JPS63127431A - 磁気記録媒体製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体製造装置Info
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- JPS63127431A JPS63127431A JP27369886A JP27369886A JPS63127431A JP S63127431 A JPS63127431 A JP S63127431A JP 27369886 A JP27369886 A JP 27369886A JP 27369886 A JP27369886 A JP 27369886A JP S63127431 A JPS63127431 A JP S63127431A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic field
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- coating compd
- electron beam
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は磁気記録媒体製造装置に関するものである。
(従来の技術)
磁気記録媒体製造装置において、基体に磁性塗料を塗布
し、これを磁場配向処理するとともに、電子線を照射し
て硬化する装置は既によく知られている。そしてその場
合磁場配向中に電子線を照射して、磁性塗料を硬化させ
ると、配向性のよい良好な磁性塗膜が得られることも知
られている。
し、これを磁場配向処理するとともに、電子線を照射し
て硬化する装置は既によく知られている。そしてその場
合磁場配向中に電子線を照射して、磁性塗料を硬化させ
ると、配向性のよい良好な磁性塗膜が得られることも知
られている。
第6図はそのための従来装置を示すもので、1はフィル
ムのような基体、2は配向磁石、3は電子線照射装置で
ある。基体1に塗布部4によって塗布された磁性塗料の
中の磁性粒子は、配向磁石2によって形成される磁場に
より配向される。
ムのような基体、2は配向磁石、3は電子線照射装置で
ある。基体1に塗布部4によって塗布された磁性塗料の
中の磁性粒子は、配向磁石2によって形成される磁場に
より配向される。
同時に配向磁石2の中に設置されである照射窓を通して
、電子線照射装置3からの電子線が照射され、磁性塗料
は硬化される。このあと乾燥炉5によって溶剤が乾燥さ
れる。6,7は巻きだしロールおよび巻きとりロールで
ある。
、電子線照射装置3からの電子線が照射され、磁性塗料
は硬化される。このあと乾燥炉5によって溶剤が乾燥さ
れる。6,7は巻きだしロールおよび巻きとりロールで
ある。
これによれば磁場配向中に電子線照射による硬化を行な
うことができるとしても、溶剤共存中での硬化であるた
め、塗膜表面の荒れが生じるようになる。
うことができるとしても、溶剤共存中での硬化であるた
め、塗膜表面の荒れが生じるようになる。
これを回避するためには磁性塗料を高粘度とすればよい
が、そのようにすると塗布のために長い時間を必要とす
るし、また配向、硬化処理の高速化を阻害し、配向性も
悪くなるなどの欠点が生ずる。したがって磁性塗料とし
てはできるだけ低粘度であることが望ましい。
が、そのようにすると塗布のために長い時間を必要とす
るし、また配向、硬化処理の高速化を阻害し、配向性も
悪くなるなどの欠点が生ずる。したがって磁性塗料とし
てはできるだけ低粘度であることが望ましい。
(発明が解決しようとする問題点)
この発明は磁気記録媒体の製造にあたり、表面荒れが少
なく、かつ配向性の優れた磁性塗膜が、低粘度の磁性塗
料を使用した場合でも、製作可能とすることを目的とす
る。
なく、かつ配向性の優れた磁性塗膜が、低粘度の磁性塗
料を使用した場合でも、製作可能とすることを目的とす
る。
(問題点を解決するための手段)
この発明は磁性塗料を基体に塗布したあと、未乾燥状態
で、8i場配向と同時に電子線を照射する装置において
、表面を鏡面仕上げとしてある回転ドラムを配向磁場内
に配置し、基体の磁性塗料の塗布面を、前記回転ドラム
の表面に添接させて搬送するようにし、その搬送過程で
磁場配向と電子線照射を行なうようにしたことを特徴と
する。
で、8i場配向と同時に電子線を照射する装置において
、表面を鏡面仕上げとしてある回転ドラムを配向磁場内
に配置し、基体の磁性塗料の塗布面を、前記回転ドラム
の表面に添接させて搬送するようにし、その搬送過程で
磁場配向と電子線照射を行なうようにしたことを特徴と
する。
(実施例)
この発明の実施例を第1図によって説明する。
なお第6図と同じ符号を付した部分は、同一または対応
する部分を示す。容器8内の磁性塗料9は、ロール10
によって基体1の表面に塗布される。
する部分を示す。容器8内の磁性塗料9は、ロール10
によって基体1の表面に塗布される。
ここでは基体1の下面に塗布するので、ロールコータ−
による塗布が適している。
による塗布が適している。
この発明にしたがい、配向磁石2の中に表面を鏡面仕上
げした回転ドラム10が用意される。そのために適した
配向磁石2の一例を図によって説明する。ここでは頭部
11を扇形とした一方の磁極12と、頭部11と同心の
