JPS63127430A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63127430A JPS63127430A JP27369786A JP27369786A JPS63127430A JP S63127430 A JPS63127430 A JP S63127430A JP 27369786 A JP27369786 A JP 27369786A JP 27369786 A JP27369786 A JP 27369786A JP S63127430 A JPS63127430 A JP S63127430A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- field orientation
- magnetic field
- electron beam
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 31
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 8
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Phosphate ester Chemical class 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N oxobarium;oxo(oxoferriooxy)iron Chemical compound [Ba]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
。
(従来の技術)
磁気記録媒体の製造方法において、基体に磁性塗料を塗
布し、これを磁場配向処理するとともに、電子線を照射
して硬化する方法は既によく知られている。第2図はそ
の従来方法を示すもので、1はフィルムのような戎体、
2はその巻き出しロール、3は巻き取りロール、4は磁
性塗料を塗布するブレード、5は配向磁石、6は溶剤乾
燥用の乾燥炉、7は電子線照射装置である。
布し、これを磁場配向処理するとともに、電子線を照射
して硬化する方法は既によく知られている。第2図はそ
の従来方法を示すもので、1はフィルムのような戎体、
2はその巻き出しロール、3は巻き取りロール、4は磁
性塗料を塗布するブレード、5は配向磁石、6は溶剤乾
燥用の乾燥炉、7は電子線照射装置である。
基体1の表面にブレード4によって磁性塗料が塗布され
たあと、配向磁石5によって磁場配向処理をされ、その
あと乾燥炉6によって溶剤を乾燥させたのち、電子線照
射装置7か−らの電子線によって磁性塗料を硬化する。
たあと、配向磁石5によって磁場配向処理をされ、その
あと乾燥炉6によって溶剤を乾燥させたのち、電子線照
射装置7か−らの電子線によって磁性塗料を硬化する。
しかしこのような工程にしたがって製造する場合、磁性
塗料を塗布した直後に磁場配向処理を行なっているので
、その配向処理は溶剤を磁性塗料が多く含んでいる状態
で行なわれることになる。
塗料を塗布した直後に磁場配向処理を行なっているので
、その配向処理は溶剤を磁性塗料が多く含んでいる状態
で行なわれることになる。
そのため配向戻りが起りやすく、配向の乱れが生じて磁
気特性を損ねるようになる。
気特性を損ねるようになる。
これを避けるためには、磁性塗料を高粘度とすればよい
が、これを高粘度とすると、ブレード4による磁性塗料
の塗布が困雅となる。また同じ量の磁性塗料を塗布する
のに、低粘度のものに比較して長時間を必要とする。し
たがって製造ラインの高速化が期待できないようになる
。
が、これを高粘度とすると、ブレード4による磁性塗料
の塗布が困雅となる。また同じ量の磁性塗料を塗布する
のに、低粘度のものに比較して長時間を必要とする。し
たがって製造ラインの高速化が期待できないようになる
。
これを解決するために第3図に示すような工程が考えら
れている。これは磁場配向処理と電子線照射による硬化
とを同時に行なうようにしたもので、電子線照射装置7
を配向磁石5の中に配置しである。
れている。これは磁場配向処理と電子線照射による硬化
とを同時に行なうようにしたもので、電子線照射装置7
を配向磁石5の中に配置しである。
これによれば配向の過程で硬化するようにしているので
、磁性塗料が低粘度であっても、配向戻りは起りにくく
なって都合がよい。したがってまた製造ラインの高速化
も可能となり、配向性も向上するようになる。
、磁性塗料が低粘度であっても、配向戻りは起りにくく
なって都合がよい。したがってまた製造ラインの高速化
も可能となり、配向性も向上するようになる。
しかし1回の電子線の照射だけで磁性塗膜を硬化させよ
うとしているため、 (1)硬化時の塗膜内の内部応力が大きく、強度の優れ
た磁性塗膜が得られにくい。
うとしているため、 (1)硬化時の塗膜内の内部応力が大きく、強度の優れ
