JPS63127430A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。

（従来の技術） 磁気記録媒体の製造方法において、基体に磁性塗料を塗
布し、これを磁場配向処理するとともに、電子線を照射
して硬化する方法は既によく知られている。第２図はそ
の従来方法を示すもので、１はフィルムのような戎体、
２はその巻き出しロール、３は巻き取りロール、４は磁
性塗料を塗布するブレード、５は配向磁石、６は溶剤乾
燥用の乾燥炉、７は電子線照射装置である。

基体１の表面にブレード４によって磁性塗料が塗布され
たあと、配向磁石５によって磁場配向処理をされ、その
あと乾燥炉６によって溶剤を乾燥させたのち、電子線照
射装置７か−らの電子線によって磁性塗料を硬化する。

しかしこのような工程にしたがって製造する場合、磁性
塗料を塗布した直後に磁場配向処理を行なっているので
、その配向処理は溶剤を磁性塗料が多く含んでいる状態
で行なわれることになる。

そのため配向戻りが起りやすく、配向の乱れが生じて磁
気特性を損ねるようになる。

これを避けるためには、磁性塗料を高粘度とすればよい
が、これを高粘度とすると、ブレード４による磁性塗料
の塗布が困雅となる。また同じ量の磁性塗料を塗布する
のに、低粘度のものに比較して長時間を必要とする。し
たがって製造ラインの高速化が期待できないようになる
。

これを解決するために第３図に示すような工程が考えら
れている。これは磁場配向処理と電子線照射による硬化
とを同時に行なうようにしたもので、電子線照射装置７
を配向磁石５の中に配置しである。

これによれば配向の過程で硬化するようにしているので
、磁性塗料が低粘度であっても、配向戻りは起りにくく
なって都合がよい。したがってまた製造ラインの高速化
も可能となり、配向性も向上するようになる。

しかし１回の電子線の照射だけで磁性塗膜を硬化させよ
うとしているため、 （１）硬化時の塗膜内の内部応力が大きく、強度の優れ
た磁性塗膜が得られにくい。

（２）磁場内で大量の電子線を照射するので、塗膜全体
にわたって、一様な線量分布を与えることが困難となる
。

（発明が解決しようとする問題点） この発明は磁場配向性を損うことなく、磁性塗膜の強度
の向上が期待できる磁気記録媒体を製造することを目的
とする。

（問題点を解決するための手段） この発明は基体に磁性塗料を塗布したあと、未乾燥状態
で磁場配向処理を行なうと同時に、磁性粒子の磁場配向
に戻りが生じるのを抑制する程度に、電子線を照射して
磁性塗料を硬化させ、ついで磁場配向処理が終ったあと
、磁性塗料を完全に硬化させる程度に電子線を照射する
ようにしたことを特徴とする。

（実施例） この発明の実施例工程を第１図によって説明する。なお
第２図と同じ符号を付した部分は、同一または対応する
部分を示す。図中７１．７２は電子線照射装置を示す。

基体１の表面にブレード４によって磁性塗料が塗布され
たあと、配向磁石５によって磁場配向処理される。

このときこの発明にしたがい、配向磁石５の内部に照射
窓を形成し、この照射窓を通して電子線照射装置７１か
らの電子線を照射するようにしてあり、この照射によっ
て、磁性粒子の磁場配向処理と電子線照射による磁性塗
料の硬化を行なう。

この点は第３図に示す工程と同様であるが、第３図の場
合はこのときの電子線照射によって、磁性塗料を完全に
硬化するようにしているのに対し。

この発明では磁性粒子の磁場配向に戻りが生じない程度
に、その硬化をとどめておく点で、第３図の場合と相違
する。

この程度の硬化のための電子線照射であるから、その照
射量は僅かで足りる。したがって線量分布が多少一様で
なくても、最終的に形成される磁性塗膜の均一性には、
大きな影響を与えない。また塗膜内での内部応力は少な
く、しかも成る程度塗膜の表面は硬化され、塗膜内に空
気が入り込まないようバリアの効果が生ずる。

配向磁石５を通過した基体１には、次に電子線照射装置
７２からの電子線が照射される。この照射によって磁性
塗料は完全に硬化される。既に磁性塗料は磁場配向戻り
が生じない程度に硬化されているので、この硬化処理に
よっても配向戻りによる磁気特性の劣化は生じない。