扇形とした他方の磁極13と、両磁極12.13を連結
する継鉄14と、この継鉄14に巻回されである磁化用
のコイル15によって、配向磁石が構成されである。
げした回転ドラム10が用意される。そのために適した
配向磁石2の一例を図によって説明する。ここでは頭部
11を扇形とした一方の磁極12と、頭部11と同心の
扇形とした他方の磁極13と、両磁極12.13を連結
する継鉄14と、この継鉄14に巻回されである磁化用
のコイル15によって、配向磁石が構成されである。
回転ドラム10は磁極12を囲むように配置されてあり
、モータ16によって回転自在とされである。磁極13
に照射窓17が形成されてあり、この照射窓17を通し
て電子線照射装置3がらの電子線が、回転ドラム1oの
表面に向がって照射される。
、モータ16によって回転自在とされである。磁極13
に照射窓17が形成されてあり、この照射窓17を通し
て電子線照射装置3がらの電子線が、回転ドラム1oの
表面に向がって照射される。
18は磁気シールドである。気中にとり出された電子線
は、磁極13に衝突しないように考慮されであるが、更
にこの磁気シールド18を設けて、照射窓17内の洩れ
磁束を少なくして電子線が逸れ磁束によってその経路が
湾曲して磁極に衝突しないようにしである。
は、磁極13に衝突しないように考慮されであるが、更
にこの磁気シールド18を設けて、照射窓17内の洩れ
磁束を少なくして電子線が逸れ磁束によってその経路が
湾曲して磁極に衝突しないようにしである。
以上の構成において、表面に磁性塗料が塗布された基体
1は回転ドラム10の表面を添接しながら、磁極12.
13間の磁場内を通過する。そしてその通過過程で電子
線照射装置3からの電子線が照射される。したがって磁
性塗料は磁場配向と同時に硬化されるようになる。
1は回転ドラム10の表面を添接しながら、磁極12.
13間の磁場内を通過する。そしてその通過過程で電子
線照射装置3からの電子線が照射される。したがって磁
性塗料は磁場配向と同時に硬化されるようになる。
この点では従来構成と特に相違するものではないが、前
記したようにこれらの処理過程で、磁性塗料が塗布され
である基体1の表面が、回転ドラム1oの鏡面処理され
た表面に添接されるので、その表面に鏡面が転写される
ようになり、これによって基体1の表面は平滑となり、
かつ光沢をもつようになる。
記したようにこれらの処理過程で、磁性塗料が塗布され
である基体1の表面が、回転ドラム1oの鏡面処理され
た表面に添接されるので、その表面に鏡面が転写される
ようになり、これによって基体1の表面は平滑となり、
かつ光沢をもつようになる。
なお回転ドラム10を冷却する必要があるときは、その
内部に適当に水冷管を設置すればよい。
内部に適当に水冷管を設置すればよい。
配向磁場の発生のために、図では電磁石を使用している
が、これが永久磁石であってもよい。図の配向磁場は垂
直磁場であるが、水平配向磁場の場合でもこの発明は適
用される。
が、これが永久磁石であってもよい。図の配向磁場は垂
直磁場であるが、水平配向磁場の場合でもこの発明は適
用される。
図の構成は磁極12の片側に継鉄14を設置した構成と
しているが、これに代えて第5図のように両側に継鉄1
4を設置するようにしてもよい。
しているが、これに代えて第5図のように両側に継鉄1
4を設置するようにしてもよい。
その場合回転ドラム10の駆動のために、これに転動す
るドラム20を用意し、これをモータ16によって回転
させるようにすればよい。
るドラム20を用意し、これをモータ16によって回転
させるようにすればよい。
(実験例)
実験に使用した磁性塗料の配合は次の通りである。
バリウムフェライト 100部リン
酸エステル 7部塩化ビニル
、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体
10部ウレタンアクリレートオリ
ゴマー 9部トリアリルイソシアヌレート
2部トリスメルカプチルプロピルイソシアヌ
レート4部 トルエン 80部シク
ロヘキサン 80部上記成分
をボールミルにより50時時間線して磁性塗料を得た。
酸エステル 7部塩化ビニル
、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体
10部ウレタンアクリレートオリ
ゴマー 9部トリアリルイソシアヌレート
2部トリスメルカプチルプロピルイソシアヌ
レート4部 トルエン 80部シク
ロヘキサン 80部上記成分
をボールミルにより50時時間線して磁性塗料を得た。
この磁性塗料の粘度は、4000 cpsであった。ま
た電子線吸収線量は5 Mrad、配向磁場は5 KG
、処理速度はZOO!11/分である。この試験条件で
行なった結果を示したのが次の表である。
た電子線吸収線量は5 Mrad、配向磁場は5 KG
、処理速度はZOO!11/分である。この試験条件で
行なった結果を示したのが次の表である。
なおこの表において、角形比とは、塗膜の垂直成分の飽
和磁束密度に対する残留磁束密度の比を示す。表面光沢
は、変角光沢針により測定角60度において測定した。
和磁束密度に対する残留磁束密度の比を示す。表面光沢
は、変角光沢針により測定角60度において測定した。
表面粗さは、触針式表面粗さ計によりカットオフ値0.
