JPH0330924B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、磁気デイスクの磁場配向方法に関
し、特に塗膜面を平滑にし、角形比を向上させる
磁場配向に好適な磁気デイスクの製造方法に関す
る。

〔発明の背景〕

近年、磁気デイスクの高記録密度化が進むに伴
つて、磁性層の簿膜化が必要不可決の条件となつ
ている。分解能は、磁性層の厚さが薄くなると向
上するが、逆に記録再生出力は低下する。従つ
て、磁性層の磁性粉の配向度を高くすることが必
要である。また、ビツトエラー等がないようにす
るには、磁気デイスク面を平滑でかつ均一な塗膜
面形状にする必要がある。

磁気デイスクの製造工程において、磁場配向処
理は、磁性簿膜の塗布直後に行うのが一般的であ
る。この磁場配向処理は、磁性簿膜中の磁性粉を
円周方向に配向させるとともに、磁性簿膜面を平
滑化するために行われる。

従来は、第３図ａに示すような方法で、磁場配
向処理を行つている。ここで、１は磁性簿膜を塗
布した直後の磁気デイスクであり、３ａ，３ｂ，
４ａ，４ｂはそれぞれ磁石である。

第３図ａでは、磁気デイスク１に塗布された磁
性簿膜とは反対の面に、磁石３ａ，３ｂの組と磁
石４ａ，４ｂの組を配置し、これらの各組により
磁気デイスク１にその円周方向の水平磁界を垂直
方向により加える。この状態で、磁気デイスク１
を回転させると、磁性簿膜中の磁性粉は円周方向
に揃う。しかし、簿膜の背面側からのみ水平磁界
を加えるため、磁気デイスク１の面に垂直な方向
については、磁性粉は第３図ａの上方にしか動か
ない。このため、簿膜の表面の粗さを十分に改善
できない。また、磁性簿膜の内部に、かなりの欠
陥が残存することがある。そこで、このような問
題を改善するため、特開昭58−130444号公報に記
載の磁場配向処理方法が提案された。提案された
上記方法では、第３図ｂに示すように磁性簿膜の
表面の粗さを改善し、かつ磁性簿膜の内部欠陥を
減少させている。すなわち、水平磁界は磁性簿膜
の背面側からのみ加えられると（第３図ａ参照）、
磁気デイスク面に垂直の方向については、磁性粉
は図面の上方向にしか動かないが、上記先願の方
法では（第３図ｂ参照）、磁気デイスク１に対し
て円周方向の水平磁界を上側面と下側面とから交
互に加えることによつて、これを解決している。

しかし、上記の方法では、交互に水平磁界を加
えるため、配向効率が悪く、磁石の本数を増加し
たり、極性を変える等に改善を行つても、角形比
は0.8程度にしかならない。また、磁気デイスク
の両面側に、磁気デイスク１を挟んで互いの磁石
が反発するように同極どうしを向い合せて配置し
た反発配向による磁場配向処理方法では、角形比
が0.9程度になるが、磁性粉どうしが束になつて、
アルミニウム基板が見える状態（磁場アレ状態）
が発生してしまう。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、このような問題を解決し、磁
気デイスクの記録に寄与する角形比を増加させ、
かつ磁場アレをなくして、ビツトエラー等の起こ
させない平滑な塗膜面を得ることができる磁気デ
イスクの磁場配向方法を提供することにある。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するため、本発明により磁気デ
イスクの磁場配向方法は、磁石を磁気デイスクの
片面側ともう一方の面側とに反発しないように位
置をずらして配置し、片面ずつ交互に磁界を印加
する交互配向と、磁石を磁気デイスクの両面側に
互いの磁石が反発するように向い合わせて配置し
た反発配向とを交互に行うことに特徴がある。ま
た、その場合に、磁気デイスクの一面側には、磁
石を保持した固定プレートを、他面側には、磁石
を保持した回転プレートを配置し、回転プレート
を回転させることにより、磁石配置を変化させる
ことにも特徴がある。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を、図面により詳細に説
明する。

