JPH0373630B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、照明器具の前面に取り付けられる
立体格子パネル等のパネル状基板の表面に、抵抗
加熱法あるいはスパツタリング法等によつて薄膜
を形成する方法に関する。

〔背景技術〕

プラスチツク製品の付加価値を高めるため、そ
の表面に真空蒸着、あるいは、スパツタリング等
の方法により、アルミニウム、銅、銀、金、クロ
ム等の薄膜を形成することが、あらゆる分野で行
われるようになつてきた。たとえば、第４図にみ
るような、照明器具のグレアカツトを目的として
照明器具前面に取り付けられる立体格子パネル１
もその一つである。この立体格子パネル１は、単
位板１ａ…と単位板１ｂ…とが格子状に組み立て
られたものであり、各単位板１ａ…，１ｂ…の側
面に前記薄膜が形成されるものである。

ところが、この立体格子パネル１等、その表面
が立体的であるパネル状基板においては、その表
面に薄膜を形成するにあたつて、一方向から蒸着
物質を供給したのでは、つぎのような不都合が生
じる恐れがある。すなわち、前記蒸着物質の供給
方法として、抵抗加熱蒸発源を利用する抵抗加熱
法を利用した場合には、格子状パネルに抵抗加熱
のための電極の陰になつて蒸着されないところが
できる。また、前記蒸着物質の供給方法として、
この蒸着物質からなるターゲツトにイオンを衝突
させて、その衝撃によつて蒸着物質を前記ターゲ
ツトから飛び出させる、いわゆる、スパツタリン
グ法を利用した場合には形成される薄膜の膜厚を
均一にすることができなくなる。このことを、前
記立体格子パネル１を例にとつて言うならば、こ
の立体格子パネル１を構成する前記単位板１ａ
…，１ｂ…の側面に薄膜が形成されない部分や薄
膜の膜厚が一定できない部分ができてしまうので
ある。

そこで、第５図ａ，ｂにみるように、立体格子
パネル１等のパネル状基板を自公転させながら、
自転中心に置かれた供給源７より蒸着物質を供給
して立体格子パネル１表面に薄膜を形成すること
が行われている。この方法によれば、蒸発物質の
供給源７と立体格子パネル１とは、薄膜形成処理
中にあらゆる角度をとり得るため、立体形状の奥
の方まで薄膜を均一に形成できるのである。

ところが、この方法では、個々の立体格子パネ
ル１の回転を妨げないため、隣り合う立体格子パ
ネル１…の自転軌跡が互いに重なり合わないよ
う、立体格子パネル１同士の間隔を離しておく必
要がある。このため、１つの真空槽２内に入れる
ことのできる立体格子パネル１の数量が制限され
てしまう。

たとえば、縦1200mm、横（＝回転半径）600mm
の立体格子パネルを直径約1400mm、縦1300mmの真
空槽中で自公転させようとすれば、１バツチで３
枚しか薄膜形成処理を行うことができない。これ
以上の枚数の立体格子パネル１を１バツチで薄膜
形成処理するには、真空槽２の直径を大きくすれ
ばよいが、その場合には、真空槽２内を所定の真
空度とするまでの時間（真空排気時間）がその分
だけ長くなつてしまうため、その分だけ１バツチ
の時間が長くなり、かえつて生産性が悪くなつて
しまう。

〔発明の目的〕

この発明は、以上の事情に鑑みてなされたもの
であつて、真空槽の大きさを大きくすることな
く、１バツチの薄膜形成処理枚数を増加させるこ
とができ、生産性を向上させることが可能な薄膜
形成方法を提供することを目的としている。

〔発明の開示〕

以上の目的を達成するため、この発明は、真空
槽内で複数のパネル状基板を自公転させながら、
供給源より蒸着物質を供給して前記複数のパネル
状基板の表面に前記蒸着物質からなる薄膜を形成
する方法であつて、隣り合う前記パネル状基板同
士の自転方向を互いに反対方向とすることで、こ
のパネル状基板の自転軌跡を互いに重ね合わせる
ようにすることを特徴とする薄膜形成方法を要旨
としている。

以下に、この発明を、その一実施例をあらわす
図面を参照しつつ、詳しく説明する。なお、この
実施例は、パネル状基板として、第４図にみるよ
うな、立体格子パネル１を使用し、その表面を薄
膜形成処理する場合をあらわしている。

まず、第１図にみるように、複数の立体格子パ
ネル１…を、真空槽２内の回転治具３ａ…に装着
する。各回転治具３ａ…の間隔は、第２図ａにみ
るように、隣り合う各立体格子パネル１…の自転
による回転軌跡Ｒが互いに重なり合うような距離
である。前記回転軌跡Ｒの重なり合いの深さ（ど
れだけ重なり合つているか）は、この発明では特
に限定されないが、この重なり合いが浅すぎる
と、１バツチに入れられる立体格子パネル１の数
をあまり増やすことができない。また逆に、立体
格子パネル１の回転軌跡Ｒが隣り合う立体格子パ
ネル１の回転軸を超える程深く重なり合つたので
は、互いに自転させることは不可能である。した
がつて、第２図ａにみるような程度に２つの立体
格子パネル１，１の回転軌跡Ｒが重なり合つてい
ることが好ましい。

