JPS61187125A - 磁気デイスクの磁場配向方法 - Google Patents
磁気デイスクの磁場配向方法Info
- Publication number
- JPS61187125A JPS61187125A JP60026896A JP2689685A JPS61187125A JP S61187125 A JPS61187125 A JP S61187125A JP 60026896 A JP60026896 A JP 60026896A JP 2689685 A JP2689685 A JP 2689685A JP S61187125 A JPS61187125 A JP S61187125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- magnetic field
- orientation
- magnet
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
- G11B5/845—Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、磁気ディスクの磁場配向方法に関し。
特に塗膜面を平滑にし、角形比を向上させる磁場配向に
好適な磁気ディスクの製造方法に関する。
好適な磁気ディスクの製造方法に関する。
近年、磁気ディスクの高記録密度化が進むに伴つて、磁
性層の薄膜化が必要不可決の条件となっている６分解能
は、磁性層の厚さが薄くなると向上するが、逆に記録再
生出力は低下する。従って。
性層の薄膜化が必要不可決の条件となっている６分解能
は、磁性層の厚さが薄くなると向上するが、逆に記録再
生出力は低下する。従って。
磁性層の磁性粉の配向度を高くすることが必要である。
また、ビットエラー等がないようにするには、磁気ディ
スク面を平滑でかつ均一な塗膜面形状にする必要がある
。
スク面を平滑でかつ均一な塗膜面形状にする必要がある
。
磁気ディスクの製造１廊において、磁場配向処理は、磁
性薄膜の塗布直後に行うのが一般的である。この磁場配
向処理は、磁性薄膜中の磁性粉を円周方向に配向させる
とともに、磁性薄膜面を平滑化するために行われる。
性薄膜の塗布直後に行うのが一般的である。この磁場配
向処理は、磁性薄膜中の磁性粉を円周方向に配向させる
とともに、磁性薄膜面を平滑化するために行われる。
従来は、第３図（ａ）に示すような方法で、磁場配向処
理を行っている。ここで、■は磁性薄膜を塗布した直後
の磁気ディスクであり、３ａ、３ｂ。
理を行っている。ここで、■は磁性薄膜を塗布した直後
の磁気ディスクであり、３ａ、３ｂ。
４ａ、４ｂはそれぞれ磁石である。
第３図（、）では、磁気ディスク１に塗布された磁性薄
膜とは反対の面に、磁石３ａ、３ｂの組と磁石４ａ、４
ｂの組を配置し、これらの各組により磁気ディスク１に
その円周方向の水平磁界を垂直方向より加える。この状
態で、磁気ディスク１を回転させると、磁性薄膜中の磁
性粉は円周方向に揃う、しかし、薄膜の背面側からのみ
水平磁界を加えるため、磁気ディスク１の面に垂直な方
向については、磁性粉は第３図（ａ）の上方にしか動か
ない。このため、薄膜の表面の粗さを十分に改善できな
い、また、磁性薄膜の内部に、かなりの欠陥が残存する
ことがある。そこで、このような問題を改善するため、
特開昭５８−１３０４４４号公報に記載の磁場配向処理
方法が提案された。
膜とは反対の面に、磁石３ａ、３ｂの組と磁石４ａ、４
ｂの組を配置し、これらの各組により磁気ディスク１に
その円周方向の水平磁界を垂直方向より加える。この状
態で、磁気ディスク１を回転させると、磁性薄膜中の磁
性粉は円周方向に揃う、しかし、薄膜の背面側からのみ
水平磁界を加えるため、磁気ディスク１の面に垂直な方
向については、磁性粉は第３図（ａ）の上方にしか動か
ない。このため、薄膜の表面の粗さを十分に改善できな
い、また、磁性薄膜の内部に、かなりの欠陥が残存する
ことがある。そこで、このような問題を改善するため、
特開昭５８−１３０４４４号公報に記載の磁場配向処理
方法が提案された。
提案された上記方法では、第３図（ｂ）に示すように磁
性薄膜の表面の粗さを改善し、かつ磁性薄膜の内部欠陥
を減少させている。すなわち、水平磁界は磁性薄膜の背
面側からのみ加えられると（第３図（、）参照）、磁気
ディスク面に垂直な方向については、磁性粉は図面の上
方向にしか動かないが、上記先願の方法では（第３図（
ｂ）参照）、磁気ディスクｌに対して円周方向の水平磁
界を上側面と下側面とから交互に加えることによって、
これを解決している。
性薄膜の表面の粗さを改善し、かつ磁性薄膜の内部欠陥
を減少させている。すなわち、水平磁界は磁性薄膜の背
面側からのみ加えられると（第３図（、）参照）、磁気
ディスク面に垂直な方向については、磁性粉は図面の上
方向にしか動かないが、上記先願の方法では（第３図（
ｂ）参照）、磁気ディスクｌに対して円周方向の水平磁
界を上側面と下側面とから交互に加えることによって、
これを解決している。
しかし、上記の方法では、交互に水平磁界を加えるため
、配向効率が悪く、磁石の本数を増加したり、極性を変
える等に改善を行っても、角形比は０．８程度にしかな
らない。また、磁気ディスクの両面側に、磁気ディスク
ｌを挟んで互いの磁石が反発するように同極どうしを向
い合せて配置した反発配向による磁場配向処理方法では
、角形比が０．９程度になるが、磁性粉どうしが束にな
って、アルミニウム基板が見える状態（磁場アレ状態）
が発生してしまう。
、配向効率が悪く、磁石の本数を増加したり、極性を変
える等に改善を行っても、角形比は０．８程度にしかな
らない。また、磁気ディスクの両面側に、磁気ディスク
ｌを挟んで互いの磁石が反発するように同極どうしを向
い合せて配置した反発配向による磁場配向処理方法では
、角形比が０．９程度になるが、磁性粉どうしが束にな
って、アルミニウム基板が見える状態（磁場アレ状態）
が発生してしまう。
本発明の目的は、このような問題を解決し、磁気ディス
クの記録に寄与する角形比を増加させ、かつ磁場アレを
なくして、ビットエラー等を起こさない平滑な塗膜面を
得ることができる磁気ディスクの磁場配向方法を提供す
ることにある。
クの記録に寄与する角形比を増加させ、かつ磁場アレを
なくして、ビットエラー等を起こさない平滑な塗膜面を
得ることができる磁気ディスクの磁場配向方法を提供す
ることにある。
上記目的を達成するため、本発明による磁気ディスクの
磁場配向方法は、永久磁石により、磁気ディスクの両面
同時に配向処理を行う磁場配向方法において、磁気ディ
スクの一面側には磁石を保持した固定のプレートを、ま
た他面側には回転軸と同軸で回転する磁石を保持した回
転プレートをそれぞれ設け、上記回転プレートを任意の
角度だけ回転させることにより、磁気ディスク面上に塗
布された薄膜の乾燥状態に応じた任意の磁石配置を連続
的に作成することに特徴がある。
磁場配向方法は、永久磁石により、磁気ディスクの両面
同時に配向処理を行う磁場配向方法において、磁気ディ
スクの一面側には磁石を保持した固定のプレートを、ま
た他面側には回転軸と同軸で回転する磁石を保持した回
転プレートをそれぞれ設け、上記回転プレートを任意の
角度だけ回転させることにより、磁気ディスク面上に塗
布された薄膜の乾燥状態に応じた任意の磁石配置を連続
的に作成することに特徴がある。
〔発明の実施例〕 □
以下、本発明の実施例を１図面により詳細に説明する。
第１図は１本発明の一実施例を示す磁場配向処理の説明
図であり、（、）は側面図、（ｂ）は平面図である。
図であり、（、）は側面図、（ｂ）は平面図である。
第１図において、１は磁気ディスク、２は磁気ディスク
１を回転させるスピンドル、３，４はそれぞれ磁場配向
させるため、磁気ディスクｌ上に互に直角方向に配置さ
れた磁石、５，６はそれぞれ磁石３，４を保持するプレ
ート、７はシャフト、８はプレート６を回転させるモー
タ、９は磁気ディスクｌの回転方向を示している。
１を回転させるスピンドル、３，４はそれぞれ磁場配向
させるため、磁気ディスクｌ上に互に直角方向に配置さ
れた磁石、５，６はそれぞれ磁石３，４を保持するプレ
ート、７はシャフト、８はプレート６を回転させるモー
タ、９は磁気ディスクｌの回転方向を示している。
本実施例では、塗膜の粘度に合せて、反発および連続し
た交互配向の磁石配置を作り、理想的な磁性粉の配向処
理を行うことにより、磁場アレを除き、角形比を向上さ
せるようにしている。第４図（ａ）、（ｂ）は、それぞ
れ交互配向と反発配向の動作の模型図である。交互配向
では、（ａ）に示すように、両面に配置された磁石を互
いにある角度を持たせて、磁気ディスクを回転させ、磁
性粉に対して交互に磁界を印加するので、所定の周期で
磁性粉の極性が逆になり、その度ごとに磁性粉が垂直に
立ち上り、次に水平になるときに逆方向に配列される。
た交互配向の磁石配置を作り、理想的な磁性粉の配向処
理を行うことにより、磁場アレを除き、角形比を向上さ
せるようにしている。第４図（ａ）、（ｂ）は、それぞ
れ交互配向と反発配向の動作の模型図である。交互配向
では、（ａ）に示すように、両面に配置された磁石を互
いにある角度を持たせて、磁気ディスクを回転させ、磁
性粉に対して交互に磁界を印加するので、所定の周期で
磁性粉の極性が逆になり、その度ごとに磁性粉が垂直に
立ち上り、次に水平になるときに逆方向に配列される。
従って、交互配向では、塗膜面ば平旦になるが１強烈に
磁界が印加されないため、角形比がそれほど大きくなら
ず、０．８程度である。
磁界が印加されないため、角形比がそれほど大きくなら
ず、０．８程度である。
一方１反発配向では、（ｂ）に示すように、同極どうし
を向い合せて磁石を両面に配置するので、磁性粉は一度
も垂直方向に立ち上ることなく、磁気ディスクｌの円周
方向に配向されるため、塗膜が乾燥しない間に磁性粉ど
うしが寄り集って束になり易く、いわゆる磁場アレが生
じてしまう。しかし、磁束の印加が強烈であるため角形
比は０．９程度となる。なお、乾燥時間は約２〜３分程
度であり、粘度の相違によって磁場アレの大きさが異っ
てくる。磁気ディスクの性能によって、鉄粉に混入され
る樹脂成分の■が異なり、それにより粘度が異ってくる
。通常使用される粘度の種類は、２〜３種類である。本
発明においては、粘度の相違によって乾燥期間中の磁場
アレを２〜３種類に分類できるので、磁場アレの相違に
よりそれぞれ補正の手順を作成するのである。いずれも
、本発明の補正方法は、磁気ディスク１に対して、磁性
塗料が塗布された直後、先ず反発配向を行い、その後に
磁場アレの種類に従って交互配向を行う。
を向い合せて磁石を両面に配置するので、磁性粉は一度
も垂直方向に立ち上ることなく、磁気ディスクｌの円周
方向に配向されるため、塗膜が乾燥しない間に磁性粉ど
うしが寄り集って束になり易く、いわゆる磁場アレが生
じてしまう。しかし、磁束の印加が強烈であるため角形
比は０．９程度となる。なお、乾燥時間は約２〜３分程
度であり、粘度の相違によって磁場アレの大きさが異っ
てくる。磁気ディスクの性能によって、鉄粉に混入され
る樹脂成分の■が異なり、それにより粘度が異ってくる
。通常使用される粘度の種類は、２〜３種類である。本
発明においては、粘度の相違によって乾燥期間中の磁場
アレを２〜３種類に分類できるので、磁場アレの相違に
よりそれぞれ補正の手順を作成するのである。いずれも
、本発明の補正方法は、磁気ディスク１に対して、磁性
塗料が塗布された直後、先ず反発配向を行い、その後に
磁場アレの種類に従って交互配向を行う。
交互配向は、定形的に分類された２〜３種類の磁場アレ
の違いによってプログラムされた手順により行われる。
の違いによってプログラムされた手順により行われる。
すなわち、粘度の違いにより磁束の寄りが一定角度で特
に起る場合、あるいは磁場アレが一定の範囲で起る場合
には１反発配向の磁石の位置を一定の角度または範囲に
して交互配向処理を行い、また磁束の寄りが乾燥期間の
最初に起るか、あるいは磁場アレが多い場合には１反発
配向の時間を短くして、交互配向の時間を長くシ。
に起る場合、あるいは磁場アレが一定の範囲で起る場合
には１反発配向の磁石の位置を一定の角度または範囲に
して交互配向処理を行い、また磁束の寄りが乾燥期間の
最初に起るか、あるいは磁場アレが多い場合には１反発
配向の時間を短くして、交互配向の時間を長くシ。
磁石を連続回転させて交互配向を？テうようにする。
このようにして、磁場アレの生じる乾燥期間には、反発
配向の後に交互配向を行って磁場アレが生じないように
予防処置を行い、その後、完全に乾燥してから、再び反
発配向を行って強烈に磁性粉を配向するのである。その
場合、本発明の新しい方法としては、交互配向を行うと
きに両面の磁石の一方を固定にし、他方を回転可能にす
ることにより、連続的に任意の磁石配置を形成できるよ
うにする点である。すなわち、磁気ディスクの両面にそ
れぞれ磁石を保持したプレートを取付け、一方のプレー
トは固定し、他方のプレートは磁気ディスクと同軸に回
転可能にする。一方のプレートを回転させるモータは、
プログラムによって種々の位置や角度に停止しながら回
転するように設定され、塗膜の乾燥状態に応じて磁石を
配置できるようにする。
配向の後に交互配向を行って磁場アレが生じないように
予防処置を行い、その後、完全に乾燥してから、再び反
発配向を行って強烈に磁性粉を配向するのである。その
場合、本発明の新しい方法としては、交互配向を行うと
きに両面の磁石の一方を固定にし、他方を回転可能にす
ることにより、連続的に任意の磁石配置を形成できるよ
うにする点である。すなわち、磁気ディスクの両面にそ
れぞれ磁石を保持したプレートを取付け、一方のプレー
トは固定し、他方のプレートは磁気ディスクと同軸に回
転可能にする。一方のプレートを回転させるモータは、
プログラムによって種々の位置や角度に停止しながら回
転するように設定され、塗膜の乾燥状態に応じて磁石を
配置できるようにする。
第１図（、）において、スピンドル２に装着された磁気
ディスク１は、塗布ステーションにおいて磁性塗料が塗
布された後、直ちに未乾燥の状態で。
ディスク１は、塗布ステーションにおいて磁性塗料が塗
布された後、直ちに未乾燥の状態で。
スピンドル２に装着されたまま配向ステーションに移動
する。そして、スピンドル２を矢印９で示す方向に規定
の回転数で回転させ、磁石３，４を保持するプレート５
，６を回転させる。これによって、磁石３，４を保持す
るプレート５，６は、回転しながらその位置を磁気ディ
スク１に接近するように移動し、磁気ディスク１の塗膜
面に対して規定の正順を保って移動を停止する。プレー
ト６は、シャフト７を介してモータ８に結合され、スピ
ンドル２と同軸で回転できるような機構になっている。
する。そして、スピンドル２を矢印９で示す方向に規定
の回転数で回転させ、磁石３，４を保持するプレート５
，６を回転させる。これによって、磁石３，４を保持す
るプレート５，６は、回転しながらその位置を磁気ディ
スク１に接近するように移動し、磁気ディスク１の塗膜
面に対して規定の正順を保って移動を停止する。プレー
ト６は、シャフト７を介してモータ８に結合され、スピ
ンドル２と同軸で回転できるような機構になっている。
磁場配向処理中に、モータ８を矢印１０のように回転さ
せると、プレート６も同一方向に回転するため、プレー
ト６により保持されている磁石４の他の磁石３に対する
相対角度が任意に変えらｔＬる。
せると、プレート６も同一方向に回転するため、プレー
ト６により保持されている磁石４の他の磁石３に対する
相対角度が任意に変えらｔＬる。
第２図は、第１図における磁石の配置状態を示す図であ
る。
る。
モータ８を回転することにより、両磁石３，４の相対角
度を変化することができる。例えば、第２図（ａ）、（
ｂ）、（ｃ）に示すような磁石配置にして、反光配向に
よる磁場アレを修正する。第２図（、）は反発配向、つ
まり磁石３，４の同極どうしを向い合せにして磁場配向
処理を行う場合、第２図（ｂ）、第２図（Ｃ）は向い合
せた両磁石３，４の配置を十〇、および一〇だけ互いに
角度をずらして交互配向を行う場合をそれぞれ示してい
る。なお、回転角度十〇、−〇はプレート６を回転する
途中の任意の位置を示しているだけであって、特に意味
はない。
度を変化することができる。例えば、第２図（ａ）、（
ｂ）、（ｃ）に示すような磁石配置にして、反光配向に
よる磁場アレを修正する。第２図（、）は反発配向、つ
まり磁石３，４の同極どうしを向い合せにして磁場配向
処理を行う場合、第２図（ｂ）、第２図（Ｃ）は向い合
せた両磁石３，４の配置を十〇、および一〇だけ互いに
角度をずらして交互配向を行う場合をそれぞれ示してい
る。なお、回転角度十〇、−〇はプレート６を回転する
途中の任意の位置を示しているだけであって、特に意味
はない。
すなわち、磁気ディスク１が塗布ステーションで塗膜を
塗布されると、この塗膜が乾燥するに伴って塗膜粘度は
変化する。この塗膜粘度の変化は磁気ディスクｌによっ
てほぼ一様であるため、この変化の態様を考慮しながら
、磁石配置を変えていくことによって、第２図（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の矢印１２．１３．１４に示すように、
磁気ディスク１の円周方向に配列させた磁性粉を崩すこ
となく、連続的に磁石配置を行うことができる。第２図
は、その−例を示したものであって、先ず、配向開始後
（、）に示すように、反発配向を行って強烈に円周方向
に磁性粉１２を配向させ、その後に（ｂ）および（ｅ）
に示すような交互配向を行って、磁場アレの状態を修正
する。乾燥しない期間だけ、（ａ）〜（ｃ）の反発配向
と交互配向をを行った後、塗膜が乾燥して、磁場のアレ
が生じないようになってから、再度（、）の反発配向を
行う。モータ８の回転動作をプログラムによって制御で
きるようにしておくことにより、この回転プログラムを
変更することで、第２図と異なる配向方法も可能になる
。
塗布されると、この塗膜が乾燥するに伴って塗膜粘度は
変化する。この塗膜粘度の変化は磁気ディスクｌによっ
てほぼ一様であるため、この変化の態様を考慮しながら
、磁石配置を変えていくことによって、第２図（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の矢印１２．１３．１４に示すように、
磁気ディスク１の円周方向に配列させた磁性粉を崩すこ
となく、連続的に磁石配置を行うことができる。第２図
は、その−例を示したものであって、先ず、配向開始後
（、）に示すように、反発配向を行って強烈に円周方向
に磁性粉１２を配向させ、その後に（ｂ）および（ｅ）
に示すような交互配向を行って、磁場アレの状態を修正
する。乾燥しない期間だけ、（ａ）〜（ｃ）の反発配向
と交互配向をを行った後、塗膜が乾燥して、磁場のアレ
が生じないようになってから、再度（、）の反発配向を
行う。モータ８の回転動作をプログラムによって制御で
きるようにしておくことにより、この回転プログラムを
変更することで、第２図と異なる配向方法も可能になる
。
本実施例では、角形比Ｂが従来より大きい値（０，９≧
Ｉ３＞１．０）となり、かつ磁場アレも生じない平滑な
塗膜面を得ることができる。
Ｉ３＞１．０）となり、かつ磁場アレも生じない平滑な
塗膜面を得ることができる。
以上、説明したように１本発明によれば、角形比が０．
９以上得られるので、磁性層の薄膜化が可能となり、か
つモータの回転プログラムにより。
９以上得られるので、磁性層の薄膜化が可能となり、か
つモータの回転プログラムにより。
塗膜面形状が自由自在に得られるので、塗料の変化にも
対応が可能となる。
対応が可能となる。
第１図は本発明の一実施例を示す磁場配向処理の説明図
、第２図は第１図における磁石配置の説明図、第３図は
従来の磁場配向処理の説明図、第４図は本発明の動作原
理を示す説明図である。 ｌ：磁気ディスク、２ニスピンドル、３：固定側磁石、
４：回転側磁石、５：固定プレート、６：回転プレート
、７：シャフト、８：モータ、９゜１０：回転方向。 特許出願人 株式会社日立製作所、７ １、ノ 代 理 人 弁理士 磯 村 稚 俊・・、；、５〜．
１． ′、、、。 第１図 （ａＪ （１）
１第２図 （ａ） （ｂ）
（Ｃ）第 ５ 図 第４図 （ｂ） （ａ）
、第２図は第１図における磁石配置の説明図、第３図は
従来の磁場配向処理の説明図、第４図は本発明の動作原
理を示す説明図である。 ｌ：磁気ディスク、２ニスピンドル、３：固定側磁石、
４：回転側磁石、５：固定プレート、６：回転プレート
、７：シャフト、８：モータ、９゜１０：回転方向。 特許出願人 株式会社日立製作所、７ １、ノ 代 理 人 弁理士 磯 村 稚 俊・・、；、５〜．
１． ′、、、。 第１図 （ａＪ （１）
１第２図 （ａ） （ｂ）
（Ｃ）第 ５ 図 第４図 （ｂ） （ａ）
Claims (1)
- （１）永久磁石により、磁気ディスクの両面同時に配向
処理を行う磁場配向方法において、磁気ディスクの一面
側には磁石を保持した固定のプレートを、また他面側に
は回転軸と同軸で回転する磁石を保持した回転プレート
をそれぞれ設け、上記回転プレートを任意の角度だけ回
転させることにより、磁気ディスク面上に塗布された薄
膜の乾燥状態に応じた任意の磁石配置を連続的に形成す
ることを特徴とする磁気ディスクの磁場配向方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60026896A JPS61187125A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | 磁気デイスクの磁場配向方法 |
| US06/826,338 US4696831A (en) | 1985-02-14 | 1986-02-05 | Method of orienting magnetic disc by magnetic field |
| DE19863603954 DE3603954A1 (de) | 1985-02-14 | 1986-02-07 | Verfahren zum ausrichten einer magnetscheibe durch ein magnetfeld |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60026896A JPS61187125A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | 磁気デイスクの磁場配向方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61187125A true JPS61187125A (ja) | 1986-08-20 |
| JPH0330924B2 JPH0330924B2 (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=12206005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60026896A Granted JPS61187125A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | 磁気デイスクの磁場配向方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4696831A (ja) |
| JP (1) | JPS61187125A (ja) |
| DE (1) | DE3603954A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| KR20230013625A (ko) | 2021-07-19 | 2023-01-26 | 히오끼 덴끼 가부시끼가이샤 | 전자 회로 및 측정 장치 |
Families Citing this family (6)
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| EP0203002B1 (en) * | 1985-05-20 | 1992-01-15 | Fujitsu Limited | Longitudinal magnetic coated recording medium |
| JPS6282516A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスクの製造法 |
| US5176965A (en) * | 1987-10-05 | 1993-01-05 | Digital Equipment Corporation | Magnetic medium for longitudinal recording |
| DE69113306T2 (de) * | 1990-04-05 | 1996-05-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zur Herstellung magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| DE4312444A1 (de) * | 1993-04-16 | 1994-10-20 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten, insbesondere mit magnetisierbaren Werkstoffen |
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| KR20230013625A (ko) | 2021-07-19 | 2023-01-26 | 히오끼 덴끼 가부시끼가이샤 | 전자 회로 및 측정 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0330924B2 (ja) | 1991-05-01 |
| DE3603954C2 (ja) | 1990-08-09 |
| DE3603954A1 (de) | 1986-08-14 |
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