第１図は、本発明の一実施例を示す磁場配向処
理の説明図であり、ａは側面図、ｂは平面図であ
る。

第１図において、１は磁気デイスク、２は磁気
デイスク１を回転させるスピンドル、３，４はそ
れぞれ磁場配向をさせるため、磁気デイスク１上
に互に直角方向に配置された磁石、５，６はそれ
ぞれ磁石３，４を保持するプレート、７はシヤフ
ト、８はプレート６を回転させるモータ、９は磁
気デイスク１の回転方向を示している。

本実施例では、塗膜の粘度に合せて、反発およ
び連続した交互配向の磁石配置を作り、理想的な
磁性粉の配向処理を行うことにより、磁場アレを
除き、角形比を向上させるようにしている。第４
図ａ，ｂは、それぞれ交互配向と反発配向の動作
の模型図である。交互配向では、ａに示すよう
に、両面に配置された磁石を互いにある角度を持
たせて、磁気デイスクを回転させ、磁性粉に対し
て交互に磁界を印加するので、所定の周期で磁性
粉の極性が逆になり、その度ごとに磁性粉が垂直
に立ち上がり、次に水平になるときに逆方向に配
列される。従つて、交互配向では、塗膜面は平旦
になるが、強烈に磁界が印加されないため、角形
比がそれほど大きくならず、0.8程度である。一
方、反発配向では、ｂに示すように、同極どうし
を向い合せて磁石を両面に配置するので、磁性粉
は一度も垂直方向に立ち上ることなく、磁気デイ
スク１の円周方向に配向されるため、塗膜が乾燥
しない間に磁性粉どうしが寄り集つて束になり易
く、いわゆる磁場アレが生じてしまう。しかし、
磁束の印加が強烈であるため角形比は0.9程度と
なる。なお、乾燥時間は約２〜３分程度であり、
粘度の相違によつて磁場アレの大きさが異つてく
る。磁気デイスクの性能によつて、鉄粉に混入さ
れる樹脂成分の量が異なり、それにより粘度が異
つてくる。通常使用される粘度の種類は、２〜３
種類である。本発明においては、粘度の相違によ
つて乾燥期間中の磁場アレを２〜３種類に分類で
きるので、磁場アレの相違によりそれぞれ補正の
手順を作成するのである。いずれも、本発明の補
正方法は、磁気デイスク１に対して、磁性塗料が
塗布された直後、先ず反発配向を行い、その後に
磁場アレの種類に従つて交互配向を行う。交互配
向は、定形的に分類された２〜３種類の磁場アレ
の違いによつてプログラムされた手順により行わ
れる。すなわち、粘度の違いにより磁束の寄りが
一定角度で特に起る場合、あるいは磁場アレが一
定の範囲で起る場合には、反発配向の磁石の位置
を一定の角度または範囲にして交互配向処理を行
い、また磁束の寄りが乾燥期間の最初に起るか、
あるいは磁場アレが多い場合には、反発配向の時
間を短くして、交互配向の時間を長くし、磁石を
連続回転させて交互配向を行うようにする。この
ようにして、磁場アレの生じる乾燥期間には、反
発配向の後に交互配向を行つて磁場アレが生じな
いように予防処置を行い、その後、完全に乾燥し
てから、再び反発配向を行つて強烈に磁性粉を配
向するのである。その場合、本発明の新しい方法
としては、交互配向を行うときに両面の磁石の一
方を固定にし、他方を回転可能にすることによ
り、連続的に任意の磁石配置を形成できるように
する点である。すなわち、磁気デイスクの両面に
それぞれ磁石を保持したプレートを取付け、一方
のプレートは固定し、他方のプレートは磁気デイ
スクと同軸に回転可能にする。一方のプレートを
回転させるモータは、プログラムによつて種々の
位置や角度に停止しながら回転するように設定さ
れ、塗膜の乾燥状態に応じて磁石を配置できるよ
うにする。

