JPH04165073A - 真空蒸着装置用治具 - Google Patents

真空蒸着装置用治具

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JPH04165073A
JPH04165073A JP28959190A JP28959190A JPH04165073A JP H04165073 A JPH04165073 A JP H04165073A JP 28959190 A JP28959190 A JP 28959190A JP 28959190 A JP28959190 A JP 28959190A JP H04165073 A JPH04165073 A JP H04165073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
vapor deposition
holders
gear
filament
Prior art date
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Pending
Application number
JP28959190A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayoshi Sakata
佐方 将義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Plastics Inc
Original Assignee
Mitsubishi Plastics Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空蒸着装置用治具に関し、特に被蒸着物への
蒸着効率が良好であり、しかも、均一に蒸着することが
できるようにした真空蒸着装置用治具に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
従来、真空蒸着装置用治具としては、真空容器の内部に
蒸発電源に接続された蒸発電極を設け、この電極間に蒸
着物が取付けられたフィラメントが複数接続される。そ
して上記蒸発電極には自転しつつその周囲を公転する被
蒸着物のホルダーを複数設けたものが提供されている。
この治具においては、真空容器内部を真空にして蒸発電
源から蒸発電極に通電することにより。
上記フィラメントが赤熱し、蒸着物が周囲に蒸発する。
このとき上記ホルダーに係止された被蒸着物は、自転し
つつ上記蒸発電極の周囲を公転しているために、均一な
蒸着が行なわれるようになされたものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記の真空蒸着装置用治具にあっては、電極間に接続さ
れたフィラメントに垂直な方向には蒸着物が多く飛び出
して被蒸着物に付着するが、フィラメントと水平な方向
には蒸発電極が障害となり、蒸着物が被蒸着物に到達し
ない、そのためにホルダーの両面に被蒸着物を係止した
場合、従来の治具のようにホルダーが自転及び公転する
だけでは、両面とも均一に蒸着することができず、蒸着
効率も劣るという問題点を有していた。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
、ホルダーがフィラメントと水平方向の位置に公転して
きたとき急速に180度反転するように構成することに
よって、被蒸着物に対して極めて効率よく、しかも均一
に蒸着を行なうことのできる真空蒸着装置用治具を提供
するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る真空蒸着装置用治具は、真空容器の内部に
蒸発電源に接続された蒸発電極を設け、この蒸発電極に
蒸着物が取付けられたフィラメントが複数接続されると
共に、上記蒸発電極の周囲を公転する被蒸着物のホルダ
ーを複数設けられている。そして上記ホルダーが上記フ
ィラメントと略水平方向の位置まで公転したところで急
速に180度反転するように構成してあることを特徴と
している。
〔発明の作用〕
本発明の真空蒸着装置用治具においては、蒸着物が被蒸
着物に到達しない位置にホルダーが公転してきたとき、
換言すれば、ホルダーがフィラメントと略水平方向の位
置に達すると、それが急速に180度反転するので、ホ
ルダー面がフィラメントと水平状態になるのは瞬時であ
る。したがって、公転中ホルダーはその面がフィラメン
トに対して垂直状態に向くようになる。
〔実施例〕
次に本発明の実施例を添附の図面において説明する。
第1図は概略正面断面図、第2図は説明図である。
本発明に係る真空蒸着装置用治具は、第1図に示す如く
、真空容器1の内部中央に2本の棒状の墓発電極2が一
定の間隔をもって立設され、その上端部は両慕発電極2
の接触を防ぐため絶縁バー3で連結されている。この蒸
発電極2の下端部は上記真空容器lの外部においてそれ
ぞれ蒸発電源4に接続されている。更に、蒸発電極2に
は複数のフィラメント5が一定間隔をもって縦方向に接
続され、図示していないが、蒸着物はこのフィラメント
5に取付けられる。また、真空容器1の底部には間欠歯
車6が設けられている。この間欠歯*6は上記蒸発電極
2を中心として環状を呈しており、その外周で上記フィ
ラメント5と略水平方向の位置にだけ歯6が刻設されて
いる。この間欠歯車6の上方には該歯車6の上面に設け
られたベアリング7に載置されて環状の公転歯車8が設
けられ、真空容器1の下面外部に設置されたモータ9に
接続される公転駆動歯車lOと公転歯車8とがかみ合う
ようになっている。また、公転歯車8の下方には複数の
反転用歯車11を設けである。
この反転用歯車11は上記間欠歯車6の歯6′とかみ合
い2分の1回転するようになっている。更に1反転用歯
車11の中心には上記公転歯車8を貫通して真空容器1
の上方部に設けられた軸受12に回転可能に軸支された
ー13が設けられ、この軸13に平板状のホルダー14
が固着されているものである。
