JPS6059991B2 - 真空蒸着装置用自公転治具 - Google Patents
真空蒸着装置用自公転治具Info
- Publication number
- JPS6059991B2 JPS6059991B2 JP2679981A JP2679981A JPS6059991B2 JP S6059991 B2 JPS6059991 B2 JP S6059991B2 JP 2679981 A JP2679981 A JP 2679981A JP 2679981 A JP2679981 A JP 2679981A JP S6059991 B2 JPS6059991 B2 JP S6059991B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- disk
- permanent magnet
- fixed
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着装置用自公転治具に関するものであ
る。
る。
一般に、真空蒸着は蒸着膜厚分布を均一にすること、
および蒸着の方向性を平均化することを主目的として、
被蒸着物を取付ける治具を蒸発源上方で自公転させてい
る。
および蒸着の方向性を平均化することを主目的として、
被蒸着物を取付ける治具を蒸発源上方で自公転させてい
る。
第１図は従来の自公転治具の代表例を示す。
同図に示すように、被蒸着物取付板１に固定された回転
軸２はベアクング３を介して保持枠４に回転自在に保持
されている。また回転軸２には円板５が固定され、この
円板５は底板６に固定された支持棒７に固定されたレー
ル８に載置されている。 一方、自公転駆動用モータ９
の出力軸には歯車１０が固定され、この歯車１０に歯車
１１が噛合している。また、前記歯車１１には回転伝達
棒１２が固定され、この回転伝達棒１２に接触するよう
に前記保持枠４に回転伝達棒１３が固定されている。な
お、図中、１４は真空槽、１５は膜厚モニター、１６は
蒸発源ボートを示す。 そこで、モータ９の回転は歯車
１０、１１、回 転伝達棒１２、１３を介して保持枠４
に伝達される。
軸２はベアクング３を介して保持枠４に回転自在に保持
されている。また回転軸２には円板５が固定され、この
円板５は底板６に固定された支持棒７に固定されたレー
ル８に載置されている。 一方、自公転駆動用モータ９
の出力軸には歯車１０が固定され、この歯車１０に歯車
１１が噛合している。また、前記歯車１１には回転伝達
棒１２が固定され、この回転伝達棒１２に接触するよう
に前記保持枠４に回転伝達棒１３が固定されている。な
お、図中、１４は真空槽、１５は膜厚モニター、１６は
蒸発源ボートを示す。 そこで、モータ９の回転は歯車
１０、１１、回 転伝達棒１２、１３を介して保持枠４
に伝達される。
このとき、回転軸２とベアクング３の摩擦によるトルク
に比べ、円板５とレール８の摩擦によるトルクの方が大
きいので、円板５はレール８上を回転しながら移動する
。従つて、被蒸着物取付板１は円板５と共に回転する回
転軸２に固定されているため自公転運動をする。 しカ
ルながら、かかる構成よりなる自公転治具は、レール８
内に飛来する蒸着物を円板５の回転により真空槽１４内
に飛散させること、および円板５とレール８の接触部全
体で完全なころがり運’動をせす摺動部があるため摩耗
粉が発生することなどにより、真空槽１４の内部の塵埃
濃度を高くし、被蒸着物に本来蒸着される以外のもの、
すなわち異物が付着し易くなり、製品不良の原因となる
。
に比べ、円板５とレール８の摩擦によるトルクの方が大
きいので、円板５はレール８上を回転しながら移動する
。従つて、被蒸着物取付板１は円板５と共に回転する回
転軸２に固定されているため自公転運動をする。 しカ
ルながら、かかる構成よりなる自公転治具は、レール８
内に飛来する蒸着物を円板５の回転により真空槽１４内
に飛散させること、および円板５とレール８の接触部全
体で完全なころがり運’動をせす摺動部があるため摩耗
粉が発生することなどにより、真空槽１４の内部の塵埃
濃度を高くし、被蒸着物に本来蒸着される以外のもの、
すなわち異物が付着し易くなり、製品不良の原因となる
。
またレール８上の異物や円板５とレール８の摺動に起因
する振動が生じ、治具類に付着した蒸着物の剥離、飛散
および被蒸着物がガラスのような材質であれば保持部で
の微小な欠けが生じ、製品不良につながる。本発明は上
記従来技術の欠点に鑑みなされたもので、発塵が少なく
、かつ回転時の衝撃が小さい蒸着装置用自公転治具を提
供することを目的とする。
する振動が生じ、治具類に付着した蒸着物の剥離、飛散
および被蒸着物がガラスのような材質であれば保持部で
の微小な欠けが生じ、製品不良につながる。本発明は上
記従来技術の欠点に鑑みなされたもので、発塵が少なく
、かつ回転時の衝撃が小さい蒸着装置用自公転治具を提
供することを目的とする。
以下、本発明を図示の実施例により説明する。
第２図は本発明になる真空蒸着装置用自公転治具の一実
施例を示す断面図である。同図に示すように、被蒸着物
