套管12的上端穿出的第一通孔161;支撑杆17的上端与支撑盘16连接,支撑杆17的下端与拨轮11连接。本实施例通过设置支撑盘16和支撑杆17,能够对套管12和安装的产品进行有效支撑,有效提高套管12安装产品的稳定性;支撑盘16和支撑杆17能够保障装配芯杆14及相连套管12与底盘2垂直,提高工装的使用寿命。
可选地,拨轮11的上表面还设有第五安装孔113,第五安装孔113以拨轮11的中轴线为中心周向均匀的分布。第五安装孔113可以为通孔也可以为盲孔;本实施例中第五安装孔113为盲孔。第五安装孔113用于安装支撑杆17。
可选地,支撑盘16的下表面设有沿周向均匀分布的第一通孔161和第六安装孔162。第六安装孔162可以为通孔也可以为盲孔,本实施例中第六安装孔162为通孔。第一通孔161用于与套管12的外壁122配合。第六安装孔162用于安装支撑杆17。
可选地,支撑杆17包括第三顶部171和第三底部172。第三顶部171和第三底部172均呈圆柱状;第三顶部171的外径小于第三底部172的外径。第三顶部171用于与支撑盘16的第六安装孔162配合连接。第三底部172用于与拨轮11的第五安装孔113配合连接。
进一步地,底盘2包括外环21、内环22和横梁23。其中,外环21的周向方向上设有多个均匀分布的第一安装孔211,轴座15的下端与第一安装孔211连接。其中第一安装孔211可以为通孔或盲孔。本实施例中第一安装孔211为通孔。内环22设于外环21的内侧,内环22上设有连接部,该连接部用于与物理气相沉积设备的内部零件配合,实现中心定位。横梁23的一端与内环22连接,横梁23的另一端与外环21连接。横梁23用于连接外环21和内环22,横梁23可以为任意数量。本实施例优选地,横梁23沿周向方向均匀分布;横梁23为4个。本实施例中,外环21与内环22之间采用横梁23连接,能够有效减轻底盘2的重量。
进一步地,内环22上的连接部形状与物理气相沉积设备中内部配合零件的形状相匹配。可选地,连接部包括第一凹槽221、第二凹槽222和凸起223。第一凹槽221上下贯穿的设于内环22的内侧壁上;第二凹槽222上下贯穿的设于内环22的内侧壁上,凸起223设于第一凹槽221和第二凹槽222之间。第一凹槽221、第二凹槽222和凸起223形成波浪槽形状。
可选地,本实施例中底盘2、拨轮11、轴座15、装配芯杆14、支撑杆17、支撑盘16和/或套管12选用不锈钢材质。装配芯杆14的第一顶部141与套管12的第四安装孔可以焊接、螺纹连接或卡接等。支撑杆17的第三顶部171与支撑盘16的第六安装孔162可以焊接、螺纹连接或卡接等。支撑杆17的第三底部172与拨轮11的第五安装孔113可以焊接、螺纹连接或卡接等。
本实施例还提供一种物理气相沉积设备,用于放置待镀膜产品,向产品表面沉积TiC、TiN、TiAlN等超硬涂层,包括腔室和工装,工装设于腔室内,工装为前述的工装。本实施例中腔室为涂层炉腔室。
进一步地,物理气相沉积设备还包括底座、电机、支架底盘3、传动单元和拨片4。底座和电机均设于腔室的底部,电机的电机轴伸出底座,电机能够带动支架底盘3转动,底座用于支撑其他部件。进一步地,支架底盘3上沿周向分布有多个旋转立柱31,旋转立柱31上设有多个如前述的工装。同一个旋转立柱31上叠加安装有多个工装,相邻两个工装之间设有分隔套311,防止同一旋转立柱31上的底盘2相互碰撞;分隔套311可以为钢套。传动单元设于支架底盘3上,用于带动旋转立柱31转动。拨片4设于工装的外侧,工装自转时,拨片4与拨轮11的轮齿接触,从而拨动拨轮11自转。
进一步地,传动单元包括太阳轮5和与太阳轮5啮合的多个行星轮6。太阳轮5设于支架底盘3的下方,太阳轮5与底座可拆卸连接,支架底盘3能够相对于太阳轮5转动。太阳轮5的轴线与支架底盘3的旋转中心共线。行星轮6与旋转立柱31一一对应连接,行星轮6和旋转立柱31均能够在支架底盘3上自转。电机驱动支架底盘3转动,支架底盘3上安装的工装随支架底盘3转动,行星轮6随着支架底盘3转动而绕太阳轮5公转,太阳轮5固定不转动,行星轮6与太阳轮5啮合,通过太阳轮5过渡带动行星轮6自转,行星轮6带动旋转立柱31自转,旋转立柱31带动其上安装的工装自转。可选地,旋转立柱31上设有与底盘2的连接部相互配合的连接槽。本实施例中连接槽为与底盘2配合的波浪槽形状。本申请对连接槽和底盘2连接部的形状不作具体限制,能够实现旋转立柱31与底盘2连接即可。可选地,支架底盘3的下表面设有太阳轮限位32,太阳轮限位32能够限制太阳轮5的周向和向下的移动,而不影响支架底盘3相对于太阳轮5的转动。可选地,太阳轮5的下表面设有多个限位孔51,底座上设有与限位孔51配合的限位柱。支架底盘3的下表面设有多个连接柱33,连接柱33与腔室内的转盘支座的定位孔定位连接,转盘支座由电机驱动。