以上のような本発明においては、第2図に示す如く、例
えば、レーザーディスク等の被蒸着物15をホルダー1
4の両面に設けられた突起(図示せず)に、片面4枚づ
つ係止させる。このときホルダー14はその面がフィラ
メント5に対して垂直状態に向くようにしておく(第2
図A)、また、フィラメント5にはアルミニウム等の蒸
着物を取付ける。そして蒸発電源2に電通を行なうこと
によりフィラメント5が赤熱し、蒸着物が蒸発する。こ
のとき、真空容器l内は真空排気され、モータ9が駆動
されて公転駆動歯車lOが回転する。そうすると、公転
歯車8が矢印方向に回転すると共に、ホルダー14及び
軸13が蒸発電極2の周囲を公転し始める。ホルダー1
4と軸13が公転し、それらがフィラメント5と略水平
方向の位置に到達すると、軸13に設けられた反転用歯
車11と間欠駆動歯車6の歯6とがかみ合い、軸13及
びホルダー14が180度反転する。即ち、ホルダー1
4がAの位置から公転してCの位置にさしかかったとき
、反転用歯車11が間欠歯車6の歯6とかみ合ってり、
Hの位置までの間で急速に180度回転する。更に、ホ
ルダー14が公転してそれがIの位置に達したときも、
Kの位置までの間に上記と同様に反転するものであ。
なお、ホルダー14の反転手段として反転用歯車11等
を用いた場合を説明したが、これに限定されない0図示
していないが、ロール、その他の手段によってホルダー
を反転するようにしてもよい。
〔発明の効果〕
以上のように本発明の真空基若装置用治具によれば、ホ
ルダーが茂発電極の周囲を公転するに際・し、その面が
蒸着物が被蒸着物に到達しないフィラメントと略水平方
向の位置になるのは瞬時であり、ホルダーの面はフィラ
メントに対し常に垂直状態に向いて公転するから、被蒸
着物への蒸着が均一に行なわれると共に、蒸着効率に極
めて良好である。
【図面の簡単な説明】
第1図は概略正面断面図、第2図は説明図である。 図中1は真空容器、2は蒸発電極、4は蒸発電源、5は
フィラメント、6は間欠歯車、6は間欠歯車の歯、8は
公転歯車、10は公転駆動歯車、11は反転用歯車、1
4はホルダー、15は被蒸着物を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  真空容器の内部に蒸発電源に接続された蒸発電極を設
    け、この蒸発電極に蒸着物が取付けられたフイラメント
    が複数接続されると共に、上記蒸発電極の周囲を公転す
    る被蒸着物のホルダーを複数設けてなる真空蒸着装置用
    治具において、該ホルダーが上記フイラメントと略水平
    方向の位置まで公転したところで急速に180度反転す
    るように構成してあることを特徴とする真空蒸着装置用
    治具。
JP28959190A 1990-10-26 1990-10-26 真空蒸着装置用治具 Pending JPH04165073A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0741945A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Nippon Piston Ring Co Ltd 回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置
US6280792B1 (en) 1998-10-02 2001-08-28 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Surface-treating process using support member having plate-like elements
JP2012172263A (ja) * 2011-02-23 2012-09-10 Samsung Electronics Co Ltd 表面コーティング方法及びその装置
CN106995915A (zh) * 2017-05-11 2017-08-01 成都西沃克真空科技有限公司 一种旋转式多位阻蒸设备

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0741945A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Nippon Piston Ring Co Ltd 回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置
US6280792B1 (en) 1998-10-02 2001-08-28 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Surface-treating process using support member having plate-like elements
US6821560B2 (en) 1998-10-02 2004-11-23 Neomax Co. Ltd. Surface-treating support member and method using the same
US6878210B2 (en) 1998-10-02 2005-04-12 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Surface-treating holder having tubular structure and method using the same
JP2012172263A (ja) * 2011-02-23 2012-09-10 Samsung Electronics Co Ltd 表面コーティング方法及びその装置
CN106995915A (zh) * 2017-05-11 2017-08-01 成都西沃克真空科技有限公司 一种旋转式多位阻蒸设备

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