た磁性塗膜が得られにくい。
(2)磁場内で大量の電子線を照射するので、塗膜全体
にわたって、一様な線量分布を与えることが困難となる
。
にわたって、一様な線量分布を与えることが困難となる
。
(発明が解決しようとする問題点)
この発明は磁場配向性を損うことなく、磁性塗膜の強度
の向上が期待できる磁気記録媒体を製造することを目的
とする。
の向上が期待できる磁気記録媒体を製造することを目的
とする。
(問題点を解決するための手段)
この発明は基体に磁性塗料を塗布したあと、未乾燥状態
で磁場配向処理を行なうと同時に、磁性粒子の磁場配向
に戻りが生じるのを抑制する程度に、電子線を照射して
磁性塗料を硬化させ、ついで磁場配向処理が終ったあと
、磁性塗料を完全に硬化させる程度に電子線を照射する
ようにしたことを特徴とする。
で磁場配向処理を行なうと同時に、磁性粒子の磁場配向
に戻りが生じるのを抑制する程度に、電子線を照射して
磁性塗料を硬化させ、ついで磁場配向処理が終ったあと
、磁性塗料を完全に硬化させる程度に電子線を照射する
ようにしたことを特徴とする。
(実施例)
この発明の実施例工程を第1図によって説明する。なお
第2図と同じ符号を付した部分は、同一または対応する
部分を示す。図中71.72は電子線照射装置を示す。
第2図と同じ符号を付した部分は、同一または対応する
部分を示す。図中71.72は電子線照射装置を示す。
基体1の表面にブレード4によって磁性塗料が塗布され
たあと、配向磁石5によって磁場配向処理される。
たあと、配向磁石5によって磁場配向処理される。
このときこの発明にしたがい、配向磁石5の内部に照射
窓を形成し、この照射窓を通して電子線照射装置71か
らの電子線を照射するようにしてあり、この照射によっ
て、磁性粒子の磁場配向処理と電子線照射による磁性塗
料の硬化を行なう。
窓を形成し、この照射窓を通して電子線照射装置71か
らの電子線を照射するようにしてあり、この照射によっ
て、磁性粒子の磁場配向処理と電子線照射による磁性塗
料の硬化を行なう。
この点は第3図に示す工程と同様であるが、第3図の場
合はこのときの電子線照射によって、磁性塗料を完全に
硬化するようにしているのに対し。
合はこのときの電子線照射によって、磁性塗料を完全に
硬化するようにしているのに対し。
この発明では磁性粒子の磁場配向に戻りが生じない程度
に、その硬化をとどめておく点で、第3図の場合と相違
する。
に、その硬化をとどめておく点で、第3図の場合と相違
する。
この程度の硬化のための電子線照射であるから、その照
射量は僅かで足りる。したがって線量分布が多少一様で
なくても、最終的に形成される磁性塗膜の均一性には、
大きな影響を与えない。また塗膜内での内部応力は少な
く、しかも成る程度塗膜の表面は硬化され、塗膜内に空
気が入り込まないようバリアの効果が生ずる。
射量は僅かで足りる。したがって線量分布が多少一様で
なくても、最終的に形成される磁性塗膜の均一性には、
大きな影響を与えない。また塗膜内での内部応力は少な
く、しかも成る程度塗膜の表面は硬化され、塗膜内に空
気が入り込まないようバリアの効果が生ずる。
配向磁石5を通過した基体1には、次に電子線照射装置
72からの電子線が照射される。この照射によって磁性
塗料は完全に硬化される。既に磁性塗料は磁場配向戻り
が生じない程度に硬化されているので、この硬化処理に
よっても配向戻りによる磁気特性の劣化は生じない。
72からの電子線が照射される。この照射によって磁性
塗料は完全に硬化される。既に磁性塗料は磁場配向戻り
が生じない程度に硬化されているので、この硬化処理に
よっても配向戻りによる磁気特性の劣化は生じない。
このあと基体1は乾燥炉6に入り、ここで溶剤が乾燥さ
れる。なお電子線照射装[ニア2による電子線の照射よ
り前に、乾燥炉6によって乾燥するようにしてもよい。
れる。なお電子線照射装[ニア2による電子線の照射よ
り前に、乾燥炉6によって乾燥するようにしてもよい。
前記したようにこの発明では、2回にわたって電子線を
照射するようにしているが、その各照射量は、磁性塗料
に使用されている樹脂の征類によっても相違する。しか
し一般にはその磁性塗料の硬化に必要な線量を100%
とした場合、最初に10〜50%1次に残りの90〜5
0%を照射するようにするとよい。
照射するようにしているが、その各照射量は、磁性塗料
に使用されている樹脂の征類によっても相違する。しか
し一般にはその磁性塗料の硬化に必要な線量を100%
とした場合、最初に10〜50%1次に残りの90〜5
0%を照射するようにするとよい。
したがってたとえばある磁性塗料を硬化させるに、 1
0 Mradを必要とするとき、最初に1〜5 Mra
d。
0 Mradを必要とするとき、最初に1〜5 Mra
d。
次に9〜5 Mradを照射するとよい。なお第2回目
の照射を複数回に分割して照射することも可能である。
の照射を複数回に分割して照射することも可能である。