进一步地,支架底盘3上对应各个旋转立柱31的外侧设有支架34,支架34上对应各个工装分别设有一个拨片4。静止状态下,一个拨片4对应与一个工装的一个拨轮11相贴合;当旋转立柱31带动工装自转时,拨片4由摩擦力带动各个拨轮11转动,实现拨轮11自转。
进一步地,当拨轮11自转时,装配芯杆14与磁铁由磁力吸合,由于磁力吸引产生摩擦发生装配芯杆14自转,从而带动与装配芯杆14连接的套管12进行自转。待镀膜产品放置于套管12上,实现待镀膜产品自转。
进一步地,旋转立柱31和支架34的上端连接有支架顶盖7,支架顶盖7与各旋转立柱31及支架34为孔配合,支架顶盖7上的孔隙允许旋转立柱31的旋转。
本实施例的使用方法如下:
将轴座15的第二底部153插入底盘2的第一安装孔211中,将拨轮11的第二通孔111套在轴座15的第二顶部151并转动连接于第二中部152之上;将磁铁插入轴座15的第二顶部151的第三安装孔1511中;依次将装配芯杆14的第一底部143插入拨轮11的第二安装孔112中,通过第一中部142限位于拨轮11之上;将支撑杆17的第三底部172插入拨轮11的第五安装孔113中并通过焊接固定;通过支撑盘16的第六安装孔162将支撑盘16安装于支撑杆17的第三顶部171上并通过焊接固定,将套管12的外壁122穿过支撑盘16的第一通孔161,将套管12的内壁121插入装配芯杆14的第一顶部141固定于装配芯杆14的第一中部142之上并通过焊接牢固;依次将待镀膜产品安装到套管上,产品待镀膜端或待镀膜面朝上,重复上述步骤直至底盘2的第一安装孔211中安装上带有产品的工装单元1组合体。
拆下支架顶盖7,再将工装套到旋转立柱31上,根据待镀膜产品的高度,选择尺寸合适的分隔套311套到旋转立柱31上,再叠加放置第二个工装于分隔套311上,分隔套311用于隔开两个工装避免产品碰撞。如此叠放至一个旋转立柱31放满为止,再重复此操作,直到所有旋转立柱31放满工装。组装后如图13所示。
将工装移入腔室内部,调整并确认太阳轮5的限位孔51对准腔室底部底座上的限位柱,支架底盘3的连接柱33对准腔室内的转盘支座的定位孔,设定电机的转动频率,并加载工艺信息,物理气相沉积设备启动运行。
本实施例采用的工装用圆柱阵列排布,最大化利用了物理气相沉积设备的腔室空间;本实施例每个工装均具有三个安装件,相较一般涂层工装,其装载量提高了200%,极大提高生产效率,特别适用于中小尺寸产品的大规模工业化生产。本发明四重转动设计,即待镀膜产品分别在套管12中自转、绕拨轮11中心小范围公转、工装底盘2自转和工装绕支架底盘3中心公转,充分保障了涂层产品的膜厚均匀性。本发明采用行星设计,仅在支架底盘3的底部使用齿轮结构,使用拨轮11、磁铁和装配芯杆14代替齿轮结构实现装配芯杆14自转,机械可靠性强,极大降低了旋转故障。本发明采用电机驱动,涂层过程中实现全自动运行,无需手动操作,适用于真空蒸镀、溅射镀膜或离子镀等物理气相沉积的方法。
本实施例不限制待镀膜产品的结构和种类;待镀膜产品可以是杆状产品,例如立铣刀或钻头,可以将杆状产品不需要镀膜的部分插入套管的第五安装孔内,套管的第五安装孔的孔深能够保证产品需要镀膜的部分完全暴露在套管上方;待镀膜产品也可以是具有安装孔的片状产品,例如硬质合金刀片,产品的安装孔套设在套管的外壁上。一个套管的外壁可以安装一个具有安装孔的片状产品,也可以安装多个具有安装孔的片状产品,相邻的产品之间用间隔珠或间隔套间隔。
实施例2
如图16-18所示,本实施例与实施例1的区别在于:本实施例的工装不具有套管、支撑盘和支撑杆;由于不具有支撑杆,所以拨轮上不具有用于安装支撑杆的第五安装孔。本实施例的安装件包括多个安装芯杆14’,安装芯杆14’包括杆体和限位环147,限位环147套设于杆体,杆体的下端与拨轮11转动连接,限位环147的下表面与拨轮11的上表面抵接,杆体的上端用于套设待镀膜产品。限位环147用于安装芯杆14’与拨轮11的连接限位。其他部件结构及工作原理与实施例1相同。
本实施例的安装芯杆14’的上端伸出拨轮11,安装芯杆14’向上伸出拨轮11的杆体用于安装产品。
进一步地,安装芯杆14’包括第一杆体144、第二杆体145和第三杆体146,第一杆体144的直径小于第三杆体146的直径,第二杆体145呈锥形,第一杆体144的下端与第二杆体145的小端连接,第二杆体145的大端与第三杆体146的上端连接。限位环147套设于第三杆体146。直径最小的第一杆体144利于产品的安装。可选地,对于尺寸较小的带安装孔的产品,第二杆体145大端的直径大于待镀膜产品的安装孔孔径,利于产品套设在第二杆体145上。
本实施例适用于具有安装孔的产品的涂层使用,只要该产品具有安装孔即可,例如硬质合金刀片,产品的安装孔套设在安装芯杆的第二杆体上。
