JPS59132427A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS59132427A JPS59132427A JP753383A JP753383A JPS59132427A JP S59132427 A JPS59132427 A JP S59132427A JP 753383 A JP753383 A JP 753383A JP 753383 A JP753383 A JP 753383A JP S59132427 A JPS59132427 A JP S59132427A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- disk
- magnets
- coated film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
- G11B5/845—Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ディスクの製造方法に関し、特に塗布膜面
の耐破壊強度を向上させることが可能な磁気ディスクの
製造方法に関する。
の耐破壊強度を向上させることが可能な磁気ディスクの
製造方法に関する。
（従来技術）
磁気ディスタは、基板に磁性塗料を塗布し、これを磁界
中で回転させることにより配向処理しつつ乾燥するとい
う方法で製造される。上記製造方法により製造される磁
気ディスクにおいては、塗布膜面の耐破壊強度を向上さ
せるために、前記磁性塗料、中に数％程度のアルミナ粉
等を混入していた。しかしながら、磁気ディスクへの記
録の高速。
中で回転させることにより配向処理しつつ乾燥するとい
う方法で製造される。上記製造方法により製造される磁
気ディスクにおいては、塗布膜面の耐破壊強度を向上さ
せるために、前記磁性塗料、中に数％程度のアルミナ粉
等を混入していた。しかしながら、磁気ディスクへの記
録の高速。
高密度化に伴って磁性膜が薄層化されるとともに、より
高い耐破壊強度が要求されるに至り、上記アルミナ粉等
を混入する方法では対処することが困難になっている。
高い耐破壊強度が要求されるに至り、上記アルミナ粉等
を混入する方法では対処することが困難になっている。
これは、前記アルミナ粉等の混入量を増すことにより塗
布膜面の耐破壊強度が向上する反面、電磁特性が劣化す
るためその混合量に限界があるためである。
布膜面の耐破壊強度が向上する反面、電磁特性が劣化す
るためその混合量に限界があるためである。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、従来の磁気ディスクの製造方法における
塗布膜面の耐破壊強度向上対策の上述の如き問題を解消
し、電磁特性を劣化させずに塗布膜面の耐破壊強度を向
上させることを可能とする磁気ディスクの製造方法を提
供することにある。
するところは、従来の磁気ディスクの製造方法における
塗布膜面の耐破壊強度向上対策の上述の如き問題を解消
し、電磁特性を劣化させずに塗布膜面の耐破壊強度を向
上させることを可能とする磁気ディスクの製造方法を提
供することにある。
本発明の要点は、磁気、ディスクの製造に際してその配
向処理における磁性塗料中の磁性粒子の配向運動を利用
して、塗布膜面の面粗さを調整することによりその耐破
壊強度を向上させるようにした点にある。
向処理における磁性塗料中の磁性粒子の配向運動を利用
して、塗布膜面の面粗さを調整することによりその耐破
壊強度を向上させるようにした点にある。
第１図は塗布面粗さと耐破壊弛度との関係の一例を示す
グラフである。一点鎖線１１ で示されるレベルか要
求される耐破壊強度（この例では２万回）とすると、塗
布面粗さを０．０５μｍＲａ以Ｆにすることが必要であ
ることがわかる。なお、ここで、耐破壊強度の測定は、
例えば、磁気ディスクをスピンドル取付け、その表面に
球面摺動子を接触させ、これに一定荷重を加えつつスピ
ンドルを回転させ、塗布膜面が損傷して基板が露出する
までの総回転数とすると、再現性良く行うことが可能で
ある。第１図に示したグラフは、荷重１０±０−２ｇ＋
速度（周速）２０±Ｑ、１ｍ／ｓ に設定して測定し
たものである。
グラフである。一点鎖線１１ で示されるレベルか要
求される耐破壊強度（この例では２万回）とすると、塗
布面粗さを０．０５μｍＲａ以Ｆにすることが必要であ
ることがわかる。なお、ここで、耐破壊強度の測定は、
例えば、磁気ディスクをスピンドル取付け、その表面に
球面摺動子を接触させ、これに一定荷重を加えつつスピ
ンドルを回転させ、塗布膜面が損傷して基板が露出する
までの総回転数とすると、再現性良く行うことが可能で
ある。第１図に示したグラフは、荷重１０±０−２ｇ＋
速度（周速）２０±Ｑ、１ｍ／ｓ に設定して測定し
たものである。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第２図（８）は本発明の一実施例を示す磁気ディス多配
向装置の平面図、同の）はその正面図である。
向装置の平面図、同の）はその正面図である。
図において、ｌは両面に未乾燥の磁性塗料膜を有する製
造途中の磁気ディスクであり、略水平吠態にスピンドル
２に装着される。その直後に、保持部３に取付けられた
上磁石４および上磁石５が、破線で示される位置からそ
れぞれ下降、上昇して前記磁気ディスク１の塗布膜面に
対して規定の距離（例えばｌ酩）を保って停止する。次
いで、スピンドル２が矢印６方向に規定の回転′ｌ＆（
例えば３Ｑｒｐｍ）で規定時間（例えば６０秒）回転し
これにより磁性塗料膜中の磁性粒子は矢印７方向に配向
される。
造途中の磁気ディスクであり、略水平吠態にスピンドル
２に装着される。その直後に、保持部３に取付けられた
上磁石４および上磁石５が、破線で示される位置からそ
れぞれ下降、上昇して前記磁気ディスク１の塗布膜面に
対して規定の距離（例えばｌ酩）を保って停止する。次
いで、スピンドル２が矢印６方向に規定の回転′ｌ＆（
例えば３Ｑｒｐｍ）で規定時間（例えば６０秒）回転し
これにより磁性塗料膜中の磁性粒子は矢印７方向に配向
される。
第３図は前記上磁石生、下磁石５の磁極配置を模式的に
示す図である。本実施側においては、上磁石４と上磁石
５とがそれぞれ２個ずっ組合わされ、かつ、磁気ディス
ク１の両面に交互に配置されている。これにより、磁気
ディスク１の磁性塗料膜８は上磁石４のＮ極と上磁石５
のＳ極とから交互に影響を受けることになる。前記電磁
特性を満足するためには、磁気ディスク１を、上述の如
き磁石配置により形成される磁界内で回転させて磁性塗
料膜８中の磁性粒子の配向状態を所定の状態にする必要
がある。本実施例においては、この配向処理は、前述の
如＜、３Ｑｒｐｍで６０秒、すなわち、磁気ディスク１
上の１点が、磁石を２４０回通過することによって完了
する。
示す図である。本実施側においては、上磁石４と上磁石
５とがそれぞれ２個ずっ組合わされ、かつ、磁気ディス
ク１の両面に交互に配置されている。これにより、磁気
ディスク１の磁性塗料膜８は上磁石４のＮ極と上磁石５
のＳ極とから交互に影響を受けることになる。前記電磁
特性を満足するためには、磁気ディスク１を、上述の如
き磁石配置により形成される磁界内で回転させて磁性塗
料膜８中の磁性粒子の配向状態を所定の状態にする必要
がある。本実施例においては、この配向処理は、前述の
如＜、３Ｑｒｐｍで６０秒、すなわち、磁気ディスク１
上の１点が、磁石を２４０回通過することによって完了
する。
第４図は上記磁気ディスクｌ上の１点が磁石を通過する
回数と、前述の塗布面粗さとの関係を例示するものであ
る。図の曲線Ａは、第３図に示した如き磁極配置（これ
を、磁気ディスク１に面する磁極から、１ＮＮ／ＳＳ配
置」という）に対応するものであり、曲線Ｂは上の言い
方で１−ＮＮ／ＮＮ配置」、曲線Ｃは同じく、ｊＮｓ／
ＮＳＮＮ／ＮＮ配置るものである。なお、一点鎖線！、
は前記電磁特性を満足するために必要な磁石通過回数で
ある第４図から明らかな如く、磁極配置によって塗布面
粗さに大きな差が生じ、これはそのまま、乾燥後の塗布
膜面の耐破壊強度に大きな差が生ずることがわかる（第
１図参照）。
回数と、前述の塗布面粗さとの関係を例示するものであ
る。図の曲線Ａは、第３図に示した如き磁極配置（これ
を、磁気ディスク１に面する磁極から、１ＮＮ／ＳＳ配
置」という）に対応するものであり、曲線Ｂは上の言い
方で１−ＮＮ／ＮＮ配置」、曲線Ｃは同じく、ｊＮｓ／