取付板２１に固定された回転軸２２はベアクング２３を
介して保持枠２４に回転自在に保持されている。前記保
持枠２４はモータ２５の出力軸に固定された歯車２６に
噛合する歯車２７に吊下げ支持されている。そこで、モ
ータ２５の回転は歯車２６，２７を介して保持枠２４に
伝達され、被蒸着物取付板２１が公転する。また前記回
転軸２２には磁性材料よりなる歯車状円板２８が固定さ
れており、この歯車状円板２８の歯部と微小間隔を保つ
て公転軌跡上に永久磁石２９が配設されている。永久磁
石２９は脈動を小さくするため歯車状円板２８の歯ピッ
チとほぼ等しい間隔で磁石固定リング３０に固定されて
いる。磁石固定リング３０は真空槽３１の底板３２に固
定された支持棒３３に固定された支持板３４に固定され
ている。また永久磁石２９に蒸発源ボート３５からの蒸
発物が付着しないように、前記支持板３４にシールド板
３６が固定されている。前記シールド板３６は蒸発物が
磁性体であれば、例えばパーマロイ板で製作し、永久磁
石２９の磁界が膜厚分布に与える影響を小さくする。ま
た前記磁石固定リング３０は磁性材料の方がよい。なお
、３７は膜厚モニターを示す。第３図は歯車状円板２８
と永久磁石２９の関係を示す。
施例を示す断面図である。同図に示すように、被蒸着物
取付板２１に固定された回転軸２２はベアクング２３を
介して保持枠２４に回転自在に保持されている。前記保
持枠２４はモータ２５の出力軸に固定された歯車２６に
噛合する歯車２７に吊下げ支持されている。そこで、モ
ータ２５の回転は歯車２６，２７を介して保持枠２４に
伝達され、被蒸着物取付板２１が公転する。また前記回
転軸２２には磁性材料よりなる歯車状円板２８が固定さ
れており、この歯車状円板２８の歯部と微小間隔を保つ
て公転軌跡上に永久磁石２９が配設されている。永久磁
石２９は脈動を小さくするため歯車状円板２８の歯ピッ
チとほぼ等しい間隔で磁石固定リング３０に固定されて
いる。磁石固定リング３０は真空槽３１の底板３２に固
定された支持棒３３に固定された支持板３４に固定され
ている。また永久磁石２９に蒸発源ボート３５からの蒸
発物が付着しないように、前記支持板３４にシールド板
３６が固定されている。前記シールド板３６は蒸発物が
磁性体であれば、例えばパーマロイ板で製作し、永久磁
石２９の磁界が膜厚分布に与える影響を小さくする。ま
た前記磁石固定リング３０は磁性材料の方がよい。なお
、３７は膜厚モニターを示す。第３図は歯車状円板２８
と永久磁石２９の関係を示す。
図中、４０は公転方向、４１は自転方向、４２は永久磁
石２９の磁化方向をそれぞれ示す。永久磁石２９は止め
金具４３で磁石固定リング３０に取付けられている。永
久磁石２９の形状．および磁束の形成方法は種々考えら
れるが、同図に示す形状、配置の場合は磁化方向４２が
逆のものを交互に円周上に配置すれは磁束の径時変化に
対して有利である。またこの場合は、永久磁石２９の数
を偶数個にするとよい。次に第４図によつて歯車状円板
２８の自転動作について説明する。
石２９の磁化方向をそれぞれ示す。永久磁石２９は止め
金具４３で磁石固定リング３０に取付けられている。永
久磁石２９の形状．および磁束の形成方法は種々考えら
れるが、同図に示す形状、配置の場合は磁化方向４２が
逆のものを交互に円周上に配置すれは磁束の径時変化に
対して有利である。またこの場合は、永久磁石２９の数
を偶数個にするとよい。次に第４図によつて歯車状円板
２８の自転動作について説明する。
まず、歯車状円板２８の静止状態について説明する。歯
車状円板２８は永久磁石２９の磁束により歯車状円板２
８の歯４４が受ける力により生じるトルクが回転に必要
なトルクより小さい状態て静止する。すなわち、歯車状
円板２８の回転中心（回転軸２２）が永久磁石２９−１
，２９−２の中間点から上方に伸ばした垂線上のＡ点に
あれば、永久磁石２９と歯４４の相対位置が実線で示す
状態、あるいは図示しないが歯４４が前記垂線上に静止
する。しかし、歯車状円板２８の回転の慣性力が徐々に
なくなり静止にいたる状態では、磁束に対しバランスの
よい実線でノ示す状態に静止し易い。そこで、歯車状円
板２８が公転している状態について観察すると、回転中
心がＡ点から公転方向４０に移動する過程て、歯４４−
１は永久磁石２９−２上にとどまろうとし、Ａ点から永
久磁石２９の配列間隔１の１１２だけ進んだＢ点では、
歯４４は点線で示す位置になり、歯車状円板２８はθ１
の角度だけ回転する。
車状円板２８は永久磁石２９の磁束により歯車状円板２
８の歯４４が受ける力により生じるトルクが回転に必要
なトルクより小さい状態て静止する。すなわち、歯車状
円板２８の回転中心（回転軸２２）が永久磁石２９−１
，２９−２の中間点から上方に伸ばした垂線上のＡ点に
あれば、永久磁石２９と歯４４の相対位置が実線で示す
状態、あるいは図示しないが歯４４が前記垂線上に静止
する。しかし、歯車状円板２８の回転の慣性力が徐々に
なくなり静止にいたる状態では、磁束に対しバランスの
よい実線でノ示す状態に静止し易い。そこで、歯車状円
板２８が公転している状態について観察すると、回転中