最后应说明的是:以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种工装,其特征在于,包括:
工装单元(1),包括拨轮(11)和传动机构,所述拨轮(11)上设有多个安装件,所述传动机构与所述拨轮(11)转动连接,所述传动机构用于带动所述安装件自转;所述拨轮(11)的上表面设有第二通孔(111)和第二安装孔(112),所述第二通孔(111)设于所述拨轮(11)的中心处,所述第二安装孔(112)以所述拨轮(11)的中轴线为中心周向均匀的分布,所述安装件的下端伸入所述第二安装孔(112)内;所述传动机构包括磁性件(13),所述磁性件(13)设于所述拨轮(11)的中心处,所述安装件以所述拨轮(11)的中轴线为中心周向均匀的分布在所述磁性件(13)的外侧,所述安装件与所述磁性件(13)相邻的部分能够被所述磁性件(13)吸引;
底盘(2),所述底盘(2)上设有多个所述工装单元(1),所述拨轮(11)与所述底盘(2)转动连接;以及
轴座(15),所述轴座(15)的下端与所述底盘(2)连接,所述轴座(15)的上端与所述第二通孔(111)转动连接,所述轴座(15)的上端设有用于安装所述磁性件(13)的第三安装孔(1511)。
2.根据权利要求1所述的工装,其特征在于,所述拨轮(11)的外周面均匀分布多个轮齿。
3.根据权利要求1所述的工装,其特征在于,所述第二安装孔(112)和所述第二通孔(111)连通。
4.根据权利要求1-3任一项所述的工装,其特征在于,所述安装件包括多个装配芯杆(14)和套管(12),所述套管(12)设于所述装配芯杆(14)的上方,所述装配芯杆(14)与所述套管(12)一一对应连接,所述装配芯杆(14)下端与所述拨轮(11)转动连接。
5.根据权利要求4所述的工装,其特征在于,所述装配芯杆(14)包括由上至下依次连接的第一顶部(141)、第一中部(142)和第一底部(143),所述第一中部(142)的直径大于所述第一顶部(141)和第一底部(143)的直径,所述第一顶部(141)与所述套管(12)的下端连接,所述第一中部(142)的上表面与所述套管(12)的下端面抵接,所述第一底部(143)与所述拨轮(11)转动连接,所述第一中部(142)的下表面与所述拨轮(11)的上表面抵接。
6.根据权利要求4所述的工装,其特征在于,所述工装单元(1)还包括:
支撑盘(16),设于所述拨轮(11)的上方,所述支撑盘(16)上设有供所述套管(12)的上端穿出的第一通孔(161);
支撑杆(17),所述支撑杆(17)的上端与所述支撑盘(16)连接,所述支撑杆(17)的下端与所述拨轮(11)连接。
7.根据权利要求1-3任一项所述的工装,其特征在于,所述安装件包括多个安装芯杆(14’),所述安装芯杆(14’)包括杆体和限位环(147),所述限位环(147)套设于所述杆体,所述杆体的下端与所述拨轮(11)转动连接,所述限位环(147)的下表面与所述拨轮(11)的上表面抵接,所述杆体的上端用于套设待镀膜产品。
8.根据权利要求7所述的工装,其特征在于,所述杆体包括第一杆体(144)、第二杆体(145)和第三杆体(146),所述第一杆体(144)的直径小于所述第三杆体(146)的直径,所述第二杆体(145)呈锥形,所述第一杆体(144)的下端与所述第二杆体(145)的小端连接,所述第二杆体(145)的大端与所述第三杆体(146)的上端连接,所述限位环(147)套设于所述第三杆体(146)。
9.根据权利要求1所述的工装,其特征在于,所述底盘(2)包括:
外环(21),所述外环(21)周向方向上设有多个均匀分布的第一安装孔(211),所述轴座(15)的下端与所述第一安装孔(211)连接;
内环(22),设于所述外环(21)的内侧,所述内环(22)上设有连接部;
横梁(23),所述横梁(23)的一端与所述内环(22)连接,所述横梁(23)的另一端与所述外环(21)连接。
10.一种物理气相沉积设备,包括腔室和工装,所述工装设于所述腔室内,其特征在于,所述工装为权利要求1至9任意一项所述的工装。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210916712.2A CN115323339B (zh) | 2022-08-01 | 2022-08-01 | 一种工装及物理气相沉积设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210916712.2A CN115323339B (zh) | 2022-08-01 | 2022-08-01 | 一种工装及物理气相沉积设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115323339A CN115323339A (zh) | 2022-11-11 |