更に各電子線照射装置71.72はそれぞれ独立したも
のであってもよいが、これに代えて電子線発生用のフィ
ラメントを複数備えた単独の電子線照射装置を使用し、
それぞれのフィラメントからの電子線を第1回目および
2回目の照射に使用するようにしてもよい。
のであってもよいが、これに代えて電子線発生用のフィ
ラメントを複数備えた単独の電子線照射装置を使用し、
それぞれのフィラメントからの電子線を第1回目および
2回目の照射に使用するようにしてもよい。
電子線照射雰囲気については、第1回目の照射は酸素の
存在は架橋に悪影響を与えやすν)ので、不活性ガス雰
囲気とすることが望ましい。しかし第2回目以降の照射
は、特に改めて考慮する必要はない。
存在は架橋に悪影響を与えやすν)ので、不活性ガス雰
囲気とすることが望ましい。しかし第2回目以降の照射
は、特に改めて考慮する必要はない。
(実験例)
実験に使用した磁性塗料の配合は次の通りである。
バリウムフェライト 100部リ
ン酸エステル 7部塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体
10部ウレタンアクリレー
トオリゴマー 9部トリアリルイソシアヌレー
ト 2部トリスメルカプチルプロピルイソ
シアヌレート4部 トルエン 80部シク
ロヘキサン 80部上記成分
をボールミルにより50時時間線して磁性塗料を得た。
ン酸エステル 7部塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体
10部ウレタンアクリレー
トオリゴマー 9部トリアリルイソシアヌレー
ト 2部トリスメルカプチルプロピルイソ
シアヌレート4部 トルエン 80部シク
ロヘキサン 80部上記成分
をボールミルにより50時時間線して磁性塗料を得た。
この磁性塗料の粘度は、4000 cpsであり、第1
図に示すラインにより、基体1を速度200 m/mi
nで移送して処理した。この試験の結果を示したのが次
の表である。
図に示すラインにより、基体1を速度200 m/mi
nで移送して処理した。この試験の結果を示したのが次
の表である。
なおこの表において、Elは第1回目の電子線照射量を
、E2は同じく第2回目の電子線照射量を示す。なお単
位はすべてM r a dである。また角形比とは、塗
膜の垂直成分の残留磁束密度/飽和磁束密度を意味する
。また鉛筆硬度とは、JISK5400−1979の規
格にしたがう鉛筆引っかき試験の結果を意味し、9H以
上の硬度のものを’O”、4H〜8Hの硬度のものを′
Δ″としている。更に擦傷試験とは、#000のスチー
ルウールにより塗膜表面をこすっても、その表面に傷が
つかないものをrro”、少しでも傷のつくものを1′
Δ″とした。
、E2は同じく第2回目の電子線照射量を示す。なお単
位はすべてM r a dである。また角形比とは、塗
膜の垂直成分の残留磁束密度/飽和磁束密度を意味する
。また鉛筆硬度とは、JISK5400−1979の規
格にしたがう鉛筆引っかき試験の結果を意味し、9H以
上の硬度のものを’O”、4H〜8Hの硬度のものを′
Δ″としている。更に擦傷試験とは、#000のスチー
ルウールにより塗膜表面をこすっても、その表面に傷が
つかないものをrro”、少しでも傷のつくものを1′
Δ″とした。
上記の表から理解されるように、試料番号1のもの、す
なわち第2図に示すシステムによるときは、角形比が他
の試料よりも劣るばかりでなく、鉛筆試験および擦傷試
験の結果もあまり好ましいものではない。また試料番号
5のもの、すなわち第3図に示すシステムによるときは
、角形比は他の試料と差はないものの、鉛筆試験および
擦傷試験の結果は、試料番号1のものと同じくあまり好
ましいものではない。これに対し試料番号2〜4のもの
は、角形比も充分であり、また各試験でも良好な結果が
得られている。
なわち第2図に示すシステムによるときは、角形比が他
の試料よりも劣るばかりでなく、鉛筆試験および擦傷試
験の結果もあまり好ましいものではない。また試料番号
5のもの、すなわち第3図に示すシステムによるときは
、角形比は他の試料と差はないものの、鉛筆試験および
擦傷試験の結果は、試料番号1のものと同じくあまり好
ましいものではない。これに対し試料番号2〜4のもの
は、角形比も充分であり、また各試験でも良好な結果が
得られている。
(発明の効果)
以上詳述したようにこの発明によれば、′6!1場配向
性を損うことなく、充分な強度をもつ磁性塗膜を基体上
に形成することができるといった効果を奏する。
性を損うことなく、充分な強度をもつ磁性塗膜を基体上
に形成することができるといった効果を奏する。
第1図はこの発明の一実施例を示すシステム構成図、第
2図、第3図はともに従来例のシステム構成図である。 1・・・基体、4・・・塗布ブレード、5・・・配向磁
石、6乾燥炉、71.72・・・電子線照射装置。
2図、第3図はともに従来例のシステム構成図である。 1・・・基体、4・・・塗布ブレード、5・・・配向磁
