JPH0337134Y2

JPH0337134Y2 -

Info

Publication number: JPH0337134Y2
Application number: JP12582885U
Authority: JP
Priority date: 1985-08-16
Filing date: 1985-08-16
Publication date: 1991-08-06
Also published as: JPS6235410U

Description

【考案の詳細な説明】

（産業上の利用分野）この考案は、磁気テープ、磁気デイスク、磁気
シートなどのような磁気記録媒体を製造する装置
に関する。（従来の技術）この種磁気記録媒体の製造にあたり、磁性粒子
を適当な添加剤とともに溶液中に分散させた磁性
塗料を、プラスチツクフイルムに塗布して磁性塗
膜として、その磁性塗膜が未乾燥のうちに磁場配
向処理をし、その後溶媒分を乾燥させてから電子
線を照射して磁性塗膜を硬化する製造装置は本考
案者によつて別途提案されている。これによれば短時間低温での硬化処理が可能と
なること、磁性塗料のポツトライフが長くなり溶
剤の低減化がはかれること、配向度、表面硬度、
体摩耗性、耐久性などが向上し、記録媒体の品質
向上が可能となること、などの利点が得られる。しかしこのような製造装置では、磁場配向−乾
燥−硬化といつた工程を必要とするため、その製
造が極めて面倒であるとともに、磁場配向中で未
乾燥磁性粒子に磁気ポテンシヤルエネルギーを下
げて安定化する作用が働き、磁性粒子が凝集して
その表面に凹凸が生じるようになる。更に未乾燥
塗膜中では、磁場配向処理後１秒以内では回転で
きるため、配向磁界が零になると磁性粒子が回転
して配向度が低下するといつた欠点がある。これを回避するためには、磁場配向のための磁
界発生装置と電子線照射装置とをできるだけ接近
させておき、磁界発生装置を通過した直後に電子
線を照射すればよい。しかし両装置を接近させた
場合、磁界発生装置からの磁束の一部が漏洩磁束
となつて電子線照射装置からの電子線と交差して
しまうことがある。このように電子線と漏洩磁束とが交差すると、
電子は電磁力により照射方向に対して直交する方
向に力を受け、円弧を描くように偏向するので、
電子線分布は大きく拡がる。この結果電子線量の
分布は不均一となり、磁性塗膜に均一に電子線を
照射することができないようになつて、高品質の
記録媒体を製造することができないようになる。（考案が解決しようとする問題点）この考案はこの種製造工程におけるラインの短
縮化を図るとともに、磁性塗膜表面の平滑化なら
びに磁場配向度の向上を図ることを目的とする。（問題点を解決するための手段）この考案は電子線照射器を備えた電子線照射装
置の内部に、磁性塗膜を磁場配向するための磁界
発生器を設置するととをに、磁場配向中またはそ
の直後の磁性塗膜を加熱された不活性ガスで加熱
するためのガス供給源を設け、この不活性ガスに
よつて磁性塗膜内の溶媒を蒸発させて磁性粒子の
移動を拘束して磁性粒子の配向ずれをなくすよう
にし、このあと前記磁性塗膜に電子線を照射して
前記磁性塗膜を十分硬化させるようにしたことを
特徴とする。（実施例）この考案を図によつて説明すると、１は磁気記
録媒体たとえば磁気テープで、非磁性のフイルム
からなる基材の表面に、磁性塗料が塗布装置によ
つてすでに塗布されているものとする。２は電子
線照射装置で、内部に電線照射器３を備えてい
る。４はこれを包囲しているＸ線遮蔽具である。この考案にしたがい磁場配向のための磁界発生
器５を電子線照射装置２の内部に設置する。そし
て電子線照射装置２の入口６から入つた磁気テー
プ１は、その磁性粒子が磁界発生器５によつて垂
直または水平磁場配向される。そしてそのあと電
子線照射器３の照射窓３Ａの直下にまで送られ、
ここで電子線が照射されて磁性塗膜が硬化され
る。この硬化のあと出口７から外部に送り出され
る。この考案では磁界発生器５による磁場配向中ま
たはその直後の磁性塗膜を、加熱された不活性ガ
ス（たとえば窒素、アルゴン、ヘリウムなどのガ
スまたは炭酸ガスなど）で乾燥させる。そのため
にめ第１図に示す例では加熱された不活性ガスの
供給源８が用意されている。そしてこの供給源８
からの不活性ガスを磁界発生器５から出てくる磁
気テープ１に向かつて吹き付けて磁性塗膜を乾燥
させ、その中の溶媒を蒸発させる。この蒸発によつて磁性粒子の移動が拘束される
ようになる。すなわち前記磁性粒子が磁場配向
後、倒れたり、回転したりすることがなくなる。
これによつて磁場配向のずれが防止されるように
なるのである。そのあと前記のように磁性塗膜は
電子線照射器３による電子線照射によつて十分に
硬化される。なお供給源８からの不活性ガスは電
子線照射領域を通過してから磁界発生器５に向か
うようにしているので、このガスを電子線照射領
域の不活性雰囲気化にも兼用できる。第２図の例は加熱されていない不活性ガスを供
給する供給源９を用意し、これらの不活性ガスを
電子線照射装置２の内部の、仕切り１０で区画さ
れた照射室１１の内部に供給する。そしてここで
この不活性ガスを電子線の照射によつて加熱す
る。加熱された不活性ガスは加熱器１２を経由し
てブロワー１３によつて取出される。ここから磁界発生器５を備えた配向乾燥室１４
に送られる。ここで磁界発生器５から出てきた磁
気テープ１に吹き付けられるとともに、その一部
は磁界発生器５の内部を通つて磁場配向中の磁気
テープ１に吹き付けられる。これによつて磁性塗
膜は乾燥されるようになる。吹き付けられた不活
性ガスはブロワー１３によつてリサイクルされ
る。何れの場合でも磁場配向中またはその直後にお
いて、不活性ガスによつて磁性塗膜は乾燥される
ので、磁界発生器を通過した直後に電子線を照射
しなくとも、磁性塗膜の表面の凹凸の発生および
磁場配向度の低下の何れも回避できるようにな
る。（実験例）次にこの考案による実験例について説明する。
なおここに使用する磁性塗料は、磁性粒子、結合
剤、塗布溶媒を主成分とする。この他必要に応じ
て分散材、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤
などの添加剤を含有して構成される。前記磁性粒子としては、γ−Fe₂O₃、Fe₃O₄、
γ−Fe₂O₃とFe₂O₄の中間の酸化状態の酸化鉄、
Co含有のγ−Fe₂O₃、Co含有のγ−Fe₂O₃と
Fe₂O₄の中間の酸化状態の酸化鉄、Co被覆の配化
鉄、CrO₂その他が使用される。結合剤としては、ウレタンアクリレート、エポ
キシアクリレート、エステルアクリレートなどの
ように電子線で反応する樹脂に、電子線官能性の
不飽和結合を有する化合物を添加したものが使用
される。たとえばジアリルフタレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、
Ｎ−ビニルピロリドン、アクリル酸トリメチロー
ル、プロパントリアクリレートなどが好適であ
る。溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレ
ンなどの低沸点溶剤および電子線官能基を有する
モノマーが使用できる。基材としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、
ポリプロピレンなどのポリオレフイン、セルロー
ストリアセテート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボ
ネート、アクリル樹脂などのプラスチツク類、紙
およびCu、Al、Znなどの非磁性金属、ガラス、
陶磁器などのセラミツク類が使用できる。基材の形態としては、フイルム、テープ、シー
ト、デイスク、カード、ドラムなどいずれでもよ
い。なおこの基材には帯電防止、転写防止などの
目的で、たとえば裏面にバツクコートされていて
もよい。配向磁場としてはその強度が、約1000〜10000
ガウス程度のものを用いる。電子線加速器として
は、スキヤンニング方式、エリアビーム方式、カ
ーテンビーム方式あるいはブロードビーム方式な
どが採用でき、また加速電圧は100〜1000KV、
線量は0.1〜20Mradである。本考案者が行つた実験は次のようにして行つ
た。すなわち電子線硬化の可能な磁性塗料として
以下に示す組成のものを用意し、これをボールミ
ルに仕込み、48時間混錬した後、平均孔径1μの
フイルターでろ過し、17μのポリエチレンテレフ
タレートフイルムからなるテープ上にドクターブ
レードを用いて膜厚5μになるように塗布した。
そしてこれを第２図に示す装置を利用して、5000
ガウスの磁場中で垂直配向し、同時に温度50〜
100℃の窒素ガスで溶媒を蒸発させた。ついで電
子線照射装置により、窒素ガス雰囲気中で
200KVの加速電圧で電子線を20Mrad照射した。組成 Co−γ−Fe₂O₃ 80 レシチン３ウレタンアクリレート５Ｎ−ビニルピロリドン 10 ニトロセルロース 10 シリコンオイル３ステアリン酸１ステアリン酸ｎ−ブチル１トリメチロールプロパンアクリレート５メチルエチルケトン 150 トルエン 150 なお上表の数値は何れも重量部を示す。得られた磁気テープの特性を示したものが次の
表である。比較のさめ同じ組成のものにつき、磁
場配向後ヒーターで照射したものを比較例として
併示した。