心がＡ点から公転方向４０に移動する過程て、歯４４−
１は永久磁石２９−２上にとどまろうとし、Ａ点から永
久磁石２９の配列間隔１の１１２だけ進んだＢ点では、
歯４４は点線で示す位置になり、歯車状円板２８はθ１
の角度だけ回転する。
すなわち、歯車状円板２８が矢印４０の方向に公転運動
を連続して行なうと、歯車状円板２８は連続回転（自転
）する。このことを第２図を参照して説明すると、前記
した如くモータ２５が回転することにより歯車２６，２
７および保持枠２４を介して回転軸２２、すなわち歯車
状円板２８が第４図の矢印４０方向に公転する。これに
より歯車状円板２８は第４図で説明したように自転する
ので、歯車状円板２８に固定された回転軸２２およびこ
の回転軸２２に固定された被蒸着物取付板２１は自公転
する。このように、被蒸着物取付板２１の自転運動の動
力伝達を歯車状円板２８と永久磁石２９とによる非接触
で行なうので、発塵が少なく、かつ回転時の衝撃が小さ
く、製品不良を大幅に減少させることができる。なお、
上記実施例においては回転部材である円板２８を歯４４
を有する歯車状とし、固定部材を永久磁石２９を有する
固定リング３０としたが、逆に歯４４の部分に永久磁石
２９を設け、永久磁石２９の部分に歯４４と同様な突起
をもつリングを配置してもよい。
を連続して行なうと、歯車状円板２８は連続回転（自転
）する。このことを第２図を参照して説明すると、前記
した如くモータ２５が回転することにより歯車２６，２
７および保持枠２４を介して回転軸２２、すなわち歯車
状円板２８が第４図の矢印４０方向に公転する。これに
より歯車状円板２８は第４図で説明したように自転する
ので、歯車状円板２８に固定された回転軸２２およびこ
の回転軸２２に固定された被蒸着物取付板２１は自公転
する。このように、被蒸着物取付板２１の自転運動の動
力伝達を歯車状円板２８と永久磁石２９とによる非接触
で行なうので、発塵が少なく、かつ回転時の衝撃が小さ
く、製品不良を大幅に減少させることができる。なお、
上記実施例においては回転部材である円板２８を歯４４
を有する歯車状とし、固定部材を永久磁石２９を有する
固定リング３０としたが、逆に歯４４の部分に永久磁石
２９を設け、永久磁石２９の部分に歯４４と同様な突起
をもつリングを配置してもよい。
以上の説明から明らかな如く、本発明によれば、被蒸着
物取付板の自転運動の動力伝達を非接触で行なうので、
発塵が少なく、かつ回転時の衝撃が小さい真空蒸着装置
用自公転治具が得られる。
物取付板の自転運動の動力伝達を非接触で行なうので、
発塵が少なく、かつ回転時の衝撃が小さい真空蒸着装置
用自公転治具が得られる。
第１図は従来の真空蒸着装置用自公転治具の断面図、第
２図は本発明になる真空蒸着装置用自公転治具の一実施
例を示す断面図、第３図は歯車状円板と永久磁石との関
係を示す平面図および断面図、第４図は歯車状円板の自
公転動作説明図である。 ２１・・・・・・被蒸着取付板、２２・・・・・・回転
軸、２４・・・・回転枠、２５・・・・・・モータ、２
６，２７・・・・・・歯車、２８・・・・・・歯車状円
板、２９・・・・・永久磁石、３０・・・・・・永久磁
石固定リング、４０・・・・・公転方向、４１・ ・・
自転方向、４４・・・・・・歯。
２図は本発明になる真空蒸着装置用自公転治具の一実施
例を示す断面図、第３図は歯車状円板と永久磁石との関
係を示す平面図および断面図、第４図は歯車状円板の自
公転動作説明図である。 ２１・・・・・・被蒸着取付板、２２・・・・・・回転
軸、２４・・・・回転枠、２５・・・・・・モータ、２
６，２７・・・・・・歯車、２８・・・・・・歯車状円
板、２９・・・・・永久磁石、３０・・・・・・永久磁
石固定リング、４０・・・・・公転方向、４１・ ・・
自転方向、４４・・・・・・歯。
Claims (1)
- １ 被蒸着物を取付ける被蒸着物取付板と、この被蒸着
物取付板に固定された回転軸に固定された円板と、前記
回転軸を公転させる公転駆動手段と、前記円板の公転軌
跡に沿つて配設され前記円板との作用によつて該円板を
前記回転軸を中心として自転させるリング状の固定部材
とからなる真空蒸着装置用自公転治具において、前記円
板は歯車形状または永久磁石を歯車状に固定してなり、
前記固定部材は前記円板の外周と微小間隔を保つて配置
され、かつ前記歯車形状の円板の歯間隔とほぼ等しい間
隔で取付けた永久磁石付き固定リングまたは前記永久磁
石付き円板の永久磁石取付け間隔とほぼ等しい間隔で歯
をもつ歯車形状の固定リングからなる真空蒸着装置用自
公転治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2679981A JPS6059991B2 (ja) | 1981-02-27 | 1981-02-27 | 真空蒸着装置用自公転治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2679981A JPS6059991B2 (ja) | 1981-02-27 | 1981-02-27 | 真空蒸着装置用自公転治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57143474A JPS57143474A (en) | 1982-09-04 |