このあと基体１は乾燥炉６に入り、ここで溶剤が乾燥さ
れる。なお電子線照射装［ニア２による電子線の照射よ
り前に、乾燥炉６によって乾燥するようにしてもよい。

前記したようにこの発明では、２回にわたって電子線を
照射するようにしているが、その各照射量は、磁性塗料
に使用されている樹脂の征類によっても相違する。しか
し一般にはその磁性塗料の硬化に必要な線量を１００％
とした場合、最初に１０〜５０％１次に残りの９０〜５
０％を照射するようにするとよい。

したがってたとえばある磁性塗料を硬化させるに、　１
０　Ｍｒａｄを必要とするとき、最初に１〜５　Ｍｒａ
ｄ。

次に９〜５　Ｍｒａｄを照射するとよい。なお第２回目
の照射を複数回に分割して照射することも可能である。

更に各電子線照射装置７１．７２はそれぞれ独立したも
のであってもよいが、これに代えて電子線発生用のフィ
ラメントを複数備えた単独の電子線照射装置を使用し、
それぞれのフィラメントからの電子線を第１回目および
２回目の照射に使用するようにしてもよい。

電子線照射雰囲気については、第１回目の照射は酸素の
存在は架橋に悪影響を与えやすν）ので、不活性ガス雰
囲気とすることが望ましい。しかし第２回目以降の照射
は、特に改めて考慮する必要はない。

（実験例） 実験に使用した磁性塗料の配合は次の通りである。

バリウムフェライト　　　　　　　　　　　１００部リ
ン酸エステル　　　　　　　　　　　　　　７部塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体　　　　
　　　　　　　　　　　　　１０部ウレタンアクリレー
トオリゴマー　　　　　９部トリアリルイソシアヌレー
ト　　　　　　　２部トリスメルカプチルプロピルイソ
シアヌレート４部 トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　８０部シク
ロヘキサン　　　　　　　　　　　　　８０部上記成分
をボールミルにより５０時時間線して磁性塗料を得た。

この磁性塗料の粘度は、４０００　ｃｐｓであり、第１
図に示すラインにより、基体１を速度２００　ｍ／ｍｉ
ｎで移送して処理した。この試験の結果を示したのが次
の表である。

なおこの表において、Ｅｌは第１回目の電子線照射量を
、Ｅ２は同じく第２回目の電子線照射量を示す。なお単
位はすべてＭ　ｒ　ａ　ｄである。また角形比とは、塗
膜の垂直成分の残留磁束密度／飽和磁束密度を意味する
。また鉛筆硬度とは、ＪＩＳＫ５４００−１９７９の規
格にしたがう鉛筆引っかき試験の結果を意味し、９Ｈ以
上の硬度のものを’Ｏ”、４Ｈ〜８Ｈの硬度のものを′
Δ″としている。更に擦傷試験とは、＃０００のスチー
ルウールにより塗膜表面をこすっても、その表面に傷が
つかないものをｒｒｏ”、少しでも傷のつくものを１′
Δ″とした。

上記の表から理解されるように、試料番号１のもの、す
なわち第２図に示すシステムによるときは、角形比が他
の試料よりも劣るばかりでなく、鉛筆試験および擦傷試
験の結果もあまり好ましいものではない。また試料番号
５のもの、すなわち第３図に示すシステムによるときは
、角形比は他の試料と差はないものの、鉛筆試験および
擦傷試験の結果は、試料番号１のものと同じくあまり好
ましいものではない。これに対し試料番号２〜４のもの
は、角形比も充分であり、また各試験でも良好な結果が
得られている。

（発明の効果） 以上詳述したようにこの発明によれば、′６！１場配向
性を損うことなく、充分な強度をもつ磁性塗膜を基体上
に形成することができるといった効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示すシステム構成図、第
２図、第３図はともに従来例のシステム構成図である。 １・・・基体、４・・・塗布ブレード、５・・・配向磁
石、６乾燥炉、７１．７２・・・電子線照射装置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基体に磁性塗料を塗布したあと、前記磁性塗料が未乾燥
   状態のときに前記磁性塗料内の磁性粒子の磁場配向処理
   を行なうと同時に、この磁場配向に戻りが生じるのを抑
   制する程度に、電子線を照射して前記磁性塗料を硬化さ
   せ、ついで前記磁場配向処理が終ったあと、前記磁性塗
   料を完全に硬化させる程度に電子線を照射するようにし
   たことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。