ＮＳＮＮ／ＮＮ配置るものである。なお、一点鎖線！、
は前記電磁特性を満足するために必要な磁石通過回数で
ある第４図から明らかな如く、磁極配置によって塗布面
粗さに大きな差が生じ、これはそのまま、乾燥後の塗布
膜面の耐破壊強度に大きな差が生ずることがわかる（第
１図参照）。
本実施例の前記ＮＮ／ＳＳ配置は他の磁極配置に比較し
て塗布面粗さの低下しにくい、言い換えれば乾燥後に高
い耐破壊強度を有する塗布膜面を形成可能な磁極配置と
いうことができる。
て塗布面粗さの低下しにくい、言い換えれば乾燥後に高
い耐破壊強度を有する塗布膜面を形成可能な磁極配置と
いうことができる。
上記実施例においては、４組の永久磁石をＮＮ／ＳＳ配
置にしているが、磁石は電磁石であっても良く、また、
その数は２組以上であれば良い。
置にしているが、磁石は電磁石であっても良く、また、
その数は２組以上であれば良い。
〔発明の効果）
以上述べた如く、本発明によれば、磁気ディスクの製造
に際してその配向処理における磁性塗料中の磁性粒子の
配向運動を利用して、塗布膜面の面粗さを調整するよう
にしたので、電磁特性を劣化させることなく塗布膜面の
耐破壊強度を向上させることが可能な磁気ディスクの製
造方法を実現できるという顕著な効果を奏するものであ
る。
に際してその配向処理における磁性塗料中の磁性粒子の
配向運動を利用して、塗布膜面の面粗さを調整するよう
にしたので、電磁特性を劣化させることなく塗布膜面の
耐破壊強度を向上させることが可能な磁気ディスクの製
造方法を実現できるという顕著な効果を奏するものであ
る。
第１図は塗布面粗さと耐破壊強度との関係の一例を示す
グラフ、第２図（５）は本発明の一実施例である磁気デ
ィスク配向装置の平面図、同（ハ）はその正面図、第３
図は磁石配置を模式的に示す図、第４図は磁石通過回数
と塗布固着さとの関係を示すグラ７−である。 １：磁気ディスク、２ニスピンドル、４：上亮石、５；
上磁石、６：磁気ディスク回転方向、７：磁性粒子配向
方向。 第 １ 図 塗布面粗さくμｍｌ（ａ）
グラフ、第２図（５）は本発明の一実施例である磁気デ
ィスク配向装置の平面図、同（ハ）はその正面図、第３
図は磁石配置を模式的に示す図、第４図は磁石通過回数
と塗布固着さとの関係を示すグラ７−である。 １：磁気ディスク、２ニスピンドル、４：上亮石、５；
上磁石、６：磁気ディスク回転方向、７：磁性粒子配向
方向。 第 １ 図 塗布面粗さくμｍｌ（ａ）
Claims (1)
- （１）磁性塗料を基板の両面に同時塗布して磁界中で回
転させることにより配向処理しつつ乾燥する磁気ディス
クの製造方法において、前記磁界を発生させるための磁
石を、前記基板の両面に同数ずつ、かつ、すべての磁石
を同方向に配置して前記配向処理を行うことを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。 ｅ）前記磁石が２個ずつ組合わされて、前記基板の両面
に交互に配置されていることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP753383A JPS59132427A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP753383A JPS59132427A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59132427A true JPS59132427A (ja) | 1984-07-30 |
Family
ID=11668421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP753383A Pending JPS59132427A (ja) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59132427A (ja) |
-
1983
- 1983-01-20 JP JP753383A patent/JPS59132427A/ja active Pending
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