JPS61198428A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、磁気テープ、磁気ディスク、磁気シートな
どの磁気記録媒体の製造方法に関する。

（従来の技術） この種磁気記録媒体の製造にあたり、磁性粒子を適当な
添加剤とともに溶液中に分散させた磁性塗料を、プラス
チックフィルムに塗布して磁性塗膜とし、その磁性塗膜
が未乾燥のうちに磁場配向処理をし、その後電子線を照
射して磁性塗膜を硬化する方法が本発明者によって別途
提案されている。

これによれば、短時間低温での硬化処理が可能となるこ
と、磁性塗料のポットライフが長くなり、溶剤の低減化
がはかれること、配向度、表面硬度、体摩耗性、耐久性
などが向上し、記録媒体の品質向上が可能となること、
など幾多の効果が得られる。

しかし実際開運として、電子線を利用するだけでは、上
記のような諸特性は満足できない、具体的には磁性粒子
への配向磁界印加後、短時間のうちに電子線を照射する
ことが必要で、もしこの時間が長くなると次のような問
題が生ずる。すなわち （１）垂直配向磁場中で未乾燥磁性粒子に磁気ポテンシ
ャルエネルギーを下げて安定化する作用が働き、磁性粒
子がその電磁力で凝集してその表面に凹凸が生じる。

（２）未乾燥塗膜中では磁性粒子は、磁場配向処環径回
転できるため、配向磁界が零になると磁性粒子が回転し
て配向度が低下する。

（３）垂直方向に磁場配向した未乾燥塗膜が磁界から出
ると、配向磁場の反磁場で減配向し、磁気特性が低下し
やすくなる。そのため配向性が悪化してしまうようにな
る。

これを回避するためには、磁場配向のための磁界発生装
置と電子線照射装置とをできるだけ接近させておき、磁
界発生装置を通過した直後に電子線を照射すればよい。

しかし両装置を接近させた場合、磁界発生装置からの磁
束の一部が漏洩磁束となって電子線照射装置からの電子
線と交差してしまうことがある。

このように電子線と漏洩磁束とが交差すると、電子は電
磁力により照射方向に対して直交する方向に力を受け、
円弧を描くように偏向するので、電子線分布は大きく拡
がる。この結果電子線量の分布は不均一となり、磁性塗
膜に均一に電子線を照射することができないようになっ
て、高品質の記録媒体を製造することができないように
なる。

さらに偏向を受けた電子の一部は、電子線照射装置の内
壁に衝突することがあり、これが照射効率の低下あるい
は前記内壁の過熱の原因となることがある。

（発明が解決しようとする問題点） この発明は磁性粒子の磁場配向ずれを確実に防止し、し
かも電子線照射による十分な磁性塗膜の硬化を可能とす
ることを目的とする。

（問題点を解決するための手段） この発明は磁性粒子を分散させた磁性塗料を基材に塗布
して磁性塗膜を形成し、これを配向磁場内で磁場配向す
るとともに、その磁場配向中または磁場配向直後に前記
磁性塗膜に紫外線を照射して半硬化せしめ、この磁性塗
膜を成る程度固化して磁性粒子の移動を拘束し、これに
よって磁性粒子の配向ずれをなくすとともに、このあと
前記磁性塗膜に電子線を照射して前記磁性塗膜を十分硬
化させるようにしたことを特徴とする。

この発明を図によって説明すると、１は磁気記録媒体た
とえば磁気テープで、非磁性のフィルムからなる基材の
表面に、磁性塗料が塗布装置２によって塗布される。そ
の塗布後、磁場配向装置３によって磁性粒子が水平また
は垂直磁場配向される。図の例は磁石４，４Ａを対とし
、これを磁気テープの移送方向に沿って配列して構成さ
れてあり、この磁石によって垂直磁場配向するようにし
ている。５は電子線照射装置で、その照射窓６からの電
子線が磁気テープ１の磁性塗膜に照射される。７はＸ線
遮蔽具である。

この発明にしたがい第１図に示す例では、磁場配向処理
中に紫外線による半硬化を実施するようにしており、そ
のために磁場配向装置３の中に紫外線用のランプ８を設
置する。具体的には磁場配向用の磁石４の複数を並設し
た場合に、その磁石の間にランプ８を設置する。そして
磁石の間から紫外線を磁気テープ１に照射するようにし
である。

このように磁場配向の過程で磁性塗膜に紫外線を照射し
てこれを半硬化させると、磁性塗膜がある程度粘性が高
くなり、そのため磁性粒子の移動が拘束されるようにな
る。すなわち前記磁性粒子が磁場配向後、倒れたり１回
転したりすることがなくなる。これによって磁場配向の
ずれが防止されるようになるのである。半硬化状態にあ
る磁性塗膜は続いて電子線照射装置５による電子線照射
によって十分に硬化される。

第１図の例は磁場配向処理中に紫外線による半硬化を行
っているが、これに代えて磁場配向直後に紫外線による
半硬化を行うようにしてもよい。

その例を示したのが第２図である。ここでは磁場配向装
置３のあとに紫外線用のランプ８を設置している。

何れの場合でもランプ８と磁場配向装置とが同じ箇所に
あっても、あるいは十分接近していても、紫外線によっ
て磁場が影響を受けるようなことは何等ない。したがっ
て磁場配向中またはその直後に紫外線による半硬化処理
を行っても何等差し支えがない。

なおここでいう半硬化とは、紫外線照射によって磁性塗
膜が５０％を越えない範囲で架橋される状態をいう。ま
た電子線の照射によって十分に硬化されるとは、８０％
以上にわたって架橋された状態をいう。