つぎに、真空槽２を密閉したあと、図には示し
ていない排気系によつて、この真空槽２内の空気
を排気して、真空状態とする。それとともに、前
記回転治具３ａ…を自公転させて立体格子パネル
１…の自公転を開始する。

このとき、この発明では、隣り合う各立体格子
パネル１の自転方向が、第２図ａにみるように互
いに反対方向になつている。すなわち、図の例で
は、回転治具３ａ，３ｃ，３ｅに取り付けられた
立体格子パネル１…が時計方向に回転し、回転治
具３ｂ，３ｄ，３ｆに取り付けられた立体格子パ
ネル１…が反時計方向に回転する。このため、こ
の発明では、前述したように、各立体格子パネル
１…が、その回転軌跡が重なりうように配置され
ていても、各立体格子パネル１…自体は互いにぶ
つかりあうことなく、自転が可能となるのであ
る。

このことは、第２図ａ〜ｆにあらわされてい
る。なお、これらの図においては、各回転治具３
ａ〜の自転の様子をはつきりさせるため、各自転
治具３ａ…の公転を止めてあらわしているが、実
際には、第２図ａの外側に記した矢印の方向に公
転しながら自転することは、言うまでもない。隣
り合う各立体格子パネル１…の回転方向が互いに
反対方向である場合には、第２図ａ〜ｆのいずれ
の状態のときでも、あるいは、各図の中間の状態
のときにおいても、各立体格子パネル１が互いに
ぶつかりあうことがないため、回転軌跡Ｒが互い
に重なり合うような距離であつても立体格子パネ
ル個々の自転が可能となるのである。

以上のように、隣り合う各立体格子パネルの回
転方向を互いに逆とするための機構は、この発明
では、特に限定されないが、図の実施例では、第
３図の機構によつて、それを実現している。この
機構は第１図の下方にも見えているように、真空
槽２の底部に設けられるものである。この機構
は、真空槽２の底面中央に固定された大歯車４
と、それと噛み合う３つの小歯車５ａ，５ｃ，５
ｅおよび６ｂ，６ｄ，６ｆと、前記３つの小歯車
６ｂ，６ｄ，６ｆと噛み合う３つの小歯車５ｂ，
５ｄ，５ｆとを備えたものである。各小歯車５
ａ，５ｃ，５ｅ，６ｂ，６ｄ，６ｆは、互いに隣
り合うよう交互に並べられている。そして、これ
ら小歯車のうち５ａ〜５ｆまでの小歯車には、前
記立体格子パネル１を回転させるための回転治具
３ａ〜３ｆが取りつけられている。また各小歯車
５ａ〜５ｆ，６ｂ〜６ｆは、たとえば、一枚の円
盤上に軸支されて、互いの相対位置、すなわち、
各歯車間の距離が変化しないようになつている。
そして、この一枚の円盤を回転させることによ
り、各小歯車５ａ〜５ｆ，６ｂ〜６ｆを公転させ
る。そうすると、真空槽２の底面中央に固定され
た大歯車４と直接噛み合つている小歯車５ａ，５
ｃ，５ｅおよび６ｂ，６ｄ，６ｆはそれによつて
自転する。また、この小歯車６ｂ，６ｄ，６ｆと
噛み合つている小歯車５ｂ，５ｄ，５ｆは、大歯
車４と直接噛み合つている前記各小歯車とは反対
方向に自転する。したがつて、各小歯車５ａ〜５
ｆの自転方向は、５ａ，５ｃ，５ｅと５ｂ，５
ｄ，５ｆとで反対方向となる。このため、各小歯
車５ａ〜５ｆ上に固定された回転治具３ａ〜３ｆ
も同様な自転方向（３ａ，３ｃ，３ｅと３ｂ，３
ｄ，３ｆとで反対方向）をもつて自転し、それに
固定された隣り合う立体格子パネル１…同士の自
転方向を互いに反対方向とすることが可能となる
のである。

つぎに、複数の立体格子パネル１…の公転中心
に置かれた蒸着物質の供給源７を作動させて前記
蒸着物質を供給して前記複数の立体格子パネル１
…表面に前記蒸着物質からなる薄膜を形成する。