石、6乾燥炉、71.72・・・電子線照射装置。
Claims (1)
- 基体に磁性塗料を塗布したあと、前記磁性塗料が未乾燥
状態のときに前記磁性塗料内の磁性粒子の磁場配向処理
を行なうと同時に、この磁場配向に戻りが生じるのを抑
制する程度に、電子線を照射して前記磁性塗料を硬化さ
せ、ついで前記磁場配向処理が終ったあと、前記磁性塗
料を完全に硬化させる程度に電子線を照射するようにし
たことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27369786A JPS63127430A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27369786A JPS63127430A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63127430A true JPS63127430A (ja) | 1988-05-31 |
Family
ID=17531292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27369786A Pending JPS63127430A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63127430A (ja) |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP27369786A patent/JPS63127430A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4587066A (en) | Method and apparatus for forming magnetic recording media | |
JPS6142729A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63127430A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS63171426A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS63127431A (ja) | 磁気記録媒体製造装置 | |
JPH0337134Y2 (ja) | ||
JPH0516146A (ja) | プラスチツク成形用金型の製造方法 | |
JPS6324536A (ja) | イオン注入装置および方法 | |
JPS60160017A (ja) | 垂直配向磁気記録媒体 | |
JPS6168731A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0355143Y2 (ja) | ||
GB2064555A (en) | Method for the improvement of a gramophone record | |
JPH01130322A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS61113132A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS63138524A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH04192112A (ja) | 磁気記録媒体のバックコート層用組成物 | |
JPS60263331A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0474649A (ja) | 化粧紙の製造方法 | |
JPS6124014A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS62125537A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6083217A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS63171421A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH05274670A (ja) | 磁気記録媒体用磁性塗料及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS61156527A (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルムの製造方法 | |
JPS6142728A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |