JPH01130322A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は放射線硬化型樹脂を結合剤成分として用いる
磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは磁性塗
膜の表面電気抵抗を充分に低減させた前記の磁気記録媒
体の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録媒体の高性能化を図るため放射線硬化型
樹脂を結合剤成分として用いることが行われており、こ
の放射線硬化型樹脂を磁性粉末、有機溶剤およびその他
の必要成分とともに混合分散して磁性塗料を調製し、こ
の磁性塗料を基体主に塗布、乾燥した後、磁性塗膜に放
射線を照射し、放射線硬化型樹脂を硬化させて磁気記録
媒体をつくることが試みられている。（特開昭５９−１
８６１２１号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、放射線硬化型樹脂を含む磁性塗膜に放射線、
特に電子線を照射して硬化させると、耐久性が充分に改
善され高性能化された磁気記録媒体が得られる反面、−
電子線の照射によって磁性塗膜内に電子がトラップされ
、電荷の移動が制限されて磁性塗膜の表面電気抵抗が高
くなるという難点が゛あり、磁性塗膜表面に塵埃が吸着
しやすくなって、ドロップアウトが増加する。　　　　
。

〔問題点を解決す颯ための手段〕

この発明は、かかる現状に鑑み種々検針を行った結果な
されたもので、結合剤成分として放射線硬化型樹脂を含
む磁性塗料を基体上に塗布し、乾燥した後、この磁性塗
膜に放射線を照射して、放射線硬化型樹脂を硬化させる
と同時かもしくは硬化後、静電気除去処理を行うことに
よって、硬化された磁性塗膜内にイオンを浸透させ、放
射線照射の際磁性塗膜内にトラップされた電子を中和し
て、電気抵抗を充分に低減させたものである。

以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。

第１図は、放射線照射処理装置あ概略を示したものであ
り、１はチャンバーで、シールド２上に配設されている
。３は表面に放射線硬化型樹脂を含む磁性塗膜が形成さ
れた基体であり、シールド２内下方にチャンバー１と対
抗して配設されたビームトラップ４の上方を、シールド
２内に配設したガイドローラ５および６に沿って走行し
、走行中チャンバー１により電子線７が照射されて、基
体３上の磁性塗膜が硬化される。

８は磁性塗膜の硬化処理時に不活性ガス９を給気する給
気管で、給気口１０および１１をシールド２内を走行す
る基体３の前後端部に配設している。１２はトランス１
３を接続して給気管８に連結された□静電気除去処理で
あり、給気管８に送気される不活性ガス９はこの静電気
除去装置１２でイオン化されて、給気口１０および１１
からイオン化ガス１４として基体３が走行するシールド
２内に供給される。

しかして、第２図に示すように、シールド２内を走行す
る基体３に電子線７が照射されると、基体３上の磁性塗
膜３１が硬化されると同時に、磁性塗膜３１内に電子が
トラップされる。ところが、このとき同時に給気管８の
給気口１１からイオン化ガス１４が給気され、イオン化
ガス１４中の＋イオンによって磁性塗膜３１内にトラッ
プされた電子が中和されて、静電気除去処理が行われる
７　。従って、放射線の照射によって硬化された磁性塗
膜３１は表面の電気抵抗が充分に低減され、塵埃等の付
着も抑制されて、ドロップアウトも低減される。

第３図は、静電気除去処理を磁性塗膜の硬化処理後に行
う場合を示したもので、トランス１５を接続した静電気
除去装置１６を、放射線照射によって磁性塗膜３１が硬
化された後、シールド２から導出されて、ガイドロール
１７に案内走行される基体３上に配設し、また給気管８
からイオン化されていない不活性ガス９が供給されるよ
うにした以外は、第１図に示す放射線処理装置と同様に
構成されている。

しかして、この第３図に示す放射線照射処理装置を使用
すると、第４図に示すように、放射線照射が行われて磁
性塗膜３１が硬化された後、磁性塗膜３１にトラップさ
れた電子が、静電気除去装置１６から供給されるイオン
中の＋イオンによって中和され、静電気除去装置１６に
よる静電気除去処理が行われる。従って、この場合も放
射線の照射によって硬化された磁性塗膜３１は充分に電
気抵抗が低減される。

このような放射線照射処理によって硬化される磁性塗膜
を形成するのに使用される放射線硬化型樹脂は、放射線
重合性の二重結合を有する放射線硬化型樹脂で、分子量
が１０００００未満で官−基数１〜２０のものが好適な
ものとして使用される。具体例としては、たとえば、メ
タクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル系モノマー
あるいはこれらの混合物、スチレンと酢酸ビニルとアク
リロニトリルとの混合物、２−ヒドロキシエチルメタク
リレートとジメチルアミノエチルメタクリレートとグリ
シジルメタクリレートとの混合物、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート、ウレタンアクリルオリゴマー、エポキシアクリ
ルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー、ポリ
ブタジェンアクリルオリゴマー、ポリアミドアクリルオ
リゴマー、ポリエーテルアクリルオリゴマー、オリゴエ
ステルアクリルオリゴマー、スピロアセクールアクリル
オリゴマーなどが挙げられ、市販品の具体例としては、
たとえば、新中村化学工業社製ＴＭＰＴ、日本化薬社製
ＤＰＣＡ−６０、、ＤＰＨＡ、ＤＰＰＡ、東亜合成社製
Ｍ−６２５０、Ｍ−７１００、Ｍ−８１３０、Ｍ−１１
００、Ｍ−１２００、チオコール社製Ｕ−７８２、Ｕ−
７８３、Ｕ−７８８ＪＵ−８９３、昭和高分子社製５Ｐ
４０１０、Ｕ−３０００、Ｅ−４０００１セラニ一ズ社
製３２００．３５００．３６００．３７００、三洋化成
社製ＵＶＵ−５１２等が挙げられる。