なお、この実施例では、蒸着物質の供給源７と
して、一対の電極棒７ａ，７ａと、その間に架け
渡された複数のタングステンフイラメント７ｂ…
とからなる抵抗加熱方式が採用されている。この
方式は、前記複数のタングステンフイラメント７
ｂ…にアルミニウム、銅等の蒸着物質のワイヤー
を巻きつけておいて、前記一対の電極棒７ａ，７
ａ間に電流を流し、その電流によつて前記複数の
タングステンフイラメント７ｂ…を加熱して蒸着
物質を溶融蒸発させるものである。このような供
給源７は、必ずしも複数の立体格子パネル１…の
公転中心に置かれている必要はないが、このよう
に複数の立体格子パネル１…の公転中心に供給源
７を配置しておけば、公転する立体格子パネル１
は、常にこの供給源７と等距離にあることになる
ので、薄膜形成をより効率よく行うことができる
ようになる。

このあと、リーク弁より外気をリークして真空
槽２内の真空を破壊し、真空槽２内を大気圧にも
どせば、表面に薄膜が形成された立体格子パネル
１が得られる。

以上のように、この発明の薄膜形成方法では、
隣り合う立体格子パネル等のパネル状基板同士の
自転方向を互いに反対方向とすることで、このパ
ネル状基板を自公転可能としながら、かつ、自転
軌跡を互いに重ね合わせるようにすることができ
るため、たとえば、以上の図の実施例では、従
来、パネル状基板を３枚しか薄膜形成処理できな
かつたのと同じ真空槽を用いて、その２倍にあた
る６枚ものパネル状基板を処理することが可能と
なつている。

なお、これまでは、この発明の薄膜形成方法に
ついて、以上の実施例にもとづいてのみ、説明し
てきたが、この発明が以上の実施例に限定されな
いことは、言うまでもない。

たとえば、以上の実施例では、照明器具の前面
に取り付けられる立体格子パネル（ルーバー）の
表面に薄膜を形成する場合を示しているが、この
発明を、それ以外のパネル状基板について適用す
ることも、もちろん可能である。

以上の実施例では、蒸着物質を供給するための
供給源７が抵抗加熱によるものであつたが、これ
は、蒸着物質からなるターゲツトにイオンを衝突
させて、その衝撃によつて蒸着物質を前記ターゲ
ツトから飛び出させる、いわゆる、スパツタリン
グ法によつてもよく、また、それ以外の方法によ
つて行うようであつてもよい。

また、以上の実施例では、１バツチで６枚のパ
ネル状基板に対して薄膜形成処理を行つていた
が、これは、６枚以上であつても、また、以下で
あつてもよい。この発明においては、従来、その
装置で処理可能であつた枚数の２倍の枚数、すな
わち、従来が３枚であれば６枚の、また、従来が
４枚であれば８枚のパネル状基板に対する薄膜形
成処理が可能となる。

要するに、真空槽内で複数のパネル状基板を自
公転させながら、供給源より蒸着物質を供給して
前記複数のパネル状基板の表面に前記蒸着物質か
らなる薄膜を形成するにあたり、隣り合う前記パ
ネル状基板同士の自転方向を互いに反対方向とす
ることで、このパネル状基板の自転軌跡を互いに
重ね合わせるようになつていれば、その他の構成
は特に限定されないのである。

〔発明の効果〕

この発明の薄膜形成方法は、以上のようであ
り、真空槽内で複数のパネル状基板を自公転させ
ながら、供給源より蒸着物質を供給して前記複数
のパネル状基板の表面に前記蒸着物質からなる薄
膜を形成する方法であつて、隣り合う前記パネル
状基板同士の自転方向を互いに反対方向とするこ
とで、このパネル状基板の自転軌跡を互いに重ね
合わせるようにしているため、真空槽の大きさを
大きくすることなく、１バツチの薄膜形成処理枚
数を増加させることができ、生産性を向上させる
ことが可能となつている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施に用いられる装置の一
例をあらわす斜視図、第２図ａ〜ｆはこの例にお
けるパネル状基板の回転の状態を説明する説明
図、第３図はこの実施例におけるパネル状基板を
自公転させるための機構をあらわす平面図、第４
図はパネル状基板の一例である立体格子パネルを
あらわす斜視図、第５図ａ，ｂは従来における装
置の一例をあらわす平面図ならびに側面図であ
る。 １……パネル状基板、２……真空槽、７……供
給源、Ｒ……自転軌跡。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 真空槽内で複数のパネル状基板を自公転させ
   ながら、供給源より蒸着物質を供給して前記複数
   のパネル状基板の表面に前記蒸着物質からなる薄
   膜を形成する方法であつて、隣り合う前記パネル
   状基板同士の自転方向を互いに反対方向とするこ
   とで、このパネル状基板の自転軌跡を互いに重ね
   合わせるようにすることを特徴とする薄膜形成方
   法。 ２ 蒸着物質の供給源が複数のパネル状基板の公
   転中心に位置している特許請求の範囲第１項記載
   の薄膜形成方法。