【表】上表から理解できるように本考案のものは、何
れも粗さ、抗磁力および角型比が揃つて比較例の
ものよりも優れている。（考案の効果）以上詳述したようにこの考案によれば、磁場配
向中またはその直後に不活性ガスによつて磁性塗
膜中の溶媒を蒸発させてから、電子線によつて本
硬化するようにしたので、磁場配向、乾燥の製造
ラインが短縮されるし、磁性塗膜の表面の凹凸の
発生、磁性粒子の配向ずれなどを十分に防止する
ことができるといつた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の実施例を示す正断面図、第
２図は他の実施例を示す正断面図である。１……テープ（基材）、２……電子線照射装置、
３……電子線照射器、５……磁界発生器、８，９
……不活性ガス供給源。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

磁性粒子を分散させた磁性塗料を基材に塗布し
て磁性塗膜を形成した磁気記録媒体に、電子線照
射器からの電子線を照射して前記磁性塗膜を硬化
する磁気記録媒体製造装置において、前記電子線
照射器を収納する電子線照射装置の内部に、電子
線を照射する以前に前記磁性粒子を磁場配向する
ための磁界発生装置を収納するとともに、前記電
子線照射装置に、前記磁界発生装置により磁場配
向された直後の前記磁性塗膜を不活性雰囲気中で
乾燥させるための不活性ガスを供給する装置を設
けてなる磁気記録媒体製造装置。