このような放射線硬化型樹脂は単独であるいは二種以上
混合したものを結合剤樹脂として使用し、放射線の照射
によって硬化させてもよいが、−般に結合剤樹脂として
使用される熱可塑性樹脂等と併用してもよく、併用され
る熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共
重合体、ポリビニルブチラール樹脂、繊維素系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、イソシアネート化合物等の従来一般
に使用されるものがいずれも好適なものとして併用され
る。このように熱可塑性樹脂等と併用する場合の配合割
合は重量比（放射線硬化型樹脂対熱可塑性樹脂）で２対
８〜８対２の範囲内となるようにするのが好ましい。

放射線硬化型樹脂を重合硬化させるに際して使用される
放射線は、電子線などのβ線、および紫外線、Ｘ線など
のＴ線などがいずれも好適に使用され、紫外線を使用す
るときは照射による効果をより効率的にするため、増感
剤が同時に使用される。このような放射線の照射は加速
電圧１５０゛〜７５０ＫＶの放射線を用い、吸収線量が
３〜１５Ｍｒａｄとなるように照射するのが好ましく、
吸収線量が少なすぎると放射線硬化型樹脂の架橋結合が
不充分となって良好な磁気記録媒体が１＃６れない。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例Ｉ Ｃｏ含含有−Ｆｅ２０３粉末　　　８０重量部ＶＡＧＨ
（米国Ｕ、Ｃ，Ｃ，社製、塩　　１０〃化ビニル−酢酸
ビニル−ビニ ルアルコール共重合体） ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製）１０〃アルミナ　　　
　　　　　　　　　　８　〃カーボンブラック　　　　
　　　　８　〃ミリスチン酸　　　　　　　　　　　１
　〃ステアリン酸−ｎ−ブチル　　　　ｌ　〃シクロヘ
キサノン　　　　　　　　１１０〃トルエン　　　　　
　　　　　　１１０〃この組成物をボールミルで７２時
間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をフィ
ルターに通した後、厚さ１４μｍのポリエステルフィル
ム上に、乾燥厚が４．０μｍとなるように塗布、乾燥し
、表面平滑化処理を施して磁性塗膜を形成した。

次いで、第１図に示す放射線照射処理装置を使用し、酸
素濃度５００ｐｐｍ以下、加速電圧１６５ＫＶ、全照射
線量６Ｍｒａｄで電子線を照射すると同時に静電気除去
装置１２（斎藤工機社製５Ｂ３１０−２３型）で静電気
除去処理を行った。しかる後、所定の巾に裁断して磁気
テープをつくった。

実施例２ 実施例１における放射線照射処理において、第１図に示
す放射線照射処理装置に代えて第３図に示す放射線照射
処理装置を使用した以外は実１ＪＰｆ！例１と同様にし
て放射線照射処理を行いミこの放射線照射り理後、静電
気除去装置１５（ｆ藤工機社製ＬＢＫ型）も静電気除去
処理を行った。・しかる後、所定の巾に裁断して磁気テ
ープをつくった。

比較例 実施例１において、静電気除去処理を省いた以外は、実
施例１と同様にして磁気テープをつくった。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
磁性塗膜の表面電気抵抗を測定した。

下記第１表はその結果である。

第１表 〔発明の効果〕 上記第１表から明らかなように、この発明の製造方法で
得られた磁気テープ（実施例１および２）は、従来の製
造方法で得られた磁気テープ（比較例１）に比し、いず
れも電気抵抗が小さく、この′ことからこの発明の製造
方法によれば磁性塗膜の表面電算抵抗が充分に低減され
た磁気記録媒体が得られるのがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の磁気テープを製造するのに使用する
放射線照射処理装置の１例を示す概略断面図、第２図は
同要部拡大断面原理説明図、第３図は放射線照射処理装
置の他の例を示す概略断面図、第４図は開催の例の要部
拡大断面原理説明図である。 ｌ・・・チャンバー、２・・・シールド、３・・・基体
、４・・・ビームトラップ、７・・・電子線（放射線）
、９・・・不活性ガス、１２．１６・・・静電気除去装
置、１４・・・イオン化ガス 特許出願人　　日立マクセル株式会社 第２図 ３基体 第４図 ５基不

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、結合剤成分として放射線硬化型樹脂を含む磁性塗料
   を基体上に塗布し、乾燥した後、この磁性塗膜に放射線
   を照射して、放射線硬化型樹脂を硬化させるとともに静
   電気除去処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製
   造方法 ２、静電気除去処理を放射線硬化型樹脂を硬化させると
   同時に行う特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の
   製造方法 ３、静電気除去処理を放射線硬化型樹脂を硬化させた後
   行う特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方
   法 ４、静電気除去処理をイオン雰囲気に放射線硬化型樹脂
   を含む磁性塗膜を通して行う特許請求の範囲第１項ない
   し第３項記載の磁気記録媒体の製造方法