（実施例） この発明において使用する磁性塗料は、磁性粒子、結合
剤、塗布溶媒を主成分とし、これに光増感剤を添加する
。この他必要に応じて分散材、潤滑剤、研磨剤、帯電防
止剤、防錆剤などの添加剤を含有して構成される。

前記磁性粒子としては、γ−Ｆｅ２ｏ、　、Ｆｅ、　Ｏ
い　γ−Ｆｅ２Ｏ３とＦｅ、　０４の中間の酸化状態の
酸化鉄、Ｃｏ含有のｙ−Ｆｅ２０．、Ｃｏ含有のｙ−Ｆ
ｅ２０３とＦｅ、　０４の中間の酸化状態の酸化鉄、Ｃ
ｏ被覆の酸化鉄、Ｃｒｙ、その他が使用される。

結合剤としては、ウレタンアクリレート、Ｎ−ビニルプ
ロリドン、ニトロセルローズなどのように電子線で反応
する樹脂に、電子線官能性の不飽和結合を有する化合物
を添加したものが使用される。たとえばジアリルフタレ
ート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌ
レートなどが好適である。

溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、トルエン、キシレンなどの低沸点溶
剤および電子線官能基を有するモノマーが使用できる。

光増感剤としては、ベンゾフェノン、４−クロルベンゾ
フェノン、ρ−ベンゾキノン、２．６−ナフドキノンな
どが使用できる。

基材としては、ポリエチレンテレフタレート。

ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリプ
ロピレンなどのポリオレフィン、セルロー、　ストリア
セテート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、アクリ
ル樹脂などのプラスチック類１紙およびＣｕ、　Ａｌ、
Ｚｎなどの非磁性金属、ガラス、陶磁器などのセラミッ
ク類が使用できる。

基材の形態としては、フィルム、テープ、シート、ディ
スク、カード、ドラムなどいずれでもよい。なおこの基
材には帯電防止、転写防止などの目的で、たとえば裏面
にバックコートされていてもよい。

配向磁場としてはその強度が、約１０００〜１００００
ガウス程度のものを用いる。紫外線の線源としては、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノランプなどが使用でき、
また波長２０００〜４０００人の光線を照射するのが好
ましい。電子線加速器としては、スキアンニング方式、
エリアビーム方式、カーテンビーム方式あるいはブロー
ドビーム方式などが採用でき、また加速電圧は１００〜
１００ＯＫＶ、線量は０．１〜２０Ｍｒａｄである。

次に本発明者が行った実験例について説明する。

電子線および紫外線硬化の可能な磁性塗料として以下に
示す組成のものを用意し、これをボールミルに仕込み、
４８時間混錬した後、平均孔径１μのフィルターでろ過
し、１７μのポリエチレンテレフタレートフィルムから
なるテープ上にドクターブレードを用いて膜厚５μにな
るように塗布した。

そしてこれを第１図に示す装置を利用して、５０００ガ
ウスの磁場中で５秒間にわたって垂直配向し、同時に波
長２０００〜４０００人の紫外線を高圧水銀灯により照
射した。

ついで電子線照射装置により、窒素ガス雰囲気中で２０
０Ｋ　ｖの加速電圧で電子線を２０Ｍｒａｄ照射した。

テープの走行速度は１５０ｍ／分である。

組成 ｃｏ−ｙ　−Ｆｅ２０．　　　　　　　　　　　　　　
　　８０レシチン　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３ウレタンアクリレート　　　　　　　　　　　　５
Ｎ−ビニルピロリドン　　　　　　　　　　　　１〇ニ
トロセルロース　　　　　　　　　　　　　１０シリコ
ンオイル　　　　　　　　　　　　　　３ステアリン酸
　　　　　　　　　　　　　　　１ステアリン酸ｎ−ブ
チル　　　　　　　　　　　ｌトリメチロールプロパン
トリアクリレート　　５メチルエチルケトン　　　　　
　　　　　　１５０トルエン　　　　　　　　　　　　
　　　　　１５０ベンゾフエノン　　　　　　　　　　
　　　　　１なお上表の数値は何れも重量部を示す。

得られた磁気テープの特性を示したのが次の表である。

比較のため同じ組成のものにつき、紫外線を照射せずに
磁場配向後、電子線を照射したものを比較例として併示
した。

・粗さ／　　　　力１０ｅ　　　　型 本発明　　　　　０．０１　　　　３６０　　　　０．
４７比較例　　　　　０．０５　　　　３６０　　　　
０．２３上表から理解できるように本発明のものは、何
れも粗さ、抗磁力および角型比が揃って比較例のものよ
りも優れている。

（発明の効果） 以上詳述したようにこの発明によれば、磁場配向中また
はその直後に紫外線を照射して、磁性塗料を半硬化させ
てから電子線によって本硬化するようにしたので、磁性
粒子の配向ずれを十分に防止することができるとともに
、電子線照射による十分な硬化を行うことができるとい
った効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施にあたって使用する装置の例を
示す正面図、第２図は別の装置の例を示す正面図である
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁性粒子を分散させた磁性塗料を基材に塗布して磁性塗
   膜を形成し、これを配向磁場内で磁場配向するとともに
   、その磁場配向中または磁場配向直後に前記磁性塗膜に
   紫外線を照射して半硬化せしめ、ついで前記磁性塗膜に
   電子線を照射して前記磁性塗膜を硬化させてなる磁気記
   録媒体の製造方法。