第１図ａにおいて、スピンドル２に装着された
磁気デイスク１は、塗布ステーシヨンにおいて磁
性塗料が塗布された後、直ちに未乾燥の状態で、
スピンドル２に装着されたまま配向ステーシヨン
に移動する。そして、スピンドル２を矢印９で示
す方向に規定の回転数で回転させ、磁石３，４を
保持するプレート５，６を回転させる。これによ
つて、磁石３，４を保持するプレート５，６は、
回転しながらその位置を磁気デイスク１に接近す
るように移動し、磁気デイスク１の塗膜面に対し
て規定を距離を保つて移動を停止する。プレート
６は、シヤフト７を介してモータ８に結合され、
スピンドル２と同軸で回転できるような機構にな
つている。磁場配向処理中に、モータ８を矢印１
０のように回転させると、プレート６も同一方向
に回転するため、プレート６により保持されてい
る磁石４の他の磁石３に対する相対角度が任意に
変えられる。

第２図は、第１図における磁石の配置状態を示
す図である。

モータ８を回転することにより、両磁石３，４
の相対角度を変化することができる。例えば、第
２図ａ，ｂ，ｃに示すような磁石配置にして、反
発配向による磁場アレを修正する。第２図ａは反
発配向、つまり磁石３，４の同極どうしを向い合
せにして磁場配向処理を行う場合、第２図ｂ、第
２図ｃは向い合せた両磁石３，４の配置を＋θ、
および−θだけ互いに角度をずらして交互配向を
行う場合をそれぞれ示している。なお、回転角度
＋θ、−θはプレート６を回転する途中の任意の
位置を示しているだけであつて、特に意味はな
い。

すなわち、磁気デイスク１の塗布ステーシヨン
で塗膜が塗布されると、この塗膜が乾燥するに伴
つて塗膜粘度は変化する。この塗膜粘度の変化は
磁気デイスク１によつてほぼ一様であるため、こ
の変化の態様を考慮しながら、磁石配置を変えて
いくことによつて、第２図ａ，ｂ，ｃの矢印１
２，１３，１４に示すように、磁気デイスク１の
円周方向に配列させた磁性粉を崩すことなく、連
続的に磁石配置を行うことができる。第２図は、
その一例を示したものであつて、先ず、配向開始
後ａに示すように、反発配向を行つて強烈に円周
方向に磁性粉１２を配向させ、その後にｂおよび
ｃに示すような交互配向を行つて、磁場アレの状
態を修正する。乾燥しない期間だけ、ａ〜ｃの反
発配向と交互配向をを行つた後、塗膜が乾燥し
て、磁場のアレが生じないようになつてから、再
度ａの反発配向を行う。モータ８の回転動作をプ
ログラムによつて制御できるようにしておくこと
により、この回転プログラムを変更することで、
第２図と異なる配向方法も可能になる。

本実施例では、角形比Ｂが従来より大きい値
（0.9≦Ｂ＜1.0）となり、かつ磁場アレも生じな
い平滑な塗膜面を得ることができる。

〔発明の効果〕

以上、説明したように、本発明によれば、角形
比が0.9以上得られるので、磁性層の簿膜化が可
能となり、かつモータの回転プログラムにより、
塗膜面形状が自由自在に得られるので、塗料の変
化にも対応が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す磁場配向処理
の説明図、第２図は第１図における磁石配置の説
明図、第３図は従来の磁場配向処理の説明図、第
４図は本発明の動作原理を示す説明図である。 １：磁気デイスク、２：スピンドル、３：固定
側磁石、４：回転側磁石、５：固定プレート、
６：回転プレート、７：シヤフト、８：モータ、
９，１０：回転方向。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 磁石により磁気デイスクの磁性層の配向処理
   を行う磁場配向方法において、磁石を磁気デイス
   クの片面側ともう一方の面側とに反発しないよう
   に位置をずらして配置し、片面ずつ交互に磁界を
   印加する交互配向と、磁石を磁気デイスクの両面
   側に互いの磁石が反発するように向い合わせて配
   置した反発配向とを交互に行うことを特徴とする
   磁気デイスクの磁場配向方法。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載の磁気デイスク
   の磁場配向方法において、上記磁気デイスクの一
   面側には、磁石を保持した固定のプレートを、他
   面側には、磁石を保持した回転プレートを配置
   し、該回転プレートを回転させることにより、磁
   石配置を変化させることを特徴とする磁気デイス
   クの磁場配向方法。