25において測定し、JISBO60L−1982にお
ける中心線平均粗さを示した。
25において測定し、JISBO60L−1982にお
ける中心線平均粗さを示した。
表中、試料1とは、第2図に示す装置によって製造され
たものを、試料2とは、第5図に示す装置によって製造
したものを、更に試料3とは、比較のために第6図に示
す装置によって製造したものを、それぞれ意味するもの
とする。
たものを、試料2とは、第5図に示す装置によって製造
したものを、更に試料3とは、比較のために第6図に示
す装置によって製造したものを、それぞれ意味するもの
とする。
表面光沢(%)表面粗さくμm) 角形比試料1 1
19.8 0.01 0.83試料2
120.7 0.01 0.84試料
3 82.9 0.07 0.84上
記の表から理解されるように、試料1,2は、いずれも
試料3のものと角型比をほぼ等しいが、表面光沢、表面
粗さともに、試料3のものよりも良好な結果が得られて
いる。
19.8 0.01 0.83試料2
120.7 0.01 0.84試料
3 82.9 0.07 0.84上
記の表から理解されるように、試料1,2は、いずれも
試料3のものと角型比をほぼ等しいが、表面光沢、表面
粗さともに、試料3のものよりも良好な結果が得られて
いる。
(発明の効果)
以上詳述したようにこの発明によれば、低粘度の磁性塗
料を使用して高速で磁性塗膜を作製することができ、か
つ従来と同じく磁場配向処理と、電子線照射による硬化
をほとんど同時に行なうことができるので、塗膜の配向
性は良いし、更に磁場配向、電子線照射の間に、鏡面仕
上げの回転ドラムの表面に添接するようにしているので
、表面が平滑性ならびに光沢性に優れた塗膜を作製する
ことができるようになるといった効果を奏する。
料を使用して高速で磁性塗膜を作製することができ、か
つ従来と同じく磁場配向処理と、電子線照射による硬化
をほとんど同時に行なうことができるので、塗膜の配向
性は良いし、更に磁場配向、電子線照射の間に、鏡面仕
上げの回転ドラムの表面に添接するようにしているので
、表面が平滑性ならびに光沢性に優れた塗膜を作製する
ことができるようになるといった効果を奏する。
第1図はこの発明の一実施例を示す正面図、第2図は一
部の拡大正面図、第3図は同じく一部を断面とした側面
図、第4図は同じく要部の斜視図。 第S図はこの発明の他の実施例を示す、一部を断面とし
た側面図、第6図は従来例を示す正面図である。
部の拡大正面図、第3図は同じく一部を断面とした側面
図、第4図は同じく要部の斜視図。 第S図はこの発明の他の実施例を示す、一部を断面とし
た側面図、第6図は従来例を示す正面図である。
Claims (1)
- 表面に磁性塗料が塗布された基体の搬送経路に沿って、
磁場配向用の配向磁石を配置するとともに、前記配向磁
石による磁場配向と同時に前記磁性塗料を硬化させるた
めの電子線を照射するための電子線照射装置を配置して
なる磁気記録媒体製造装置において、表面を鏡面仕上げ
としてある回転ドラムを前記配向磁場内に配置し、前記
基体を、磁場配向と電子線照射を行なう過程で、前記回
転ドラムの表面に添接させて搬送せしめてなる磁気記録
媒体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27369886A JPS63127431A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27369886A JPS63127431A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63127431A true JPS63127431A (ja) | 1988-05-31 |
JPH057765B2 JPH057765B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=17531307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27369886A Granted JPS63127431A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63127431A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676283A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH0676284A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP27369886A patent/JPS63127431A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676283A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH0676284A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH057765B2 (ja) | 1993-01-29 |
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