CN115323339B true CN115323339B (zh) | 2023-12-05 |
Family
ID=83918839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210916712.2A Active CN115323339B (zh) | 2022-08-01 | 2022-08-01 | 一种工装及物理气相沉积设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115323339B (zh) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1074748A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH11323550A (ja) * | 1998-05-08 | 1999-11-26 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置用回転テーブル |
JP2003301269A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 工具の成膜装置および成膜方法 |
WO2013088706A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | 住友化学株式会社 | 表面処理装置、表面処理方法、基板支持機構および記録媒体 |
WO2015014069A1 (zh) * | 2013-08-02 | 2015-02-05 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 反应腔和mocvd设备 |
CN209039577U (zh) * | 2018-11-07 | 2019-06-28 | 广东省新材料研究所 | 一种真空镀膜用夹具 |
CN110846634A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-02-28 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种行星转动装置及能实现大批量生产的镀膜设备 |
CN210367983U (zh) * | 2019-07-01 | 2020-04-21 | 东莞市泰富顿纳米技术有限公司 | 一种阀针镀膜用悬挂装置 |
CN111455341A (zh) * | 2020-06-18 | 2020-07-28 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 基于磁耦合旋转的物理气相沉积设备 |
CN112323037A (zh) * | 2020-11-09 | 2021-02-05 | 上海兆九光电技术有限公司 | 镀膜真空室工件旋转装置 |
CN114060429A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-18 | 广州市好的门窗有限公司 | 一种电机的离合器 |
-
2022
- 2022-08-01 CN CN202210916712.2A patent/CN115323339B/zh active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1074748A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH11323550A (ja) * | 1998-05-08 | 1999-11-26 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置用回転テーブル |
JP2003301269A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 工具の成膜装置および成膜方法 |
WO2013088706A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | 住友化学株式会社 | 表面処理装置、表面処理方法、基板支持機構および記録媒体 |
WO2015014069A1 (zh) * | 2013-08-02 | 2015-02-05 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 反应腔和mocvd设备 |