| JPS6059991B2 true JPS6059991B2 (ja) | 1985-12-27 |
Family
ID=12203354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2679981A Expired JPS6059991B2 (ja) | 1981-02-27 | 1981-02-27 | 真空蒸着装置用自公転治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059991B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4485759A (en) * | 1983-01-19 | 1984-12-04 | Multi-Arc Vacuum Systems Inc. | Planetary substrate support apparatus for vapor vacuum deposition coating |
| JPH0329321Y2 (ja) * | 1985-09-24 | 1991-06-21 | ||
| JP2526509B2 (ja) * | 1993-10-14 | 1996-08-21 | マルホ産業株式会社 | 地中電線埋設自在保護管 |
| US9281231B2 (en) * | 2011-10-12 | 2016-03-08 | Ferrotec (Usa) Corporation | Non-contact magnetic drive assembly with mechanical stop elements |
| JP7158065B2 (ja) * | 2021-01-22 | 2022-10-21 | 株式会社シンクロン | 成膜装置 |
-
1981
- 1981-02-27 JP JP2679981A patent/JPS6059991B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57143474A (en) | 1982-09-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4037932B2 (ja) | 基板回転装置及び基板回転方法 | |
| JPS6059991B2 (ja) | 真空蒸着装置用自公転治具 | |
| EP0148809B1 (en) | Motion transmitting device between two coaxial rotating members | |
| JPH01184277A (ja) | 基板回転装置 | |
| JP2000282234A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH0428860A (ja) | イオンプレーティング装置用回転テーブル | |
| JPH0452275A (ja) | スパツタリング装置 | |
| TW202018108A (zh) | 3d蒸鍍之公自轉鍍鍋結構 | |
| JPH1121668A (ja) | 基板回転装置及び基板回転方法 | |
| JPH11323550A (ja) | 真空成膜装置用回転テーブル | |
| JPH09257116A (ja) | 駆動伝達手段 | |
| JP7158065B2 (ja) | 成膜装置 | |
| JPH0330924B2 (ja) | ||
| JP3579074B2 (ja) | 薄膜蒸着装置および薄膜蒸着方法 | |
| JP3378043B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| SU1122484A1 (ru) | Устройство дл доводки сферических поверхностей | |
| JPH0835065A (ja) | 真空成膜装置 | |
| JPH1046336A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH06137261A (ja) | 回転機器 | |
| JPH08134642A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH0226935Y2 (ja) | ||
| JPH08317629A (ja) | 磁気動力伝達機構 | |
| JPH0765159B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| RU1468009C (ru) | Устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
| JPS63214343A (ja) | 媒体製造装置 |