CN209039577U (zh) * | 2018-11-07 | 2019-06-28 | 广东省新材料研究所 | 一种真空镀膜用夹具 |
CN210367983U (zh) * | 2019-07-01 | 2020-04-21 | 东莞市泰富顿纳米技术有限公司 | 一种阀针镀膜用悬挂装置 |
CN110846634A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-02-28 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种行星转动装置及能实现大批量生产的镀膜设备 |
CN111455341A (zh) * | 2020-06-18 | 2020-07-28 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 基于磁耦合旋转的物理气相沉积设备 |
CN112323037A (zh) * | 2020-11-09 | 2021-02-05 | 上海兆九光电技术有限公司 | 镀膜真空室工件旋转装置 |
CN114060429A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-18 | 广州市好的门窗有限公司 | 一种电机的离合器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115323339A (zh) | 2022-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8535496B2 (en) | Sputter-coating apparatus | |
CN100392147C (zh) | 一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置 | |
CN110846634B (zh) | 一种行星转动装置及能实现大批量生产的镀膜设备 | |
CN101565278A (zh) | 筒体式石英晶体的双面溅射被银装置 | |
CN115323339B (zh) | 一种工装及物理气相沉积设备 | |
CN110592544A (zh) | 一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置 | |
CN101634012B (zh) | 一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积方法 | |
TW201226608A (en) | Sputtering device | |
CN101376964B (zh) | 溅镀式镀膜装置及镀膜方法 | |
CN110760808B (zh) | 一种曲面屏磁控溅射组件 | |
WO2018147122A1 (ja) | 成膜装置および成膜物の製造方法 | |
CN218146916U (zh) | 一种工装单元及工装 | |
CN215103524U (zh) | 一种应用在真空工具镀膜设备上的三维转盘结构 | |
CN112626479A (zh) | 一种提高多弧离子镀设备涂层均匀性的双重自转设备 | |
US5112644A (en) | Horizontal precession tooling and method for tube rotation | |
CN208087735U (zh) | 一种真空镀膜机的过滤滚筒转架 | |
CN218026321U (zh) | 一种工装单元及工装 | |
EP0483880A2 (en) | Method for forming thin film and apparatus therefor | |
CN211734462U (zh) | 一种曲面屏磁控溅射组件 | |
CN117089806A (zh) | 镀膜装置及镀膜方法 | |
CN212375373U (zh) | 一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具 | |
CN100529171C (zh) | 物理气相沉积蒸镀机的被镀物固持装置 | |
CN114214596B (zh) | 磁控溅射镀膜腔室、镀膜机以及镀膜方法 | |
WO2021018835A1 (en) | Fixture to be used in pvd processes for cylindrical, elongated substrates | |
CN209619445U (zh) | 一种阀套镀膜专用夹具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |